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JPH0743934B2 - Semiconductor device - Google Patents
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JPH0743934B2 - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH0743934B2
JPH0743934B2 JP59102530A JP10253084A JPH0743934B2 JP H0743934 B2 JPH0743934 B2 JP H0743934B2 JP 59102530 A JP59102530 A JP 59102530A JP 10253084 A JP10253084 A JP 10253084A JP H0743934 B2 JPH0743934 B2 JP H0743934B2
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data
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陵一 堀
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置に係り、特にデータ対線の充放電
時間が大きい場合の動作を安定化させる回路を備えた半
導体装置に関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device including a circuit that stabilizes the operation when the charge / discharge time of a data line is long. .

〔発明の背景〕[Background of the Invention]

半導体装置では、大容量化に伴なつて配線幅も微細化さ
れるため、配線抵抗による信号の遅延が問題となつてき
ている。すなわち、この遅延は、メモリ・アレーと周辺
回路の動作速度の不整合による誤動作となつて現われ
る。これを第1図を用いて説明する。
In a semiconductor device, the wiring width is becoming finer with the increase in capacity, so that signal delay due to wiring resistance is becoming a problem. That is, this delay appears as a malfunction due to a mismatch in operating speed between the memory array and peripheral circuits. This will be described with reference to FIG.

第1図は、nチヤネルMOSで構成された従来のダイナミ
ツク・メモリの要部回路図である。第1図で示すメモリ
において、読み出し動作は以下のようして行なう。まず
プリチヤージ信号Φを高レベルにして、プリチヤージ
回路PRCによりデータ線D,あるいは差動増幅回路SAの
共通ソース線CSを高レベルにプリチヤージするととも
に、参照信号を発生するダミーセルDM内のノードをアー
ス電位にセツトする。その後、Φを低レベルにした
後、Xデコーダ信号XD1,XD2等によりワード線、例えばW
2が選択され、それに接続される各メモリセルMCからデ
ータ線D上に信号が出力される。同時にXデコーダ信号
XD1′,XD2′等により選択されたダミーワード線DW2に接
続される各ダミーセルDMからデータ線上に参照信号が
出力される。その後、パルスΦを高レベルにし、SAの
共通ソース線CSをアース電位まで放電させることによ
り、SAを動作させ、前記データ対線D,に出力された信
号を増幅する。そして、前記パルスΦを遅延回路DLYC
1によりある時間遅延させたパルスΦにより、データ
線高電位補償回路ARを動作させ、高電位側のデータ線
(メモリセルの情報によつてD,のいずれかになる)を
再書き込みレベルまで昇圧する。また増幅された信号
は、YデコーダYD1,YDm等により選択されたスイツチSW
にパルスΦを印加することにより、入出力線I/O,▲
▼に出力され、各種の回路を通してデータ出力とし
て外部に取り出される。書き込み動作も、外部から印加
されたデータ入力情報に応じて、入出力線I/O,▲
▼に印加され、選択されたスイツチSWを通して所定のメ
モリセルMCに書き込まれる。ここでパルスΦはパルス
Φよりある時間後に立ち上がるように遅延回路DLYC2
から出力されるパルスΦsdにより発生される。なお第1
図において、Φはメモリ動作終了後低レベルから高レ
ベルになるパルスであり、ワード線クリア回路WCによ
り、選択されていたワード線,ダミーワード線をアース
電位に放電する。
FIG. 1 is a circuit diagram of a main part of a conventional dynamic memory composed of n-channel MOS. In the memory shown in FIG. 1, the read operation is performed as follows. First, the precharge signal Φ P is set to a high level, the precharge circuit PRC precharges the data line D or the common source line CS of the differential amplifier circuit SA to a high level, and the node in the dummy cell DM that generates the reference signal is grounded. Set to potential. After that, after setting Φ P to a low level, a word line, for example W, is generated by the X decoder signals XD 1 and XD 2.
2 is selected, and a signal is output on the data line D from each memory cell MC connected thereto. X decoder signal at the same time
A reference signal is output on the data line from each dummy cell DM connected to the dummy word line DW 2 selected by XD 1 ′, XD 2 ′ and the like. After that, the pulse Φ s is set to a high level and the common source line CS of the SA is discharged to the ground potential, thereby operating the SA and amplifying the signal output to the data pair line D. Then, the pulse Φ s is delayed by the delay circuit DLYC.
By the pulse Φ r delayed by a certain time by 1 , the data line high potential compensation circuit AR is operated, and the data line on the high potential side (either D or D depending on the information of the memory cell) reaches the rewrite level. Boost. The amplified signal is output to the switch SW selected by the Y decoders YD 1 and YD m.
By applying a pulse [Phi y, the input and output lines I / O, ▲
It is output to ▼ and taken out to the outside as data output through various circuits. The write operation also depends on the data input information applied from the outside, I / O line I / O, ▲
It is applied to ▼ and is written in a predetermined memory cell MC through the selected switch SW. Here, the delay circuit DLYC 2 is used so that the pulse Φ y rises after a certain time from the pulse Φ s.
Generated by the pulse Φ sd output from The first
In the figure, Φ c is a pulse that changes from low level to high level after the end of the memory operation, and the word line clear circuit WC discharges the selected word line and dummy word line to the ground potential.

