JPH0740469B2 - イオン源装置、及びその運転方法 - Google Patents
イオン源装置、及びその運転方法Info
- Publication number
- JPH0740469B2 JPH0740469B2 JP60129847A JP12984785A JPH0740469B2 JP H0740469 B2 JPH0740469 B2 JP H0740469B2 JP 60129847 A JP60129847 A JP 60129847A JP 12984785 A JP12984785 A JP 12984785A JP H0740469 B2 JPH0740469 B2 JP H0740469B2
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- JP
- Japan
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- plasma
- ion source
- source device
- cathode
- discharge
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はイオン源装置、及びその運転方法に係り、特
に、化学反応とスパッタを利用して被加工物表面を微細
加工する反応性イオンビームエッチング装置に好適なイ
オン源装置、及びその運転方法に関する。
に、化学反応とスパッタを利用して被加工物表面を微細
加工する反応性イオンビームエッチング装置に好適なイ
オン源装置、及びその運転方法に関する。
一般にイオン源装置、特に大出力のイオン源装置は、低
圧放電室内でグロー放電，アーク放電，高周波放電など
の種々の放電を起こさせ、この放電によって放電室内の
ガスをプラズマ化させ、このプラズマからイオンを取り
出すように構成されている。
圧放電室内でグロー放電，アーク放電，高周波放電など
の種々の放電を起こさせ、この放電によって放電室内の
ガスをプラズマ化させ、このプラズマからイオンを取り
出すように構成されている。
ところで、このようなイオン源装置にあって、空間的に
均一性の高いプラズマを生成するために放電室内にカス
プ磁場を形成するようにしたものが、例えば特開昭56−
79900号公報，特開昭57−185653号公報等に開示されて
いる。
均一性の高いプラズマを生成するために放電室内にカス
プ磁場を形成するようにしたものが、例えば特開昭56−
79900号公報，特開昭57−185653号公報等に開示されて
いる。
しかしながら、上記したカスプ磁場を利用したイオン源
装置で化合物ガス（弗素、あるいは塩素化合物等）を電
離してプラズマを作ると、化合物ガスのプラズマ重合反
応による析出物、即ち高分子量の絶縁性の生成物がアノ
ードであるプラズマ発生容器の壁面に付着堆積してしま
い放電しなくなるという事実がわかった。つまり、プラ
ズマ発生容器が直流アーク放電の正電極であるアノード
であるため、このアノードに上記生成物が付着すると放
電が不安定になったり、放電しなくなり、これ等はイオ
ン源の基本的な動作に問題となり、化合物ガスに対して
安定な放電を維持できなくなる恐れがある。
装置で化合物ガス（弗素、あるいは塩素化合物等）を電
離してプラズマを作ると、化合物ガスのプラズマ重合反
応による析出物、即ち高分子量の絶縁性の生成物がアノ
ードであるプラズマ発生容器の壁面に付着堆積してしま
い放電しなくなるという事実がわかった。つまり、プラ
ズマ発生容器が直流アーク放電の正電極であるアノード
であるため、このアノードに上記生成物が付着すると放
電が不安定になったり、放電しなくなり、これ等はイオ
ン源の基本的な動作に問題となり、化合物ガスに対して
安定な放電を維持できなくなる恐れがある。
本発明は上述の点に鑑み成されたもので、その目的とす
るところは、化合物ガスを電離してプラズマを作るもの
であっても、放電が不安定になったり、放電しなくなる
ことはなく、化合物ガスに対して安定な放電が維持でき
るイオン源装置、及び運転を開始した当初であっても安
定な放電を継続できるイオン源装置の運転方法を提供す
るにある。
るところは、化合物ガスを電離してプラズマを作るもの
であっても、放電が不安定になったり、放電しなくなる
ことはなく、化合物ガスに対して安定な放電が維持でき
るイオン源装置、及び運転を開始した当初であっても安
定な放電を継続できるイオン源装置の運転方法を提供す
