JPH0738271B2 - Magnetic memory element - Google Patents
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- JPH0738271B2 JPH0738271B2 JP62208712A JP20871287A JPH0738271B2 JP H0738271 B2 JPH0738271 B2 JP H0738271B2 JP 62208712 A JP62208712 A JP 62208712A JP 20871287 A JP20871287 A JP 20871287A JP H0738271 B2 JPH0738271 B2 JP H0738271B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は不揮発性の超高密度固体磁気記憶素子に関す
る。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a nonvolatile ultra-high density solid-state magnetic memory element.
(従来の技術) この磁気記憶素子は情報読み出し手段と情報書き込み手
段と情報蓄積手段を備え、膜面に垂直方向を磁化容易方
向とする強磁性体(フェリ磁性体膜を含む)に存在する
ストライプドメインの周囲のブロッホ磁壁の中に作った
相隣り合う垂直ブロッホライン(以下、VBLと称する)
を対としてブロッホ磁壁内で保持、転送する手段を有す
る。例えば、素子構成をメイジャ・マイナループ構成と
する場合、メイジャラインでは、バブルを情報担体と
し、マイナループはストライプドメインで構成し、その
周囲のブロッホ磁壁内に存在するVBL対を情報担体とす
る。全体の情報の流れを示すと、まずバブル発生器で書
き込まれた情報(バブルの有無の列)は書き込みメイジ
ャラインを移動する。メイジャライン上に1ページ分の
情報が書き込まれると、それをマイナループへ記憶させ
るため、バブルの有無で示されたメイジャライン上の情
報をマイナループへVBL対の形でトランスファする。し
たがって、書き込みトランスファゲートはバブルの有無
をVBL対の有無に変換する機能を持っている。マイナル
ープはVBL対を保持できるブロッホ磁壁で構成してい
る。また、マイナループは構成するストライプドメイン
磁壁上のVBL対を必要に応じて読み出しトランスファゲ
ートへ移動させる機能を持っている。マイナループから
読み出しメイジャラインへの情報トランスファはVBL対
からバブルへの変換を伴う。変換されたバブルの有無の
列をバブル検出器で読み取る。このように、マイナルー
プをバブル材料に存在するストライプドメインで構成
し、マイナループ上での情報担体としてバブルの代わり
に、VBL対を用いることにより、バブル素子に比べて、
約二桁の記憶密度の向上を達成できる。(Prior Art) This magnetic storage element is provided with an information reading means, an information writing means, and an information storage means, and is a stripe existing in a ferromagnetic material (including a ferrimagnetic material film) whose direction of easy magnetization is perpendicular to the film surface. Adjacent vertical Bloch lines (hereinafter referred to as VBL) created in Bloch domain walls around the domain
And a means for holding and transferring in the Bloch domain wall as a pair. For example, when the element configuration is a major-minor loop configuration, in the major line, the bubble is the information carrier, the minor loop is the stripe domain, and the VBL pair existing in the Bloch domain wall around it is the information carrier. In the flow of information as a whole, first, the information written by the bubble generator (row presence / absence column) moves on the write major line. When one page of information is written on the major line, the information on the major line indicated by the presence or absence of a bubble is transferred to the minor loop in the form of a VBL pair in order to store it in the minor loop. Therefore, the write transfer gate has a function of converting the presence / absence of a bubble into the presence / absence of a VBL pair. The minor loop is composed of Bloch domain walls that can hold VBL pairs. In addition, the minor loop has a function of moving the VBL pair on the stripe domain domain wall to the read transfer gate as necessary. Information transfer from minor loops to read major lines involves the conversion of VBL pairs to bubbles. Read the converted bubble presence / absence column with the bubble detector. Thus, by configuring the minor loop in the stripe domain present in the bubble material, instead of the bubble as the information carrier on the minor loop, by using the VBL pair, compared to the bubble element,
An improvement in storage density of about two digits can be achieved.
