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JPH0746180B2 - Optical information generating method and device - Google Patents
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JPH0746180B2 - Optical information generating method and device - Google Patents

Optical information generating method and device

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Publication number
JPH0746180B2
JPH0746180B2 JP59241727A JP24172784A JPH0746180B2 JP H0746180 B2 JPH0746180 B2 JP H0746180B2 JP 59241727 A JP59241727 A JP 59241727A JP 24172784 A JP24172784 A JP 24172784A JP H0746180 B2 JPH0746180 B2 JP H0746180B2
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light
optical
phase
electro
electrode
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慶二 片岡
昭 有本
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、光情報発生方法及び装置に関し、特にレーザ
・プリンタ等の光記録装置に適用すれば好適な光情報発
生方法及び装置に関する。
Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an optical information generating method and device, and more particularly to an optical information generating method and device suitable for application to an optical recording device such as a laser printer.

〔発明の背景〕[Background of the Invention]

従来より知られているレーザ・プリンタは回転多面鏡を
使用しているため、小型化、固体化が困難であつた。そ
こで、空間変調装置を用いて小型化を図つた装置が提案
されている(Proceedings of SPIE(The Society of Ph
oto-Optical Instrumentation Engineers)388巻46頁参
照)。その装置の動作原理を、第8図、第9図、および
第10図により説明する。
Conventionally known laser printers use a rotating polygon mirror, and thus it has been difficult to miniaturize and solidify. Therefore, a device that is downsized by using a spatial modulator has been proposed (Proceedings of SPIE (The Society of Ph.
oto-Optical Instrumentation Engineers) 388, page 46). The operating principle of the device will be described with reference to FIGS. 8, 9 and 10.

第8図は、LiNbO3結晶l上に形成された電極線パターン
を示すもので、電極線パターンは複数本の電極線2から
構成されている。
FIG. 8 shows an electrode wire pattern formed on the LiNbO 3 crystal l, and the electrode wire pattern is composed of a plurality of electrode wires 2.

第9図は、第8図の電極線2を側面から見た図であつ
て、各電極線2に(+)電圧または(−)電圧を印加す
ることにより、結晶表面中には洩れ電界8が生じる。隣
接する電極線2が同電位の場合には、電界は生じない。
電極線2の間の結晶部が情報構成部分であつて、第9図
においては、洩れ電界8が発生するか否かにより、電極
線2相互間で図示のように、情報“101"が発生される。
FIG. 9 is a side view of the electrode wire 2 of FIG. 8. By applying a (+) voltage or a (−) voltage to each electrode wire 2, a leakage electric field 8 is generated in the crystal surface. Occurs. When the adjacent electrode lines 2 have the same potential, no electric field is generated.
The crystal part between the electrode lines 2 is an information constituent part. In FIG. 9, information "101" is generated between the electrode lines 2 depending on whether or not the leakage electric field 8 is generated. To be done.

第10図(a)(b)は、従来の空間変調装置の平面およ
び側面図である。
10 (a) and 10 (b) are a plan view and a side view of a conventional spatial light modulator.

入射レーザ光3は、結晶lを通過する際に、第9図に示
した洩れ電界による電気光学効果を通じて位相変調を受
ける。結晶lで発生された情報は、結像レンズ4により
スクリーン6上に形成される。ところで、結晶lにおい
て発生された情報は、光の位相パターンとして形成され
ているので、光の位相パターンを光の強度パターンに変
換する必要がある。そのために、第10図(a)(b)で
は、シユリーレン光学系が用いられる。すなわち、洩れ
電界のない情報構成部分を通過するレーザ光は、遮蔽板
5により遮蔽されるが、洩れ電界のある部分を通過する
レーザ光は、位相変調を受けているために、結像レンズ
4の焦点面上では光スポツトが拡がり、遮蔽板5からは
みだした光がスクリーン6に到達する。
When the incident laser light 3 passes through the crystal l, it undergoes phase modulation through the electro-optical effect due to the leakage electric field shown in FIG. The information generated by the crystal l is formed on the screen 6 by the imaging lens 4. By the way, since the information generated in the crystal 1 is formed as a light phase pattern, it is necessary to convert the light phase pattern into a light intensity pattern. Therefore, in FIGS. 10 (a) and 10 (b), a Schlieren optical system is used. That is, the laser light passing through the information component having no leakage electric field is shielded by the shielding plate 5, but the laser light passing through the portion having the leakage electric field is subjected to the phase modulation, so that the imaging lens 4 is formed. On the focal plane of, the light spot spreads, and the light protruding from the shielding plate 5 reaches the screen 6.

