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JPH0746580B2 - Image forming device - Google Patents
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JPH0746580B2 - Image forming device - Google Patents

Image forming device

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JPH0746580B2
JPH0746580B2 JP13822586A JP13822586A JPH0746580B2 JP H0746580 B2 JPH0746580 B2 JP H0746580B2 JP 13822586 A JP13822586 A JP 13822586A JP 13822586 A JP13822586 A JP 13822586A JP H0746580 B2 JPH0746580 B2 JP H0746580B2
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electron beam
image forming
image
forming apparatus
image data
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電子線を用いた画像形成装置に関し、更に詳
しくは、複数の電子ビーム発生部を具備する電子ビーム
発生装置を用いた画像形成装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image forming apparatus using an electron beam, and more specifically, image forming using an electron beam generating apparatus having a plurality of electron beam generating units. Regarding the device.

[従来の技術] 近年、例えば特公昭54−30274号、特開昭54−111272号
(米国特許第4259678号と対応)、同56−15529号(米国
特許第4303930号と対応)、特開昭57−38528号等に示さ
れるように、所謂冷陰極を用いた電子ビーム発生装置が
開発されている。
[Prior Art] In recent years, for example, Japanese Examined Patent Publication No. 54-30274, Japanese Unexamined Patent Publication No. 54-111272 (corresponding to U.S. Pat. No. 4259678), No. 56-15529 (corresponding to U.S. Pat. No. 4303930), As shown in No. 57-38528, an electron beam generator using a so-called cold cathode has been developed.

上記電子ビーム発生装置における冷陰極は、現在電子ビ
ーム発生装置に最も一般的に用いられている熱陰極が、
耐久性上の問題から、電子放出面の面積を小さくするの
に大きな制約を受けるのに対し、このような制約をほと
んど受けない利点がある。また、熱陰極は、複数個を、
均一な特性を持たせて高い位置精度で配列するのが困難
であるのに対し、冷陰極は、フォトリソグラフィーや電
子線リソグリフィーといった製造プロセスで形成するこ
とにより、複数個を、均一な特性を持たせて高い位置精
度で配列できる利点がある。従って、かかる技術又はそ
の類似技術によれば、多数の電子ビーム発生部を具備す
る電子ビーム発生装置を得ることが可能で、表示装置を
はじめとする各種の画像形成装置への応用が期待されて
いる。
The cold cathode in the electron beam generator is a hot cathode most commonly used in the electron beam generator at present,
Due to the problem of durability, there is a great restriction to reduce the area of the electron emission surface, but there is an advantage that such restriction is scarcely applied. In addition, the hot cathode is
While it is difficult to arrange with uniform characteristics with high positional accuracy, cold cathodes are formed by a manufacturing process such as photolithography or electron beam lithography, so that multiple cold cathodes can have uniform characteristics. It has the advantage that it can be arranged and arranged with high positional accuracy. Therefore, according to such a technique or a technique similar thereto, it is possible to obtain an electron beam generator having a large number of electron beam generators, and it is expected to be applied to various image forming apparatuses including a display device. There is.

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、上記複数の電子ビーム発生部を具備する
電子ビーム発生装置は、まだアイデア段階で、その実現
はされていないために、かかる電子ビーム発生装置を用
いてどのようにして画像を形成するかについては具体的
な提案がなされていない。
[Problems to be Solved by the Invention] However, since the electron beam generator including the plurality of electron beam generators has not yet been realized at the idea stage, the electron beam generator is used. No specific proposal has been made as to how to form an image.

本発明は、かかる現状に鑑みてなされたもので、複数の
電子ビーム発生部を具備する電子ビーム発生装置によっ
て画像形成を行う画像形成装置を提供することを目的と
する。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an image forming apparatus that forms an image by an electron beam generator including a plurality of electron beam generators.

[問題点を解決するための手段] 本発明は、形成すべき画像の全幅に対する長さにわたっ
て配列された複数の冷陰極電子源を具備する電子ビーム
発生装置を有する画像形成装置において、 変更可能なパルス幅を持つ駆動許可信号が入力される入
力端子を各々が備え、前記入力端子が互いに短絡されて
おり、前記駆動許可信号のパルスがオンの間に限り画像
データを出力する複数の画像データ出力手段と、 複数の冷陰極電子源の各々を前記画像データに基づいて
駆動する複数の駆動手段と、 を有することを特徴とする画像形成装置である。
[Means for Solving the Problems] The present invention can be modified in an image forming apparatus having an electron beam generator including a plurality of cold cathode electron sources arranged over the entire width of an image to be formed. A plurality of image data outputs each having an input terminal for inputting a drive permission signal having a pulse width, the input terminals being short-circuited to each other, and outputting image data only while the pulse of the drive permission signal is ON. An image forming apparatus comprising: a means and a plurality of driving means for driving each of the plurality of cold cathode electron sources based on the image data.