さて、第1図で示したメモリにおいて以下のような問題
が生じる。すなわち、共通ソース線CSをアース電位まで
放電するMOSトランジスタQ0に近いSAでは直ちにSAのソ
ース側が低電位になるため、データ対線D1,▲▼の
信号の増幅すなわちデータ線の放電はすみやかに行なわ
れる。一方Q0から遠いSAでは、CSの配線抵抗によりSAの
ソース側が低電位になる時間に遅れを生じ、信号の増幅
すなわちデータ線の放電が遅れる。このため、Φ及び
Φのタイミング設定が適切でない場合充分に信号が増
幅されないうちに、高電位補償回路ARの動作や入出力線
との接続が行なわれ、記憶情報の破壊や誤読み出しの原
因となる。これに対し従来技術では、製造ばらつきによ
る特性変動も考慮して、ARの動作開始及び入出力線との
接続を遅延回路により充分遅くして設計している。しか
し、これでは動作速度が遅くなり、動作の高速化は不可
能である。
The following problems occur in the memory shown in FIG. That is, in the SA close to the MOS transistor Q 0 that discharges the common source line CS to the ground potential, the source side of SA immediately becomes a low potential, so that the signal amplification of the data pair line D 1 , ▲ ▼, that is, the discharge of the data line is prompt. To be done. On the other hand, in SA far from Q 0 , the wiring resistance of CS causes a delay in the time when the source side of SA becomes low potential, which delays signal amplification, that is, discharge of the data line. Therefore, when the timing setting of Φ r and Φ y is not appropriate, the operation of the high-potential compensating circuit AR and the connection with the input / output line are performed before the signal is sufficiently amplified, so that the stored information is destroyed or erroneously read. Cause. On the other hand, in the prior art, in consideration of the characteristic variation due to the manufacturing variation, the operation of the AR and the connection with the input / output line are designed to be sufficiently delayed by the delay circuit. However, this slows down the operation speed and makes it impossible to speed up the operation.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明の目的は、このような従来の問題点を改善し、共
通ソース線の抵抗による遅延により生じる記憶情報の破
壊及び誤読み出しを防止し、かつ高速動作が可能な半導
体装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of improving such conventional problems, preventing destruction and erroneous reading of stored information caused by delay due to resistance of a common source line, and capable of high-speed operation. is there.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

上記目的を達成するための本発明は、データ線もしくは
それと等価な配線の実際のパルス応答を検出して次の動
作を行なう様にしたことに特徴がある。より具体的に言
えば、データ線の放電を検出し、その検出出力によりデ
ータ線高電位補償回路の動作及び入出力線との接続を行
なう様にしたことにある。
The present invention for achieving the above object is characterized in that an actual pulse response of a data line or a wiring equivalent thereto is detected to perform the next operation. More specifically, the discharge of the data line is detected, and the detection output thereof is used to operate the data line high potential compensation circuit and connect to the input / output line.

〔発明の実施例〕Example of Invention

以下本発明を実施例により具体的に説明する。 The present invention will be specifically described below with reference to examples.

第2図は、本発明の一実施例を示す半導体装置の要部回
路図である。なお、点線で示したメモリアレー部CAは第
1図と同一である。
FIG. 2 is a circuit diagram of essential parts of a semiconductor device showing an embodiment of the present invention. The memory array portion CA shown by the dotted line is the same as that in FIG.

