JPH0742095B2 - Graphite manufacturing method - Google Patents
Graphite manufacturing methodInfo
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- JPH0742095B2 JPH0742095B2 JP3169873A JP16987391A JPH0742095B2 JP H0742095 B2 JPH0742095 B2 JP H0742095B2 JP 3169873 A JP3169873 A JP 3169873A JP 16987391 A JP16987391 A JP 16987391A JP H0742095 B2 JPH0742095 B2 JP H0742095B2
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、X線モノクロメータ
ー、中性子線モノクロメーター、中性子線フィルター等
の放射線光学素子として利用される高配向性ブロック状
のグラファイトの製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing highly oriented block-shaped graphite used as a radiation optical element such as an X-ray monochromator, a neutron monochromator and a neutron filter.
【0002】[0002]
【従来の技術】グラファイトは、抜群の耐熱性、耐薬品
性、高電気伝導性等のため工業材料として重要な地位を
占め、ガスケット、電極、発熱体、構造材として広く使
用されている。中でも高配向性グラファイトは、X線や
中性子線に対する優れた分光、反射特性を有するため
に、X線や中性子線のモノクロメーター、あるいはフィ
ルターとして広く用いられている。2. Description of the Related Art Graphite occupies an important position as an industrial material due to its outstanding heat resistance, chemical resistance, high electrical conductivity, etc., and is widely used as a gasket, an electrode, a heating element and a structural material. Among them, highly oriented graphite is widely used as a monochromator for X-rays and neutron rays, or a filter because it has excellent spectral and reflection characteristics for X-rays and neutron rays.
【0003】この目的に使用されるグラファイトとして
は、天然に産するものを使用するのが一つの方法である
が、良質のグラファイトは生産量が非常に限られてお
り、しかも取り扱いにくい粉末状又はリン片状のため人
工的にグラファイトを製造することが行われている。こ
の様な人工的なグラファイトの製造方法としては、気相
中での炭化水素ガスの高温分解沈積と、その熱間加工に
よる方法がある。これは圧力を印加しつつ3400℃で
長時間再焼鈍すると言う工程によって作成する方法であ
る。この様にして作成されるグラファイトは、高配向性
グラファイト(HOPG)と呼ばれ、天然の単結晶グラ
ファイトと比較し得る優れた特性を有している。しか
し、この方法は製造工程が極めて複雑でかつ歩留りも著
しく低く、その結果、HOPGは極めて高価なものであ
った。One of the methods used for this purpose is to use naturally occurring graphite, but high-quality graphite has a very limited production amount, and it is difficult to handle in the form of powder or graphite. Artificial production of graphite is performed because of the flaky shape. As a method for producing such artificial graphite, there is a method by high temperature decomposition deposition of hydrocarbon gas in a gas phase and hot working thereof. This is a method of forming by a process of re-annealing at 3400 ° C. for a long time while applying pressure. The graphite produced in this manner is called highly oriented graphite (HOPG) and has excellent properties comparable to natural single crystal graphite. However, this method has an extremely complicated manufacturing process and a significantly low yield, and as a result, HOPG has been extremely expensive.
【0004】この様な従来の高品質グラファイトの製造
方法の欠点を解消し、製造方法が容易でコストの安価な
製造方法として、高分子フィルムを高温焼成して高品質
グラファイトを作成する方法が開発された。高分子材料
は一般的には難グラファイト材料に属し、たとえ300
0℃の高温に加熱しても良質のグラファイトに転化され
ることはない。しかしながら、最近の研究の結果、高分
子材料のいくつかは適当な熱処理によって良質なグラフ
ァイトに転化されることが分かってきた。それらの高分
子としては、ポリオキサジアゾール、芳香族ポリイミ
ド、芳香族ポリアミド、ポリベンゾイミダゾール、ポリ
ベンゾビスチアゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリ
チアゾール、ポリパラフェニレンビニレン等がある。こ
れらの知見に基づき、本発明者らは特許出願を行ってお
り、それらは特開昭61−275114号、特開昭61
−275115号、特開昭61−275117号等の公
報に開示されている。In order to solve the above-mentioned drawbacks of the conventional method for producing high-quality graphite and to make the production method easy and inexpensive, a method for producing high-quality graphite by firing a polymer film at high temperature has been developed. Was done. Polymer materials generally belong to difficult graphite materials.
Even if it is heated to a high temperature of 0 ° C., it is not converted into good quality graphite. However, recent studies have shown that some of the polymeric materials are converted to good quality graphite by appropriate heat treatment. Examples of such polymers include polyoxadiazole, aromatic polyimide, aromatic polyamide, polybenzimidazole, polybenzobisthiazole, polybenzoxazole, polythiazole, and polyparaphenylene vinylene. Based on these findings, the inventors of the present invention have filed patent applications, which are disclosed in JP-A-61-275114 and JP-A-61-275114.
-275115, JP-A-61-275117, and the like.
【0005】これらの発明に基づき、高分子フィルムを
積層し、加圧焼成してブロック状のグラファイトを作成
すると言う検討がなされた。これらの例は特開平1−1
05199号公報および特開昭63−235218号公
報に開示されている。On the basis of these inventions, studies were made to laminate polymer films and fire them under pressure to produce block-shaped graphite. Examples of these are Japanese Patent Laid-Open No. 1-1.
