JPH0740082B2 - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
- Publication number
- JPH0740082B2 JPH0740082B2 JP13063288A JP13063288A JPH0740082B2 JP H0740082 B2 JPH0740082 B2 JP H0740082B2 JP 13063288 A JP13063288 A JP 13063288A JP 13063288 A JP13063288 A JP 13063288A JP H0740082 B2 JPH0740082 B2 JP H0740082B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color
- photoresist
- pixel
- pattern
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、カラーテレビ、カラーカメラ及びカラー表示
デバイス、カラー撮像デバイス等に使用されるカラーフ
ィルタの製造方法に関するものである。
デバイス、カラー撮像デバイス等に使用されるカラーフ
ィルタの製造方法に関するものである。
従来の技術 一般に、カラーテレビ、カラーカメラ等に使用されるカ
ラーフィルタは、赤、緑、青等の三色よりなる画素がス
トライプ状またはマトリックス状に定められたピッチで
配列されており、特にコントラストを高めるために三色
の画素の間に黒色の細いストライプまたはグリッド（直
交格子）を用いている。
ラーフィルタは、赤、緑、青等の三色よりなる画素がス
トライプ状またはマトリックス状に定められたピッチで
配列されており、特にコントラストを高めるために三色
の画素の間に黒色の細いストライプまたはグリッド（直
交格子）を用いている。
従来のカラーフィルタの製法としては、第７図ａに示す
ように、ガラス基板20上に光硬化性樹脂21を塗布し乾燥
させた試料を転写したいパターンを描画したマスク22を
用いて露光し、所要のパターン部（画素）を光硬化させ
て硬化樹脂部を得、後に染料によって着色するか、予め
染料または顔料を前記光硬化性樹脂に添加した材料を用
いている。黒、赤、緑、青等の各色のパターニング製膜
は前記工程を複数繰り返して第７図ｂに示すようなカラ
ーフィルタを形成している。
ように、ガラス基板20上に光硬化性樹脂21を塗布し乾燥
させた試料を転写したいパターンを描画したマスク22を
用いて露光し、所要のパターン部（画素）を光硬化させ
て硬化樹脂部を得、後に染料によって着色するか、予め
染料または顔料を前記光硬化性樹脂に添加した材料を用
いている。黒、赤、緑、青等の各色のパターニング製膜
は前記工程を複数繰り返して第７図ｂに示すようなカラ
ーフィルタを形成している。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、従来の方法では、各色の画素部の大きさ
が数μｍから数百μｍで、画素ピッチが十数μｍから数
百μｍと微細であるので、露光工程時に、数μｍもしく
は極端な場合１μｍ以内にアライメントする必要があ
り、アライメント誤差により第７図ｂの23のように白ヌ
ケと称される非着色部を生じ色純度を低下させたり、逆
に画素と画素が重なり突起24を生じて平坦性を失いこの
上に製膜される透明電極膜を断線させたり、液晶デバイ
スに使用される場合には対向する電極を短絡し表示上の
欠陥を生ぜしめていた。
が数μｍから数百μｍで、画素ピッチが十数μｍから数
百μｍと微細であるので、露光工程時に、数μｍもしく
は極端な場合１μｍ以内にアライメントする必要があ
り、アライメント誤差により第７図ｂの23のように白ヌ
ケと称される非着色部を生じ色純度を低下させたり、逆
に画素と画素が重なり突起24を生じて平坦性を失いこの
上に製膜される透明電極膜を断線させたり、液晶デバイ
スに使用される場合には対向する電極を短絡し表示上の
欠陥を生ぜしめていた。
本発明はかかる点に鑑み、欠陥のないパターンを安定し
て得ることができるカラーフィルタの製造方法を提供す
ることを目的とする。
て得ることができるカラーフィルタの製造方法を提供す
ることを目的とする。
課題を解決するための手段 本発明の製造方法は、上記課題を解決するため、透明な
基材の上に黒色材料を分散させた光硬化性フォトレジス
トを塗布、乾燥し、フォトマスクを用いて、紫外光にて
露光し、現像、硬化させてパターンを形成した黒色試料
を作成する第１工程、前記試料の表面に少なくとも１種
類以上の顔料を含む赤、青または緑を呈する一色の色素
材料を分散させた光硬化性フォトレジストを塗布、乾燥
し、所定の転写パターンより拡大した露光光線透過部を
有するフォトマスクを介して前記試料の非塗布面より紫
外線露光し、現象、硬化させて一色のパターンを形成す
る第２工程を備えて、前記第２工程が、分光透過スペク
トルに対する吸収係数と膜厚との積が大きい順に順次繰
り返して複数色の画素を形成することを特徴とするもの
である。
基材の上に黒色材料を分散させた光硬化性フォトレジス
トを塗布、乾燥し、フォトマスクを用いて、紫外光にて
露光し、現像、硬化させてパターンを形成した黒色試料
を作成する第１工程、前記試料の表面に少なくとも１種
類以上の顔料を含む赤、青または緑を呈する一色の色素
材料を分散させた光硬化性フォトレジストを塗布、乾燥
し、所定の転写パターンより拡大した露光光線透過部を
有するフォトマスクを介して前記試料の非塗布面より紫