しかし、第10図における空間変調装置では、遮蔽板5の
位置調整、遮蔽板形状がスクリーン6上での情報形成の
信号対雑音比に大きく依存する。すなわち、微小距離で
も前後左右に遮蔽板5を移動させただけで、光が洩れた
り、遮蔽板5の形状、大きさが情報形成に多大な影響を
及ぼしている。
However, in the spatial modulation device in FIG. 10, the position adjustment of the shield plate 5 and the shape of the shield plate largely depend on the signal-to-noise ratio of information formation on the screen 6. That is, even if the shielding plate 5 is moved back and forth and left and right even for a minute distance, light leaks and the shape and size of the shielding plate 5 have a great influence on information formation.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明の目的は、このような従来の問題点を改善し、遮
蔽板を用いることなく、小型で信頼性の高い光情報発生
方法及び装置を提供することにある。
An object of the present invention is to improve such conventional problems and to provide a compact and highly reliable optical information generating method and apparatus without using a shielding plate.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

本発明の上記目的は、光導波路層を有する電気光学結晶
上に複数本の電極線を少なくともそのうちの2本を短絡
させて配置し、該各電気光学結晶の結晶表面上に水平に
入射されて通過する光束を、前記電極線により空間的に
位相変調し、該位相変調された光束の回折により拡げら
れた光分布の一部を、光学系の開口あるいは前記光束の
収束位置に配置されたスリットによる開口で遮断し、該
開口を通過した光を結像して、前記光束の位相変調を結
像光の強度変調に変換した、前記電極線間の最小間隔の
複数倍を最小単位とする光情報を発生させることを特徴
とする光情報発生方法、および、表面上に複数の電極線
が、少なくともそのうちの2本を短絡させて配置された
光導波路層を有する電気光学結晶であって、該電気光学
結晶を通過する光束を前記電極線に印加される電圧によ
る電気光学効果で空間的に位相変調する電気光学結晶
と、該電気光学結晶からの位相変調された光束を結像す
る光学系と、前記位相変調された光束の回折により拡げ
られた光分布の一部を遮蔽する光学系の開口あるいは前
記光束の収束位置に配置されたスリットによる開口手段
とを有し、該開口手段を通過した光により、前記光束の
位相変調を結像光の強度変調に変換した、前記電極線間
の最小間隔の複数倍を最小単位とする光情報を発生させ
ることを特徴とする光情報発生装置により達成される。
The above object of the present invention is to arrange a plurality of electrode wires on an electro-optic crystal having an optical waveguide layer with at least two of them short-circuited, and to horizontally inject on the crystal surface of each electro-optic crystal. The passing light beam is spatially phase-modulated by the electrode wire, and a part of the light distribution expanded by the diffraction of the phase-modulated light beam is provided in the slit of the aperture of the optical system or the convergence position of the light beam. The light having a minimum unit of multiples of the minimum interval between the electrode lines, which is blocked by the aperture due to the above, forms an image of the light passing through the aperture, and converts the phase modulation of the light flux into the intensity modulation of the imaging light. An optical information generating method characterized by generating information, and an electro-optic crystal having an optical waveguide layer in which a plurality of electrode wires are arranged on the surface by shorting at least two of them, Light passing through an electro-optic crystal An electro-optic crystal that spatially phase-modulates the electro-optic effect by a voltage applied to the electrode line, an optical system that forms a phase-modulated light beam from the electro-optic crystal, and the phase-modulated light beam. The aperture of the optical system that shields a part of the light distribution expanded by the diffraction of, or aperture means by a slit arranged at the convergence position of the light flux, and the phase of the light flux is changed by the light passing through the aperture means. This is achieved by an optical information generating device characterized by generating optical information having a minimum unit of a plurality of minimum intervals between the electrode lines, which is obtained by converting modulation into intensity modulation of imaging light.

〔発明の実施例〕Example of Invention

以下、本発明の実施例を、図面により説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例を示す光情報発生方式の装
置斜視図であり、第2図は第1図における光情報発生動
作の説明図である。
FIG. 1 is a perspective view of an optical information generating system device showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram of an optical information generating operation in FIG.