るにある。
本発明はカソードとアノードの間の放電により化合物ガ
スを電離してプラズマを作るプラズマ室の内周に、該プ
ラズマ室内壁と所定間隙をもってアノード電極を設けた
り、あるいはカソードとの間で放電を生じさせるための
非磁性材を、プラズマ室内壁と所定間隙をもって設けた
イオン源装置、及びイオン源に通電して運転を開始した
当初は、アルゴンガスや水素やガスでプラズマを作り上
記のように設置されているアノードを予熱して高温に
し、その後、化合物ガスに切り換え、該化合物ガスをプ
ラズマ化し、このプラズマからイオンを取り出すイオン
源装置の運転方法としたものである。
スを電離してプラズマを作るプラズマ室の内周に、該プ
ラズマ室内壁と所定間隙をもってアノード電極を設けた
り、あるいはカソードとの間で放電を生じさせるための
非磁性材を、プラズマ室内壁と所定間隙をもって設けた
イオン源装置、及びイオン源に通電して運転を開始した
当初は、アルゴンガスや水素やガスでプラズマを作り上
記のように設置されているアノードを予熱して高温に
し、その後、化合物ガスに切り換え、該化合物ガスをプ
ラズマ化し、このプラズマからイオンを取り出すイオン
源装置の運転方法としたものである。
本発明のイオン源装置とすれば、プラズマ室の内側に、
該プラズマ室内壁と所定間隙をもって設けられたアノー
ド電極、あるいは非磁性材は、プラズマ室内壁とは離れ
ており熱的には冷却されず、アノード電極、あるいは非
磁性材とプラズマ間で加速された電子が流入して加熱さ
れ高温となるので、アノード電極、あるいは非磁性材に
は化合物ガスの放電に伴って生成する絶縁性の高分子物
質が付着するようなことはなく、上記目的が達成され
る。
該プラズマ室内壁と所定間隙をもって設けられたアノー
ド電極、あるいは非磁性材は、プラズマ室内壁とは離れ
ており熱的には冷却されず、アノード電極、あるいは非
磁性材とプラズマ間で加速された電子が流入して加熱さ
れ高温となるので、アノード電極、あるいは非磁性材に
は化合物ガスの放電に伴って生成する絶縁性の高分子物
質が付着するようなことはなく、上記目的が達成され
る。
又、本発明のイオン源装置の運転方法とすれば、イオン
源に通電して運転を開始する当初は、アルゴンガスや水
素ガスでプラズマを作りアノード電極を予熱して高温に
し、その後、化合物ガスに切り換えるので、運転を開始
した当初であっても安定な放電が維持できる。
源に通電して運転を開始する当初は、アルゴンガスや水
素ガスでプラズマを作りアノード電極を予熱して高温に
し、その後、化合物ガスに切り換えるので、運転を開始
した当初であっても安定な放電が維持できる。
以下、図面の実施例に基づいて本発明を詳細に説明す
る。
る。
第１図に本発明のイオン源装置の一実施例を示す。
該図の如く、通常のイオン源装置は、アノードを兼ね、
かつ、その外周に複数の永久磁石7Aを有するほぼ円筒状
のプラズマ発生容器2Aと、このプラズマ発生容器2Aの一
部を形成し、その外周の複数の永久磁石7Bを有すると共
に、CF4、あるいはCF4とArの混合ガス等の化合物ガスを
含む気体を導入するためのガス導入口１を有するプラズ
マ発生容器上蓋2Bと、該プラズマ発生容器上蓋2Bに支持
され、プラズマ発生容器2Aの中心軸上に配置されたヘア
ピン状のタングステンフィラメントを利用したカソード
３と、形成されたプラズマからイオンを引き出し、これ
をイオンビームとして矢印の如く被加工物に照射する多
数の小穴をあけた引き出し電極5,6とから概略構成され
る。上記の複数の永久磁石7A,7Bは、容器の外周に沿っ
て、Ｎ極とＳ極が円筒の中心軸に向くように設けられ、
ラインカスプ磁界を容器の内側に作るようになってい
る。更に、永久磁石7A,7Bの列間には水冷パイプ８が設
置され、永久磁石7A,7Bの温度上昇による性能の劣化を
防止している。そして、本実施例では、プラズマ発生容
器2Aの内周に、プラズマ発生容器2Aの内壁と所定間隙を
保つよう磁性材９を介してアノード電極４を設けてい
る。このアノード電極４は、板厚0.5mmの非磁性ステン
レス鋼製で、長さ150mmの円筒を中心軸に沿った方向で
半割りにした構造となっており、鉄製の磁性材９の一端
に点溶接により取付け支持され、磁性材９の他端が永久
磁石7Aにより吸引されることにより、プラズマ発生容器
2Aの内部に保持固定されている。
かつ、その外周に複数の永久磁石7Aを有するほぼ円筒状
のプラズマ発生容器2Aと、このプラズマ発生容器2Aの一