この素子においては多数本の磁気ドメインをチップ上の
定められた位置に安定性よく配列することが重要な技術
である。In this device, it is an important technique to arrange a large number of magnetic domains at fixed positions on the chip with good stability.
これに対する一つの方法は、ストライプドメイン磁壁を
溝掘り部境界膜厚段差部の外側にもっていくことである
(特願昭60−079658)。この理由は溝掘り部およびその
境界の外側を含むようにストライプドメインを設定する
と、溝掘り部境界の膜厚段差は境界外側にある磁壁が膜
厚段差部に近づくのを妨げる反磁界を生じ、磁壁が外部
から加えられるVBL対駆動用のパルス磁界に対して、障
害を受けず応答でき、しかも磁壁の応答を可逆的にでき
るためである。これはVBL対保持用磁壁安定化の必要条
件である。他方、溝掘り部内にストライプドメインを閉
じ込めると、膜厚段差はそのストライプドメインが溝掘
り境界の外へ出ることを強く抑える反磁界を生じる。こ
のため、磁壁は外部印加磁界に対して自由に応答して動
くことができない。したがって、ストライプドメイン磁
壁が溝掘り部境界膜厚段差部の外側にくるように、スト
ライプドメインを初期設定する必要がある。One method to deal with this is to bring the stripe domain domain wall outside the groove thickness boundary film thickness step (Japanese Patent Application No. 60-079658). The reason for this is that if the stripe domain is set so as to include the grooved portion and the outside of the boundary, the film thickness difference at the boundary of the grooved portion causes a demagnetizing field that prevents the domain wall outside the boundary from approaching the film thickness difference portion, This is because the domain wall can respond to the pulsed magnetic field for driving the VBL pair applied from the outside without any damage, and the domain wall response can be reversible. This is a necessary condition for stabilizing the VBL pair holding domain wall. On the other hand, if the stripe domain is confined in the grooved portion, the film thickness step causes a demagnetizing field that strongly suppresses the stripe domain from going out of the grooved boundary. Therefore, the domain wall cannot move freely in response to an externally applied magnetic field. Therefore, it is necessary to initialize the stripe domain so that the stripe domain domain wall is outside the groove thickness boundary film thickness step.
第7図(a)、(b)にその構造の主要部を示してい
る。基板2上のドメイン保持層1のドメインを配置した
い領域の中心部4をくりぬき、それを取り囲むように閉
じたドメイン磁壁を配置するための形成技術の例は、IE
EE Tran.Magn.,MAG−22,784(1986)において報告され
ている。しかし、実験してみると、この方法では溝掘り
部が平行に並んでいる領域と溝掘り部がない領域とでバ
ブルドメインがストライプドメインに変化するバイアス
磁界の大きさにかなりの違いがあり、溝掘り部領域では
他の領域に比べてバイアス磁界をもっと低くしないと、
ドメインが伸長しない欠点があることが分かった。溝掘
り部を含む領域でドメインが溝と溝との間の領域を伸長
するまでバイアス磁界を下げると、溝掘り部領域の内の
どれか一箇所を伸びてバブル発生器19がある側と反対
側、つまりドメイン結合用の導体パターン20がある領域
に出た途端にそのドメインが広がって20がある領域前面
に迷図状ドメインができてしまう。このため、いま伸び
たドメインに遅れて溝掘り領域を伸びてきたドメインは
迷図状ドメインに邪魔されてドメイン接合用の導体パタ
ーン20の下を横切るところまで伸び出せない。そこで、
第8図(a)、(b)に示すように、溝掘り部4の先端
部に溝4の長手方向に沿って溝4とは対向する位置に補
助用の溝7を設けた。(特願61−290887)。しかし、こ
の方法では溝4を囲むドメインを一旦安定化すると、補
助用の溝7の方向にドメイン引出しができない。従っ
て、補助用の溝7がある領域では、VBL対の読みだし書
き込み動作ができず、前記トランスファゲートを設置で
きない欠点があった。なお、第7、8図で3はスペー
サ、5はくりぬき部エッジ、10はバイアス磁界を示す。7 (a) and 7 (b) show the main part of the structure. An example of a forming technique for hollowing out a central portion 4 of a region of a domain holding layer 1 on a substrate 2 where a domain is desired to be arranged and arranging a closed domain domain wall to surround it is IE
EE Tran. Magn., MAG-22,784 (1986). However, as a result of experiments, in this method, there is a considerable difference in the magnitude of the bias magnetic field in which the bubble domain changes into the stripe domain between the region where the grooved portions are arranged in parallel and the region where there is no grooved portion, In the trench area, the bias magnetic field must be lower than in other areas,