尚、本発明において形成すべき画像の幅とは、画像の横
幅又は縦幅をいう。
The width of the image to be formed in the present invention refers to the width or length of the image.

本発明を、本発明の一実施例に対応する第1,2図で具体
的に説明する。本実施例は、形成すべき画像の全幅に対
応する長さに亘って配列された複数の冷陰極電子源から
なる電子ビーム発生部1を具備する電子ビーム発生装置
2と、この電子ビーム発生装置2から出射される電子ビ
ーム群を、前記画像の幅方向と直交する方向に偏向させ
得る偏向手段3を有する画像形成装置である。第2図は
上記電子ビーム発生装置2の駆動回路の一例であり、画
像データDATAはシフトレジスタ5、Dフリップフロップ
6、NANDゲート7を介してトランジス8のベースへ出力
され、該出力レベルによって、駆動電圧HVが抵抗9を介
して個々の電子ビーム発生部1に供給される。
The present invention will be specifically described with reference to FIGS. 1 and 2 corresponding to one embodiment of the present invention. In this embodiment, an electron beam generator 2 having an electron beam generator 1 composed of a plurality of cold cathode electron sources arranged over a length corresponding to the entire width of an image to be formed, and this electron beam generator. 2 is an image forming apparatus having a deflecting unit 3 capable of deflecting the electron beam group emitted from the optical beam group 2 in a direction orthogonal to the width direction of the image. FIG. 2 shows an example of a drive circuit for the electron beam generator 2 described above. The image data DATA is output to the base of the transistor 8 via the shift register 5, the D flip-flop 6 and the NAND gate 7, and depending on the output level, The drive voltage HV is supplied to each electron beam generator 1 via the resistor 9.

[作用] 電子ビーム発生装置2は、形成すべき画像の全幅に対応
する長さに亘って配列された複数の電子ビーム発生部1
を具備しているので、一群の電子ビームを出射すること
によって、電子ビームが照射されることによって画像を
形成する被照射部材4上の全画像幅に亘る一定領域に一
度に電子ビームを照射することができる。また、NANDゲ
ートに入力される駆動許可信号、即ちアウトプットイネ
ーブル信号OEのパルス幅を変えることにより、1画素あ
たりの電子ビームの照射量を簡単に変えることができ
る。一方、上記電子ビーム群を偏向手段3によって上記
画像の幅方向と直交する方向に偏向させることができる
ので、被照射部材4上の画像形成領域全体を、上記一定
領域毎に重複させることなく電子ビーム群で照射走査す
れば、これによって任意の画像を形成することができ
る。
[Operation] The electron beam generator 2 has a plurality of electron beam generators 1 arranged over a length corresponding to the entire width of an image to be formed.
By irradiating a group of electron beams, the electron beams are irradiated with the electron beams at one time to a certain area over the entire image width on the irradiated member 4 that forms an image by the irradiation of the electron beams. be able to. Further, the irradiation amount of the electron beam per pixel can be easily changed by changing the pulse width of the drive enable signal input to the NAND gate, that is, the output enable signal OE. On the other hand, since the electron beam group can be deflected by the deflecting means 3 in a direction orthogonal to the width direction of the image, the entire image forming area on the irradiated member 4 is not overlapped by the constant area. By irradiating and scanning with the beam group, an arbitrary image can be formed by this.

[実施例] 第1図に示されるように、電子ビーム発生装置2と被照
射部材4とが相対峙して設けられており、この両者間に
は偏向手段3が配置されている。
[Embodiment] As shown in FIG. 1, an electron beam generator 2 and a member to be irradiated 4 are provided to face each other, and a deflecting means 3 is arranged between them.