外線露光し、現象、硬化させて一色のパターンを形成す
る第２工程を備えて、前記第２工程が、分光透過スペク
トルに対する吸収係数と膜厚との積が大きい順に順次繰
り返して複数色の画素を形成することを特徴とするもの
である。
作用 本発明は、露光工程で、既に形成された光硬化性着色フ
ォトレジストよりなる画素部の光硬化性着色フォトレジ
スト感光波長域における遮光性を利用してパターン精度
を向上させることができ、且つ画素パターンより光透過
領域の広い開口パターンを有するマスクを併用して露光
領域を指定することにより、光漏れおよび画素の重なり
がなくなり、良好なカラーフィルタを安定して製造する
ことができる。
ォトレジストよりなる画素部の光硬化性着色フォトレジ
スト感光波長域における遮光性を利用してパターン精度
を向上させることができ、且つ画素パターンより光透過
領域の広い開口パターンを有するマスクを併用して露光
領域を指定することにより、光漏れおよび画素の重なり
がなくなり、良好なカラーフィルタを安定して製造する
ことができる。
実施例 以下、本発明の一実施例を添付図面に基づいて説明す
る。第１図〜第４図は本発明の製造方法を示す工程説明
図である。
る。第１図〜第４図は本発明の製造方法を示す工程説明
図である。
第１図ａにおいて、ガラス等の透明な材料よりなる基材
１にはカーボンや黒色顔料を分散させた黒色の光硬化性
フォトレジスト２を塗布、乾燥してある。次に、これを
所望のパターンが描画されたマスク３を介して高圧水銀
ランプより出射され光学系（図示せず）により均一露光
パワーで平行化された紫外光線で照射し、マスク３のパ
ターンを前記フォトレジストに焼きつける。ついで、別
の工程である現像工程では非照射部のレジストをエッチ
ングして剥離させ、続いて硬化工程で残っている光照射
部のレジストを熱的に硬化させ、第１図ｂに示すような
基材１の上にストライプ状または直交格子状の第１の画
素である黒色部４を備えた試料５を作成する。
１にはカーボンや黒色顔料を分散させた黒色の光硬化性
フォトレジスト２を塗布、乾燥してある。次に、これを
所望のパターンが描画されたマスク３を介して高圧水銀
ランプより出射され光学系（図示せず）により均一露光
パワーで平行化された紫外光線で照射し、マスク３のパ
ターンを前記フォトレジストに焼きつける。ついで、別
の工程である現像工程では非照射部のレジストをエッチ
ングして剥離させ、続いて硬化工程で残っている光照射
部のレジストを熱的に硬化させ、第１図ｂに示すような
基材１の上にストライプ状または直交格子状の第１の画
素である黒色部４を備えた試料５を作成する。
ついで、第２図ａに示すように前記試料５の上には第２
の色材（例えば赤色顔料）を分散させたフォトレジスト
６を重ねて塗布し、透明な基材２の非塗布面より第１図
と同様に紫外光線で照射する。この場合、不必要な箇所
が露光されないように透光部7a、遮光部7bのパターンが
焼きつけられたマスク７を介して露光する。マスク７の
透光部7aの幅W1は、露光後画素パターンを形成したい画
素部6aの幅W2より大きくする。以降同様に現像工程、、
硬化工程をへて第２図ｂに示すように画素８を備えた試
料９を作成する。
の色材（例えば赤色顔料）を分散させたフォトレジスト
６を重ねて塗布し、透明な基材２の非塗布面より第１図
と同様に紫外光線で照射する。この場合、不必要な箇所
が露光されないように透光部7a、遮光部7bのパターンが
焼きつけられたマスク７を介して露光する。マスク７の
透光部7aの幅W1は、露光後画素パターンを形成したい画
素部6aの幅W2より大きくする。以降同様に現像工程、、
硬化工程をへて第２図ｂに示すように画素８を備えた試
料９を作成する。
更に、第３の画素（例えば緑色）についても、第３図
ａ、第３図ｂに示すように緑色顔料等の色材を分散させ
たフォトレジストを試料９の上に重ねて塗布し、基材２
の非塗布面より第２図ａと同用にマスク10を介して紫外
光線を照射し露光する。マスク10の透光部の幅は前記し
た第２図ａと同様に、第３の画素の幅より大きくし、同
様に現像工程、硬化工程をへて第３図ｂに示すように第
３の画素12を形成した試料13を作成する。
ａ、第３図ｂに示すように緑色顔料等の色材を分散させ
たフォトレジストを試料９の上に重ねて塗布し、基材２
の非塗布面より第２図ａと同用にマスク10を介して紫外
光線を照射し露光する。マスク10の透光部の幅は前記し
た第２図ａと同様に、第３の画素の幅より大きくし、同
様に現像工程、硬化工程をへて第３図ｂに示すように第
３の画素12を形成した試料13を作成する。
最後の第４の画素（例えば青色）も同様に、試料13の上
に青色顔料を分散させたフォトレジスト14を塗布し、前
記と同じくマスク15を介して紫外光線を照射し、現像、
硬化工程をへて第４図ｂに示すように第４の画素16を有
したカラーフィルタ17を作成する。尚、第４のフォトレ
ジスト14で基材１の画素非形成部をすべて被いたい場合
には、マスク15を用いる必要はない。
に青色顔料を分散させたフォトレジスト14を塗布し、前
記と同じくマスク15を介して紫外光線を照射し、現像、
硬化工程をへて第４図ｂに示すように第４の画素16を有
したカラーフィルタ17を作成する。尚、第４のフォトレ
ジスト14で基材１の画素非形成部をすべて被いたい場合
には、マスク15を用いる必要はない。
光硬化型フォトレジストの材料としては、アクリロイド
系感光樹脂より成る、例えば富士ハントエレクトロニク
ステクノロジー社製の顔料充填レジスト、すなわち青色