No. 05199 and Japanese Patent Laid-Open No. 235218/1988.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら複数枚の
高分子フィルムを積層し、これを高配向性ブロックとす
るためには数多くの工夫が必要であり、単純に加圧焼成
するだけでは目的の高配向性グラファイトは得られな
い。高配向性グラファイトを得るためにはそれぞれのフ
ィルムがブロック内部できちんと配向していること、フ
ィルムの内部でグラファイト結晶がきれいに配列してい
ること、フィルム同士が接着していることが重要であ
る。しかしながら、例えば、上記の高分子フィルムはい
ずれも300から600℃の温度領域で熱分解を起こ
し、フィルムは急激に収縮を起こす。さらに、これらの
高分子は1000℃から2000℃付近の温度領域で
は、硬くて脆い言わゆるハードカーボンの状態となる。
従って、これらの高分子フィルムを積層し圧力を印加し
つつ熱処理を行っても、通常はフィルムの収縮変形によ
ってしわや内部構造の歪が生じ、極端な場合には破壊に
至ってしまう。従って、複数枚の高分子フィルムより高
配向性のグラファイトブロックを作成する技術のポイン
トは、高分子フィルムの伸びや縮みによって熱分解、炭
素化、グラファイト化の過程の間に生じた歪を、如何に
最終的なグラファイトブロックの中に残さないかという
点である。However, in order to form a highly oriented block by laminating a plurality of polymer films, it is necessary to devise many means, and simply pressurizing and firing can achieve a high purpose. Oriented graphite cannot be obtained. In order to obtain highly oriented graphite, it is important that each film is properly oriented inside the block, that the graphite crystals are arranged neatly inside the film, and that the films adhere to each other. However, for example, the above-mentioned polymer films all undergo thermal decomposition in the temperature range of 300 to 600 ° C., and the films rapidly shrink. Further, these polymers are in a hard carbon state which is hard and brittle in a temperature range around 1000 ° C to 2000 ° C.
Therefore, even if these polymer films are laminated and heat-treated while applying pressure, wrinkles and internal structure distortion are usually generated due to shrinkage deformation of the films, and in extreme cases, destruction occurs. Therefore, the key point of the technology to create a highly oriented graphite block from multiple polymer films is to determine the strain that occurs during the process of thermal decomposition, carbonization, and graphitization due to expansion and contraction of the polymer film. The point is to leave it in the final graphite block.
【0007】そのために、例えば、熱分解温度領域では
本質的に圧力を印加せず、分解温度以上から2000℃
の温度領域で2から50kg/cm2の間の圧力を印加し、2
600℃以上では50kg/cm2以上の圧力を印加する様な
手法が使われる。熱分解温度領域で圧力が印加出来ない
のは、この領域で圧力を印加するとフィルム同士が融着
し、内部からの発生する分解ガスのスムーズな放出を妨
げ、ついにはその発生ガスによって炭素化物の破壊に至
るからである。分解温度以上から2000℃の間の圧力
操作は作成した炭素化物(ハードカーボンの状態にあ
る)を壊さない様に焼成して、分解温度領域で生じた内
部歪を取り除く工程である。また、2600℃以上の圧
力操作はグラファイト化を進めつつ、フィルム同士を接
着させる工程である。Therefore, for example, no pressure is applied essentially in the thermal decomposition temperature range, and the decomposition temperature is not lower than 2000 ° C.
Apply a pressure between 2 and 50 kg / cm 2 in the temperature range of
At 600 ° C or higher, a method of applying a pressure of 50 kg / cm 2 or higher is used. The pressure cannot be applied in the thermal decomposition temperature region because when the pressure is applied in this region, the films are fused to each other, preventing the smooth release of the decomposition gas generated from the inside, and finally the carbon dioxide is generated by the generated gas. Because it leads to destruction. The pressure operation between the decomposition temperature and 2000 ° C. is a step of removing the internal strain generated in the decomposition temperature region by firing so as not to destroy the carbonized product (in the state of hard carbon). Further, the pressure operation at 2600 ° C. or higher is a step of adhering the films together while promoting the graphitization.
【0008】上記の方法は、熱分解、炭素化、グラファ
イト化、接着の工程をそれぞれ制御して、高配向性のグ
ラファイトを作成する方法であり、この方法によりモザ
イクスプレッドの値が1.0゜から0.7゜程度の特性
を持つ高配向性のグラファイトブロックが得られるよう
になった。しかし、より優れた配向性を持つブロックの
実現には、熱分解過程において生じる歪をより小さくす
る事が重要である。そのためには熱分解過程において、
高分子フィルム同士の接着を防ぎ、分解ガスの放出をス
ムーズに行いつつ加圧することが望ましい。しかし、通
常、熱分解過程における加圧は上記の様に通常フィルム
同士の接着を起こすため、加圧は出来なかった。The above method is a method for producing highly oriented graphite by controlling the steps of pyrolysis, carbonization, graphitization, and adhesion, and the value of the mosaic spread is 1.0 °. Thus, a highly oriented graphite block having a characteristic of about 0.7 ° can be obtained. However, in order to realize a block having better orientation, it is important to reduce the strain generated in the thermal decomposition process. To do so, in the pyrolysis process,
It is desirable to prevent the polymer films from adhering to each other and pressurize while smoothly releasing the decomposition gas. However, since the pressure in the thermal decomposition process usually causes the films to adhere to each other as described above, the pressure cannot be applied.
【0009】本発明は、従来の製造工程が極めて複雑で
かつ歩留りも著しく低く、その結果高配向性のグラファ
イトが極めて高価であったと言う欠点を解決し、製造方
法が容易でコストの安価な高分子フィルムを高温焼成し
て高品質グラファイトを作成する方法を実現することを
目的とする。The present invention solves the disadvantage that the conventional manufacturing process is extremely complicated and the yield is extremely low, and as a result, highly oriented graphite is extremely expensive, and the manufacturing method is easy and the cost is high. It is an object of the present invention to realize a method for producing high quality graphite by firing a molecular film at a high temperature.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、複数枚の高分子フィルムを積層し、高分
子フィルムの間に無機質粉体を存在させて加圧および熱
処理するように構成される。In order to achieve this object, the present invention relates to a method in which a plurality of polymer films are laminated, and an inorganic powder is present between the polymer films to apply pressure and heat treatment. Is composed of.
【0011】[0011]
【作用】本発明は、上記構成により、高分子フィルムは
その熱分解工程において互いに接着する事がなくなり、
分解ガスが高分子フィルムの間を通ってスムーズに外部
に拡散する事が出来るようになる。即ち、高分子フィル
ムは互いに融着しないため、ある程度の圧力を印加する
ことが可能となり、高分子フィルム間で互いにすべり合
う事が出来、それによって高分子フィルムにしわや歪が
導入されることを防ぐことが出来る。According to the present invention, the polymer films are prevented from adhering to each other in the thermal decomposition step due to the above constitution.
