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JPH0743946B2 - Non-volatile CAM - Google Patents
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JPH0743946B2 - Non-volatile CAM - Google Patents

Non-volatile CAM

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Publication number
JPH0743946B2
JPH0743946B2 JP902588A JP902588A JPH0743946B2 JP H0743946 B2 JPH0743946 B2 JP H0743946B2 JP 902588 A JP902588 A JP 902588A JP 902588 A JP902588 A JP 902588A JP H0743946 B2 JPH0743946 B2 JP H0743946B2
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JP
Japan
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gate
storage node
mos transistor
bit line
drain
Prior art date
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JP902588A
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康 寺田
武志 中山
和男 小林
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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    • G11INFORMATION STORAGE
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    • G11C15/00Digital stores in which information comprising one or more characteristic parts is written into the store and in which information is read-out by searching for one or more of these characteristic parts, i.e. associative or content-addressed stores
    • G11C15/04Digital stores in which information comprising one or more characteristic parts is written into the store and in which information is read-out by searching for one or more of these characteristic parts, i.e. associative or content-addressed stores using semiconductor elements
    • G11C15/046Digital stores in which information comprising one or more characteristic parts is written into the store and in which information is read-out by searching for one or more of these characteristic parts, i.e. associative or content-addressed stores using semiconductor elements using non-volatile storage elements

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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は不揮発性CAMに関し、特に、アドレスを指定
してデータの読み書きをする通常のメモリ機能に加え
て、情報内容を指定したとき、その情報が蓄積されてい
るアドレスの検索が行なえるような不揮発性CAM(Conte
nt−Addressable Memory)に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a non-volatile CAM, and in particular, in addition to a normal memory function of reading and writing data by designating an address, A non-volatile CAM (Conte
nt-Addressable Memory).

[従来の技術] 第6図はISSCC(Digest of Technical Papers 42ないし
43頁(1985年))に示された従来の揮発性のCAMを示す
電気回路図である。
[Prior Art] Figure 6 shows the ISSCC (Digest of Technical Papers 42 or
It is an electric circuit diagram which shows the conventional volatile CAM shown in page 43 (1985)).

第6図において、CAMはCMOSスタティックRAM部1と一致
検出部2とから構成されている。一致検出部2は4つの
MOSトランジスタ3ないし6からなり、MOSトランジスタ
3と4が直列接続され、MOSトランジスタ5と6とが直
列接続されている。MOSトランジスタ3のソースは接地
され、ゲートはフリップフロップからなるCMOSスタティ
ックRAM部1の第2の記憶ノードN2に接続され、MOSトラ
ンジスタ4のゲートはビット線対を構成するビット線BL
に接続され、ドレインは一致検出線Mに接続されてい
る。
In FIG. 6, the CAM is composed of a CMOS static RAM section 1 and a coincidence detection section 2. There are four match detection units 2.
It consists of MOS transistors 3 to 6, MOS transistors 3 and 4 are connected in series, and MOS transistors 5 and 6 are connected in series. The source of the MOS transistor 3 is grounded, the gate is connected to the second storage node N2 of the CMOS static RAM unit 1 including a flip-flop, and the gate of the MOS transistor 4 is a bit line BL forming a bit line pair.
, And the drain is connected to the coincidence detection line M.

MOSトランジスタ5のソースは接地され、ゲートはCMOS
スタティックRAM部1の第1の記憶ノードN1に接続さ
れ、MOSトランジスタ6のゲートはビット線▲▼に
接続され、ドレインは一致検出線Mに接続されている。
The source of the MOS transistor 5 is grounded and the gate is CMOS
It is connected to the first storage node N1 of the static RAM unit 1, the gate of the MOS transistor 6 is connected to the bit line ▲ ▼, and the drain is connected to the match detection line M.