部を形成し、その外周の複数の永久磁石7Bを有すると共
に、CF4、あるいはCF4とArの混合ガス等の化合物ガスを
含む気体を導入するためのガス導入口１を有するプラズ
マ発生容器上蓋2Bと、該プラズマ発生容器上蓋2Bに支持
され、プラズマ発生容器2Aの中心軸上に配置されたヘア
ピン状のタングステンフィラメントを利用したカソード
３と、形成されたプラズマからイオンを引き出し、これ
をイオンビームとして矢印の如く被加工物に照射する多
数の小穴をあけた引き出し電極5,6とから概略構成され
る。上記の複数の永久磁石7A,7Bは、容器の外周に沿っ
て、Ｎ極とＳ極が円筒の中心軸に向くように設けられ、
ラインカスプ磁界を容器の内側に作るようになってい
る。更に、永久磁石7A,7Bの列間には水冷パイプ８が設
置され、永久磁石7A,7Bの温度上昇による性能の劣化を
防止している。そして、本実施例では、プラズマ発生容
器2Aの内周に、プラズマ発生容器2Aの内壁と所定間隙を
保つよう磁性材９を介してアノード電極４を設けてい
る。このアノード電極４は、板厚0.5mmの非磁性ステン
レス鋼製で、長さ150mmの円筒を中心軸に沿った方向で
半割りにした構造となっており、鉄製の磁性材９の一端
に点溶接により取付け支持され、磁性材９の他端が永久
磁石7Aにより吸引されることにより、プラズマ発生容器
2Aの内部に保持固定されている。
このような構成において、ガス導入口１よりCF4、ある
いはCF4とArの混合ガス等の化合物ガスを含む気体を導
入し、タングステンフィラメントから成るカソード３と
アノード電極４に直流電圧を印加し、カソード３の熱電
子により上記ガスを電離することでプラズマを作る。こ
のプラズマから引き出し電極5,6によりイオンビームを
引き出し、被加工物に照射するものである。
いはCF4とArの混合ガス等の化合物ガスを含む気体を導
入し、タングステンフィラメントから成るカソード３と
アノード電極４に直流電圧を印加し、カソード３の熱電
子により上記ガスを電離することでプラズマを作る。こ
のプラズマから引き出し電極5,6によりイオンビームを
引き出し、被加工物に照射するものである。
従って、上述した如く、プラズマ発生容器2Aの内側にア
ノード電極４を設ければ、このアノード電極４は、プラ
ズマ発生容器2Aと電気的に接続されているため熱的には
冷却されず、アノード電極４とプラズマの間で加速され
た電子が流入して加熱されるので、プラズマ発生容器２
よりかなり高温で動作する。このため、アノード電極４
には、化合物ガスの放電に伴って生成した絶縁性の高分
子物質が付着するようなことはなく、放電が不安定にな
ったり、あるいは放電しなくなる等イオン源装置の基本
的な動作上の問題がなくなり、化合物ガスに対しても安
定な放電が維持できる。また、アノード電極４は磁気を
利用して固定しているため、アノード電極４自身の交
換、清掃等の保守作業が容易であると共に、アノード電
極４を支持する磁性材９の一部を絶縁すると、プラズマ
発生容器2Aと別の電位をアノード電極４に与えることが
でき、電子、又はイオンの閉じ込めを改良できる効果が
ある。
ノード電極４を設ければ、このアノード電極４は、プラ
ズマ発生容器2Aと電気的に接続されているため熱的には
冷却されず、アノード電極４とプラズマの間で加速され
た電子が流入して加熱されるので、プラズマ発生容器２
よりかなり高温で動作する。このため、アノード電極４
には、化合物ガスの放電に伴って生成した絶縁性の高分
子物質が付着するようなことはなく、放電が不安定にな
ったり、あるいは放電しなくなる等イオン源装置の基本
的な動作上の問題がなくなり、化合物ガスに対しても安
定な放電が維持できる。また、アノード電極４は磁気を
利用して固定しているため、アノード電極４自身の交
換、清掃等の保守作業が容易であると共に、アノード電
極４を支持する磁性材９の一部を絶縁すると、プラズマ
発生容器2Aと別の電位をアノード電極４に与えることが
でき、電子、又はイオンの閉じ込めを改良できる効果が
ある。
更に、イオン源に通電して運転を開始した当初は、アノ
ード電極４は室温であるため、プラズマにより作られた
絶縁性の高分子生成物が付着し放電が不安定になる恐れ
があるが、運転を開始した当初は、ArガスやH2ガスでプ
ラズマを作りアノード電極４を予熱して高温にし、その
後、CF4等の化合物ガスに切り換えれば安定な放電が継
続できる。尚、アノード電極４に熱電対等の温度センサ