It turned out that there is a drawback that the domain does not extend. When the bias magnetic field is lowered until the domain extends in the region between the grooves in the region including the grooved portion, it extends in any one of the grooved portion regions and is opposite to the side where the bubble generator 19 is located. As soon as the side, that is, the region where the conductor pattern 20 for domain coupling is present is present, the domain spreads and a stray pattern domain is formed on the front face of the region where the 20 is present. For this reason, the domain which has been extended in the grooved region after the domain which has just been extended cannot be extended to the position where it crosses below the conductor pattern 20 for domain bonding due to the obstructive domain. Therefore,
As shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b), an auxiliary groove 7 was provided at the tip of the grooved portion 4 along the longitudinal direction of the groove 4 at a position facing the groove 4. (Japanese Patent Application 61-290887). However, according to this method, once the domain surrounding the groove 4 is stabilized, the domain cannot be pulled out in the direction of the auxiliary groove 7. Therefore, in the region where the auxiliary groove 7 is provided, the read / write operation of the VBL pair cannot be performed and the transfer gate cannot be installed. In FIGS. 7 and 8, 3 is a spacer, 5 is an edge of a hollow portion, and 10 is a bias magnetic field.
(発明が解決しようとする問題点) 上述の方法は多数本の磁気ドメインを安定性よく配列す
るためには問題であった。本発明はこれらの欠点を取り
除き、ストライプドメインを安定性よく配列するための
外部磁界の印加条件を単純化できるようにした超高密度
固定磁気記憶素子を提供することにある。(Problems to be Solved by the Invention) The above method is problematic in order to stably arrange a large number of magnetic domains. The present invention eliminates these drawbacks and provides an ultra-high density fixed magnetic memory element capable of simplifying the application condition of an external magnetic field for arranging stripe domains with good stability.
(問題点を解決するための手段) 本発明は情報読み出し手段、情報書き込み手段および情
報蓄積手段を有し、かつ膜面に垂直方向を磁化容易方向
とする強磁性体(フェリ磁性体を含む)膜に存在するス
トライプドメインの境界のブロッホ磁壁中に作った相隣
る2本の垂直ブロッホラインからなる対をブロッホ磁壁
内で保持転送する手段を有する磁気記憶素子において、
ストライプドメインを配置すべき領域にストライプドメ
イン保持層に第1の溝が設けられ、かつ該第1の溝の一
方の先端部領域と対向する領域に該第1の溝の長手方向
に沿って相隣る該第1の溝の中間に相当する位置に補助
用の第2の溝を配置し、第1の溝の他方の先端部領域と
対向する領域に該第1の溝の長年方向に沿って相隣る該
第1の溝の中間に相当する位置に新たに第3の溝を配置
していることを特徴とする磁気記憶素子である。(Means for Solving the Problems) The present invention has a ferromagnetic material (including a ferrimagnetic material) having an information reading means, an information writing means, and an information storage means, and having a direction easy to magnetize in a direction perpendicular to the film surface. In a magnetic memory element having means for holding and transferring a pair of two adjacent vertical Bloch lines formed in the Bloch domain wall at the boundary of the stripe domain existing in the film, in the Bloch domain wall,
A first groove is provided in the stripe domain holding layer in a region where the stripe domain is to be arranged, and a first groove is provided along a longitudinal direction of the first groove in a region facing one tip region. An auxiliary second groove is arranged at a position corresponding to the middle of the adjacent first groove, and the auxiliary second groove is arranged in a region facing the other tip end region of the first groove along the longitudinal direction of the first groove. In the magnetic memory element, a third groove is newly arranged at a position corresponding to the middle of the adjacent first grooves.