The decomposed gas can pass smoothly between the polymer films and diffuse to the outside. That is, since the polymer films do not fuse with each other, it is possible to apply a certain amount of pressure, and it is possible for the polymer films to slip with each other, thereby introducing wrinkles and strains in the polymer films. Can be prevented.
【0012】こうして作成された炭素化ブロックは、初
期に導入される歪が少ないために、それぞれの高分子フ
ィルムがブロック内部できちんと配向し、しかもフィル
ムの内部では結晶がきれいに配列した高配向性グラファ
イトとなる。Since the carbonized block thus produced has a small amount of strain initially introduced, each polymer film is properly oriented inside the block, and highly oriented graphite in which crystals are arranged neatly inside the film. Becomes
【0013】[0013]
【実施例】以下、本発明の一実施例について説明する
が、その前に本発明の概要について説明する。EXAMPLE An example of the present invention will be described below, but before that, an outline of the present invention will be described.
【0014】本願出願人は前記問題点を解決すべく検討
の結果、ある粒径以下の大きさの無機質粉末を高分子フ
ィルムの間に存在せしめて熱処理することにより、高分
子フィルムはその熱分解工程において互いに接着するこ
とがなくなり、分解ガスがフィルムの間を通ってスムー
ズに外部に拡散することが出来るようになることを発見
して本発明に至った。この方法では、フィルムは互いに
融着しないため、ある程度の圧力を印加することが可能
となり、フィルム間で互いにすべり合うことが出来、そ
れによってフィルムにしわや歪が導入されることを防ぐ
ことが出来る。As a result of studies to solve the above-mentioned problems, the applicant of the present invention has found that a polymer film is thermally decomposed by allowing an inorganic powder having a particle size of a certain size or less to be present between the polymer films and heat-treated. The present invention has been completed by discovering that the films do not adhere to each other in the process and the decomposed gas can smoothly diffuse to the outside through the spaces between the films. In this method, the films are not fused to each other, so that it is possible to apply a certain amount of pressure, it is possible to slip between the films, thereby preventing the introduction of wrinkles and strains in the film .
【0015】こうして作成された炭素化ブロックは上記
の手法に従って高温処理が行われグラファイト化される
が、初期に導入される歪が少ないために従来の手法に比
べ配向性の優れたグラファイトブロックを得ることが出
来る。このとき用いられる無機質粉体の量は高分子フィ
ルムの融着を防ぎ、かつグラファイトの特性に悪影響を
与えない範囲で選択される。The carbonized block thus prepared is subjected to high temperature treatment according to the above-mentioned method to be graphitized. However, since the strain introduced in the initial stage is small, a graphite block having an excellent orientation as compared with the conventional method is obtained. You can The amount of the inorganic powder used at this time is selected within a range that prevents fusion of the polymer film and does not adversely affect the properties of graphite.
【0016】以下、本発明の材料、手法について説明す
る。本発明では、各種ポリフェニレンオキサジアゾール
(POD)、ポリベンゾチアゾール(PBT)、ポリベ
ンゾビスチアゾール(PBBT)、ポリベンゾオキサゾ
ール(PBO)、ポリベンゾビスオキサゾール(PBB
O)、各種芳香族ポリイミド(PI)、各種芳香族ポリ
アミド(PA)、ポリ(フェニレンベンゾイミタゾー
ル)(PBI)、ポリ(フェニレンベンゾビスイミタゾ
ール)(PPBI)、ポリチアゾール(PT)、ポリ
(パラフェニレンビニレン)(PPV)のうちから選ば
れた少なくとも一種類の高分子フィルムが用いられる。Materials and methods of the present invention will be described below. In the present invention, various polyphenylene oxadiazole (POD), polybenzothiazole (PBT), polybenzobisthiazole (PBBT), polybenzoxazole (PBO), polybenzobisoxazole (PBB)
O), various aromatic polyimides (PI), various aromatic polyamides (PA), poly (phenylene benzimidazole) (PBI), poly (phenylene benzobisimidazole) (PPBI), polythiazole (PT), At least one polymer film selected from poly (paraphenylene vinylene) (PPV) is used.
【0017】ここで各種ポリオキサジアゾールとはポリ
パラフェニレン−1.3.4−オキサジアゾール及びそ
れらの異性体を言う。また各種芳香族ポリイミドとは下
記一般式で表されるポリイミドである。Here, various polyoxadiazoles mean polyparaphenylene-1.3.4-oxadiazole and isomers thereof. The various aromatic polyimides are polyimides represented by the following general formula.
【0018】[0018]
【化1】 [Chemical 1]
【0019】また、芳香族ポリアミドとは下記一般式で
表されるポリアミドである。The aromatic polyamide is a polyamide represented by the following general formula.
【0020】[0020]
【化2】 [Chemical 2]
【0021】しかし、本発明は、これらのポリイミドや
ポリアミドに限定されるものではない。However, the present invention is not limited to these polyimides and polyamides.
【0022】本発明における原料高分子フィルムは、上
記のPOD、PBT、PBBT、PBO、PBBO、P
I、PA、PBI、PBBI、PT、PPV等の内から
選ばれるが、本発明の手法は 高温での熱処理によって
良質のグラファイトを生じるような高分子フィルムに対
しては同様に適用することが可能である。The raw polymer film in the present invention is the above-mentioned POD, PBT, PBBT, PBO, PBBO, P.
It is selected from among I, PA, PBI, PBBI, PT, PPV, etc., but the method of the present invention can be similarly applied to a polymer film that produces good quality graphite by heat treatment at high temperature. Is.