電子ビーム発生装置2は、例えば同一基板上に複数の陰
極を配列することにより、一体に設けられた複数の電子
ビーム発生部1を具備している。電子ビーム発生部1を
形成する陰極としては、冷陰極が最適である。冷陰極
は、極めて高い位置精度で、しかも微細なピッチで配列
することが可能であり、後述する一方向のみの走査と相
俟って、極めて高精細で歪の少ない高品位の画像を形成
することができる。また、本実施例における電子ビーム
発生部1は、各々独立して駆動可能で、被照射部材3上
に形成すべき画像の全幅に対応する長さに亘って一次元
配列されている。ここで一次元配列とは、縦又は横に一
列に配列されていることをいう。
The electron beam generator 2 includes a plurality of electron beam generators 1 which are integrally provided by arranging a plurality of cathodes on the same substrate, for example. A cold cathode is most suitable as the cathode forming the electron beam generator 1. The cold cathodes can be arranged with extremely high positional accuracy and at a fine pitch, and in combination with scanning in only one direction, which will be described later, form an extremely high-definition, high-quality image with little distortion. be able to. Further, the electron beam generators 1 in this embodiment can be independently driven and are one-dimensionally arrayed over a length corresponding to the entire width of an image to be formed on the irradiated member 3. Here, the one-dimensional array means that the cells are arranged vertically or horizontally in one line.

本実施例における偏向手段3は、上下一対の平板電極3
a,3bによって構成されている。平板電極3a,3bは、電子
ビーム発生部1から発せられる全ビームの軌道を間に挟
んで、平行に相対向して配置されている。平板電極3a,3
b間には、可変電圧源(図示されていない)から、所要
の電圧を印加できるようになっている。尚、偏向手段3
としては、上記平板電極3a,3bの他、電磁コイル等を用
いることができる。
The deflecting means 3 in this embodiment is composed of a pair of upper and lower plate electrodes 3
It is composed of a and 3b. The plate electrodes 3a and 3b are arranged in parallel and opposite to each other with the orbits of all the beams emitted from the electron beam generator 1 interposed therebetween. Flat plate electrodes 3a, 3
A required voltage can be applied between b through a variable voltage source (not shown). The deflection means 3
In addition to the flat plate electrodes 3a and 3b, an electromagnetic coil or the like can be used as.

被照射部材4は電子ビームの照射によって、固定画像又
は可変画像を形成するものである。具体的には、本画像
形成装置を表示装置として用いる場合、例えば電子ビー
ムの照射によって発光する蛍光体を塗設した蛍光スクリ
ーン等を用いることができる。また、フォトレジスト装
置として用いる場合、フォトレジスト層を有する部材と
すればよい。
The irradiated member 4 forms a fixed image or a variable image by irradiation with an electron beam. Specifically, when the present image forming apparatus is used as a display device, for example, a fluorescent screen coated with a phosphor that emits light when irradiated with an electron beam can be used. When used as a photoresist device, a member having a photoresist layer may be used.

本画像形成装置は、例えば次のように走査を行うことに
よって、一画面分の画像を被照射部材4上に形成するも
のである。即ち、ラインメモリに、あらかじめ、形成す
べき画像のx方向(電子ビーム発生部1の配列方向)1
ラインに相当するn画素の画像データを蓄えておき、こ
のラインメモリからのデータ信号にもとずき、配列され
たn個の電子ビーム発生部1から1ライン分の電子ビー
ムを同時に出射させる。この電子ビーム群を、必要に応
じて、平板電極3a,3b間に印加した電圧によって、y方
向(電子ビームに直角でかつ前記x方向にも直角な方向
に偏向させ、被照射部材4上の所要の位置に、x方向1
ライン分の画像を形成させる。次のラインの画像データ
がラインメモリに蓄積されると、再びn個の電子ビーム
発生部1が該データに従って駆動される。同時に、平板
電極3a,3bに印加される電圧が適宜増減され、被照射部
材4上に、前のラインから1ラインずれて、次のライン
の画像が形成される。そして、以上の様な動作を次々と
行なうことにより、被照射部材4上でラインスキャンが
順次行なわれ、一画面分の画像が形成されることにな
る。
The image forming apparatus forms an image for one screen on the irradiated member 4 by performing scanning as follows, for example. That is, the x direction (arrangement direction of the electron beam generators 1) of the image to be formed is previously stored in the line memory.
Image data of n pixels corresponding to a line is stored, and an electron beam for one line is simultaneously emitted from the arranged n electron beam generators 1 based on the data signal from the line memory. If necessary, the electron beam group is deflected in the y direction (a direction perpendicular to the electron beam and also to the x direction by a voltage applied between the flat plate electrodes 3a and 3b, and 1 in the x direction at the required position
An image for a line is formed. When the image data of the next line is stored in the line memory, the n electron beam generators 1 are driven again according to the data. At the same time, the voltage applied to the flat plate electrodes 3a and 3b is appropriately increased or decreased, and the image of the next line is formed on the irradiated member 4 with a shift of one line from the previous line. Then, by performing the above-described operations one after another, the line scan is sequentially performed on the irradiated member 4, and an image for one screen is formed.