以下、構成の詳細な説明をする。A detailed description of the configuration will be given below.
第1図は本発明におけるストライプドメイン保持層のマ
イナループ部の主要部の構成である。第1図(a)は本
発明の方法を用いた時のストライプドメイン保持層の主
要部である。ここでは基板、3はスペーサ、4、6、7
はドメイン保持層くりぬき部、5はくりぬき部エッジ、
10はバイアス磁界、16はガイド用溝、17は変換ゲート、
18はメイジャラインである。ストライプドメイン保持層
1上のドメインを保持したい領域に溝4を、またこの溝
に沿って分離した領域を挟んで補助用の溝7を形成す
る。これは例えば、ストライプドメイン保持層の溝掘り
部に相当する領域に選択的にH2 +などのイオンを注入し
た後、ホットリン酸でエッチングすることによって得ら
れる。その溝4の両端部にドメイン発生器および局所面
内磁界発生用手段8、9を配置している。なお、8、9
には第2図の11で示す櫛形状の櫛の目が溝部4の各溝の
間の領域の入り口に来るように、ドメインを制御性よく
発生でき、また、溝部4から伸び出した互いに隣り合う
ドメインを縫い合わせることができるように、第6図に
示す形状のドメイン発生器を用いた。第6図において、
12はパターンのエッジ、13はパターンのノッチである。
9に示す縫い合わせ用導体パターンの配置の特徴は補助
溝が導体パターン9のノッチ部にあり、かつ補助溝の先
端がノッチの出口に比べてノツチ内に引っ込んでいるこ
とである。この構造にすることで、ドメインを縫い合わ
せた時、縫い合わされてできたドメインの一部が補助溝
にひっかかってしまうという欠点を取り除くことができ
た。FIG. 1 shows the structure of the main part of the minor loop portion of the stripe domain holding layer in the present invention. FIG. 1 (a) is a main part of the stripe domain holding layer when the method of the present invention is used. Here, the substrate 3 is a spacer, 4, 6, 7
Is a domain retaining layer hollow part, 5 hollow part edge,
10 is a bias magnetic field, 16 is a guide groove, 17 is a conversion gate,
18 is a major line. A groove 4 is formed in a region on the stripe domain holding layer 1 where a domain is desired to be retained, and an auxiliary groove 7 is formed so as to sandwich a region separated along the groove. This can be obtained, for example, by selectively implanting ions such as H 2 + into a region corresponding to the grooved portion of the stripe domain holding layer and then etching with hot phosphoric acid. Domain generators and local in-plane magnetic field generating means 8 and 9 are arranged at both ends of the groove 4. 8 and 9
In addition, domains can be generated with good controllability so that the comb-shaped comb eyes shown by 11 in FIG. 2 come to the entrance of the region between the grooves of the groove portion 4, and they are adjacent to each other extending from the groove portion 4. A domain generator of the shape shown in FIG. 6 was used so that the matching domains could be stitched together. In FIG.
12 is the edge of the pattern and 13 is the notch of the pattern.
The feature of the arrangement of the stitching conductor pattern shown in FIG. 9 is that the auxiliary groove is in the notch portion of the conductor pattern 9, and the tip of the auxiliary groove is retracted into the notch as compared with the outlet of the notch. By adopting this structure, when the domains were sewn together, it was possible to eliminate the drawback that a part of the domains sewn together would get caught in the auxiliary groove.