【0023】本発明の方法では、出発原料として400
μm 以下の厚さを有するフィルムが用いられる事が望ま
しい。それは400μm 以上の厚さを有する原料を用い
た場合には、本発明の方法によってもフィルム内部から
発生するガスのためにフィルムの内部構造が破壊され高
配向性のグラファイトブロックを得ることが困難となる
ためである。In the method of the present invention, the starting material is 400
It is desirable to use a film having a thickness of less than μm. This is because when a raw material having a thickness of 400 μm or more is used, it is difficult to obtain a highly oriented graphite block because the internal structure of the film is destroyed by the gas generated from the inside of the film even by the method of the present invention. This is because
【0024】本発明による無機質粉体として、シリカ、
酸化カルシュウム、酸化マグネシュウム、酸化アルミニ
ュウム、酸化鉄、カーボン、グラファイト、酸化チタ
ン、炭酸カルシュウム、珪酸マグネシュウム、珪酸カル
シュウム、炭酸バリュウム、硫酸バリュウム、酸化鉛、
酸化クロム、炭化珪素、炭化カルシュウム等、及びこれ
らの混合物等、を代表例として挙げることが出来る。混
合物の例としてカオリン、クレー、酸性白土、タルク、
ベントン、ホワイトカーボン等を挙げることが出来る。
これらの無機質粉体は粉体のまま用いる事もできるし、
水あるいは有機溶剤等に分散された状態でも良い。ま
た、ステアリン酸誘導体の様な誘導体の形で用いること
も可能である。As the inorganic powder according to the present invention, silica,
Calcium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, iron oxide, carbon, graphite, titanium oxide, calcium carbonate, magnesium silicate, calcium silicate, barium carbonate, barium sulfate, lead oxide,
Representative examples include chromium oxide, silicon carbide, calcium carbide, and the like, and mixtures thereof. Examples of mixtures include kaolin, clay, acid clay, talc,
Examples include Benton and white carbon.
These inorganic powders can be used as they are,
It may be dispersed in water or an organic solvent. It is also possible to use it in the form of a derivative such as a stearic acid derivative.
【0025】これらの無機粉体の役割は、フィルム間の
融着を防ぎ、熱分解過程における加圧焼成を可能とする
ことにある。しかし、一方で無機粉体の量が多すぎると
この無機粉体自体が完成したグラファイトブロックの配
向性を乱し、かつ2600℃以上でのフィルム接着過程
での接着を妨げることになる。従って、無機粉体の量は
融着を防ぐと言う目的を達成するために必要な最少量で
あることが望ましい。The role of these inorganic powders is to prevent fusion between the films and to enable pressure firing in the thermal decomposition process. However, on the other hand, if the amount of the inorganic powder is too large, the inorganic powder itself disturbs the orientation of the completed graphite block and prevents the adhesion in the film bonding process at 2600 ° C. or higher. Therefore, it is desirable that the amount of the inorganic powder is the minimum amount necessary to achieve the purpose of preventing fusion.
【0026】この様な観点から各種の無機粉体、および
その粒径を検討し最適量を検討した。その結果、粒径は
20μm 以下であることが必要で、より望ましくは1μ
m であることが分かった。さらに20μm 以下の粒径で
ある場合、融着を防ぐ為に必要な量はフィルム重量の1
%以下で、より望ましくは0.1%以下であることが分
かった。これらの条件を満たす無機粉体はグラファイト
の特性にほとんど悪影響を与えず、逆に熱分解過程にお
いて圧力を印加することで歪が除かれることによるプラ
スの効果が現れてくる。その結果、得られるグラファイ
トの特性は無機粉体を用いない製造方法に比べ著しく向
上する。From this point of view, various inorganic powders and their particle sizes were examined to determine the optimum amount. As a result, the particle size should be 20 μm or less, and more preferably 1 μm.
It turned out to be m. Further, when the particle size is 20 μm or less, the amount required to prevent fusion is 1 of the film weight.
% Or less, more preferably 0.1% or less. Inorganic powders that satisfy these conditions have almost no adverse effect on the properties of graphite, and conversely, a positive effect is obtained by removing the strain by applying pressure during the thermal decomposition process. As a result, the characteristics of the obtained graphite are remarkably improved as compared with the production method using no inorganic powder.
【0027】本発明の方法に対して、当然無機粉体を高
分子フィルム中にあらかじめ添加する方法が考えられ
る。しかし、その様な方法はフィルムの融着を防止する
という本発明の目的には適当でない。それは、内部添加
の方法では融着を防止するために本発明の方法に比べ遥
かに大量の添加が必要で、それらは最終的なグラファイ
トの性質に悪影響を与えるからである。ポリイミドの場
合、平均粒径10μm のシリカ粉体を用いた場合にフィ
ルム間の融着を防ぐために必要な最低量はフィルム重量
の5%であった。したがって、当然この様な無機粉体は
最終的なグラファイトの配向特性に悪影響をあたえるこ
とになる。In addition to the method of the present invention, a method of adding an inorganic powder to the polymer film in advance can be considered. However, such a method is not suitable for the purpose of the invention of preventing film fusion. This is because the internal addition method requires a much larger amount of addition in order to prevent fusion, as compared with the method of the present invention, and they adversely affect the properties of the final graphite. In the case of polyimide, the minimum amount required to prevent fusion between films was 5% of the film weight when using silica powder having an average particle size of 10 μm. Therefore, naturally, such an inorganic powder adversely affects the final orientation properties of graphite.
【0028】一方、従来の無機粉体を全く用いないプロ
セスではフィルム同士が融着しないようにしながら炭素
化するために、フィルムが伸び縮みする温度領域では本
質的に圧力を印加しない事が必要となる。ここで本質的
に圧力を印加しないと言う意味は、加圧の為の冶具の重
量などの微少な圧力は加えてもよいと言う意味である。
このときの許容される圧力の大きさは一般的に2kg/cm2
以下であり、好ましくは1kg/cm2以下である。これに対
し、本発明の様な無機粉体をし利用した場合、フィルム
フィルム同士の接着がしにくくなるため、最大10kg/c
m2 の加圧が可能となる。そのため得られた炭素化物
は、無機粉体を用いない場合に比べ、はるかにしわの少
ない物であった。そしてこうして得られた炭素化物を用
いてグラファイト化を行った所、平均0.2゜のロッキ
ング特性の向上が実現出来た。On the other hand, in the conventional process in which no inorganic powder is used at all, it is necessary to apply essentially no pressure in the temperature range where the film expands and contracts in order to carbonize while preventing the films from fusing. Become. Here, the meaning of essentially not applying pressure means that a minute pressure such as the weight of a jig for pressurization may be applied.