以上説明した様な走査を実現するために必要な電子ビー
ム発生装置2の駆動回路の一例を第2図に示す。図中、
5はn段のシフトレジスタ、6はn個のDフリップフロ
ップを一体化したもの、2はn個の電子ビーム発生部1
を配列した電子ビーム発生装置、7はNANDゲート、8は
トランジスタ、9は抵抗である。また、DATAは時系列的
に入力される画像データを、SCKはシフトレジスタを駆
動するシフトクロックを、DCKはDフリップフロップに
データを入力するためのデータクロックを、OEは電子ビ
ームの放出タイミングを制御するアウトプットイネーブ
ル信号を、HVは電子ビーム発生装置2の各電子ビーム発
生部1を駆動するための駆動電圧を意味している。
FIG. 2 shows an example of a drive circuit of the electron beam generator 2 required to realize the scanning as described above. In the figure,
Reference numeral 5 is an n-stage shift register, 6 is an integrated unit of n D flip-flops, 2 is an electron beam generator 1 of n units
Are electron beam generators, 7 is a NAND gate, 8 is a transistor, and 9 is a resistor. DATA is time-series input image data, SCK is a shift clock for driving the shift register, DCK is a data clock for inputting data to the D flip-flop, and OE is an electron beam emission timing. In the output enable signal to be controlled, HV means a drive voltage for driving each electron beam generator 1 of the electron beam generator 2.

本回路の動作を、第3図のタイミングチャートを参照し
つつ説明していく。
The operation of this circuit will be described with reference to the timing chart of FIG.

第3図(a)に示すように、画像データDATAは1ライン
分毎に時系列的に入力されるが、シフトレジスタ6は、
シフトクロックSCK(第3図(b))に従い、順次画像
データDATAのシリパラ変換を行なう。シフトクロックSC
Kがn回入力され、1ライン分の画像データDATAのシリ
パラ変換が完了すると、次に該画像データDATAは、デー
タクロックDCKと同期して、Dフリップフロップ6に一
斉に入力されて蓄えられる。
As shown in FIG. 3 (a), the image data DATA is input in time series for each line, but the shift register 6
The serial-parallel conversion of the image data DATA is sequentially performed according to the shift clock SCK (FIG. 3 (b)). Shift clock SC
When K is input n times and the serial-parallel conversion of the image data DATA for one line is completed, the image data DATA is input to the D flip-flops 6 all at once and stored in synchronization with the data clock DCK.

Dフリップフロップ6の出力端子は、各々NANDゲート7
の一方の入力端子に接続しているが、ここで前記画像デ
ータDATAは、電子ビームを照射すべき場合にはハイレベ
ル、電子ビームを照射すべきでない場合はロウレベルと
なっている。一方、これらn個のNANDゲート7の一方の
入力端子は、共通接続され、アウトプットイネーブル信
号OEと結ばれている。
The output terminals of the D flip-flop 6 are NAND gates 7 respectively.
Although the image data DATA is connected to one of the input terminals, the image data DATA is at a high level when the electron beam should be emitted and at a low level when the electron beam should not be emitted. On the other hand, one input terminal of each of the n NAND gates 7 is commonly connected and connected to the output enable signal OE.

第3図(d)に示されるタイミングにおいて、アウトプ
ットイネーブル信号OEがハイレベルになると、画像デー
タDATAがハイレベルのNANDゲート7はロウレベルを、画
像データDATAがロウレベルのNANDゲート7はハイレベル
を出力する。前記NANDゲート7の出力は、次段のトラン
ジス8のベースに接続されているため、前記画像データ
DATAがハイレベルの場合には、アウトプットイネーブル
信号OEがハイレベルの間だけ、駆動電圧HVが抵抗9を介
して電子ビーム発生部1に供給され、当該電子ビーム発
生部1が電子ビームを放出するわけである。この時、前
記平板電極3a,3b(第1図参照)間には、前記1ライン
分の画像を、被照射部材4(第1図参照)上の所定の位
置に形成するために必要な偏向電圧が印加されるが、こ
れは第3図(e)に示すように、1ライン分の電子ビー
ムの照射を行なう毎に適宜変えられていく。
At the timing shown in FIG. 3D, when the output enable signal OE becomes high level, the NAND gate 7 whose image data DATA is high level becomes low level, and the NAND gate 7 whose image data DATA is low level becomes high level. Output. Since the output of the NAND gate 7 is connected to the base of the next-stage transistor 8, the image data
When DATA is at a high level, the drive voltage HV is supplied to the electron beam generator 1 via the resistor 9 only while the output enable signal OE is at a high level, and the electron beam generator 1 emits an electron beam. It does. At this time, the deflection necessary to form the image for one line between the flat plate electrodes 3a and 3b (see FIG. 1) at a predetermined position on the irradiated member 4 (see FIG. 1). A voltage is applied, but this is appropriately changed every time one line of electron beam irradiation is performed, as shown in FIG. 3 (e).