(作用) 第2図から第5図まで使ってストライプドメイン安定化
の動作を説明する。まず、ストライプドメイン保持層の
磁化をバイアス磁界を加えることによって4の周囲に安
定化するドメイン内の磁化と同じ向きに飽和させてお
く。その後、ドメイン発生部8に矢印の向きの電流を与
えてその磁界によって第2図に11で示すドメインを発生
する。この様な形状のドメインを作るためには、まず8
の上側のエッジ12に沿ってドメインが発生するように発
生器8の形状を設計する必要がある。その具体的形状の
一例が第6図である。13はパターンのノッチである。そ
の後、バイアス磁界の絶対値を小さくしていき、ドメイ
ンが第3図に示すように溝掘り部を通り越して補助溝7
がある領域まで伸張する。その後、ドメイン発生器9に
第4図に示す矢印の向きの電流を与え、第4図(a)に
示すようなドメインを形成する。これらの磁界によっ
て、ドメイン11は溝掘り部の両方の端部で互いに接合
し、逆に溝掘り部を取り囲む閉磁壁に囲まれたドメイン
12が形成される。外部印加磁界を零にし、さらにその向
きを逆にし、10で示す向きにして磁界の強さを増加して
いくと、第5図に示すように溝を取り囲む磁壁をもつド
メインが形成される。14は中抜きドメイン、15はドメイ
ン外周磁壁である。このドメインがVBL対保持用に使わ
れる。他方、補助溝にくっついていたドメインはこのバ
イアス磁界変化によって完全に消去される。このように
して、4の周囲を取り囲む磁壁によって囲まれたドメイ
ンを安定化できたが、8の側のポテンシャルウエルは依
然として深いまま残されており、導体電流による局所バ
イアス磁界をドメイン先端部に付加できるようにしてお
かないと、チップの温度変化などによってドメイン先端
部が伸び出してしまう危険性が取り除かれていない。そ
こで、本発明では第1図に16で示す溝を新たに設け、そ
の周辺のポテンシャルウエルを浅くし、ドメイン先端部
の任意の伸び出しを防止するようにした。この溝はブロ
ッホラインメモリに必要なVBL対−バブル変換ゲート部1
7の動作時に、ドメインが4の長手方向に一致した向き
で、ゲート17の中で伸び出していくことも助ける。メイ
ジャライン18のポテンシャルウエルは導体電流磁界によ
って動作時のみ、かさ上げすることで十分である。(Operation) The operation of stabilizing the stripe domain will be described with reference to FIGS. 2 to 5. First, the magnetization of the stripe domain holding layer is saturated in the same direction as the magnetization in the domain stabilized around 4 by applying a bias magnetic field. Then, a current in the direction of the arrow is applied to the domain generating section 8 to generate a domain indicated by 11 in FIG. 2 by the magnetic field. To make a domain with such a shape, first 8
It is necessary to design the shape of the generator 8 so that the domains occur along the upper edge 12 of the. An example of the specific shape is FIG. 13 is the notch of the pattern. After that, the absolute value of the bias magnetic field is reduced to allow the domain to pass through the grooved portion as shown in FIG.
Extend to a certain area. After that, a current in the direction of the arrow shown in FIG. 4 is applied to the domain generator 9 to form a domain as shown in FIG. 4 (a). Due to these magnetic fields, the domain 11 is bonded to each other at both ends of the grooved portion, and conversely, the domain surrounded by the closed magnetic domain wall surrounding the grooved portion.
12 are formed. When the externally applied magnetic field is set to zero, the direction is reversed, and the direction of the magnetic field is increased in the direction indicated by 10, the domain having the domain wall surrounding the groove is formed as shown in FIG. Reference numeral 14 is a hollow domain, and 15 is a domain outer domain wall. This domain is used for holding VBL pairs. On the other hand, the domain attached to the auxiliary groove is completely erased by this change in the bias magnetic field. In this way, the domain surrounded by the domain wall surrounding 4 was stabilized, but the potential well on the 8 side was still left deep, and a local bias magnetic field due to the conductor current was added to the domain tip. If this is not done, the risk that the tip of the domain will extend due to changes in chip temperature has not been eliminated. Therefore, in the present invention, a groove shown by 16 in FIG. 1 is newly provided, and the potential well around the groove is made shallow to prevent any extension of the domain tip. This groove is the VBL-to-bubble conversion gate unit 1 required for Bloch line memory.