The allowable pressure at this time is generally 2 kg / cm 2
It is below, preferably below 1 kg / cm 2 . On the other hand, when an inorganic powder such as that of the present invention is used, it becomes difficult for the films to adhere to each other, so a maximum of 10 kg / c
Pressurization of m 2 is possible. Therefore, the obtained carbonized product had far fewer wrinkles than the case where no inorganic powder was used. When graphitization was carried out using the carbonized material thus obtained, an improvement in rocking characteristics of 0.2 ° on average could be realized.
【0029】以下、芳香族ポリイミドを例として本発明
の詳細について述べる。図1はポリイミド(デュポン社
製、カプトン、25μm )の面方向の伸び縮みの測定結
果である。ここに示すようにポリイミドは450から5
00℃でわずかに伸び、500から700℃の領域で急
激に元の長さの75%に収縮する。この温度領域は高分
子の熱分解領域に相当する。ポリイミド(カプトンHフ
ィルム)を用いて10Kg/cm2の圧力を印加し1000℃
まで昇温した場合、平均粒径0.02μmのシリカ粉体
を用いた場合にフィルム間の融着を防ぐために必要な最
低量はフィルム重量の0.01%であった。さらにこう
て得られたフィルムを200Kg/cm2の圧力下、3000
℃処理した結果、フィルム同士は良好に接着し、測定さ
れたロッキング特性は0.56°であった。The present invention will be described in detail below by taking an aromatic polyimide as an example. FIG. 1 shows the measurement results of the elongation and contraction of polyimide (Kapton, 25 μm, manufactured by DuPont) in the plane direction. Polyimide as shown here is 450 to 5
It stretches slightly at 00 ° C and shrinks sharply to 75% of its original length in the region of 500 to 700 ° C. This temperature range corresponds to the thermal decomposition range of the polymer. Applying a pressure of 10 kg / cm 2 using polyimide (Kapton H film) and applying 1000 ℃
When the temperature was raised to 0, the minimum amount required to prevent fusion between films was 0.01% of the film weight when silica powder having an average particle size of 0.02 μm was used. Further, the film thus obtained was subjected to 3000 kg under a pressure of 200 kg / cm 2.
As a result of the ° C treatment, the films adhered well to each other, and the measured rocking characteristic was 0.56 °.
【0030】一方、平均粒径30μm のシリカ粉末を用
いた場合、フィルム間の融着を防ぐために必要な最低量
はフィルム重量の2%であった。この場合こうして得ら
れたフィルムを200Kg/cm2の圧力下、3000℃処理
したがフィルム同士は接着せず、1枚のフィルムで測定
したロッキング特性は1.8°であつた。On the other hand, when silica powder having an average particle size of 30 μm was used, the minimum amount necessary to prevent fusion between films was 2% of the film weight. In this case, the film thus obtained was treated at 3000 ° C. under a pressure of 200 kg / cm 2 , but the films did not adhere to each other, and the rocking characteristic measured on one film was 1.8 °.
【0031】以上、述べた加圧、熱処理の製造方法は必
ずしもポリイミドに限定されることはなく、一般に熱処
理によって優れたグラファイトに転化される高分子につ
いては同様に適用することができる。The above-mentioned manufacturing method of pressurization and heat treatment is not necessarily limited to polyimide, and generally applicable to polymers which are converted into excellent graphite by heat treatment.
【0032】(実施例1)以下、本発明の第1の実施例
について説明する。(First Embodiment) The first embodiment of the present invention will be described below.
【0033】厚さ50μm のポリパラフェニレン−1.
3.4−オキサジアゾールフィルム表面上に平均粒径1
μm のタルク粉末を均一にまぶし、次に振動を加えなが
ら余分のタルク粉末取り除き、粉末量が高分子フィルム
の0.05%となる様に調整した。Polyparaphenylene having a thickness of 50 μm-1.
3.4-Average particle size 1 on the oxadiazole film surface
The talc powder of μm was evenly sprinkled, and then excess talc powder was removed while applying vibration to adjust the powder amount to 0.05% of the polymer film.
【0034】こうして作製したフィルム100枚(2×
3 cm2)をグラファイト製の冶具にセットし、アルゴン
ガス雰囲気中10℃/min の速度で1200℃まで昇温
した。この間試料に5 kg/cm2 の圧力が印加されている
様にした。つぎに1200℃に達した後、同様の昇温速
度を保ちながら圧力を印加した。印加圧力は20 kg/cm
2 であり、温度が1400℃になるまで圧力を印加し
た。その後圧力を減少させ、温度が2600℃に昇温す
るまでの間では冶具の重量に相当する圧力のみが印加さ
れるようにした。温度が2600℃に達したのち、再び
圧力を印加した。印加圧力は200 kg/cm2 である。こ
の圧力を保ちながら3000℃まで昇温し熱処理を完了
した。この結果得られたグラファイトブロックはほとん
どしわのない均一な表面を有する物であった。100 films (2 ×
3 cm 2 ) was set on a jig made of graphite, and the temperature was raised to 1200 ° C. at a rate of 10 ° C./min in an argon gas atmosphere. During this period, a pressure of 5 kg / cm 2 was applied to the sample. Next, after reaching 1200 ° C., pressure was applied while maintaining the same temperature rising rate. Applied pressure is 20 kg / cm
2 and pressure was applied until the temperature reached 1400 ° C. After that, the pressure was reduced so that only the pressure corresponding to the weight of the jig was applied until the temperature was raised to 2600 ° C. After the temperature reached 2600 ° C, pressure was applied again. The applied pressure is 200 kg / cm 2 . While maintaining this pressure, the temperature was raised to 3000 ° C. to complete the heat treatment. The resulting graphite block had a uniform surface with almost no wrinkles.