を設ければ、アノード電極４の温度を知ることができ
る。本実施例では、この温度センサで、アノード電極４
が150℃〜200℃以上になった時に、安定した放電ができ
ることを確認した。更に、アノード電極４を高温に保つ
ことにより、絶縁性高分子生成物の堆積を防止できる
が、カーボン等の低分子の固体は堆積してしまうので、
アノード電極４の交換、清掃等の保守作業は頻繁に行う
必要がある。この時には、水素プラズマを利用すると、
この水素イオンの還元作用によりアノード電極４に堆積
した弗素や塩素等の高分子が分解されるので、カーボン
中に含まれている弗素等を揮発分として真空ポンプで系
外に排出することにより、安定な放電を回復すると同時
に、アノード電極４の交換，清掃等の保守作業が繁雑で
なくなる効果がある。
ード電極４は室温であるため、プラズマにより作られた
絶縁性の高分子生成物が付着し放電が不安定になる恐れ
があるが、運転を開始した当初は、ArガスやH2ガスでプ
ラズマを作りアノード電極４を予熱して高温にし、その
後、CF4等の化合物ガスに切り換えれば安定な放電が継
続できる。尚、アノード電極４に熱電対等の温度センサ
を設ければ、アノード電極４の温度を知ることができ
る。本実施例では、この温度センサで、アノード電極４
が150℃〜200℃以上になった時に、安定した放電ができ
ることを確認した。更に、アノード電極４を高温に保つ
ことにより、絶縁性高分子生成物の堆積を防止できる
が、カーボン等の低分子の固体は堆積してしまうので、
アノード電極４の交換、清掃等の保守作業は頻繁に行う
必要がある。この時には、水素プラズマを利用すると、
この水素イオンの還元作用によりアノード電極４に堆積
した弗素や塩素等の高分子が分解されるので、カーボン
中に含まれている弗素等を揮発分として真空ポンプで系
外に排出することにより、安定な放電を回復すると同時
に、アノード電極４の交換，清掃等の保守作業が繁雑で
なくなる効果がある。
次に、第２図、及び第３図にそれぞれ本発明の他の実施
例を示す。
例を示す。
第２図に示す実施例は、上述したカソードとしてのタン
グステンフィラメントの代わりに、高周波プラズマやマ
イクロ波プラズマ等の無電極放電によるプラズマから引
き出した電子，ホローカソード等を利用したものであ
る。
グステンフィラメントの代わりに、高周波プラズマやマ
イクロ波プラズマ等の無電極放電によるプラズマから引
き出した電子，ホローカソード等を利用したものであ
る。
このため、第２図に示す例では、永久磁石7Bを有するプ
ラズマ発生容器上蓋2Bに、ガス導入口10bを有すると共
に、周囲にRFコイル11を備えているガラス筒10aを、電
子引き出し電極12,絶縁スペーサ13を介して設けて、電
子の発生源としてる。他の構成は第１図に示した実施例
と同一である。
ラズマ発生容器上蓋2Bに、ガス導入口10bを有すると共
に、周囲にRFコイル11を備えているガラス筒10aを、電
子引き出し電極12,絶縁スペーサ13を介して設けて、電
子の発生源としてる。他の構成は第１図に示した実施例
と同一である。
このような構成とすることにより、安定した放電を維持
できると共に、フィラメントがないので、フィラメント
交換の保守作業を省略できる効果もある。
できると共に、フィラメントがないので、フィラメント
交換の保守作業を省略できる効果もある。
次に、第３図に示す実施例は、第１図に示した構成のイ
オン源装置における引き出し電極5,6の位置に、被加工
物15を置き、この被加工物15をプラズマに直接さらすこ
とによりエッチングを可能としたもので、第１図と同様
な効果が得られることは勿論、イオンビーム衝撃による
被加工物の損傷を小さくできる効果もある。
オン源装置における引き出し電極5,6の位置に、被加工
物15を置き、この被加工物15をプラズマに直接さらすこ
とによりエッチングを可能としたもので、第１図と同様
な効果が得られることは勿論、イオンビーム衝撃による
被加工物の損傷を小さくできる効果もある。
以上説明した本発明のイオン源装置、及びその運転方法
によれば、外周に複数の永久磁石を有するプラズマ発生
容器の内周にアノード電極、あるいはカソードとの間で
放電を生じさせる非磁性材を、プラズマ発生容器内壁と
所定間隙をもって設けたものであるから、アノード電
極、あるいは非磁性材を高温に保つことができるため、
このアノード電極、あるいは非磁性材に絶縁性の高分子
生成物が付着することはなく、放電の不安定化を防止で