It is also helpful for the domains to extend into the gate 17 in the direction aligned with the longitudinal direction of 4 during the operation of 7. It is sufficient to raise the potential well of the major line 18 only when it is operated by the conductor current magnetic field.
(実施例) Gd3Ga5O12(111)基板上に4μmバブル材料(YSmLuCa)3
(FeGe)5O12ガーネット膜を2μmの厚さLPE成長した。
第1図の構造に溝(幅3μm、配置周期12μm)は溝を
掘りたい部分に選択的にイオン注入をした後、リン酸を
使い、エッチングして形成した。出来た溝の深さ2.1μ
mであった。その上に、SiO2スペーサー0.5μmを介し
て、第6図に示す形状のドメイン発生器を配置して上述
のドメイン発生から始まる一連の動作により、第5図に
示す溝掘り部4を取り囲む閉磁壁を持つドメイン14を形
成できた。(Example) 4 μm bubble material (YSmLuCa) 3 on a Gd 3 Ga 5 O 12 (111) substrate
A (FeGe) 5 O 12 garnet film was grown by LPE to a thickness of 2 μm.
Grooves (width 3 μm, arrangement period 12 μm) in the structure of FIG. 1 were formed by selectively ion-implanting the portions to be dug and then etching using phosphoric acid. The resulting groove depth is 2.1μ
It was m. A domain generator having the shape shown in FIG. 6 is placed on top of this by a SiO 2 spacer of 0.5 μm, and a series of operations starting from the above-mentioned domain generation are performed to close the magnetic field surrounding the grooved portion 4 shown in FIG. Domain 14 with walls could be formed.
(発明の効果) 補助用の溝掘り部を作ることにより、ストライプドメイ
ン安定化用溝掘り領域を伸び出したドメインに対するポ
テンシャルウエルが急激に深くなることを防ぎ、目的と
する溝掘り部長手方向に沿って所定の位置までストライ
プドメインを安定性よく伸ばすことができるようになっ
た。(Advantageous Effects of the Invention) By forming an auxiliary grooved portion, it is possible to prevent the potential well from deepening deeply in the domain that extends the stripe domain stabilizing grooved region, and to make The stripe domain can be stably extended along the predetermined position.
第1図は本発明におけるドメイン保持するための主要構
造の例を示す図、第2−5図は本発明のドメイン形成過
程を示す図、第6図は本発明に用いたドメイン発生器の
例を示す図、第7図は溝掘り部を取り囲む閉磁壁をもつ
ドメイン安定化法の従来法の1例を示す図、第8図は補
助用溝を設けた従来例を示す図。 図において、1……ドメイン保持層、2……基板、3…
…スペーサ、4……ドメイン保持層くり抜き部、5……
くりぬき部エッジ、6……ガード用ドメイン保持層くり
抜き部、7……補助用のドメイン保持層くりぬき部、
8、9……ドメイン発生用導体パターンン、10……バイ
アス磁界、11……ドメイン発生器8により発生した磁気
ドメイン、12……ドメイン発生器用導体パターンのエッ
ジ、13……ドメイン発生用導体パターンのノッチ、14…
…中抜きドメイン、15……ドメイン外周磁壁、16……ド
メイン14の伸び出し防止およびドメインのゲート部への
ガイド用溝、17……ブロッホライン対とバブルとの間の
変換ゲート、18……メイジャライン、19……バブル発生
器用導体パターン、20……ドメイン結合用導体パター
ン。FIG. 1 is a diagram showing an example of a main structure for holding a domain in the present invention, FIG. 2-5 is a diagram showing a domain forming process of the present invention, and FIG. 6 is an example of a domain generator used in the present invention. FIG. 7 is a diagram showing an example of a conventional domain stabilization method having a closed magnetic domain wall surrounding a grooved portion, and FIG. 8 is a diagram showing a conventional example in which an auxiliary groove is provided. In the figure, 1 ... Domain holding layer, 2 ... Substrate, 3 ...