【0035】得られたグラファイトの特性を、理学電機
社製ローターフレックスRU−200B型X線回折装置
を用いて測定した。グラファイト(002)回折線のピ
ーク位置におけるロッキング特性測定の結果得られた回
折線の半値幅をもって評価した。測定の結果、ロッキン
グ特性は0.56°でありX線や中性子線のモノクロメ
ーターとして優れた特性を有することが分かった。The characteristics of the obtained graphite were measured using a rotor flex RU-200B type X-ray diffractometer manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. The half value width of the diffraction line obtained as a result of the rocking characteristic measurement at the peak position of the graphite (002) diffraction line was evaluated. As a result of the measurement, it was found that the rocking characteristic was 0.56 °, which was excellent as an X-ray or neutron beam monochromator.
【0036】同様の処理をタルクを用いないフィルムで
行ったが、1200℃までの昇温過程においてフィルム
同士が融着し、内部から発生するガスのため破壊してし
まった。次に破壊を防ぐため1200℃までの焼成工程
での圧力を冶具重量による圧力のみとした、100g/cm
2 にして処理を行い、以降の処理を同様にした。得られ
たブロックのロッキング特性は0.8゜であつた。この
ことから本発明の手法がロッキング特性の向上に非常に
有効であることがわかった。The same treatment was carried out on the film without using talc, but during the temperature rising process up to 1200 ° C., the films fused to each other and were destroyed by the gas generated from the inside. Next, in order to prevent destruction, the pressure during the firing process up to 1200 ° C was limited to the pressure due to the weight of the jig, 100 g / cm
The process was performed in the number 2 , and the subsequent processes were the same. The locking characteristic of the obtained block was 0.8 °. From this, it was found that the method of the present invention is very effective in improving the locking characteristic.
【0037】(実施例2)以下、本発明の第2の実施例
について説明する。(Second Embodiment) The second embodiment of the present invention will be described below.
【0038】厚さ25μm 、のポリイミド(デュポン
社、カプトンHフィルム)表面上に平均粒径0.02μ
m のシリカ粉末を均一にまぶし、次に振動を加えながら
余分のシリカ粉末取り除き、粉末量が高分子フィルムの
0.02%となる様にした。An average particle size of 0.02 μ was formed on the surface of polyimide (Kapton H film, DuPont) having a thickness of 25 μm.
The silica powder of m 3 was evenly sprinkled, and then excess silica powder was removed while applying vibration so that the powder amount became 0.02% of the polymer film.
【0039】こうして得られたフィルム200枚(3×
3 cm2)を積層し、第1の実施例と同様の方法でグラフ
ァイト製の冶具にセットし、アルゴンガス雰囲気中10
℃/minの速度で1400℃まで昇温した。この間試料に
は4kg/cm2の圧力が印加されている様にした。つぎに1
400℃に達した後、同様の昇温速度を保ちながら30
kg/cm2 の圧力を加えながら、温度が1600℃になる
まで印加した。その後圧力を減少させ、温度が2700
℃に昇温するまでの間では冶具の重量に相当する圧力
(100 g/cm2)のみが印加されるようにした。温度が
2700℃に達したのち、再び圧力を印加した。印加圧
力は300 kg/cm2 である。この圧力を保ちながら30
00℃まで昇温し熱処理を完了した。この結果得られた
グラファイトブロックはほとんどしわのない均一な表面
を有する物であった。200 films (3 ×
3 cm 2 ) are stacked, set in a graphite jig in the same manner as in the first embodiment, and placed in an argon gas atmosphere for 10 minutes.
The temperature was raised to 1400 ° C at a rate of ° C / min. During this period, a pressure of 4 kg / cm 2 was applied to the sample. Next 1
After reaching 400 ℃, 30 while maintaining the same rate of temperature rise
It was applied while applying a pressure of kg / cm 2 until the temperature reached 1600 ° C. Then the pressure is reduced and the temperature rises to 2700
Only the pressure corresponding to the weight of the jig (100 g / cm 2 ) was applied until the temperature was raised to ℃. After the temperature reached 2700 ° C., pressure was applied again. The applied pressure is 300 kg / cm 2 . 30 keeping this pressure
The temperature was raised to 00 ° C. to complete the heat treatment. The resulting graphite block had a uniform surface with almost no wrinkles.
【0040】得られたグラファイトの特性を、理学電機
社製ローターフレックスRU−200B型X線回折装置
を用いて測定した。グラファイト(002)回折線のピ
ーク位置におけるロッキング特性測定の結果得られた回
折線の半値幅をもって評価した。測定の結果、ロッキン
グ特性は0.48°でありX線や中性子線のモノクロメ
ーターとして優れた特性を有することが分かった。The characteristics of the obtained graphite were measured using a rotor flex RU-200B type X-ray diffractometer manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. The half value width of the diffraction line obtained as a result of the rocking characteristic measurement at the peak position of the graphite (002) diffraction line was evaluated. As a result of the measurement, it was found that the rocking characteristic was 0.48 °, which had excellent characteristics as an X-ray or neutron beam monochromator.
【0041】同様の処理をシリカ粉末処理を施さないフ
ィルムを用いて行ったが、1400℃までの昇温過程に
おいて、フィルム同士が融着し内部から発生するガスの
ため破壊してしまった。次に破壊を防ぐため1400℃
までの焼成工程での圧力を事実上冶具重量による圧力で
ある、100 g/cm2として処理を行い、以降の処理を同
様にした。得られたブロックのロッキング特性は0.7
0゜であつた。この事から本発明の手法がロッキング特
性の湖上に非常に有効であることがわかった。The same treatment was carried out using a film which was not treated with silica powder, but during the temperature rising process up to 1400 ° C., the films were fused and destroyed due to the gas generated from the inside. Next, to prevent destruction, 1400 ℃
The pressure was 100 g / cm 2 which is the pressure due to the weight of the jig, and the subsequent treatment was the same. The locking characteristic of the obtained block is 0.7.
It was 0 °. From this, it was found that the method of the present invention is very effective on a lake having rocking characteristics.