レジスト（商品名カラーモザイクＲ、略称CR），緑色レ
ジスト（商品名カラーモザイクＧ、略称CG）、赤色レジ
スト（商品名カラーモザイクＲ、略称CR）、黒色レジス
ト（商品名カラーモザイクＫ、略称CK）を用いた。現像
剤としては、１重量％の炭酸ソーダ水溶液を用いた。
系感光樹脂より成る、例えば富士ハントエレクトロニク
ステクノロジー社製の顔料充填レジスト、すなわち青色
レジスト（商品名カラーモザイクＲ、略称CR），緑色レ
ジスト（商品名カラーモザイクＧ、略称CG）、赤色レジ
スト（商品名カラーモザイクＲ、略称CR）、黒色レジス
ト（商品名カラーモザイクＫ、略称CK）を用いた。現像
剤としては、１重量％の炭酸ソーダ水溶液を用いた。
次に、本実施例における作用を説明すると、赤、青、緑
の各画素は、先ず、既に露光、現像、硬化して形成され
た画素の露光波長に対する遮光性を利用して、新たにパ
ターニングしようとするフォトレジスト膜を露光する際
に、前記画素パターンにならってセルフアライメントさ
れてパターニングされる。
の各画素は、先ず、既に露光、現像、硬化して形成され
た画素の露光波長に対する遮光性を利用して、新たにパ
ターニングしようとするフォトレジスト膜を露光する際
に、前記画素パターンにならってセルフアライメントさ
れてパターニングされる。
第５図は本作用を説明する図で、透明基材１の露光波長
に対する透過率をＴとし、既存画素18の膜厚をd1、感光
波長に対する吸収係数K1とし、新たに露光しようとする
フォトレジスト膜19の膜厚をd2、同じく吸収係数をK2と
すると、露光エネルギーをＩとした時、既存画素19を透
過する紫外線の強度I1は下記の（１）式で表され、フォ
トレジスト膜19の透過紫外線の強度I2は（２）式で表さ
れる。
に対する透過率をＴとし、既存画素18の膜厚をd1、感光
波長に対する吸収係数K1とし、新たに露光しようとする
フォトレジスト膜19の膜厚をd2、同じく吸収係数をK2と
すると、露光エネルギーをＩとした時、既存画素19を透
過する紫外線の強度I1は下記の（１）式で表され、フォ
トレジスト膜19の透過紫外線の強度I2は（２）式で表さ
れる。
I1＝IT×exp（−K1d1） （１） I2＝IT×exp（−K2d2） （２） 既存画素上のフォトレジストを光硬化させずに、画素の
ない部分のフォトレジストを硬化させるには、I2＞I1の
条件すなわち（３）式の条件が必要である。
ない部分のフォトレジストを硬化させるには、I2＞I1の
条件すなわち（３）式の条件が必要である。
K1d1＞K2d2 （３） 第６図に本実施例に用いた黒、赤、緑、青色のフォトレ
ジストの分光透過率（ただし、全て膜厚２μｍ）を示す
が、前記フォトレジストの感光波長域（波長315〜400n
m）は、露光光源として一般に用いられる超高圧水銀灯
から出射される紫外光のｇ線（436nm）、ｈ線（405n
m）、ｉ線（365nm）に対して、既存画素上のフォトレジ
ストを硬化させることなく、所定の膜厚を硬化させよう
とするには（３）式の条件を満たすように塗布および露
光順を決定すればよい。
ジストの分光透過率（ただし、全て膜厚２μｍ）を示す
が、前記フォトレジストの感光波長域（波長315〜400n
m）は、露光光源として一般に用いられる超高圧水銀灯
から出射される紫外光のｇ線（436nm）、ｈ線（405n
m）、ｉ線（365nm）に対して、既存画素上のフォトレジ
ストを硬化させることなく、所定の膜厚を硬化させよう
とするには（３）式の条件を満たすように塗布および露
光順を決定すればよい。
特に、第１工程で、黒色フォトレジストを用いることに
より、形成された黒色部位の感光波長域での透過率が第
６図に示す様に低いことにより、本部位をマスクとして
用いるに足る十分な遮光性を提供しうるものである。
より、形成された黒色部位の感光波長域での透過率が第
６図に示す様に低いことにより、本部位をマスクとして
用いるに足る十分な遮光性を提供しうるものである。
以上、既存画素をマスク代わりに用いてパターニングで
きることを示したが、上記作用だけでは、２種の画素し
かできないので、３種以上の画素を作成する際には、既
に第２図〜第４図で示したように、露光させたくない箇
所だけマスクで覆い、必要な所だけ露光するようにす
る。この時、透明基材の厚みにもよるが、基材厚みを0.
5〜2mとした場合、マスクエッジによる回折による光洩
れを防ぐ意味から、第２図に示した開口部の幅を露光し
たい箇所の幅よりわずか広めに、約１〜10μｍ程度広め
にとると回折光による回り込みの影響が少なく、露光部
のエッジは既存画素によりパターニングされる。ここ
で、第４図ａのマスク15は最後のフォトレジストで残り
全面を被う場合、省いてもよい。
きることを示したが、上記作用だけでは、２種の画素し
かできないので、３種以上の画素を作成する際には、既
に第２図〜第４図で示したように、露光させたくない箇
所だけマスクで覆い、必要な所だけ露光するようにす
る。この時、透明基材の厚みにもよるが、基材厚みを0.
5〜2mとした場合、マスクエッジによる回折による光洩
れを防ぐ意味から、第２図に示した開口部の幅を露光し
たい箇所の幅よりわずか広めに、約１〜10μｍ程度広め
にとると回折光による回り込みの影響が少なく、露光部
のエッジは既存画素によりパターニングされる。ここ
で、第４図ａのマスク15は最後のフォトレジストで残り
全面を被う場合、省いてもよい。
発明の効果 本発明は、既存画素の露光光に対する遮光性を利用し、
かつ画素パターンより広いマスクで不必要部分を覆うの
で、光洩れおよび画素の重なりのない３色以上の画素を