第2図に示すように、本実施例では、新たにデータ対線
Dd,▲▼をMOSトランジスタQ0からみて遠い側に設
け、このデータ対線にデータ線のどちらかがほぼOVにな
つたことを検出する回路1を設け、その出力パルスをデ
ータ線高電位補償回路ARの駆動パルスΦ及びΦ発生
用AND回路(AND0)の入力としている。この新たに設け
たデータ対線Dd,▲▼はメモリアレーCA内のデータ
対線と同一のものを用い、SAにより放電されるデータ線
容量を他のデータ対線と等しくする。なおこのデータ対
線は入出力線I/O,▲▼との接続を行なう必要がな
いため、スイツチSWdのゲートはアース電位に接続され
ている。またこのデータ対線Dd,▲▼をQ0から遠い
側に設けたのは、この位置にあるデータ線の放電が最も
遅れるからである。また検出回路1は、例えば第2図に
示すように、データ線の電位が参照レベルVref1(例え
ばアース電位よりわずかに高いレベル)より低くなつた
時、出力が低レベルとなる回路DA1(例えば作動増幅回
路で構成できる)を2個、この2回路の出力を入力とす
るNAND回路(NAND1)、及びNAND出力とパルスΦとのA
ND出力を得るAND回路(AND1)とで構成することができ
る。あるいは設計によつては、回路DA1を省き、Dd,▲
▼をそのままNAND回路の入力とすることもできる。す
なわち、回路自体のしきい電圧(“0"or“1"の判別レベ
ル)のVrefとして用いる訳である。これについては以下
の各実施例においても同様である。本実施例によれば、
SAによる信号の増幅が充分に行なわれないうちに、ARの
動作及び入出力線の接続が行なわれることはなく、記憶
情報の破壊や誤読み出しが生じることはない。また不必
要にARの動作や入出力線との接続を遅らせることもない
ので、高速なメモリ動作が可能となる。
As shown in FIG. 2, in this embodiment, a new data line
D d , ▲ ▼ is provided on the side far from the MOS transistor Q 0 , and the circuit 1 for detecting that one of the data lines has become almost OV is provided on this data pair line, and the output pulse thereof is set to the high potential of the data line. It is used as an input of an AND circuit (AND 0 ) for generating drive pulses Φ r and Φ y of the compensation circuit AR. This newly provided data pair line D d , ▲ ▼ is the same as the data pair line in the memory array CA, and the data line capacitance discharged by SA is made equal to other data pair lines. Since this data pair line does not need to be connected to the input / output line I / O, ▲ ▼, the gate of the switch SW d is connected to the ground potential. Further, the reason why the data pair line Dd, ▲ ▼ is provided on the side far from Q 0 is that the discharge of the data line at this position is most delayed. Further, in the detection circuit 1, for example, as shown in FIG. 2, when the potential of the data line becomes lower than the reference level Vref 1 (for example, a level slightly higher than the ground potential), the output becomes low level circuit DA 1 ( For example, it can be composed of a differential amplifier circuit), a NAND circuit (NAND 1 ) that receives the outputs of these two circuits, and A of the NAND output and the pulse Φ s.
It can be configured with an AND circuit (AND 1 ) that obtains the ND output. Alternatively, depending on the design, the circuit DA 1 may be omitted and D d , ▲
It is also possible to use ▼ directly as the input of the NAND circuit. That is, it is used as Vref of the threshold voltage (discrimination level of “0” or “1”) of the circuit itself. This also applies to each of the following embodiments. According to this embodiment,
The operation of the AR and the connection of the input / output line are not performed before the signal is sufficiently amplified by SA, and the stored information is not destroyed or erroneously read. In addition, since it does not unnecessarily delay the operation of the AR and the connection with the input / output line, high-speed memory operation becomes possible.

第3図は、本発明の他の実施例を示す半導体装置の要部
回路図である。本実施例は、第2図で示した実施例に、
Dd,▲▼のいずれかがARによりほぼ再書き込みレベ
ルにたつたことを検出し、その検出出力とパルスΦ
のAND論理によりワードクリア回路WCを動作させる信号
を発生する回路2を付加したものである。これにより、
本実施例では第2図で示した効果以外に、再書き込みレ
ベルが充分にメモリセルに伝達させる前にワード線の放
電が開始されることがなく、充分な蓄積電荷を常にメモ
リセルに蓄えることができる。検出回路2は、例えば同
図に示したように、データ線の電位が参照レベルVre
f2)例えば再書き込みレベルよりわずかに低レベル)よ
り高くなつた時、出力が高レベルとなる回路DA2(DA1
同様に例えば差動増幅回路で構成できる)を2個,この
2個のDA2の出力を入力とするOR回路(OR2)、及びこの
OR出力とパルスΦとを入力とするAND回路(AND2)と
で構成することができる。
FIG. 3 is a main part circuit diagram of a semiconductor device showing another embodiment of the present invention. This embodiment is the same as the embodiment shown in FIG.
A circuit 2 is added which detects that any one of D d and ▲ ▼ has reached the rewrite level by AR, and generates a signal for operating the word clear circuit WC by AND logic of the detection output and the pulse Φ c. It was done. This allows
In the present embodiment, in addition to the effect shown in FIG. 2, the discharge of the word line is not started before the rewriting level is sufficiently transmitted to the memory cell, and sufficient accumulated charge is always stored in the memory cell. You can In the detection circuit 2, for example, as shown in the same figure, the potential of the data line is the reference level Vre.
f 2 ) For example, two circuits DA 2 (which can be composed of, for example, a differential amplifier circuit like DA 1 ) whose output becomes high when the voltage becomes higher than the rewriting level). OR circuit (OR 2 ) that receives the output of DA 2 of
It can be configured by an AND circuit (AND 2 ) which receives the OR output and the pulse Φ c as inputs.