き、化合物ガスに対しても安定な放電を維持することが
てきる。又、運転を開始した当初は、ArとガスやH2ガス
でプラスマを作りアノードを予熱して高温にし、その後
化合物ガスに切り換えて所定の運転を行うので、運転を
開始した当初であっても安定な運転が維持できる。従っ
て、此種イオン源装置には非常に有効である。
によれば、外周に複数の永久磁石を有するプラズマ発生
容器の内周にアノード電極、あるいはカソードとの間で
放電を生じさせる非磁性材を、プラズマ発生容器内壁と
所定間隙をもって設けたものであるから、アノード電
極、あるいは非磁性材を高温に保つことができるため、
このアノード電極、あるいは非磁性材に絶縁性の高分子
生成物が付着することはなく、放電の不安定化を防止で
き、化合物ガスに対しても安定な放電を維持することが
てきる。又、運転を開始した当初は、ArとガスやH2ガス
でプラスマを作りアノードを予熱して高温にし、その後
化合物ガスに切り換えて所定の運転を行うので、運転を
開始した当初であっても安定な運転が維持できる。従っ
て、此種イオン源装置には非常に有効である。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明のイオン源装置の一実施例を示す断面
図、第２図、及び第３図はそれぞれ本発明の他の実施例
を示す断面図である。 1,10b……ガス導入口、2A……プラズマ発生容器、2B…
…プラズマ発生容器上蓋、３……カソード、４……アノ
ード電極、5,6……引き出し電極、7A,7B……永久磁石、
８……水冷パイプ、９……磁性材、10a……ガラス筒、1
1……RFコイル、12……電子引き出し電極、13……絶縁
スペーサ、15……被加工物。
図、第２図、及び第３図はそれぞれ本発明の他の実施例
を示す断面図である。 1,10b……ガス導入口、2A……プラズマ発生容器、2B…
…プラズマ発生容器上蓋、３……カソード、４……アノ
ード電極、5,6……引き出し電極、7A,7B……永久磁石、
８……水冷パイプ、９……磁性材、10a……ガラス筒、1
1……RFコイル、12……電子引き出し電極、13……絶縁
スペーサ、15……被加工物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 関本 信也 茨城県日立市国分町１丁目１番１号 株式 会社日立製作所国分工場内 (56)参考文献 特開 昭57−90900（ＪＰ，Ａ)
Claims (11)
- 【請求項１】外周に複数の永久磁石を有するプラズマ室
内でカソードとアノード間の放電により化合物ガスを電
離してプラズマを作るイオン源装置において、前記プラ
ズマ室の内周に、該プラズマ室内壁と所定間隙をもって
支持されるアノード電極を設けたことを特徴とするイオ
ン源装置。 - 【請求項２】前記アノード電極は、磁性材を介して前記
プラズマ室の内周に固定されていることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載のイオン源装置。 - 【請求項３】前記磁性材の一部が絶縁されていることを
特徴とする特許請求の範囲第２項記載のイオン源装置。 - 【請求項４】前記磁性材は、前記永久磁石により吸引さ
れてプラズマ室内に保持されていることを特徴とする特
許請求の範囲第２項、又は第３項記載のイオン源装置。 - 【請求項５】前記カソードは、プラズマ室内に設けられ
たフィラメントから成ることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載のイオン源装置。 - 【請求項６】前記カソードとして高周波プラズマ源、又
はマイクロ波プラズマ源等の高周波無電極放電によるプ
ラズマを用いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載のイオン源装置。 - 【請求項７】前記カソードとアノード間の放電により化
合物ガスを電離して作られたプラズマからイオンビーム
を引き出すための複数の引き出し電極を有し、該引き出
し電極により引き出されたイオンビームを被加工物に照
射することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のイ
オン源装置。 - 【請求項８】前記カソードとアノード間の放電により化
合物ガスを電離して作られたプラズマを被加工物に照射
することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のイオ