【0042】(実施例3)以下、本発明の第3の実施例
について説明する。(Embodiment 3) The third embodiment of the present invention will be described below.
【0043】上述した第2の実施例と同様のシリカ処理
を、厚さ50μmの、PBT、PBBT、PBO、PB
BO、PA、PBI、PBBI、PT、PPVのフィル
ムについて行った。次に、各フィルム100枚を積層
し、それぞれをグラファイト製の冶具にセットし、アル
ゴンガス雰囲気中10℃/minの速度で1500℃まで昇
温した。この間試料には4 kg/cm2 の圧力が印加されて
いる様にした。つぎに1500℃に達した後、同様の昇
温速度を保ちながら圧力を印加した。印加圧力は30 k
g/cm2 であり、温度が1800℃になるまで印加した。
その後圧力を減少させ、温度が2800℃に昇温するま
での間では冶具の重量に相当する圧力のみが印加される
ようにした。温度が2800℃に達したのち、再び圧力
を印加した。印加圧力は300 kg/cm2 である。この圧
力を保ちながら3000℃まで昇温し熱処理を完了し
た。この結果得られたグラファイトブロックはほとんど
しわのない均一な表面を有する物であった。The same silica treatment as in the second embodiment described above was carried out by applying PBT, PBBT, PBO, PB having a thickness of 50 μm.
The BO, PA, PBI, PBBI, PT and PPV films were used. Next, 100 sheets of each film were laminated, each set in a jig made of graphite, and heated to 1500 ° C. at a rate of 10 ° C./min in an argon gas atmosphere. During this period, a pressure of 4 kg / cm 2 was applied to the sample. Next, after reaching 1500 ° C., pressure was applied while maintaining the same temperature rising rate. Applied pressure is 30 k
It was g / cm 2 and was applied until the temperature reached 1800 ° C.
After that, the pressure was reduced so that only the pressure corresponding to the weight of the jig was applied until the temperature was raised to 2800 ° C. After the temperature reached 2800 ° C, pressure was applied again. The applied pressure is 300 kg / cm 2 . While maintaining this pressure, the temperature was raised to 3000 ° C. to complete the heat treatment. The resulting graphite block had a uniform surface with almost no wrinkles.
【0044】比較のため、酸化処理を行わないフィルム
を用い1500℃までの熱処理過程での圧力をグラファ
イト冶具の重量に相当する100g/cm2 とし、以降同様
の処理を行ってグラファイトブロックを作成した。For comparison, using a film not subjected to oxidation treatment, the pressure in the heat treatment process up to 1500 ° C. was set to 100 g / cm 2 corresponding to the weight of the graphite jig, and the same treatment was performed thereafter to prepare a graphite block. .
【0045】得られたグラファイトの特性を、理学電機
社製ローターフレックスRU−200B型X線回折装置
を用いて測定した。グラファイト(002)回折線のピ
ーク位置におけるロッキング特性測定の結果得られた回
折線の半値幅をもって評価した。測定の結果を(表1)
に示す。The properties of the obtained graphite were measured by using a rotor flex RU-200B type X-ray diffractometer manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. The half value width of the diffraction line obtained as a result of the rocking characteristic measurement at the peak position of the graphite (002) diffraction line was evaluated. The measurement results (Table 1)
Shown in.
【0046】[0046]
【表1】 [Table 1]
【0047】この結果から明かなようにこれらの高分子
から得られたグラファイトブロックはいずれもX線や中
性子線のモノクロメーターとして優れた特性であること
が分かった。From these results, it is clear that the graphite blocks obtained from these polymers all have excellent characteristics as an X-ray or neutron beam monochromator.
【0048】(実施例4)以下、本発明の第4の実施例
について説明する。(Fourth Embodiment) The fourth embodiment of the present invention will be described below.
【0049】上述した第2の実施例と同様の処理を、厚
さ25μm 、のポリイミド(デュポン社、カプトンHフ
ィルム)表面上にそれぞれ、シリカ(平均粒径2μm、
0.2μm、0.02μm)酸化カルシュウム(平均粒
径1μm)、酸化マグネシュウム(平均粒径5μm)、
酸化アルミニュウム(平均粒径2μm)、カーボン(平
均粒径2μm)、グラファイト(平均粒径2μm)、酸
化チタン(平均粒径0.5μm)、炭酸カルシュウム
(平均粒径0.4μm)を用いて行った。The same treatment as in the second embodiment described above was carried out on the surface of a 25 μm-thick polyimide (Kapton H film from DuPont) silica (average particle size 2 μm,
0.2 μm, 0.02 μm) calcium oxide (average particle size 1 μm), magnesium oxide (average particle size 5 μm),
Using aluminum oxide (average particle size 2 μm), carbon (average particle size 2 μm), graphite (average particle size 2 μm), titanium oxide (average particle size 0.5 μm), calcium carbonate (average particle size 0.4 μm) It was
【0050】こうして得られたフィルム200枚(3×
3 cm2)を積層し、第1の実施例と同様の方法でグラフ
ァイト製の冶具にセットし、アルゴンガス雰囲気中10
℃/minの速度で1400℃まで昇温した。この間試料に
は4kg/cm2の圧力が印加されている様にした。つぎに1
400℃に達した後、同様の昇温速度を保ちながら30
kg/cm2 の圧力を加えながら、温度が1600℃になる
まで印加した。その後圧力を減少させ、温度が2700
℃に昇温するまでの間では冶具の重量に相当する圧力
(100 g/cm2)のみが印加されるようにした。温度が
2700℃に達したのち、再び圧力を印加した。印加圧
力は300 kg/cm2 である。この圧力を保ちながら30
00℃まで昇温し熱処理を完了した。この結果得られた
グラファイトブロックはほとんどしわのない均一な表面
を有する物であった。200 films (3 ×
3 cm 2 ) are stacked, set in a graphite jig in the same manner as in the first embodiment, and placed in an argon gas atmosphere for 10 minutes.