第1図において、8はYカツトのLiNbO3結晶、9は結晶
表面のTi拡散による光導波路層、10は電極線、11はスリ
ツト、12はレンズである。
In FIG. 1, 8 is a Y-cut LiNbO 3 crystal, 9 is an optical waveguide layer by Ti diffusion on the crystal surface, 10 is an electrode wire, 11 is a slit, and 12 is a lens.

空間上、図示のようにX,Y,Z方向を規定した場合、Z方
向に平行に偏光されたレーザ光7を結晶8の表面の光導
波路層9に導く。従来、結晶8への入射方向は、第10図
(b)に示すように、結晶表面にある角度をもたせて入
射し、表面で反射された光をレンズ4に向けて投射して
いるのに対し、本実施例では、第1図に示すように、結
晶表面に水平にレーザ光を入射させる。
When the X, Y, and Z directions are defined in space as shown in the figure, the laser light 7 polarized parallel to the Z direction is guided to the optical waveguide layer 9 on the surface of the crystal 8. Conventionally, as shown in FIG. 10 (b), the crystal 8 is incident on the crystal surface at a certain angle, and the light reflected by the surface is projected toward the lens 4. On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 1, laser light is made to enter the crystal surface horizontally.

結晶表面には、Z方向を配列方向として電極線10が複数
本配置され、2本ずつでパターンを形成している。すな
わち、第8図に示すように、従来の電極線2は単独で配
列されているのに対し、本実施例の電極線10は、2本ず
つ端部が短絡された形で配列される。したがつて、2本
に電圧が印加され、2本を単位としてその両側の隣接電
極線10との間に洩れ電界を発生させる。
A plurality of electrode lines 10 are arranged on the crystal surface with the Z direction as the arrangement direction, and a pattern is formed by two lines. That is, as shown in FIG. 8, the conventional electrode wires 2 are arranged alone, whereas the electrode wires 10 of this embodiment are arranged such that two end wires are short-circuited at each end. Therefore, a voltage is applied to the two lines, and a leak electric field is generated between the adjacent electrode lines 10 on both sides of the two lines as a unit.

第2図により、これらの電極線10の動作原理を説明す
る。この場合は、電極線10相互間の最小間隔dの2倍を
発生情報の1ビツトとする例を示す。すなわち、後述す
るパラメータmとしてm=2の場合を示す。電極線10の
パターンを通過する光13は、電極線10に印加されている
電圧により、電気光学効果で位相変調される。電極線10
相互間の間隔をd,電極線10の長さをl,印加電圧をVとす
ると、印加電圧Vにより生じる電界EZは近似的に次式で
与えられる。
The operating principle of these electrode wires 10 will be described with reference to FIG. In this case, an example in which twice the minimum distance d between the electrode lines 10 is used as one bit of generated information is shown. That is, a case where m = 2 is shown as a parameter m described later. The light 13 that passes through the pattern of the electrode lines 10 is phase-modulated by the voltage applied to the electrode lines 10 by the electro-optical effect. Electrode wire 10
When the distance between them is d, the length of the electrode wire 10 is l, and the applied voltage is V, the electric field E Z generated by the applied voltage V is approximately given by the following equation.

ここで、αは定数である。 Here, α is a constant.

また、電極線10を通過する光の位相は、次式で与えら
れる。
Further, the phase of light passing through the electrode wire 10 is given by the following equation.

ここで、λは光の波長、neは異常屈折率、r33は電気光
学定数である。
Here, λ is the wavelength of light, ne is the extraordinary refractive index, and r 33 is the electro-optic constant.

位相は、後述するように、スクリーン上でのコントラ
スト比、あるいは光利用効率が最大になるように設定さ
れ、ここではπに設定される。このとき、電極線10の長
さlは、上式(2)より次式で与えられる。
As will be described later, the phase is set so that the contrast ratio on the screen or the light utilization efficiency is maximized, and is set to π here. At this time, the length l of the electrode wire 10 is given by the following equation from the above equation (2).