安定して得ることが可能であり、しかも第２工程が、分
光透過スペクトルに対する吸収係数と膜厚との積が大き
い順に順次繰り返して塗布・乾燥及び硬化を行う、すな
わちフィルタとしての色が濃い色から順次作成するた
め、良好なカラーフィルタを製造できる。
かつ画素パターンより広いマスクで不必要部分を覆うの
で、光洩れおよび画素の重なりのない３色以上の画素を
安定して得ることが可能であり、しかも第２工程が、分
光透過スペクトルに対する吸収係数と膜厚との積が大き
い順に順次繰り返して塗布・乾燥及び硬化を行う、すな
わちフィルタとしての色が濃い色から順次作成するた
め、良好なカラーフィルタを製造できる。
特に、第１工程で、黒色フォトレジストを用いることに
より、工業上優位なカラーフィルタの製造方法を提供し
うるものである。
より、工業上優位なカラーフィルタの製造方法を提供し
うるものである。
第１図〜第４図は本発明のカラーフィルタの製造法の一
実施例を示す工程説明図、第５図、第６図は本発明の作
用を示す説明図および分光透過率曲線図、第７図は従来
のカラーフィルタの製造法の工程説明図である。 １……基材、２、６、10、14……塗布フォトレジスト、
３、７、11、15……マスク、４、８、12、16……画素、
17……カラーフィルタ。
実施例を示す工程説明図、第５図、第６図は本発明の作
用を示す説明図および分光透過率曲線図、第７図は従来
のカラーフィルタの製造法の工程説明図である。 １……基材、２、６、10、14……塗布フォトレジスト、
３、７、11、15……マスク、４、８、12、16……画素、
17……カラーフィルタ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井波 敬 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 清水 時彦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−129322（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−804（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−66502（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−159810（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−267702（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−77004（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−190912（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−42104（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−17627（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−172202（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−66502（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】透明な基材の上に黒色材料を分散させた光
硬化性フォトレジストを塗布、乾燥し、フォトマスクを
用いて、紫外光にて露光し、現像、硬化させてパターン
を形成した黒色試料を作成する第１工程、前記試料の表
面に少なくとも１種類以上の顔料を含む赤、青または緑
を呈する一色の色素材料を分散させた光硬化性フォトレ
ジストを塗布、乾燥し、所定の転写パターンより拡大し
た露光光線透過部を有するフォトマスクを介して前記試
料の非塗布面より紫外線露光し、現像、硬化させて一色
のパターンを形成する第２工程を備えて、前記第２工程
が、分光透過スペクトルに対する吸収係数と膜厚との積
が大きい順に順次繰り返して複数色の画素を形成するこ
とを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13063288A JPH0740082B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13063288A JPH0740082B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02902A JPH02902A (ja) | 1990-01-05 |
| JPH0740082B2 true JPH0740082B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=15038889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13063288A Expired - Fee Related JPH0740082B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740082B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02160203A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-20 | Canon Inc | カラーフイルターの製造方法 |