The temperature was raised to 1400 ° C at a rate of ° C / min. During this period, a pressure of 4 kg / cm 2 was applied to the sample. Next 1
After reaching 400 ℃, 30 while maintaining the same rate of temperature rise
It was applied while applying a pressure of kg / cm 2 until the temperature reached 1600 ° C. Then the pressure is reduced and the temperature rises to 2700
Only the pressure corresponding to the weight of the jig (100 g / cm 2 ) was applied until the temperature was raised to ℃. After the temperature reached 2700 ° C., pressure was applied again. The applied pressure is 300 kg / cm 2 . 30 keeping this pressure
The temperature was raised to 00 ° C. to complete the heat treatment. The resulting graphite block had a uniform surface with almost no wrinkles.
【0051】得られたグラファイトの特性を、理学電機
社製ローターフレックスRU−200B型X線回折装置
を用いて測定した。グラファイト(002)回折線のピ
ーク位置におけるロッキング特性測定の結果得られた回
折線の半値幅をもって評価した。測定の結果を(表2)
に示す。The characteristics of the obtained graphite were measured by using a rotor flex RU-200B type X-ray diffractometer manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. The half value width of the diffraction line obtained as a result of the rocking characteristic measurement at the peak position of the graphite (002) diffraction line was evaluated. The measurement results (Table 2)
Shown in.
【0052】[0052]
【表2】 [Table 2]
【0053】この結果から明かなように、これらの高分
子から得られたグラファイトブロックはいずれもX線や
中性子線のモノクロメーターとして優れた特性であるこ
とが分かった。As is clear from these results, it was found that the graphite blocks obtained from these polymers all have excellent characteristics as an X-ray or neutron beam monochromator.
【0054】[0054]
【発明の効果】以上のように本発明は、複数枚の高分子
フィルムを積層し、高分子フィルムの間に無機質粉体を
存在させて加圧および熱処理するように構成したので、
高分子フィルムはその熱分解工程において互いに接着す
る事がなくなり、分解ガスが高分子フィルムの間を通っ
てスムーズに外部に拡散する事が出来るようになる。As described above, according to the present invention, a plurality of polymer films are laminated, and an inorganic powder is present between the polymer films to apply pressure and heat treatment.
The polymer films do not adhere to each other during the thermal decomposition process, and the decomposed gas can pass smoothly between the polymer films and diffuse to the outside.
【0055】即ち、高分子フィルムは互いに融着しない
ため、ある程度の圧力を印加することが可能となり、高
分子フィルム間で互いにすべり合う事が出来、それによ
って高分子フィルムにしわや歪が導入されることを防ぐ
ことが出来る。That is, since the polymer films are not fused to each other, it is possible to apply a certain amount of pressure, and it is possible for the polymer films to slide with each other, thereby introducing wrinkles and strains in the polymer films. Can be prevented.
【0056】これにより高い配向性をもつグラファイト
ブロックを得ることが出来る。このブロックは、従来の
グラファイトブロックの作成方法に比べ非常に簡単な方
法で作成される高品質のグラファイトであって、X線や
中性子線モノクロメーターとして、また中性子線のフィ
ルターとして広く使用することが出来る。This makes it possible to obtain a graphite block having high orientation. This block is a high quality graphite made by a very simple method compared to the conventional graphite block making method, and can be widely used as an X-ray or neutron beam monochromator and as a neutron filter. I can.
【図1】本発明の一実施例として使用されるポリイミド
(デュポン社製、カプトンHフィルム、厚さ25μm )
フィルムの伸び縮みを示す特性図FIG. 1 is a polyimide used as an example of the present invention (Kapton H film manufactured by DuPont, thickness 25 μm)
Characteristic diagram showing expansion and contraction of film
Claims (4)
高分子フィルムの間に無機質粉体を存在させて加圧およ
び熱処理することを特徴とするグラファイトの製造方
法。1. A method for producing graphite, which comprises laminating a plurality of polymer films, making an inorganic powder present between the polymer films, and applying pressure and heat treatment.
満であることを特徴とする請求項1記載のグラファイト
の製造方法。2. The method for producing graphite according to claim 1, wherein the weight of the inorganic powder is less than 1% based on the polymer.
下であることを特徴とする請求項1記載のグラファイト
の製造方法。3. The method for producing graphite according to claim 1, wherein the average particle size of the inorganic powder is 20 microns or less.
ル、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリベンゾ
イミダゾール、ポリベンゾビスチアゾール、ポリベンゾ
オキサゾール、ポリチアゾール、ポリパラフェニレンビ
ニレンの中から選択された少なくとも1種類であること
を特徴とする請求項1記載のグラファイトの製造方法。4. The polymer film is at least one selected from polyoxadiazole, aromatic polyimide, aromatic polyamide, polybenzimidazole, polybenzobisthiazole, polybenzoxazole, polythiazole, and polyparaphenylene vinylene. The method for producing graphite according to claim 1, wherein the graphite is of a type.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3169873A JPH0742095B2 (en) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | Graphite manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3169873A JPH0742095B2 (en) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | Graphite manufacturing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0517116A JPH0517116A (en) | 1993-01-26 |
| JPH0742095B2 true JPH0742095B2 (en) | 1995-05-10 |
Family
ID=15894541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3169873A Expired - Fee Related JPH0742095B2 (en) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | Graphite manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0742095B2 (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3129087B2 (en) * | 1994-07-06 | 2001-01-29 | 松下電器産業株式会社 | Graphite layer |
| JP4714371B2 (en) | 2001-06-06 | 2011-06-29 | ポリマテック株式会社 | Thermally conductive molded body and method for producing the same |
| WO2009060818A1 (en) * | 2007-11-06 | 2009-05-14 | Kaneka Corporation | Process for production of graphite films |
| JP5322587B2 (en) * | 2008-08-12 | 2013-10-23 | 株式会社カネカ | Method for producing graphite film |
| JP2010228934A (en) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Fuji Electric Systems Co Ltd | Method for heat-treating thin plate-like molding |
-
1991
- 1991-07-10 JP JP3169873A patent/JPH0742095B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0517116A (en) | 1993-01-26 |
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