なお第2図,第3図で示した実施例では、新たにデータ
対線Dd,▲▼を設けることにより、CA内にあるデー
タ対線に余分な負荷が接続されないようにし、また検出
回路1あるいは2との接続部のレイアウトが簡単に行な
えるようにしているが、CA内のデータ対線(但しQ0から
最も遠い側のデータ対線、第1図ではDn,▲▼)に
検出回路1を接続してもよいし、他のデータ対線、例え
ばARの駆動パルスΦを印加する側から最も遠いデータ
対線(第1図ではD1,▲▼)に検出回路2を接続し
てもよい。これにより従来技術(第1図)に比べ面積の
増加をできるだけ小さくし、第2図,第3図で述べた効
果を得ることもできる。
In the embodiment shown in FIGS. 2 and 3, a new data pair line D d , ▲ ▼ is provided to prevent an extra load from being connected to the data pair line in the CA and to detect the detection circuit. The layout of the connection with 1 or 2 is designed so that it can be done easily, but the data pair line in CA (however, the data line pair farthest from Q 0 , D n , ▲ ▼ in Fig. 1) The detection circuit 1 may be connected, or the detection circuit 2 may be connected to another data pair line, for example, the data pair line (D 1 , ▲ ▼ in FIG. 1 ) farthest from the side to which the drive pulse Φ r of AR is applied. You may connect. As a result, the increase in area can be made as small as possible in comparison with the prior art (FIG. 1), and the effects described in FIGS.

第4図は、本発明の他の実施例を示す半導体装置の要部
回路図である。第4図では、SAによる増幅後データ線Dd
が必ず高電位に、▲▼が低電位になるように、CA内
のどのデータ対線が選択されるかにかかわらずハイレベ
ルとなるYデコード信号YDにより、スイツチSWdを通し
てデータ線Ddを高レベルに▲▼をアース電位に接続
させ、データ線Dd,▲▼に接続されているメモリセ
ルにこれらの電位をそれぞれ書き込むようにしている。
そしてデータ線▲▼側にだけ、データ線のレベルが
ほぼOVになつたことを検出する回路3を設け、その出力
パルスをARの駆動パルスΦ及びΦ発生用AND回路(A
ND0)の入力としている。本実施例では、データ線▲
▼が必ず低電位となるため、データ線の電位を検出す
る回路が第2図で示した実施例に比べ簡単となる。検出
回路3は、例えば第4図で示したように、データ線Dd
入力する回路DA11個と、パルスΦの相補的な(comple
mentary)パルス▲▼及び回路DA1の出力を入力とす
るNOR回路(NOR3)とで構成することができる。また設
計によつてはこのDA1を省き、▲▼をそのままNOR回
路の入力とすることもできる。またこのNOR回路とし
て、特願昭58−55012号の第9図あるいは第11図で記載
されている回路で構成することもできる。
FIG. 4 is a main part circuit diagram of a semiconductor device showing another embodiment of the present invention. In FIG. 4, the data line D d after amplification by SA
The data line D d is switched through the switch SW d by the Y decode signal YD which becomes high level regardless of which data pair line in CA is selected so that ▲ is always high potential and ▲ ▼ is low potential. At high level, ▲ ▼ is connected to the ground potential, and these potentials are respectively written in the memory cells connected to the data lines D d , ▲ ▼.
A circuit 3 for detecting that the level of the data line is almost OV is provided only on the data line ▲ ▼ side, and its output pulse is an AND circuit (A for generating AR drive pulses Φ r and Φ y).
ND 0 ) is input. In this embodiment, the data line ▲
Since ▼ always has a low potential, the circuit for detecting the potential of the data line is simpler than that of the embodiment shown in FIG. For example, as shown in FIG. 4, the detection circuit 3 includes a circuit DA 11 for inputting the data line D d and a complementary (completion) pulse (Φ s )
mentary) pulse ▲ ▼ and a NOR circuit (NOR 3 ) which receives the output of the circuit DA 1 as an input. Depending on the design, this DA 1 can be omitted and ▲ ▼ can be directly used as the input of the NOR circuit. Further, the NOR circuit may be constructed by the circuit described in FIG. 9 or FIG. 11 of Japanese Patent Application No. 58-55012.

第5図は、本発明のさらに他の実施例を示す半導体装置
の要部回路図である。第2図,第4図で示した実施例で
は、新たにデータ対線を設け、そのデータ対線の電位を
検出していたが、第5図ではその代わりとしてデータ線
の低電位側とほぼ等しい電位にある共通ソース線CSの遠
端部(MOSトランジスタQ0からみて)に検出回路3を設
け、その電位がほぼOVになつたことを検出し、ARの動作
及び入出力線との接続を行おうとするものである。本実
施例によれば、新たにデータ対線を設けることなく、第
2図あるいは第4図で示した実施例と同様な効果を得る
ことができる。
FIG. 5 is a main part circuit diagram of a semiconductor device showing still another embodiment of the present invention. In the embodiment shown in FIGS. 2 and 4, the data line is newly provided and the potential of the data line is detected. However, in FIG. 5, instead, it is almost on the low potential side of the data line. The detection circuit 3 is provided at the far end (viewed from the MOS transistor Q 0 ) of the common source line CS at the same potential, and it detects that the potential becomes almost OV, and operates the AR and connects with the input / output line. Is to do. According to this embodiment, it is possible to obtain the same effect as that of the embodiment shown in FIG. 2 or 4 without newly providing a data pair line.