… Spacer, 4 …… Hollowed out domain holding layer, 5 ……
Edge of hollowed part, 6 ... Hollowed part of guard domain holding layer, 7 ... Hollowed part of auxiliary domain holding layer,
8, 9 ... Domain generation conductor pattern, 10 ... Bias magnetic field, 11 ... Magnetic domain generated by domain generator 8, 12 ... Edge of domain generator conductor pattern, 13 ... Domain generation conductor pattern Notch, 14 ...
… Hollowed-out domain, 15 …… Domain outer domain wall, 16 …… Domain 14's extension prevention and guide groove to the gate of domain, 17 …… Conversion gate between Bloch line pair and bubble, 18 …… Major line, 19 ... Bubble generator conductor pattern, 20 ... Domain coupling conductor pattern.
Claims (3)
び情報蓄積手段を有し、かつ膜面に垂直方向を磁化容易
方向とする強磁性体(フェリ磁性体を含む)膜に存在す
るストライプドメインの境界のブロッホ磁壁中に作った
相隣る2本の垂直ブロッホラインからなる対をブロッホ
磁壁内で保持転送する手段を有する磁気記憶素子におい
て、ストライプドメインを配置すべき領域にストライプ
ドメイン保持層に第1の溝が設けられ、かつ該第1の溝
の一方の先端部領域と対向する領域に該第1の溝の長手
方向に沿って相隣る該第1の溝の中間に相当する位置に
補助用の第2の溝を配置し、第1の溝の他方の先端部領
域と対向する領域に第1の溝の長手方向に沿って相隣る
該第1の溝の中間に相当する位置に第3の溝を配置して
いることを特徴とする磁気記憶素子。1. A boundary between stripe domains existing in a ferromagnetic (including ferrimagnetic) film having an information reading means, an information writing means, and an information storage means, and having an easy magnetization direction perpendicular to the film surface. In a magnetic storage element having means for holding and transferring pairs of two adjacent vertical Bloch lines formed in the Bloch domain wall in the Bloch domain wall. Of the first groove is provided, and an auxiliary is provided at a position corresponding to the middle of the first grooves adjacent to each other along the longitudinal direction of the first groove in a region facing one end region of the first groove. A second groove for use in the first groove is provided, and the second groove for the first groove is disposed at a position corresponding to the middle of the first groove adjacent to the other end region of the first groove along the longitudinal direction of the first groove. Characterized in that a third groove is arranged Magnetic memory element that.
および局所磁界発生の手段を備えていることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の磁気記憶素子。2. The magnetic memory element according to claim 1, further comprising means for generating a domain and generating a local magnetic field in a tip end region of the first groove.
部は、前記強磁性体層を完全に除去した領域であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の
磁気記憶素子。3. The inside of each of the first groove, the second groove, and the third groove is a region where the ferromagnetic layer is completely removed. Alternatively, the magnetic storage element according to the second aspect.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62208712A JPH0738271B2 (en) | 1987-08-21 | 1987-08-21 | Magnetic memory element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62208712A JPH0738271B2 (en) | 1987-08-21 | 1987-08-21 | Magnetic memory element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6452281A JPS6452281A (en) | 1989-02-28 |
| JPH0738271B2 true JPH0738271B2 (en) | 1995-04-26 |
Family
ID=16560833
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62208712A Expired - Lifetime JPH0738271B2 (en) | 1987-08-21 | 1987-08-21 | Magnetic memory element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0738271B2 (en) |
-
1987
- 1987-08-21 JP JP62208712A patent/JPH0738271B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6452281A (en) | 1989-02-28 |
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