第2図(b)は、上式(3)にしたがつて設定した電極
線10の長さlを用いたとき、電極線パターンを通過した
後の光の位相分布を示す。第2図(a)に示すように、
中央の2対の電極線パターンに電圧Vを印加したとき、
左端と右端とで互いに逆方向の洩れ電界が生じ、レーザ
光は電圧印加電極線10の左側でπ,右側で−π,それ以
外の位置で0の位相分布となる。第1図において、第2
図(b)に示す位相分布をもつ出射光13は、スリツト11
およびレンズ12を通過してスクリーン6に到達する。こ
こで、gは電極線パターンとスリツト11間の距離を表わ
す。また、レンズ12は、電極線パターンで得られた位相
分布をスクリーン6に結像するためのレンズである。位
相変調された出射光13がすべてスクリーン6に達する
と、スクリーン6では位相変調された情報が失われ、た
だ明るい線がスクリーン6上で得られるだけである。本
実施例では、位相変調された光パターンを、スクリーン
6上で光強度パターンに変換するために、スリツト11を
用いる。スリツト11は、電極線パターンの幅dに比べて
十分離れた位置、すなわち遠視野とみなされる位置に置
かれる。スリツト11の幅aは、次のようにして設定され
る。すなわち、電極線パターンの間隔dで回折する光は
十分に遮断し、電極線パターンの間隔dの2倍、つまり
2dが回折する光は十分に通過させるように設定する。近
似的には、次式となる。
FIG. 2 (b) shows the phase distribution of light after passing through the electrode line pattern when the length l of the electrode line 10 set according to the above equation (3) is used. As shown in FIG. 2 (a),
When voltage V is applied to the two pairs of electrode wire patterns in the center,
Leakage electric fields in opposite directions are generated at the left end and the right end, and the laser light has a phase distribution of π on the left side of the voltage application electrode line 10, −π on the right side, and 0 at other positions. In FIG. 1, the second
The emitted light 13 having the phase distribution shown in FIG.
And passes through lens 12 to reach screen 6. Here, g represents the distance between the electrode wire pattern and the slit 11. The lens 12 is a lens for focusing the phase distribution obtained by the electrode line pattern on the screen 6. When all the phase-modulated outgoing light 13 reaches the screen 6, the screen 6 loses the phase-modulated information and only bright lines are obtained on the screen 6. In the present embodiment, the slit 11 is used to convert the phase-modulated light pattern into a light intensity pattern on the screen 6. The slit 11 is placed at a position sufficiently distant from the width d of the electrode line pattern, that is, a position regarded as a far field. The width a of the slit 11 is set as follows. That is, the light diffracted at the electrode line pattern interval d is sufficiently blocked, and is twice the electrode line pattern interval d, that is,
The light diffracted by 2d is set to pass sufficiently. Approximately, it becomes the following formula.

ただし、ここでは、m=2である。また、γ,δは、0
から1までのある定数であつて、コントラスト比、光利
用効率等の厳密な解析で決定される。
However, here, m = 2. Further, γ and δ are 0
It is a constant from 1 to 1 and is determined by strict analysis of the contrast ratio, light utilization efficiency, and the like.

このようにしてスリツト11が設定されると、第2図
(c)に示すように、スクリーン6上では“1010"の光
パターンが形成される。つまり、洩れ電界のある電極線
10の間隔を通過する光は、パターンの間隔dで回折する
ため、スリツト11で遮断されてしまい、一方洩れ電界の
ない電極線10の間隔を通過する光は、パターン間隔dの
2倍で回折するため、スリツト11を十分に通過する。し
たがつて、スクリーン6上では、情報の“1"は明るい
点、“0"は暗い点となる。
When the slit 11 is set in this way, a light pattern of "1010" is formed on the screen 6, as shown in FIG. 2 (c). That is, the electrode wire with the leakage electric field
Light passing through the interval of 10 is diffracted at the interval d of the pattern, and is blocked by the slit 11. On the other hand, light passing through the interval of the electrode wire 10 having no leakage electric field is diffracted at twice the pattern interval d. To pass the slit 11 sufficiently. Therefore, on the screen 6, the information "1" is a bright point and the information "0" is a dark point.

なお、第1図では、スリツト11を用いる例を示したが、
スリツト11を用いなくてもレンズ12の口径をスリツトの
幅aと同程度にすることにより、同一の効果をもたせる
ことができる。
Although FIG. 1 shows an example using the slit 11,
Even if the slit 11 is not used, the same effect can be obtained by setting the diameter of the lens 12 to be approximately the same as the width a of the slit.

第3図は、本発明の他の実施例を示す光情報発生方式の
装置斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view of an optical information generating apparatus according to another embodiment of the present invention.

第1図の実施例では、レンズ12の前にスリツト11を配置
しているが、第3図に示すように、レンズ12の焦点面に
スリツト11を配置してもよい。fをレンズの焦点距離,m
=2とすると、スリツト11の幅aの大きさは、(4)式
のかわりに次式となる。
Although the slit 11 is arranged in front of the lens 12 in the embodiment shown in FIG. 1, the slit 11 may be arranged at the focal plane of the lens 12 as shown in FIG. f is the focal length of the lens, m
= 2, the size of the width a of the slit 11 is given by the following equation instead of the equation (4).

第3図のスリツト11以外の配置および構成は、第1図の
場合と同一である。
The arrangement and configuration other than the slit 11 in FIG. 3 are the same as those in FIG.

第4図、第5図は、それぞれ本発明のさらに他の実施例
を示す電極線パターンの説明図である。
FIG. 4 and FIG. 5 are explanatory views of electrode line patterns showing still another embodiment of the present invention.

第1図、第3図では、電極線パターンの最小間隔dの2
倍を構成情報の1ビツトとしているが、第4図,第5図
においては、それぞれ電極線最小間隔dの3倍,すなわ
ちm=3,および4倍,すなわちm=4を1ビツトとする
方法を示している。
In FIGS. 1 and 3, the minimum distance d of the electrode line pattern is 2
Although double is set as one bit of the configuration information, in FIGS. 4 and 5, a method of setting three times the minimum electrode line interval d, that is, m = 3, and four times, that is, m = 4 is one bit, respectively. Is shown.

第4図の電極線パターン14は、最小間隔dの2倍の間隔
で2本の電極線の一端を短絡して構成され、多数のパタ
ーン14が間隔dをおいて配列される。
The electrode line pattern 14 of FIG. 4 is formed by short-circuiting one end of two electrode lines at an interval twice the minimum interval d, and a large number of patterns 14 are arranged at intervals d.

いま、隣接する2つの電極線パターン14に電圧Vを印加
すると、両端の電位は逆極性となり、両側の電極線パタ
ーン14との間に洩れ電界が生じるため、入射したレーザ
光15は位相変調され、その位相分布は洩れ電界の位置で
π,および−πその他の位置で0となる。π,−πの位
相をもつ光は、最小間隔dで回折するため、スリツト11
で遮断され、0の位相をもつ光は最小間隔dの3倍で回
折するため、スリツト11を通過し、スクリーン上では構
成情報“1010"となる。
Now, when a voltage V is applied to two adjacent electrode line patterns 14, the potentials at both ends have opposite polarities and a leak electric field is generated between the electrode line patterns 14 on both sides, so that the incident laser beam 15 is phase-modulated. , Its phase distribution becomes π at the position of the leakage electric field, and becomes 0 at the other positions. Light having a phase of π or −π is diffracted at the minimum distance d, so
The light having the phase of 0 which is blocked by is diffracted at three times the minimum distance d, passes through the slit 11 and becomes the configuration information "1010" on the screen.

第5図の電極線パターン17は、最小間隔dの2本の電極
線の一端を短絡した素子を、大地電位に接続された間隔
dの2本の電極線を挾み、多数組配列して構成される。
短絡素子に電圧Vを印加すると、その両側の接地電極線
との間に互に逆方向の洩れ電界が生じるため、入射レー
ザ光18はπ,−π,0に位相変調される。
In the electrode line pattern 17 of FIG. 5, a device in which two electrode lines having a minimum distance d are short-circuited at one end and two electrode lines having a distance d connected to the ground potential are sandwiched between them are arranged in a large number of sets. Composed.
When the voltage V is applied to the short-circuit element, leak electric fields in opposite directions are generated between the ground electrode lines on both sides of the short-circuit element, so that the incident laser beam 18 is phase-modulated to π, −π, 0.

第4図、第5図の場合、スリツト11の幅aは、上式
(4)のmにそれぞれ3,4を代入することにより導出で
きる。
In the case of FIGS. 4 and 5, the width a of the slit 11 can be derived by substituting 3, 4 for m in the above equation (4).

第6図は、本発明のさらに他の実施例を示す光情報発生
方式の装置斜視図であり、第7図は第6図の光学原理の
説明図である。
FIG. 6 is a perspective view of an optical information generating apparatus showing still another embodiment of the present invention, and FIG. 7 is an explanatory view of the optical principle of FIG.

第6図の実施例では、第1図の実施例で用いたスリツト
11,レンズ12のかわりに屈折率分布ロッドレンズアレイ2
0を用いている。
In the embodiment shown in FIG. 6, the slit used in the embodiment shown in FIG.
11, instead of lens 12, gradient index rod lens array 2
0 is used.

屈折率分布ロッドレンズアレイ20は、多数のフアイバ・
レンズを配列したもので、各フアイバ・レンズによりレ
ーザ光を所定の屈折率で分布させる。
The gradient index rod lens array 20 has a large number of fibers.
An array of lenses that distributes the laser light with a predetermined refractive index by each fiber lens.

第7図(a)は第1図のレンズ12を用いた場合の光学系
を示しており、レンズの半径をa/2、電極線パターンか
らレンズまでの距離をgとしたとき、レンズのNA(Nume
rical Aperture)はa/2gで与えらえる。したがつて、前
式(4)で決定されるa/gを用いてNA=a/2gのレンズを
用いればよい。これに対して、屈折率分布ロッドレンズ
アレイ20は、第7図(c)に示すように、電極線パター
ンの各部からの光を小レンズを通して合成し、位相変調
された光パターンをスクリーン6に結像する。したがつ
て、電極線パターンとスクリーン6の間の距離はきわめ
て短くてよく、光情報発生装置の小型化が可能となる。
第1図のスリツト11,レンズ12からなる光学系のNA(Num
erical Aperture)はa/2gで与えられるので、屈折率分
布ロッドレンズ20のNAは、前式(4)から導かれた次式
で決定される屈折率分布ロッドレンズを用いればよい。
FIG. 7 (a) shows an optical system in which the lens 12 of FIG. 1 is used. When the lens radius is a / 2 and the distance from the electrode line pattern to the lens is g, the lens NA (Nume
rical Aperture) is given at a / 2g. Therefore, a lens of NA = a / 2g may be used by using a / g determined by the above equation (4). On the other hand, in the gradient index rod lens array 20, as shown in FIG. 7C, the light from each part of the electrode line pattern is combined through a small lens, and the phase-modulated light pattern is displayed on the screen 6. Form an image. Therefore, the distance between the electrode line pattern and the screen 6 may be extremely short, and the optical information generator can be downsized.
NA (Num of the optical system consisting of the slit 11 and the lens 12 in FIG. 1)
ERical aperture) is given by a / 2g, the NA of the gradient index rod lens 20 may be a gradient index rod lens determined by the following equation derived from the equation (4).