第6図は本発明のさらに他の実施例を示す半導体装置の
要部回路図である。第2図から第5図まで示した実施例
は、nチヤネルMOSだけで構成したダイナミツクメモリ
の例を示したが、第6図では、CMOSを用いたドイナミツ
クメモリに本発明を適用した例を示す。同図ではデータ
線に読み出された信号を増加する差動増幅回路SAC及び
データ線をシヨートする回路SCが第5図までに示したCA
の中で異なる部分である。なお同図において矢印を付し
たMOSトランジスタがpチヤネルMOSである。また第4図
で示したようにデータ対線Dd,▲▼を新たにCAに付
加し、スイツチSWdを通してDdは高レベルに、▲▼
はアース電位に接続されている。さらにDd,▲▼に
は、Ddは再書き込みレベルにほぼなつたこと及び▲
▼がほぼOVになつたことを検出する回路4が設けられ、
その出力パルスをΦ発生用AND回路(AND0)の入力と
している。同図において読み出し動作は以下のようにし
て行なわれる。まずプリチヤージ信号Φを高レベルに
して、シヨート回路SCによりデータ線D,を中間レベル
1/2VCに初期設定する。その後、Φを低レベルにした
後、XドライバXDRにより選択ワード線にパルスが印加
され、それに接続される各メモリセルからデータ線に信
号が出力される。と同時にダミーワード線が選択され、
それに接続される各ダミーセルからもう一方のデータ線
に参照信号が出力される。その後パルスΦを高レベル
に、パルス▲▼を低レベルにし、 差動増幅回路SA
Cを動作させ、データ線の高電位側を高レベルVCまで、
低電位側をアース電位まで、それぞれ充放電する。また
新たに付加したデータ対線Dd,▲▼においても、Dd
は高レベルVCに、▲▼はアース電位に充放電され、
充分に充放電されたことを検出回路4によつて検出され
ると、検出回路4より出力パルスが発生し、データ線と
I/O線との接続が行なわれる。
FIG. 6 is a circuit diagram of a main part of a semiconductor device showing still another embodiment of the present invention. The embodiment shown in FIGS. 2 to 5 shows an example of the dynamic memory constituted only by the n-channel MOS, but in FIG. 6, the present invention is applied to the dynamic memory using the CMOS. Here is an example: In the figure, the differential amplifier circuit SAC for increasing the signal read to the data line and the circuit SC for shorting the data line are shown in CA up to FIG.
Is a different part of. The MOS transistor indicated by an arrow in the figure is a p-channel MOS. Also, as shown in FIG. 4, a data pair line D d , ▲ ▼ is newly added to CA, and D d is set to a high level through the switch SW d.
Is connected to ground potential. Furthermore, in D d , ▲ ▼, D d was almost at the rewrite level and ▲
A circuit 4 is provided to detect that ▼ has almost reached OV,
The output pulse is used as the input of the AND circuit (AND 0 ) for generating Φ y . In the figure, the read operation is performed as follows. First, the precharge signal Φ P is set to the high level, and the data line D, is set to the intermediate level by the short circuit SC.
Initialize to 1 / 2V C. Then, after making Φ P low, a pulse is applied to the selected word line by the X driver XDR, and a signal is output to the data line from each memory cell connected thereto. At the same time, the dummy word line is selected,
A reference signal is output from each dummy cell connected thereto to the other data line. After that, the pulse Φ s is set to the high level, the pulse ▲ ▼ is set to the low level, and the differential amplifier SA
Operate C, the high potential side of the data line to high level V C ,
Charge and discharge the low potential side to the ground potential. The newly added data line pair D d, ▲ ▼ even, D d
Is charged to a high level V C , ▲ ▼ is charged and discharged to the ground potential,
When the detection circuit 4 detects that the battery has been sufficiently charged and discharged, an output pulse is generated from the detection circuit 4 and the data line and
Connection with I / O line is made.

このようにして、本実施例においても今まで述べてきた
実施例と同様に、共通ソース線CSあるいは共通ドレイン
線CDの抵抗による遅延によつて生じる入出力線との接続
時の誤読み出しを防止することがでる。なお同図に示し
たようにデータ対線Dd,▲▼は、SACを駆動するMOS
トランジスタQ0及びQ1からみて遠い側に配置する必要が
ある。
In this way, also in this embodiment, as in the embodiments described so far, erroneous reading at the time of connection with the input / output line caused by the delay due to the resistance of the common source line CS or the common drain line CD is prevented. You can do it. As shown in the figure, the data line D d , ▲ ▼ is the MOS that drives the SAC.
It is necessary to arrange it on the side far from the transistors Q 0 and Q 1 .

検出回路4は、例えば同図に示すように、データ線▲
▼と参照レベルVref1を入力とする回路DA1,データ線D
dと参照レベルVref2を入力ととし、Ddの電位がVref2
り高くなつた時出力が低レベルとなる回路▲▼
(第3図で示した回路DA2とほ相補的な出力となるが、
差動増幅回路で構成した場合、DA2と▲▼は出力
端子が異なるだけで回路構成は同じにできる)、並びに
これらの出力とパルスΦを入力とするNOR回路(NO
R4)とで構成することができる。また設計によつては、
DA1を省き、▲▼をそのままNOR回路の入力とするこ
ともできる。
The detection circuit 4 is, for example, as shown in FIG.
Circuit with ▼ and reference level Vref 1 as input DA 1 and data line D
A circuit that receives d and the reference level Vref 2 as input, and the output becomes low level when the potential of D d becomes higher than Vref 2.
(The output is almost complementary to the circuit DA 2 shown in FIG. 3,
When configured with a differential amplifier circuit, DA 2 and ▲ ▼ can have the same circuit configuration only with different output terminals), and a NOR circuit (NO with these outputs and pulse Φ s as input).
R 4 ) and can be composed of. According to the design,
DA 1 can be omitted and ▲ ▼ can be directly used as the input of the NOR circuit.

第7図は本発明のさらに他の実施例を示す半導体装置の
要部回路図である。第6図で示した実施例では、MOSト
ランジスタQ0及びQ1をほぼ同時に動作させたが、第7図
で示した実施例ではまずQ0を動作させ、データ線の低電
位側が充分に放電されたことを検出回路5で検出し、そ
の出力パルスΦssでもつてQ1を動作させ、データ線の高
電位側を再書き込みレベルまで充電する。そして検出回
路6でもつてデータ線が充分に再書き込みレベルまで充
電されたこと(すなわち、データ線Dd,▲▼の電位
差が充分に増幅されたことになる)を検出し、その出力
をΦ発生用AND回路(AND0)の入力としている。本実
施例によれば、ゲートが共通となつているSAC内のnチ
ヤネルとpチヤネルMOSトランジスタが信号増幅時に同
時にON状態となることがないため、両トランジスタを通
して流れる電源電位VCとアース電位間の貫通電流を防ぐ
ことができる。また充分に増幅された後に入出力線との
接続が行なわれるため、誤読み出しを防ぐことができ
る。検出回路5は、例え同図に示すように、必ず低電位
側となるデータ線Ddと参照レベルVref1を入力とする回
路DA1及びパルス▲▼とDA1の出力を入力とし、両入
力が低レベルとなつた時出力が低レベルとなるOR回路
(OR5)とで構成することができる。また検出回路6
は、必ず高電位側となるデータ線▲▼と参照レベル
Vref2を入力とする回路DA2及び検出回路5の出力パルス
Φssの相補的なパルス▲▼とDA2の出力を入力と
するAND回路(AND6)とで構成することができる。なお
同図においても、場合によつてはDA1を省いてDdをその
ままOR回路の入力とすることもできる。
FIG. 7 is a circuit diagram of essential parts of a semiconductor device showing still another embodiment of the present invention. In the embodiment shown in FIG. 6, the MOS transistors Q 0 and Q 1 are operated almost at the same time, but in the embodiment shown in FIG. 7, Q 0 is operated first so that the low potential side of the data line is sufficiently discharged. It is detected by the detection circuit 5 that the output pulse Φ ss causes Q 1 to operate, and the high potential side of the data line is charged to the rewrite level. Then, the detection circuit 6 detects that the data line has been sufficiently charged to the rewrite level (that is, the potential difference between the data lines D d and ▲ ▼ has been sufficiently amplified), and its output is Φ y. It is used as the input of the generation AND circuit (AND 0 ). According to this embodiment, since there is no possible n-channel and p-channel MOS transistor in the SAC gates are common and summer is simultaneously turned ON when the signal amplification, between a power supply potential V C and ground potential flowing through both transistors The through current can be prevented. Further, since the connection with the input / output line is performed after the amplification is sufficiently performed, erroneous reading can be prevented. As shown in the figure, for example, the detection circuit 5 has a circuit DA 1 that inputs the data line D d and the reference level V ref 1 that are always on the low potential side and an output of the pulse ▲ ▼ and DA 1 as inputs, and both inputs. It can be configured with an OR circuit (OR 5 ) whose output becomes low level when is low level. In addition, the detection circuit 6
Is always on the high potential side and the data line ▲ ▼ and reference level
A circuit DA 2 having Vref 2 as an input and a complementary pulse ▲ ▼ of the output pulse Φ ss of the detection circuit 5 and an AND circuit (AND 6 ) having an output of DA 2 as an input can be used. Also in this figure, in some cases, DA 1 may be omitted and D d may be directly used as the input of the OR circuit.

以上、本発明の実施例をいくつか述べたが、本発明の適
用範囲はここで述べた実施例に限定されず、発明の思想
を逸脱しない範囲で種々変更可能なことは言うまでもな
い。たとえばここではデータ対線D,が近接してレイア
ウトされているメモリセル(folded bitline arrangeme
ntあるいは折り返し形メモリセル)を用いたメモリにつ
いて実施例を示したが、データ対線D,が空間的に離れ
ている方式のセル(open bitline arrangementあるいは
開放形メモリセル)を用いたメモリについても同様に本
発明を適用することができる。また第6図,第7図で示
した実施例において、ダミーセルDMを省いたメモリアレ
ー構成も可能である。
Although some embodiments of the present invention have been described above, it goes without saying that the scope of application of the present invention is not limited to the embodiments described here, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention. For example, here the memory cell (folded bitline arrangement
nt or a folded type memory cell) is shown as an example, but a memory using a cell (open bitline arrangement or open type memory cell) in which the data pair line D is spatially separated is also shown. The present invention can be similarly applied. Further, in the embodiment shown in FIGS. 6 and 7, a memory array configuration in which the dummy cells DM are omitted can be used.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように、本発明によれば、データ線の増幅
状態を検知してから、データ線高電位補償回路の動作あ
るいは入出力線との接続を行なわせるので、差動増幅回
路の共通ソース線の遅延時間が大きくても、記憶情報の
破壊や誤読み出しを防止でき、かつ高速動作が可能とな
る。
As described above, according to the present invention, since the operation of the data line high potential compensation circuit or the connection with the input / output line is performed after the amplification state of the data line is detected, the common source of the differential amplification circuit is used. Even if the delay time of the line is large, it is possible to prevent the destruction and erroneous reading of the stored information and to operate at high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は従来のダイナミツクメモリの要部回路図、第2
図は本発明の一実施例を示す半導体装置を要部回路図、
第3図、第4図,第5図,第6図,第7図はそれぞれ本
発明の他の実施例を示す半導体装置の要部回路図であ
る。 1,2,3,4,5,6……検出回路、SA,SAC……読み出し信号増
幅回路、AR……データ線高電位補償回路、PRC……プリ
チヤージ回路、DM……ダミーセル、MC……メモリセル、
CA……メモリ主要部、MA……メモリセルアレー、WC……
ワードクリア回路、XDR……Xドライバ回路、IOG……入
出力選択回路、SC……シヨート回路、DA……差動増幅回
路、CS……共通ソース線、CD……共通ドレイン線。
FIG. 1 is a circuit diagram of a main part of a conventional dynamic memory, and FIG.
FIG. 1 is a circuit diagram of a main part of a semiconductor device showing an embodiment of the present invention,
FIG. 3, FIG. 4, FIG. 5, FIG. 6, FIG. 7 and FIG. 7 are main circuit diagrams of a semiconductor device showing another embodiment of the present invention. 1,2,3,4,5,6 …… Detection circuit, SA, SAC …… Read signal amplification circuit, AR …… Data line high potential compensation circuit, PRC …… Precharge circuit, DM …… Dummy cell, MC …… Memory cells,
CA: Memory main part, MA: Memory cell array, WC ...
Word clear circuit, XDR ... X driver circuit, IOG ... input / output selection circuit, SC ... short circuit, DA ... differential amplification circuit, CS ... common source line, CD ... common drain line.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−195387(JP,A) 特開 昭52−84929(JP,A) 特開 昭53−60125(JP,A) 特開 昭57−195387(JP,A) 特開 昭59−87694(JP,A) 特開 昭59−92492(JP,A) 実開 昭57−152698(JP,U)Continuation of front page (56) Reference JP-A-57-195387 (JP, A) JP-A-52-84929 (JP, A) JP-A-53-60125 (JP, A) JP-A-57-195387 (JP , A) JP-A-59-87694 (JP, A) JP-A-59-92492 (JP, A) Actually developed 57-152698 (JP, U)