CMOSスタティックRAM部1は4つのMOSトランジスタ7な
いし10によって構成されるとともに、2つの転送ゲート
となるMOSトランジスタ12,13を含む。CMOSスタティック
RAM部1の第1の記憶ノードN1にはMOSトランジスタ12の
ソースが接続され、ドレインはビット線BLに接続され、
ゲートはワード線Wに接続されている。また、CMOSスタ
ティックRAM部1の第2の記憶ノードN2にはMOSトランジ
スタ13のソースが接続され、ドレインはビット線▲
▼に接続され、ゲートはワード線Wに接続されている。
The CMOS static RAM section 1 is composed of four MOS transistors 7 to 10 and also includes two MOS transistors 12 and 13 serving as transfer gates. CMOS static
The source of the MOS transistor 12 is connected to the first storage node N1 of the RAM unit 1, and the drain is connected to the bit line BL.
The gate is connected to the word line W. The source of the MOS transistor 13 is connected to the second storage node N2 of the CMOS static RAM unit 1, and the drain is the bit line ▲.
The gate is connected to the word line W.

次に、第6図に示した従来のCAMの動作について説明す
る。まず、一致検索を行なうときには、ワード線Wがす
べて“L"レベルに設定され、一致検出線Mが“H"レベル
にプリチャージされ、ビット線BLに検索データが与えら
れ、ビット線▲▼に検索データの反転信号が印加さ
れることにより行なわれる。たとえば、“1"を検索した
いときには、ビット線BLが“H"レベリに設定され、ビッ
ト線▲▼が“L"レベルに設定される。CMOSスタティ
ックRAM部1に“1"が記憶されている場合、すなわち第
1の記憶ノードN1が“H"になっていて、第2の記憶ノー
ドN2が“L"レベルになっている場合、MOSトランジスタ
4,5は導通するが、MOSトランジスタ3,6は非導通である
ため、一致検出線Mは“H"レベルのまま保たれる。も
し、“0"がCMOSスタティックRAM部1に記憶されている
場合、すなわち第1の記憶ノードN1が“L"レベルであ
り、第2の記憶ノードN2が“H"レベルであれば、MOSト
ランジスタ3,4が導通し、一致検出線Mは放電されて接
地電位となる。
Next, the operation of the conventional CAM shown in FIG. 6 will be described. First, when performing a match search, all the word lines W are set to the "L" level, the match detection line M is precharged to the "H" level, the search data is given to the bit line BL, and the bit line ▲ ▼ is supplied. This is performed by applying an inverted signal of search data. For example, when searching for "1", the bit line BL is set to "H" level and the bit line ▲ ▼ is set to "L" level. When “1” is stored in the CMOS static RAM unit 1, that is, when the first storage node N1 is “H” and the second storage node N2 is “L” level, the MOS is Transistor
Although 4,5 are conductive, the MOS transistors 3 and 6 are non-conductive, so that the match detection line M is kept at the "H" level. If "0" is stored in the CMOS static RAM unit 1, that is, if the first storage node N1 is at "L" level and the second storage node N2 is at "H" level, then the MOS transistor 3, 4 become conductive, the coincidence detection line M is discharged to the ground potential.

[発明が解決しようとする課題] 従来のCAMは上述のごとく、フリップフロップからなるC
MOSスタティックRAM部1と一致検出部2とから構成され
ているため、電源がオフされると、CMOSスタティックRA
M部1に記憶されていたデータが消去されてしまうとい
う欠点があった。
[Problems to be Solved by the Invention] As described above, the conventional CAM is a C including flip-flops.
It consists of a MOS static RAM unit 1 and a match detection unit 2. Therefore, when power is turned off, CMOS static RA
There is a drawback that the data stored in the M section 1 is erased.

それゆえに、この発明の主たる目的は、電源がオフにな
ってもデータが消えることのない不揮発性CAMを提供す
ることである。
Therefore, a main object of the present invention is to provide a nonvolatile CAM in which data is not lost even when the power is turned off.