なお、第1図、第6図の光情報発生装置では、第7図
(b)に示すように、レーザ光がLiNbO3結晶8の表面の
光導波路層9を通過する場合を示しているが、第10図
(b)に示したように、結晶8内部で全反射させる光学
系を用いることもできる。
The optical information generators shown in FIGS. 1 and 6 show the case where the laser light passes through the optical waveguide layer 9 on the surface of the LiNbO 3 crystal 8 as shown in FIG. 7 (b). As shown in FIG. 10 (b), it is also possible to use an optical system that totally reflects inside the crystal 8.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように、本発明によれば、遮蔽板を用いず
に光学系の開口を用い、電極線パターンで位相変調され
た光束を開口に通過させることにより情報を発生するの
で、小型の装置で、信頼度の高い光情報を発生させるこ
とができる。
As described above, according to the present invention, the information is generated by using the aperture of the optical system without using the shielding plate and passing the light flux phase-modulated by the electrode line pattern through the aperture, so that a small device Therefore, highly reliable optical information can be generated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す光情報発生方式の装置
斜視図、第2図は第1図における光情報発生動作の説明
図、第3図は本発明の他の実施例を示す光情報発生方式
の装置斜視図、第4図、第5図はそれぞれ本発明のさら
に他の実施例を示す電極線パターンの説明図、第6図は
本発明のさらに他の実施例を示す光情報発生方式の装置
斜視図、第7図は第6図の光学原理の説明図、第8図は
従来の電極線パターンを示す図、第9図は第8図の電極
線の側面図、第10図は従来の空間変調装置の平面および
側面図である。 7:レーザ光、8:LiNbO3結晶、9:光導波路層、2,10,14,1
7:電極線パターン、11:スリツト、12:レンズ、20:屈折
率分布ロッドレンズアレイ、6:スクリーン。
FIG. 1 is a perspective view of an optical information generating apparatus showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory view of the optical information generating operation in FIG. 1, and FIG. 3 is another embodiment of the present invention. FIG. 4 is a perspective view of an optical information generating apparatus, FIG. 4 is an explanatory view of an electrode line pattern showing another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a light showing another embodiment of the present invention. FIG. 7 is a perspective view of the information generating apparatus, FIG. 7 is an explanatory view of the optical principle of FIG. 6, FIG. 8 is a view showing a conventional electrode wire pattern, and FIG. 9 is a side view of the electrode wire of FIG. FIG. 10 is a plan view and a side view of a conventional spatial light modulator. 7: Laser light, 8: LiNbO 3 crystal, 9: Optical waveguide layer, 2, 10, 14, 1
7: electrode line pattern, 11: slit, 12: lens, 20: gradient index rod lens array, 6: screen.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光導波路層を有する電気光学結晶上に複数
本の電極線を、少なくともそのうちの2本を短絡させて
配置し、該各電気光学結晶の結晶表面上に水平に入射さ
れて通過する光束を、前記電極線により空間的に位相変
調し、該位相変調された光束の回折により拡げられた光
分布の一部を、光学系の開口あるいは前記光束の収束位
置に配置されたスリットによる開口で遮断し、該開口を
通過した光を結像して、前記光束の位相変調を結像光の
強度変調に変換した、前記電極線間の最小間隔の複数倍
を最小単位とする光情報を発生させることを特徴とする
光情報発生方法。
1. A plurality of electrode wires are arranged on an electro-optic crystal having an optical waveguide layer, at least two of which are short-circuited, and are horizontally incident on the crystal surface of each electro-optic crystal and pass therethrough. The light beam to be spatially phase-modulated by the electrode wire, and a part of the light distribution expanded by the diffraction of the phase-modulated light beam is provided by an aperture of an optical system or a slit arranged at the convergence position of the light beam. Optical information with a minimum unit of multiples of the minimum interval between the electrode lines, which is obtained by forming an image of the light passing through the aperture and converting the phase modulation of the light flux into the intensity modulation of the imaging light. A method for generating optical information, which comprises:
【請求項2】表面上に複数の電極線が、少なくともその
うちの2本を短絡させて配置された光導波路層を有する
電気光学結晶であって、該電気光学結晶を通過する光束
を前記電極線に印加される電圧による電気光学効果で空
間的に位相変調する電気光学結晶と、該電気光学結晶か
らの位相変調された光束を結像する光学系と、前記位相
変調された光束の回折により拡げられた光分布の一部を
遮蔽する光学系の開口あるいは前記光束の収束位置に配
置されたスリットによる開口手段とを有し、該開口手段
を通過した光により、前記光束の位相変調を結像光の強
度変調に変換した、前記電極線間の最小間隔の複数倍を
最小単位とする光情報を発生させることを特徴とする光
情報発生装置。
2. An electro-optical crystal having an optical waveguide layer in which a plurality of electrode lines are arranged by short-circuiting at least two of the electrode lines on a surface, and a light flux passing through the electro-optical crystal is passed through the electrode line. An electro-optic crystal spatially phase-modulated by an electro-optic effect due to a voltage applied to the optical system, an optical system for forming an image of a phase-modulated light beam from the electro-optic crystal, and a diffraction of the phase-modulated light beam to spread the light. The optical system has an aperture of an optical system that shields a part of the distributed light or an opening means by a slit arranged at the convergence position of the light flux, and the phase modulation of the light flux is imaged by the light passing through the opening means. An optical information generating device, which generates optical information having a minimum unit of a plurality of minimum intervals between the electrode lines, which is converted into light intensity modulation.
【請求項3】前記光学系および光学系の開口手段とし
て、屈折率分布ロッドレンズアレイを用いることを特徴
とする特許請求の範囲第2項記載の光情報発生装置。
3. An optical information generating apparatus according to claim 2, wherein a gradient index rod lens array is used as the optical system and the aperture means of the optical system.
【請求項4】前記複数の電極線は、2本ずつ端部が短絡
された電極線パターンを単位として配列されていること
を特徴とする特許請求の範囲第2項記載の光情報発生装
置。
4. The optical information generating apparatus according to claim 2, wherein the plurality of electrode lines are arranged in units of an electrode line pattern having two shorted ends.
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