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】データ線群と、ワード線群と、前記データ
線群と前記ワード線群との所望の交点に配置されたメモ
リセル群と、前記データ線群の各々のデータ線の電圧を
検知及び増幅する検知増幅回路群と、前記検出増幅回路
群を駆動するための共通ソース線と、前記共通ソース線
に駆動信号を印加するための駆動手段と、前記データ線
群の各々のデータ線に設けられ、前記各々のデータ線を
所定の電圧まで充電する高電位補償手段とを有する半導
体装置において、さらに、前記データ線群のうち前記駆
動手段に対して前記共通ソース線の遠端部に設けられた
データ線に接続され、このデータ線の電圧を検知する検
知回路と、前記検知回路の出力に基づいて前記高電位補
償手段を動作させる手段とを有することを特徴とする半
導体装置。
1. A data line group, a word line group, a memory cell group arranged at a desired intersection of the data line group and the word line group, and a voltage of each data line of the data line group. Detecting and amplifying circuit group for detecting and amplifying, common source line for driving the detecting and amplifying circuit group, driving means for applying a drive signal to the common source line, and each data line of the data line group And a high potential compensating means for charging each of the data lines to a predetermined voltage, further comprising: a far end portion of the common source line with respect to the driving means in the data line group. A semiconductor device comprising: a detection circuit which is connected to a provided data line and detects a voltage of the data line; and a unit which operates the high potential compensating unit based on an output of the detection circuit.
【請求項2】特許請求の範囲第1項記載の半導体装置に
おいて、上記検知回路の出力は、上記ワード線群を充放
電する回路に接続されていることを特徴とする半導体装
置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the output of the detection circuit is connected to a circuit for charging and discharging the word line group.
【請求項3】特許請求の範囲第1項記載の半導体装置に
おいて、上記検知回路が接続されているデータ線は、ス
イッチを介して電源に接続され、該スイッチは、上記検
知回路の出力によって制御されることを特徴とする半導
体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the data line to which the detection circuit is connected is connected to a power supply via a switch, and the switch is controlled by the output of the detection circuit. A semiconductor device characterized by the following.
【請求項4】データ線群と、ワード線群と、前記データ
線群と前記ワード線群との所望の交点に配置されたメモ
リセル群と、前記データ線群の各々のデータ線の電圧を
検知及び増幅する検知増幅回路群と、前記検知増幅回路
群を駆動するための共通ソース線と、前記共通ソース線
に駆動信号を印加するための駆動手段と、前記データ線
群に共通な共通データ線と、前記データ線群の各々のデ
ータ線に設けられ、前記各々のデータ線と前記共通デー
タ線との接続を制御する接続制御手段とを有する半導体
装置において、さらに、前記データ線群のうち前記駆動
手段に対して前記共通ソース線の遠端部に設けられたデ
ータ線に接続され、このデータ線の電圧を検知する検知
回路と、前記検知回路の出力に基づいて前記接続制御手
段を動作させる手段とを有することを特徴とする半導体
装置。
4. A data line group, a word line group, a memory cell group arranged at a desired intersection of the data line group and the word line group, and a voltage of each data line of the data line group. Detecting and amplifying circuit group for detecting and amplifying, common source line for driving the detecting and amplifying circuit group, driving means for applying a drive signal to the common source line, and common data common to the data line group A line and a connection control means that is provided for each data line of the data line group and that controls the connection between each of the data lines and the common data line. A detection circuit connected to a data line provided at the far end of the common source line with respect to the driving unit, and detecting the voltage of the data line, and operating the connection control unit based on the output of the detection circuit. Hand Wherein a has and.
【請求項5】特許請求の範囲第4項記載の半導体装置に
おいて、上記検知回路の出力は、上記ワード線群を充放
電する回路に接続されていることを特徴とする半導体装
置。
5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the output of the detection circuit is connected to a circuit for charging and discharging the word line group.
【請求項6】特許請求の範囲第4項記載の半導体装置に
おいて、上記検知回路が接続されているデータ線は、ス
イッチを介して電源に接続され、該スイッチは、上記検
知回路の出力によって制御されることを特徴とする半導
体装置。
6. The semiconductor device according to claim 4, wherein the data line to which the detection circuit is connected is connected to a power supply via a switch, and the switch is controlled by the output of the detection circuit. A semiconductor device characterized by the following.
【請求項7】データ線群と、ワード線群と、前記データ
線群と前記ワード線群との所望の交点に配置されたメモ
リセル群と、前記データ線群の各々のデータ線の電圧を
検知及び増加する検知増幅回路群と、前記検知増幅回路
群を駆動するための共通ソース線と、前記共通ソース線
に駆動信号を印加するための駆動手段と、前記データ線
群に共通な共通データ線と、前記データ線群の各々のデ
ータ線に設けられ、前記各々のデータ線と前記共通デー
タ線との接続を制御する接続制御手段とを有する半導体
装置において、さらに、前記駆動手段に対して前記共通
ソース線の遠端部に接続させ、この遠端部の電圧を検知
する検知回路と、前記検知回路の出力に基づいて前記接
続制御手段を動作させる手段とを有することを特徴とす
る半導体装置。
7. A data line group, a word line group, a memory cell group arranged at a desired intersection of the data line group and the word line group, and a voltage of each data line of the data line group. Detecting and increasing sense amplifier circuit group, common source line for driving the sense amplifier circuit group, driving means for applying a drive signal to the common source line, and common data common to the data line group A semiconductor device having a line and a connection control unit that is provided for each data line of the data line group and that controls the connection between each of the data lines and the common data line, further comprising: A semiconductor having a detection circuit connected to the far end of the common source line to detect the voltage at the far end, and a means for operating the connection control means based on the output of the detection circuit. apparatus.
【請求項8】特許請求の範囲第7項記載の半導体装置に
おいて、上記検知回路の出力は、上記ワード線群を充放
電する回路に接続されていることを特徴とする半導体装
置。
8. The semiconductor device according to claim 7, wherein the output of the detection circuit is connected to a circuit for charging and discharging the word line group.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5987694A (en) * 1982-11-10 1984-05-21 Toshiba Corp Dynamic type random access memory
JPS5992492A (en) * 1982-11-19 1984-05-28 Hitachi Ltd Mosram semiconductor device

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