[課題を解決するための手段] この発明は行および列からなるマトリクス状に配列さ
れ、それぞれが第1および第2の記憶ノードを有し、情
報を記憶する複数のメモリセルと、それぞれが列方向に
整列するメモリセルを選択するための複数のワード線
と、列方向に整列するメモリセルに接続される複数のビ
ット線対と、ビット線対の情報とメモリセルに記憶され
ている情報とが一致しているとき一致信号を出力する一
致検出線とを備えた不揮発性CAMであって、ゲートがメ
モリセルの第1の記憶ノードに接続され、第1の導通端
子がビット線対の一方に接続され、第2の導通端子が一
致検出線に接続された第1のMOSトランジスタと、ゲー
トがメモリセルの第2の記憶ノードに接続され、第1の
導通端子がビット線対の他方に接続され、第2の導通端
子が一致検出線に接続された第2のMOSトランジスタを
含み、メモリセルが不揮発性メモリによって構成された
ものである。
[Means for Solving the Problem] According to the present invention, a plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, each of which has a first storage node and a second storage node, and each of which stores information, and each of which is a column. A plurality of word lines for selecting memory cells aligned in the direction, a plurality of bit line pairs connected to the memory cells aligned in the column direction, information of the bit line pairs and information stored in the memory cells A non-volatile CAM that outputs a match signal when the two match, the gate is connected to the first storage node of the memory cell, and the first conductive terminal is one of the bit line pair. And a first MOS transistor having a second conduction terminal connected to the coincidence detection line, a gate connected to the second storage node of the memory cell, and a first conduction terminal connected to the other of the bit line pair. Connected and the second lead The communication terminal includes a second MOS transistor connected to the coincidence detection line, and the memory cell is composed of a nonvolatile memory.

[作用] この発明に係る不揮発性CAMはメモリセルが不揮発性メ
モリで構成されているので、電源がオフにされてもそれ
までに記憶されていたデータが消去されるおそれがなく
なる。
[Operation] Since the memory cell of the non-volatile CAM according to the present invention is composed of the non-volatile memory, there is no fear that the data stored up to that time will be erased even when the power is turned off.

[実施例] 第1図はこの発明の一実施例の構成を示すブロック図で
ある。まず、第1図を参照して、この発明の一実施例の
構成について説明する。NVRAM11は不揮発性メモリであ
って、第1および第2の記憶ノードN1,N2を含む。第1
の記憶ノードN1には第1のMOSトランジスタ14のゲート
が接続され、ドレインはビット線BLに接続され、ソース
は一致検出線Mに接続される。第2の記憶ノードN2に
は、第2のMOSトランジスタ15のゲートが接続され、ド
レインはビット線▲▼に接続され、ソースは一致検
出線Mに接続される。また、第1の記憶ノードN1には第
3のMOSトランジスタ12のソースが接続され、ゲートは
ワード線Wに接続され、ドレインはビット線BLに接続さ
れる。第2の記憶ノードN2には第4のMOSトランジスタ1
3のソースが接続され、ゲートはワード線Wに接続さ
れ、ドレインはビット線▲▼に接続される。
[Embodiment] FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention. First, the configuration of an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The NVRAM 11 is a non-volatile memory and includes first and second storage nodes N1 and N2. First
The storage node N1 is connected to the gate of the first MOS transistor 14, the drain is connected to the bit line BL, and the source is connected to the coincidence detection line M. The gate of the second MOS transistor 15 is connected to the second storage node N2, the drain thereof is connected to the bit line ▲ ▼, and the source thereof is connected to the coincidence detection line M. The source of the third MOS transistor 12 is connected to the first storage node N1, the gate is connected to the word line W, and the drain is connected to the bit line BL. A fourth MOS transistor 1 is provided at the second storage node N2.
The source of 3 is connected, the gate is connected to the word line W, and the drain is connected to the bit line.

この第1図に示した不揮発性CAMとしての動作は、前述
の第6図に示した従来例と同じである。すなわち、ワー
ド線Wが“L"レベルに設定され、一致検出線Mが“H"レ
ベルにプリチャージされ、ビット線BLに検索データの信
号が与えられ、ビット線▲▼に検索データの反転信
号が与えられる。NVRAM11に記憶されている情報と、検
索データが一致すれば、一致検出線Mは“H"レベルを保
ち、一致しないときには放電されて“L"レベルになる。
The operation as the nonvolatile CAM shown in FIG. 1 is the same as that of the conventional example shown in FIG. That is, the word line W is set to the "L" level, the match detection line M is precharged to the "H" level, the search data signal is applied to the bit line BL, and the inverted signal of the search data is supplied to the bit line ▲ ▼. Is given. If the information stored in the NVRAM 11 matches the search data, the match detection line M maintains the "H" level, and if they do not match, the match detection line M is discharged to the "L" level.

第2図はこの発明の他の実施例の構成を示すブロック図
である。この第2図に示した実施例は、第1図に示した
MOSトランジスタ14にMOSトランジスタ16を直列接続する
とともに、MOSトランジスタ15に対してMOSトランジスタ
17を直列接続したものである。より具体的に説明する
と、MOSトランジスタ14のゲートは第2の記憶ノードN2
に接続され、ソースは接地される。MOSトランジスタ14
のドレインはMOSトランジスタ16のソースに接続され、M
OSトランジスタ16のゲートはビット線BLに接続され、ド
レインは一致検出線Mに接続される。また、MOSトラン
ジスタ15のゲートは第1の記憶ノードN1に接続され、ソ
ースは接地される。MOSトランジスタ15のドレインはMOS
トランジスタ17のソースに接続され、MOSトランジスタ1
7のゲートはビット線▲▼に接続され、ドレインは
一致検出線Mに接続される。このように不揮発性CAMを
構成しても、前述の第1図と同様の動作をさせることが
できる。
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of another embodiment of the present invention. The embodiment shown in FIG. 2 is shown in FIG.
A MOS transistor 16 is connected in series to the MOS transistor 14, and a MOS transistor is connected to the MOS transistor 15.
17 are connected in series. More specifically, the gate of the MOS transistor 14 has the second storage node N2.
And the source is grounded. MOS transistor 14
The drain of is connected to the source of the MOS transistor 16, and M
The gate of the OS transistor 16 is connected to the bit line BL, and the drain is connected to the match detection line M. The gate of the MOS transistor 15 is connected to the first storage node N1 and the source is grounded. The drain of the MOS transistor 15 is MOS
MOS transistor 1 connected to the source of transistor 17
The gate of 7 is connected to the bit line ▲ ▼, and the drain is connected to the coincidence detection line M. Even if the non-volatile CAM is configured as described above, the same operation as that in FIG. 1 described above can be performed.

第3図は第1図に示した不揮発性CAMのより具体的な電
気回路図である。第3図において、NVRAM11はスタティ
ックRAM20とEEPROM23とによって構成され、情報の記憶
および読出動作はスタティックRAM20で行なわれ、不揮
発な記憶が必要なときには、スタティックRAM20に記憶
されたデータがEEPROM23に転送される。
FIG. 3 is a more specific electric circuit diagram of the nonvolatile CAM shown in FIG. In FIG. 3, the NVRAM 11 is composed of a static RAM 20 and an EEPROM 23. Information is stored and read by the static RAM 20. When nonvolatile storage is required, the data stored in the static RAM 20 is transferred to the EEPROM 23. .

より具体的な構成について説明すると、スタティックRA
M20はNチャネルデプレッション型MOSトランジスタ26,2
7とNチャネルエンハンスメント型MOSトランジスタ18,1
9とから構成される。Nチャネルデプレッション型MOSト
ランジスタ26のドレインには第1の基準電位として電源
電圧が与えられ、ゲートとソースは第1の記憶ノードN1
に接続される。Nチャネルデプレッション型MOSトラン
ジスタ27のドレインには電源電圧が与えられ、ゲートと
ソースは第2の記憶ノードN2に接続される。Nチャネル
MOSトランジスタ18のゲートは第2の記憶ノードN2に接
続され、ドレインは第1の記憶ノードN1に接続され、ソ
ースは第2の基準電圧である接地電位に接続される。N
チャネルMOSトランジスタ19のゲートは第1の記憶ノー
ドN1に接続され、ドレインは第2の記憶ノードN2に接続
され、ソースは接地される。
To explain the more specific configuration, static RA
M20 is an N-channel depletion type MOS transistor 26,2
7 and N-channel enhancement type MOS transistor 18,1
Composed of 9 and. A power supply voltage is applied as a first reference potential to the drain of the N-channel depletion type MOS transistor 26, and the gate and source thereof are the first storage node N1.
Connected to. A power supply voltage is applied to the drain of the N-channel depletion type MOS transistor 27, and its gate and source are connected to the second storage node N2. N channel
The gate of the MOS transistor 18 is connected to the second storage node N2, the drain is connected to the first storage node N1, and the source is connected to the ground potential which is the second reference voltage. N
The gate of the channel MOS transistor 19 is connected to the first storage node N1, the drain is connected to the second storage node N2, and the source is grounded.

さらに、NチャネルMOSトランジスタ12ないし15が設け
られていて、NチャネルMOSトランジスタ12のゲートは
ワード線Wに接続され、ドレインはビット線BLに接続さ
れ、ソースは第1の記憶ノードN1に接続される。Nチャ
ネルMOSトランジスタ13のゲートはワード線Wに接続さ
れ、ドレインはビット線▲▼に接続され、ソースは
第2の記憶ノードN2に接続される。NチャネルMSトラン
ジスタ14のゲートは第1の記憶ノードN1に接続され、ド
レインはビット線BLに接続され、ソースは一致検出線M
に接続される。NチャネルMOSトランジスタ15のゲート
は第2の記憶ノードN2に接続され、ドレインはビット線
▲▼に接続され、ソースは一致検出線Mに接続され
る。
Further, N channel MOS transistors 12 to 15 are provided, the gate of the N channel MOS transistor 12 is connected to the word line W, the drain is connected to the bit line BL, and the source is connected to the first storage node N1. It The gate of the N-channel MOS transistor 13 is connected to the word line W, the drain is connected to the bit line {circle around (5)}, and the source is connected to the second storage node N2. The gate of the N-channel MS transistor 14 is connected to the first storage node N1, the drain is connected to the bit line BL, and the source is the match detection line M.
Connected to. The gate of the N-channel MOS transistor 15 is connected to the second storage node N2, the drain thereof is connected to the bit line ▲ ▼, and the source thereof is connected to the coincidence detection line M.

EEPROM23はNチャネルMOSトランジスタ21,24とメモリト
ランジスタ22とによって構成される。NチャネルMOSト
ランジスタ21のゲートにはクロック信号CLKが与えら
れ、ソースは第2の記憶ノードN2に接続され、ドレイン
はメモリトランジスタ22のソースに接続される。メモリ
トランジスタ22のゲートにはプログラム信号PROが与え
られ、ドレインはNチャネルMOSトランジスタ24のソー
スに接続される。NチャネルMOSトランジスタ24のドレ
インとゲートにはクリア信号CLRが与えられる。
The EEPROM 23 is composed of N-channel MOS transistors 21 and 24 and a memory transistor 22. The clock signal CLK is applied to the gate of the N-channel MOS transistor 21, the source is connected to the second storage node N2, and the drain is connected to the source of the memory transistor 22. The program signal PRO is applied to the gate of the memory transistor 22 and the drain thereof is connected to the source of the N-channel MOS transistor 24. The clear signal CLR is applied to the drain and gate of the N-channel MOS transistor 24.

次に、第3図に示した実施例の具体的な動作について説
明する。まず、データ転送する場合には、クロック信号
CLKが“L"レベルとなり、プログラム信号PROが“L"レベ
ルに設定され、クリア信号CLRとして高電圧パルスがN
チャネルMOSトランジスタ24のドレインとゲートとに与
えられ、EEPROM23に記憶されているデータの消去が行な
われる。すなわち、EEPROM23のメモリトランジスタ22の
フローティングゲートに蓄積されていた電子が引き抜か
れ、しきい値が低くなる。
Next, the specific operation of the embodiment shown in FIG. 3 will be described. First, when transferring data, use the clock signal
CLK becomes "L" level, program signal PRO is set to "L" level, and high voltage pulse is N as clear signal CLR.
The data supplied to the drain and gate of the channel MOS transistor 24 and stored in the EEPROM 23 is erased. That is, the electrons accumulated in the floating gate of the memory transistor 22 of the EEPROM 23 are extracted and the threshold value becomes low.