| JPH0827456B2 (ja) * | 1990-03-08 | 1996-03-21 | スタンレー電気株式会社 | 液晶表示装置のブラックマスク形成方法 |
| KR101055187B1 (ko) * | 2003-12-18 | 2011-08-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 컬러필터 어레이 기판의 제조방법 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6175303A (ja) * | 1984-09-21 | 1986-04-17 | Casio Comput Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
| JPS62267702A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-20 | Matsushita Electronics Corp | 色分離フイルタの製造方法 |
| JPS6391627A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示体用カラ−フイルタの製造法 |
| JP2530440B2 (ja) * | 1986-11-20 | 1996-09-04 | キヤノン株式会社 | 強誘電性液晶素子の製造方法 |
| JP2587653B2 (ja) * | 1987-09-24 | 1997-03-05 | 富士写真フイルム株式会社 | カラーフィルターの製造方法 |
| JPH02804A (ja) * | 1987-12-18 | 1990-01-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラーフィルター用多色パターンの形成方法 |
-
1988
- 1988-05-27 JP JP13063288A patent/JPH0740082B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02902A (ja) | 1990-01-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100353167B1 (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| EP0450840B1 (en) | Process for forming a colour filter | |
| US4294913A (en) | Information carriers, method of forming and copying said carriers | |
| CN1038709C (zh) | 液晶显示装置的滤色片及其制作方法 | |
| JPS62106407A (ja) | 液晶表示用カラ−フイルタの製造方法 | |
| JPH0740082B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JP2000347020A (ja) | カラーフィルタの製造方法および露光装置 | |
| JPH01293306A (ja) | カラーフィルタ製造方法 | |
| KR980010626A (ko) | 컬러 필터 기판의 제조 방법 | |
| JPH0253003A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JPH08327996A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH01307703A (ja) | カラーフィルタの製造法 | |
| JPH03209203A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH09171106A (ja) | カラーフィルターの作製方法 | |
| JPS63159807A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
| JPH0317621A (ja) | 多色表示装置の製造方法 | |
| JP4978290B2 (ja) | フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び液晶表示装置 | |
| JPH02277005A (ja) | カラーフィルタ製造方法 | |
| JPH03274502A (ja) | カラーフィルタ | |
| JPH06331815A (ja) | カラーフィルタ | |
| JPH07181317A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルター基板の製造方法 | |
| JPH01277202A (ja) | 透明電極付カラーフィルターの製造方法 | |
| JP2717841B2 (ja) | パターンの形成方法 | |
| JPH02264203A (ja) | カラーフィルタ製造方法 | |
| JPH0469602A (ja) | カラーフィルタアレイの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |