Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH0746503B2 - Semiconductor memory device - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH0746503B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH0746503B2
JPH0746503B2 JP60137386A JP13738685A JPH0746503B2 JP H0746503 B2 JPH0746503 B2 JP H0746503B2 JP 60137386 A JP60137386 A JP 60137386A JP 13738685 A JP13738685 A JP 13738685A JP H0746503 B2 JPH0746503 B2 JP H0746503B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit line
level
memory cell
potential
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60137386A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS61296597A (en
Inventor
俊夫 竹島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP60137386A priority Critical patent/JPH0746503B2/en
Publication of JPS61296597A publication Critical patent/JPS61296597A/en
Publication of JPH0746503B2 publication Critical patent/JPH0746503B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体メモリ装置に関し、特にそのなかのセ
ンスアンプ回路に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a sense amplifier circuit therein.

(従来技術とその問題点) 従来からよく知られている典型的なセンスアンプ回路に
は、たとえば、日経エレクトロニクス(1979年1月8日
号、pp.110〜133)で述べられているようなものがあ
る。これは第3図に示すように、2個の電界効果トラン
ジスタ(以後簡単にトランジスタと呼ぶ)T1,T2からな
るプリチャージ回路と2個のトランジスタT3,T4からな
るフリップフロップ回路で構成されている。第3図にお
いて、B0,B1はビット線、P0はプリチャージ信号、PSは
クロック信号、CBはビット線の寄生容量をそれぞれ示
す。また、MCはメモリセルで、第4図に示すようにトラ
ンジスタT00とセル容量CSとで構成されており、wはワ
ード線を示す。また、DCはダミーセルで、第5図に示す
ようにトランジスタT10,T11とダミー容量CRとで構成さ
れており、DWはダミーワード線を示す。以下、トランジ
スタとしてNチャネルMOSFETを使用した場合を例に、従
来のセンスアンプ回路の動作について説明する。
(Prior Art and Problems Thereof) A typical well-known sense amplifier circuit is described in, for example, Nikkei Electronics (Jan. 8, 1979, pp.110-133). There is something. As shown in FIG. 3, this is composed of a precharge circuit composed of two field effect transistors (hereinafter simply referred to as transistors) T1 and T2 and a flip-flop circuit composed of two transistors T3 and T4. . In FIG. 3, B0 and B1 are bit lines, P0 is a precharge signal, PS is a clock signal, and CB is a parasitic capacitance of the bit line. Further, MC is a memory cell, which is composed of a transistor T00 and a cell capacitance CS as shown in FIG. 4, and w is a word line. Further, DC is a dummy cell, which is composed of transistors T10 and T11 and a dummy capacitor CR as shown in FIG. 5, and DW is a dummy word line. The operation of the conventional sense amplifier circuit will be described below by taking the case of using an N-channel MOSFET as a transistor as an example.

まず、プリチャージ信号P0を高レベルにしてビット線B
0,B1を電源電位VDに、ダミーセルDC内の節点NRを基準電
位に設定する。
First, set the precharge signal P0 to high level and set the bit line B
0 and B1 are set to the power supply potential VD, and the node NR in the dummy cell DC is set to the reference potential.

さらに、クロック信号PSは微少信号のセンス、アンプ動
作を受け持つフリップフロップ回路を構成するトランジ
スタT3,T4を非導通状態にする為に高レベルとする。次
に、プリチャージ信号P0を低レベルにしてビット線B0,B
1及び節点NRを浮遊状態にした後、ワード線Wとダミー
ワード線DWを高レベルにするとトランジスタT00,T10が
導通状態になり、ビット線B0,B1にメモリセルMCとダミ
ーセルDCから信号が読み出される。この時、基準電位に
設定されていた節点NRと電源電位VDに設定されていたビ
ット線B1との間で電荷の分配が行われ、当該ビット線B1
の電位はVDからVD/(1+CR/CB)だけ変化する。同様
に、もしメモリセルMCの節点NSが基準電位であればビッ
ト線B0の電位はVDからVD/(1+CS/CB)だけ変化する
が、節点NSが電源電位VDであればメモリセルMCが選択さ
れてもビット線B0の電位はVDに保たれ変化しない。ここ
で、通常ダミー容量CRは、VD/(1+CR/CB)がVDとVD/
(1+CS/CB)の中間電位になるように設計される。ま
たセル容量CS、ダミー容量CRはビット線の寄生容量CBに
比べて非常に小さい為、ビット線B0,B1間に生じる電位
差は数百mV以下の微少電位差となる。この微少なビット
線B0,B1上の電位差を増幅するのがセンスアンプ回路で
ある。
Further, the clock signal PS is set to a high level in order to bring the transistors T3 and T4 forming the flip-flop circuit responsible for sensing and amplifying the minute signal into the non-conducting state. Next, the precharge signal P0 is set to low level and the bit lines B0, B
When the word line W and the dummy word line DW are set to the high level after the 1 and the node NR are set in the floating state, the transistors T00 and T10 become conductive, and the signals are read from the memory cells MC and the dummy cells DC to the bit lines B0 and B1. Be done. At this time, charge is distributed between the node NR set to the reference potential and the bit line B1 set to the power supply potential VD, and the bit line B1
Potential changes from VD to VD / (1 + CR / CB). Similarly, if the node NS of the memory cell MC is the reference potential, the potential of the bit line B0 changes from VD by VD / (1 + CS / CB), but if the node NS is the power supply potential VD, the memory cell MC is selected. Even if it is done, the potential of the bit line B0 is kept at VD and does not change. Here, in the normal dummy capacitor CR, VD / (1 + CR / CB) is VD and VD /
It is designed to have an intermediate potential of (1 + CS / CB). Further, since the cell capacitance CS and the dummy capacitance CR are much smaller than the parasitic capacitance CB of the bit line, the potential difference generated between the bit lines B0 and B1 is a minute potential difference of several hundred mV or less. A sense amplifier circuit amplifies the minute potential difference on the bit lines B0 and B1.

このように、ビット線B0,B1上に微少電位差が与えられ
た後にクロック信号PSを低レベルにすると、ビット線B
0,B1のより低い方の電位がますます低電位になるように
トランジスタT3,T4の一方を通してビット線上の電荷が
放電され、ビット線B0,B1間の微少電位差は拡大して大
振幅信号となる。たとえば、メモリセルMCの内部節点NS
の電位が電源電位VDであったとすると、ビット線B0はVD
に、ビット線B1は基準電位(0V)に保たれる。しかし、
実際にはビット線B0に接続されたトランジスタT3も動作
時に瞬時の間導通状態となる為、トランジスタT3を通し
て若干の電荷の放電が起こる。また、フリップフロップ
部のトランジスタT3,T4を介したビット線B0,B1間でのカ
ップリングにより、高電位側のビット線B0の電位はプリ
チャージ電位であるVDよりも低い電位となる。この為
に、メモリセルへの信号の再書込み時の電圧レベルが不
足し、動作マージンの低下や誤動作を引き起こす原因と
なっている。
As described above, when the clock signal PS is set to the low level after the minute potential difference is applied to the bit lines B0 and B1, the bit line B0
The charge on the bit line is discharged through one of the transistors T3 and T4 so that the lower potential of 0 and B1 becomes lower and lower, and the minute potential difference between the bit lines B0 and B1 expands to a large amplitude signal. Become. For example, the internal node NS of the memory cell MC
Assuming that the potential of the power source potential is VD, the bit line B0
In addition, the bit line B1 is kept at the reference potential (0V). But,
Actually, the transistor T3 connected to the bit line B0 also becomes conductive for a moment during operation, so that some electric charge is discharged through the transistor T3. Further, due to the coupling between the bit lines B0 and B1 via the transistors T3 and T4 in the flip-flop section, the potential of the bit line B0 on the high potential side becomes lower than VD which is the precharge potential. For this reason, the voltage level at the time of rewriting the signal to the memory cell becomes insufficient, which causes a decrease in the operation margin and a malfunction.

また、上記欠点を補う為の工夫を施した第6図に示すよ
うな回路方式も考えられている(特開昭59−132492号公
報(特願昭58−006002号)の従来例に記述されてい
る)。この方式はビット線B0,B1と昇圧用の結合容量CC
との間にトランジスタT5,T6を挿入し、そのトランジス
タT5,T6の導通、非導通をクロック信号P2で制御する事
により、メモリセルMCからビット線上にその内部情報を
読み出してセンスアンプ回路で増幅するまでの間、ビッ
ト線B0,B1から結合容量CCを切り離すものである。
Further, a circuit system as shown in FIG. 6 which is devised to compensate for the above-mentioned drawbacks is also considered (described in the conventional example of Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-132492 (Japanese Patent Application No. 58-006002)). ing). This method uses bit line B0, B1 and coupling capacitor CC for boosting.
By inserting transistors T5 and T6 between the two, and controlling the conduction / non-conduction of the transistors T5 and T6 by the clock signal P2, the internal information is read from the memory cell MC onto the bit line and amplified by the sense amplifier circuit. Until then, the coupling capacitance CC is separated from the bit lines B0 and B1.

第7図にその動作波形を示す。FIG. 7 shows the operation waveform.

第7図に示すように、ワード線Wとダミーワード線DWを
高レベルにする前(時刻t1)にクロック信号P2を低レベ
ルにしてトランジスタT5,T6を非導通とし、結合容量CC
をビット線B0,B1から切り離す。そして、ビット線上に
読み出された微少信号が大振幅された後(時刻t2)、再
びクロック信号P2を高レベルにして結合容量CCをビット
線B0,B1と接続し、さらにクロック信号P1を低レベルか
ら高レベルとする事でビット線B0,B1のレベルを昇圧し
てメモリセルへの再書込みを行う。
As shown in FIG. 7, before the word line W and the dummy word line DW are set to the high level (time t1), the clock signal P2 is set to the low level to make the transistors T5 and T6 non-conductive, and the coupling capacitance CC
Is disconnected from the bit lines B0 and B1. Then, after the small signal read out on the bit line has a large amplitude (time t2), the clock signal P2 is set to the high level again to connect the coupling capacitance CC to the bit lines B0 and B1, and further lower the clock signal P1. By changing the level from the high level, the levels of the bit lines B0 and B1 are boosted and rewriting to the memory cell is performed.

このときに得られるビット線のレベル昇圧分△Vはクロ
ック信号P1のレベル振幅をV1、ビット線容量をCB、セル
容量をCSとすると、 となる。ただし、この為には時刻t2のビット線レベルを
VB、トランジスタT5,T6の閾値電圧をVTとしたときに、
クロック信号P2の高レベル電位V2として(VB+△V+V
T)以上のレベルが必要である。これは、ビット線のレ
ベルが(V2−VT)で制限されるようになる為である。
If the level amplitude of the clock signal P1 is V1, the bit line capacity is CB, and the cell capacity is CS, the boosted level ΔV of the bit line obtained at this time is Becomes However, for this purpose, change the bit line level at time t2
When VT is the threshold voltage of VB and transistors T5 and T6,
As the high level potential V2 of the clock signal P2 (VB + ΔV + V
Level T or higher is required. This is because the bit line level is limited by (V2-VT).

このように第6図に示した第2の従来例では、メモリセ
ルからの情報読出し時に結合容量CCをビット線から分離
でき、またビット線のレベル昇圧も可能であるが、ビッ
ト線の最終レベルがクロック信号P2の高レベル電位V2で
制限を受けるという欠点があり、このレベルV2を(VB+
△V+VT)以上にしなければ結合容量CCを介したクロッ
ク信号P1のカップリングによるレベル昇圧が充分に行え
ないという重大な欠点があった。
As described above, in the second conventional example shown in FIG. 6, the coupling capacitance CC can be separated from the bit line when the information is read from the memory cell, and the level of the bit line can be boosted. Is limited by the high level potential V2 of the clock signal P2, and this level V2 is (VB +
There is a serious drawback that level boosting by coupling of the clock signal P1 via the coupling capacitance CC cannot be sufficiently performed unless it is equal to or more than ΔV + VT).

(発明の目的) 本発明の目的は、前述した従来例の欠点を解決する事に
あり、メモリセル情報読出し時のビット線上の容量を大
きくする事なしに、メモリセルへの再書込み時のビット
線の電圧レベルの落込みを補い、さらにその為の制御信
号に上記第2の従来例に示したクロック信号P2の高レベ
ルのような特別な制約を設けなくてもよい半導体メモリ
装置を提供する事にある。
(Object of the Invention) An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the conventional example, and it is possible to rewrite the bit in the memory cell without increasing the capacitance on the bit line when reading the memory cell information. Provided is a semiconductor memory device which compensates for a drop in the voltage level of a line and does not require a special constraint such as the high level of the clock signal P2 shown in the second conventional example in the control signal therefor. There is a thing.

(発明の構成) 本発明は、行をなすビット線と、列をなすワード線と、
前記ワード線により選択されて前記ビット線との間で情
報の出し入れを行うメモリセルと前記ビット線が入出力
信号線となるセンスアンプと、一方の電極が前記ビット
線に接続された結合容量と、当該結合容量の他方の電極
にソース電極が接続されドレイン電極には第1の信号線
が接続されゲート電極には第2の信号線が接続された電
界効果トランジスタとを備え、当該電界効果トランジス
タを前記ビット線充電時に導通状態、前記メモリセルか
らの情報読出し動作時に非導通状態、前記メモリセルへ
の情報再書込み動作時に再び導通状態とし、前記第1の
信号線をこの情報再書込み動作時に第1のレベルから第
2のレベルに変位させ、さらにこの情報再書込み動作終
了後に再び前記第1のレベルとすることを特徴とする半
導体メモリ装置である。
(Structure of the Invention) The present invention relates to bit lines forming rows, word lines forming columns, and
A memory cell selected by the word line to transfer information to and from the bit line, a sense amplifier having the bit line as an input / output signal line, and a coupling capacitor having one electrode connected to the bit line. A field effect transistor having a source electrode connected to the other electrode of the coupling capacitance, a first signal line connected to the drain electrode, and a second signal line connected to the gate electrode. Is turned on when the bit line is charged, turned off when information is read from the memory cell, and turned on again when information is rewritten to the memory cell, and the first signal line is turned on during this information rewriting operation. A semiconductor memory device characterized in that it is displaced from a first level to a second level, and is set to the first level again after completion of this information rewriting operation. That.

(実施例) 第1図は本発明の一実施例を示すセンスアンプ回路の回
路図で、第3図及び第6図の従来例と同等な部分には説
明の都合上同じ記号を用いている。この第1図が前述の
従来例、第3図及び第6図と異なるのは、クロック信号
P2でその導通状態が制御されるトランジスタT5,T6を通
してクロック信号P1をそれぞれの結合容量CCに印加する
ようにした所である。トランジスタはすべてnチャネル
MOSトランジスタである。
(Embodiment) FIG. 1 is a circuit diagram of a sense amplifier circuit showing an embodiment of the present invention, and the same reference numerals are used for the same portions as those of the conventional example of FIGS. 3 and 6 for convenience of explanation. . The difference between FIG. 1 and the above-mentioned conventional example, FIG. 3 and FIG.
The clock signal P1 is applied to each coupling capacitance CC through the transistors T5 and T6 whose conduction state is controlled by P2. All transistors are n-channel
It is a MOS transistor.

次に実施例の動作について説明する。第2図は本実施例
の動作を説明する為の各信号のタイミング図である。
Next, the operation of the embodiment will be described. FIG. 2 is a timing chart of each signal for explaining the operation of this embodiment.

まず、プリチャージ信号P0とクロック信号P2,PSを高レ
ベル、クロック信号P1を第1のレベルつまり低レベルに
してビット線B0,B1及び結合容量CCをプリチャージ用ト
ランジスタT1,T2により電源電位VD、トランジスタT5,T6
により節点N1,N2を低レベルに充電する。次に、プリチ
ャージ信号P0とクロック信号P2を低レベルにしてビット
線B0,B1を電源から分離し、浮遊状態とすると同時に、
結合容量CCのトランジスタT5,T6との接続点N1,N2も浮遊
状態とする。その後、前述した従来例と同様に、ワード
線Wとダミーワード線DWを低レベルから高レベルにし
て、メモリセルMCとダミーセルDCからビット線B0,B1上
に微少電位差を読み出し、そしてクロック信号PSを低レ
ベルにしてセンスアンプ回路(フリップフロップ回路)
を動作させ、その微少電位差を大振幅信号まで増幅す
る。この間、クロック信号P1,P2は低レベルに保ってお
く。次に、センスアンプ回路が充分に動作し終えた時点
で、まずクロック信号P2を高レベルにしてトランジスタ
T5,T6と導通状態とし、そしてクロック信号P1を第1の
レベルである低レベルから第2のレベルである高レベル
にする。この結果、結合容量CCを介して浮遊状態となっ
ている高電位側のビット線の電位が昇圧される。
First, the precharge signal P0 and the clock signals P2 and PS are set to the high level, and the clock signal P1 is set to the first level, that is, the low level to set the bit lines B0 and B1 and the coupling capacitance CC to the power supply potential VD by the precharge transistors T1 and T2. , Transistors T5, T6
Charges nodes N1 and N2 to a low level. Next, the precharge signal P0 and the clock signal P2 are set to the low level to separate the bit lines B0 and B1 from the power supply to bring them into a floating state, and at the same time,
The connection points N1 and N2 of the coupling capacitance CC with the transistors T5 and T6 are also in a floating state. After that, as in the conventional example described above, the word line W and the dummy word line DW are changed from the low level to the high level, the minute potential difference is read from the memory cell MC and the dummy cell DC onto the bit lines B0 and B1, and the clock signal PS To low level and sense amplifier circuit (flip-flop circuit)
To amplify the minute potential difference to a large amplitude signal. During this period, the clock signals P1 and P2 are kept at low level. Next, when the sense amplifier circuit has finished operating sufficiently, first the clock signal P2 is set to high level and the transistor
The clock signal P1 is brought into conduction with T5 and T6, and the clock signal P1 is changed from the low level which is the first level to the high level which is the second level. As a result, the potential of the floating bit line on the high potential side is boosted via the coupling capacitance CC.

このビット線レベルの昇圧分△Vは節点N1,N2のレベル
振幅をVCとすると、 となる。このように、レベル昇圧分△VはVCに比例す
る。また、VCはクロック信号P1の高レベル電位V10とク
ロック信号P2の高レベル電位V20で制限を受ける。すな
わち、 V20>V10+VT ……(3) の場合は、クロック信号P1が高レベルのときでもトラン
ジスタT5,T6は導通状態を保つので節点N1,N2のレベル振
幅VCはクロック信号P1のレベル振幅V1と等しくなる。し
かし、 V20<V10+VT ………(4) の場合には、クロック信号P1が高レベルになるとトラン
ジスタT5,T6が非導通状態となり、節点N1,N2のレベル振
幅VCがその分小さくなる。すなわち、クロック信号P1の
低レベル電位を接地電位とすると、 VC=V1−{V10−(V20−VT)} =V20−VT ………(5) となるが、V20>VTとする事で節点N1,N2のレベル振幅を
得る事ができ、このVCの減少分は式(2)からもわかる
ように、結合容量CCを大きくして補う事ができる。この
為に、従来のようにクロック信号P2の高レベルを(VB+
△V+VT)以上にしなければならないというような制約
は受けない。しかも、センスアンプ動作時のビット線B
0,B1につく容量を増大させる事もない。なぜならば、こ
の時の結合容量CCのトランジスタT5,T6と接続されてい
る側の電極(節点N1,N2)は浮遊状態となっており、そ
の為にビット線B0,B1から見える結合容量CCの大きさが
非常に小さく、無視できる程度になるからである。
The boosted amount ΔV of the bit line level is VC, where VC is the level amplitude of the nodes N1 and N2. Becomes Thus, the level boosted amount ΔV is proportional to VC. Further, VC is limited by the high level potential V10 of the clock signal P1 and the high level potential V20 of the clock signal P2. That is, in the case of V20> V10 + VT (3), the transistors T5 and T6 maintain the conductive state even when the clock signal P1 is at a high level, so the level amplitude VC of the nodes N1 and N2 is equal to the level amplitude V1 of the clock signal P1. Will be equal. However, in the case of V20 <V10 + VT (4), when the clock signal P1 goes high, the transistors T5 and T6 become non-conductive, and the level amplitude VC of the nodes N1 and N2 becomes smaller accordingly. That is, assuming that the low-level potential of the clock signal P1 is the ground potential, VC = V1− {V10− (V20−VT)} = V20−VT (5), but by setting V20> VT The level amplitudes of N1 and N2 can be obtained, and this decrease in VC can be compensated by increasing the coupling capacitance CC, as can be seen from equation (2). For this reason, the high level of the clock signal P2 is (VB +
There is no restriction that it must be above (V + VT). Moreover, bit line B when the sense amplifier is operating
It does not increase the capacity of 0 and B1. Because the electrodes (nodes N1, N2) of the coupling capacitance CC at this time, which are connected to the transistors T5, T6, are in a floating state, and therefore the coupling capacitance CC of the coupling capacitance CC seen from the bit lines B0, B1 is This is because the size is very small and can be ignored.

このような昇圧後のビット線電位(VB+△V)をメモリ
セル内部へ再書込みする為にはワード線Wの高レベルを
(VB+△V+VT)以上にする事が必要である。
In order to rewrite the boosted bit line potential (VB + ΔV) into the memory cell, it is necessary to set the high level of the word line W to (VB + ΔV + VT) or higher.

さらに、本発明はここで説明に用いたNチャネルMOSFET
に限られるものではなく、pチャネルMOSFET及び他のど
のような形式のトランジスタでも本質的に同様に適用し
得るものである。
Further, the present invention is directed to the N-channel MOSFET used in the description herein.
However, p-channel MOSFETs and any other type of transistors are essentially applicable as well.

(発明の効果) 以上のように、本発明によれば、ビット線上の容量を大
きくする事なく再書込み時のビット線の電圧レベルの低
下を補償できるので、半導体メモリ装置の安定した動作
が可能となる。
(Effect of the Invention) As described above, according to the present invention, it is possible to compensate for the decrease in the voltage level of the bit line at the time of rewriting without increasing the capacitance on the bit line, so that stable operation of the semiconductor memory device is possible. Becomes

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示すセンスアンプ回路図、
第2図は第1図に示す回路における各信号のタイミング
図、第3図、第6図は従来例を示すセンスアンプ回路
図、第4図はメモリセルの回路図、第5図はダミーセル
の回路図、第7図は第6図に示す回路における各信号の
タイミング図である。 図において、MCはメモリセル、DCはダミーセル、B0,B1
はビット線、Wはワード線、DWはダミーワード線、CBは
ビット線につく寄生容量、CCは結合容量、CSはセル容
量、CRはダミー容量、T1〜T6,T00,T10,T11はMOSFET、P0
はプリチャージ信号、P1,P2,PSはクロック信号をそれぞ
れ示す。
FIG. 1 is a sense amplifier circuit diagram showing an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a timing chart of each signal in the circuit shown in FIG. 1, FIGS. 3 and 6 are conventional sense amplifier circuit diagrams, FIG. 4 is a memory cell circuit diagram, and FIG. 5 is a dummy cell circuit. A circuit diagram, FIG. 7 is a timing diagram of each signal in the circuit shown in FIG. In the figure, MC is a memory cell, DC is a dummy cell, B0, B1
Is a bit line, W is a word line, DW is a dummy word line, CB is a parasitic capacitance attached to a bit line, CC is a coupling capacitance, CS is a cell capacitance, CR is a dummy capacitance, T1 to T6, T00, T10, T11 are MOSFETs. , P0
Indicates a precharge signal, and P1, P2, and PS indicate clock signals.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】行をなすビット線と、列をなすワード線
と、前記ワード線により選択されて前記ビット線との間
で情報の出し入れを行うメモリセルと、前記ビット線が
入出力信号線となるセンスアンプと、一方の電極が前記
ビット線に接続された結合容量と、当該結合容量の他方
の電極にソース電極が接続されドレイン電極には第1の
信号線が接続されゲート電極には第2の信号線が接続さ
れた電界効果トランジスタとを備え、当該電界効果トラ
ンジスタを前記ビット線充電時に導通状態、前記メモリ
セルからの情報読み出し動作時に非導通状態、前記メモ
リセルへの情報再書込み動作時に再び導通状態とし、前
記第1の信号線をこの情報再書込み動作時に第1のレベ
ルから第2のレベルに変位させ、さらにこの情報再書込
み動作終了後に再び前記第1のレベルとすることを特徴
とする半導体メモリ装置。
1. A bit line forming a row, a word line forming a column, a memory cell selected by the word line for transferring information in and out of the bit line, and the bit line being an input / output signal line. , A coupling capacitor having one electrode connected to the bit line, a source electrode connected to the other electrode of the coupling capacitor, a first signal line connected to the drain electrode, and a gate electrode connected to the gate electrode. A field effect transistor to which a second signal line is connected, the field effect transistor being conductive when the bit line is charged, non-conductive when information is read from the memory cell, and rewriting information to the memory cell. At the time of operation, it is brought into a conducting state again, the first signal line is displaced from the first level to the second level at the time of this information rewriting operation, and again after this information rewriting operation is completed. The semiconductor memory device which is characterized in that the serial first level.
JP60137386A 1985-06-24 1985-06-24 Semiconductor memory device Expired - Lifetime JPH0746503B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60137386A JPH0746503B2 (en) 1985-06-24 1985-06-24 Semiconductor memory device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60137386A JPH0746503B2 (en) 1985-06-24 1985-06-24 Semiconductor memory device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61296597A JPS61296597A (en) 1986-12-27
JPH0746503B2 true JPH0746503B2 (en) 1995-05-17

Family

ID=15197472

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60137386A Expired - Lifetime JPH0746503B2 (en) 1985-06-24 1985-06-24 Semiconductor memory device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0746503B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10199112B1 (en) * 2017-08-25 2019-02-05 Silicon Storage Technology, Inc. Sense amplifier circuit for reading data in a flash memory cell

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5823386A (en) * 1981-07-31 1983-02-12 Toshiba Corp Mos dynamic memory
JPS59132494A (en) * 1983-01-18 1984-07-30 Nec Corp Sense amplifier circuit of bit line

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61296597A (en) 1986-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4858195A (en) Bit line charge sensing apparatus having CMOS threshold voltage compensation
US4475178A (en) Semiconductor regeneration/precharge device
US5132932A (en) Dynamic random access memory having a plurality of rated voltages as operation supply voltage and operating method thereof
US4947376A (en) Charge-transfer sense amplifier for dram and operating method therefor
JPS6355796A (en) Cmos sensing amplification circuit
US4039861A (en) Cross-coupled charge transfer sense amplifier circuits
KR930010937B1 (en) Semiconductor memory device having cell-plate voltage generating mean
US4788664A (en) Word line drive circuit
KR910000967B1 (en) Field plate sensing memory cell array with improved sensing signal difference
JPS5922316B2 (en) dynamic memory device
US4336465A (en) Reset circuit
EP0035408A2 (en) Circuit for maintaining the potential of a node of a MOS dynamic circuit
JP3786977B2 (en) Semiconductor memory device using low power supply voltage
EP0662689B1 (en) Semiconductor memory device
EP0040001A2 (en) A dynamic semiconductor memory device with decreased clocks
JPS6282597A (en) Semiconductor storage device
EP0061271B1 (en) Mos dynamic memory device
US6249462B1 (en) Data output circuit that can drive output data speedily and semiconductor memory device including such a data output circuit
JPH0935476A (en) Semiconductor memory device having variable plate voltage generation circuit
JPH0746503B2 (en) Semiconductor memory device
KR100253305B1 (en) Control method of semiconductor memory cell
JPS5947388B2 (en) Width increase circuit
JPH0217872B2 (en)
KR100317101B1 (en) Semiconductor circuit with circuitry that supplies voltage higher than the supply voltage
KR100191466B1 (en) Sense Amplifier Circuit of DRAM Device