次に、クロック信号CLKが“H"レベルに設定され、クリ
ア信号CLRが“L"レベルに設定され、メモリトランジス
タ22のゲートにプログラム信号PROとして高電圧パルス
が与えられる。もし、スタティックRAM20に“1"が記憶
されていれば、第1の記憶ノードN1が“H"レベルとな
り、第2の記憶ノードN2は“L"レベルであるため、メモ
リトランジスタ22のドレインが接地電位となり、フロー
ティングゲートへの電子の注入が行なわれる。
Next, the clock signal CLK is set to “H” level, the clear signal CLR is set to “L” level, and a high voltage pulse is applied to the gate of the memory transistor 22 as the program signal PRO. If "1" is stored in the static RAM 20, the first storage node N1 is at "H" level and the second storage node N2 is at "L" level, so the drain of the memory transistor 22 is grounded. A potential is applied, and electrons are injected into the floating gate.

もし、スタティックRAM20に“0"が記憶されていて、第
1の記憶ノードN1が“L"レベルであり、第2の記憶ノー
ドN2が“H"レベルであれば、メモリトランジスタ22のド
レインの電圧は高いままであるため、フローティングゲ
ートへの電子の注入が起こらない。すなわち、メモリト
ランジスタ22のゲートとドレインの電位差が小さいた
め、フローティングゲートに蓄積されている電荷に変化
が生じない。このようにして、スタティックRAM20からE
EPROM23へのデータの転送が行なわれる。
If "0" is stored in the static RAM 20, the first storage node N1 is at "L" level, and the second storage node N2 is at "H" level, the voltage of the drain of the memory transistor 22. Remains high, no electron injection into the floating gate occurs. That is, since the potential difference between the gate and the drain of the memory transistor 22 is small, the charge accumulated in the floating gate does not change. In this way, static RAM 20 to E
Data is transferred to EPROM23.

次に、EEPROM23からスタティックRAM20へのデータ転送
は、クロック信号CLK,プログラム信号PROおよびクリア
信号CLRが“H"レベルに設定され、NVRAM11に供給される
電源を0Vから徐々に上げることによって行なわれる。こ
のとき、EEPROM23のしきい値が低い状態であれば、第2
の記憶ノードN2が充電され、スタティックRAM20には
“0"がセットされる。一方、EEPROM23のしきい値が高い
状態であれば、第1の記憶ノードN1が充電されて“H"レ
ベルとなり、“1"がセットされるようにスタティックRA
M20が構成されている。
Next, the data transfer from the EEPROM 23 to the static RAM 20 is performed by setting the clock signal CLK, the program signal PRO and the clear signal CLR to the “H” level and gradually increasing the power supply to the NVRAM 11 from 0V. At this time, if the threshold value of the EEPROM 23 is low, the second
The storage node N2 is charged and the static RAM 20 is set to "0". On the other hand, if the threshold value of the EEPROM 23 is high, the first storage node N1 is charged to the "H" level and the static RA is set to "1".
M20 is configured.

第4図はこの発明の他の実施例の電気回路図である。こ
の第4図に示した実施例は、スタティックRAM20とEEPRO
M23は前述の第3図の実施例と同様にして構成される。
そして、第1の記憶ノードN1にはMOSトランジスタ17の
ゲートが接続され、MOSトランジスタ17のドレインは一
致検出線Mに接続され、ソースはMOSトランジスタ15の
ドレインに接続される。このMOSトランジスタ15のゲー
トはビット線▲▼に接続され、ソースは接地され
る。また、第2の記憶ノードN2にはMOSトランジスタ16
のゲートが接続され、MOSトランジスタ16のドレインは
一致検出線Mに接続され、ソースはMOSトランジスタ14
のドレインに接続される。MOSトランジスタ14のゲート
はビット線BLに接続され、ソースは接地される。
FIG. 4 is an electric circuit diagram of another embodiment of the present invention. The embodiment shown in FIG. 4 is a static RAM 20 and an EEPRO.
The M23 is constructed in the same manner as the embodiment shown in FIG.
The gate of the MOS transistor 17 is connected to the first storage node N1, the drain of the MOS transistor 17 is connected to the coincidence detection line M, and the source is connected to the drain of the MOS transistor 15. The gate of the MOS transistor 15 is connected to the bit line () and the source is grounded. Further, the MOS transistor 16 is connected to the second storage node N2.
Of the MOS transistor 16 is connected, the drain of the MOS transistor 16 is connected to the coincidence detection line M, and the source is the MOS transistor 14
Connected to the drain of. The gate of the MOS transistor 14 is connected to the bit line BL, and the source is grounded.

このように不揮発性CAMを構成することによって、前述
の第3図に示した実施例と同様にして、通常のデータの
記憶はスタティックRAM20で行ない、不揮発な記憶が必
要なときには、スタティックRAM20に記憶されたデータ
をEEPROM23に転送させることができる。
By configuring the non-volatile CAM in this way, similar to the embodiment shown in FIG. 3 described above, normal data is stored in the static RAM 20, and when non-volatile storage is required, it is stored in the static RAM 20. The stored data can be transferred to the EEPROM 23.

第5図はこの発明のその他の実施例を示す電気回路図で
ある。この実施例は検索しようとするデータを与えるた
めのセンサ線S,を新たに設けたものである。そして、
第1の記憶ノードN1にはMOSトランジスタ14のゲートが
接続され、ドレインにはセンサ線が接続される。MOS
トランジスタ14のソースはMSトランジスタ25のゲートに
接続される。第2の記憶ノードN2にはMOSトランジスタ1
5のゲートが接続され、ドレインにはセンサ線Sが接続
され、ソースはMOSトランジスタ25のゲートに接続され
る。MOSトランジスタ25のドレインは一致検出線Mに接
続され、ソースは接地される。
FIG. 5 is an electric circuit diagram showing another embodiment of the present invention. In this embodiment, a sensor line S, for giving data to be searched is newly provided. And
The gate of the MOS transistor 14 is connected to the first storage node N1, and the sensor line is connected to the drain thereof. MOS
The source of transistor 14 is connected to the gate of MS transistor 25. The second storage node N2 has a MOS transistor 1
The gate of 5 is connected, the sensor line S is connected to the drain, and the source is connected to the gate of the MOS transistor 25. The drain of the MOS transistor 25 is connected to the coincidence detection line M, and the source is grounded.

この実施例においてデータを検索するときには、ワード
線Wが“L"レベルに設定され、一致検出線Mが“H"レベ
ルにプリチャージされ、センサ線に検索データの反転
信号が与えられ、検索線Sに検索信号を与えることによ
って行なわれる。たとえば、“1"を検索したい場合に
は、センサ線が“L"レベルに設定され、センサ線Sが
“H"レベルに設定される。スタティックRAM20に“1"が
記憶されていて第1の記憶ノードN1が“H"レベルになっ
ており、第2の記憶ノードN2が“L"レベルになっていれ
ば、MOSトランジスタ14が導通し、MOSトランジスタ25の
ゲート電位が“L"レベルとなり、MOSトランジスタ25は
非導通となるので、一致検出線Mは“H"レベルを保つ。
もし、スタティックRAM20に“0"が記憶されていて、第
1の記憶ノードN1が“L"レベルになっており、第2の記
憶ノードN2が“H"レベルになっていれば、MOSトランジ
スタ15および25が導通し、一致検出線Mが接地電位とな
る。
When searching for data in this embodiment, the word line W is set to the "L" level, the coincidence detection line M is precharged to the "H" level, the inverted signal of the search data is given to the sensor line, and the search line is searched. This is done by giving S a search signal. For example, to search for "1", the sensor line is set to the "L" level and the sensor line S is set to the "H" level. If "1" is stored in the static RAM 20, the first storage node N1 is at "H" level, and the second storage node N2 is at "L" level, the MOS transistor 14 becomes conductive. , The gate potential of the MOS transistor 25 becomes "L" level and the MOS transistor 25 becomes non-conductive, so that the coincidence detection line M maintains "H" level.
If "0" is stored in the static RAM 20, the first storage node N1 is at "L" level, and the second storage node N2 is at "H" level, the MOS transistor 15 And 25 become conductive, and the coincidence detection line M becomes the ground potential.