ン源装置。 - 【請求項９】外周に複数の永久磁石を有するプラズマ室
でカソードとアノード間の放電により化合物ガスを電離
してプラズマを作るイオン源装置において、前記カソー
ドとして無電局放電のプラズマを用いると共に、前記ア
ノードとしての電極を前記プラズマ室の内周に、該プラ
ズマ室内壁と所定間隙をもって設けたことを特徴とする
イオン源装置。 - 【請求項１０】外周に複数の永久磁石を有するプラズマ
室でカソードとアノード間の放電により化合物ガスを電
離してプラズマを作るイオン源装置において、前記プラ
ズマ室の内周に前記カソードとの間で放電を生じさせる
ための非磁性材を、プラズマ室内壁と所定間隙をもって
設けたことを特徴とするイオン源装置。 - 【請求項１１】プラズマ室内でカソードとアノード間に
放電を起させ、この放電によってプラズマ室内の化合物
ガスをプラズマ化し、このプラズマからイオンを取り出
すイオン源装置の運転方法において、イオン源に通電し
て運転を開始した当初は、アルゴンガスや水素ガスでプ
ラズマを作り、このプラズマで、プラズマ室の内周に所
定間隙をもって支持されるアノードを予熱して高温に
し、その後、前記化合物ガスに切り換えて所定の運転を
行うことを特徴とするイオン源装置の運転方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60129847A JPH0740469B2 (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | イオン源装置、及びその運転方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60129847A JPH0740469B2 (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | イオン源装置、及びその運転方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61288348A JPS61288348A (ja) | 1986-12-18 |
| JPH0740469B2 true JPH0740469B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=15019708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60129847A Expired - Lifetime JPH0740469B2 (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | イオン源装置、及びその運転方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740469B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2540492B2 (ja) * | 1986-01-16 | 1996-10-02 | 日新電機株式会社 | イオン源用ア−クチヤンバ−装置 |
| KR880013424A (ko) * | 1987-04-08 | 1988-11-30 | 미타 가츠시게 | 플라즈머 장치 |
| CN117198850B (zh) * | 2023-08-02 | 2025-01-21 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种具有气路拓扑结构的大面积线性阳极层离子源 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5790900A (en) * | 1980-11-27 | 1982-06-05 | Hitachi Ltd | Neutral particle incident device ion source |
-
1985
- 1985-06-17 JP JP60129847A patent/JPH0740469B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61288348A (ja) | 1986-12-18 |
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