[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、メモリセルを不揮発
性メモリで構成したことによって、電源が遮断されても
データが消去されるおそれがなくなる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, since the memory cell is configured by the non-volatile memory, there is no possibility of erasing data even when the power is cut off.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の一実施例の構成を示すブロック図で
ある。第2図はこの発明の他の実施例の構成を示すブロ
ック図である。第3図は第1図に示した不揮発性CAMの
具体的な電気回路図である。第4図はこの発明の他の実
施例の電気回路図である。第5図はこの発明のその他の
実施例を示す電気回路図である。第6図は従来のCAMの
構成を示す電気回路図である。 図において、11はNVRAM、12ないし17,21,24,25はNチャ
ネルMOSトランジスタ、18,19はNチャネルエンハンスト
型MOSトランジスタ、20はスタティックRAM、22はメモリ
トランジスタ、23はEEPROM、26,27はNチャネルデプレ
ッション型MOSトランジスタを示す。
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of another embodiment of the present invention. FIG. 3 is a specific electric circuit diagram of the nonvolatile CAM shown in FIG. FIG. 4 is an electric circuit diagram of another embodiment of the present invention. FIG. 5 is an electric circuit diagram showing another embodiment of the present invention. FIG. 6 is an electric circuit diagram showing a configuration of a conventional CAM. In the figure, 11 is NVRAM, 12 to 17, 21, 24, 25 are N-channel MOS transistors, 18 and 19 are N-channel enhanced MOS transistors, 20 is static RAM, 22 is memory transistor, 23 is EEPROM, 26, 27. Indicates an N-channel depletion type MOS transistor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】行および列からなるマトリクス状に配列さ
れ、それぞれが第1および第2の記憶ノードを有し、情
報を記憶するための複数のメモリセルと、それぞれが前
記列方向に整列するメモリセルを選択するための複数の
ワード線と、前記列方向に整列するメモリセルに接続さ
れる複数のビット線対と、前記ビット線対の情報と前記
メモリセルに記憶されている情報とが一致していると
き、一致信号を出力する一致検出線とを備えた不揮発性
CAMであって、 ゲートと第1および第2の導通端子を含み、前記ゲート
は前記メモリセルの第1の記憶ノードに接続され、前記
第1の導通端子は前記ビット線対の一方に接続され、前
記第2の導通端子は前記一致検出線に接続された第1の
MOSトランジスタ、および ゲートと第1および第2の導通端子を含み、前記ゲート
は前記メモリセルの第2の記憶ノードに接続され、前記
第1の導通端子は前記ビット線対の他方に接続され、前
記第2の導通端子は前記一致検出線に接続された第2の
MOSトランジスタを含み、 前記メモリセルは不揮発性メモリによって構成される、
不揮発性CAM。
1. A plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, each having a first storage node and a second storage node, for storing information and aligned in the column direction. A plurality of word lines for selecting a memory cell, a plurality of bit line pairs connected to the memory cells aligned in the column direction, information of the bit line pairs and information stored in the memory cells. Non-volatile with a match detect line that outputs a match signal when there is a match
CAM comprising a gate and first and second conducting terminals, said gate being connected to a first storage node of said memory cell, said first conducting terminal being connected to one of said bit line pairs , The second conduction terminal is connected to the coincidence detection line, and
A MOS transistor, and a gate and first and second conduction terminals, the gate being connected to a second storage node of the memory cell, the first conduction terminal being connected to the other of the bit line pair, The second conduction terminal is a second connection terminal connected to the coincidence detection line.
Including a MOS transistor, wherein the memory cell is composed of a non-volatile memory,
Non-volatile CAM.
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DE60335465D1 (en) * 2003-10-22 2011-02-03 St Microelectronics Srl Memory cell that can be selected via the content

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