以上の様な動作を一画面を形成するのに必要なライン数
分だけ順次行なうことにより、被照射部材4上に一画面
分の画像を形成することができる。
By sequentially performing the above-described operation for the number of lines required to form one screen, an image for one screen can be formed on the irradiated member 4.

上述の走査において、アウトプットイネーブル信号OEの
パルス幅(第3図(d)のT1)を変えることにより、1
画素あたりの電子ビームの照射量を簡単に変えることが
できるため、感度の異なる被照射部材4を用いた場合に
も、調整が簡単で、常に最適な画像形成を行なうことが
可能である。
In the above-mentioned scan, by changing the pulse width of the output enable signal OE (T 1 in FIG. 3D), 1
Since the irradiation amount of the electron beam per pixel can be easily changed, the adjustment can be easily performed and optimum image formation can be always performed even when the irradiated members 4 having different sensitivities are used.

また、例えば、第3図(f)に実線で示した平板電極3
a,3b間の偏向電圧で一旦画面を走査した後、点線で示し
た平板電極3a,3b間の電圧で再び画面を走査することに
より、いわゆるインターレースにより全画面を形成する
ことも可能であり、表示を目的とする画像形成装置に好
適である。
Also, for example, the flat plate electrode 3 shown by the solid line in FIG.
It is also possible to form the entire screen by so-called interlacing by scanning the screen once with the deflection voltage between a and 3b, and then scanning the screen again with the voltage between the plate electrodes 3a and 3b shown by the dotted line. It is suitable for an image forming apparatus intended for display.

以上の実施例においては、電子ビーム発生部1を一次元
配列した電子ビーム発生装置2を用いているが、本発明
はこれに限定されるものではなく、電子ビーム発生部材
1は、形成すべき画像の全幅に対応する長さに亘って配
列されていれば、二次元配列されたものであってもよ
い。ここで二次元配列とは、縦横共に複数列配列されて
いることをいう。
In the above embodiments, the electron beam generator 2 in which the electron beam generators 1 are arranged one-dimensionally is used, but the present invention is not limited to this, and the electron beam generator 1 should be formed. It may be two-dimensionally arranged as long as it is arranged over the length corresponding to the entire width of the image. Here, the two-dimensional array means that a plurality of columns are arrayed both vertically and horizontally.

[発明の効果] 以上の説明から明らかなように、本発明に係る画像形成
装置は、電子ビームの偏向を一方向しか行なわないた
め、偏向手段が簡略化され、薄形化が可能である。
[Effects of the Invention] As is clear from the above description, the image forming apparatus according to the present invention deflects the electron beam in only one direction, so that the deflecting means can be simplified and thinned.

また、一画面の画素数及び一画面を形成するのに要する
時間を同じとするなら、従来の単ビームによる点順次走
査と比較し、最大n倍程度まで一画素あたりの電子ビー
ム照射時間を長くすることが可能となり、また、1画素
あたりの電子ビームの照射量を簡単に変えることができ
る。従って、従来、感度が低いために使用できなかった
材料を被照射部材として使用することが可能となるし、
また被照射部材の感度が同じとすれば、従来に比して極
めて輝度の高い表示装置等を実現できる。このことか
ら、一画素あたりの電子ビーム照射時間を等しいとする
なら、同じ輝度を保持しながら画素数をn倍程度にまで
増加させることができ、極めて大容量の表示装置を構成
することが可能である。
Further, if the number of pixels in one screen and the time required to form one screen are the same, the electron beam irradiation time per pixel can be increased up to about n times as long as the conventional dot-sequential scanning with a single beam. In addition, the irradiation amount of the electron beam per pixel can be easily changed. Therefore, it becomes possible to use a material that could not be used because of its low sensitivity as a member to be irradiated.
Further, if the irradiated members have the same sensitivity, it is possible to realize a display device or the like having extremely high brightness as compared with the conventional one. From this, if the electron beam irradiation time per pixel is made equal, the number of pixels can be increased to about n times while maintaining the same brightness, and an extremely large-capacity display device can be configured. Is.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例の説明図、第2図はその駆動
回路を示す図、第3図(a)〜(f)は各々駆動回路中
の各部の信号波形を示す図である。 1:電子ビーム発生部、2:電子ビーム発生装置、3:偏向手
段、3a,3b:平板電極、4:被照射部材、5:シフトレジス
タ、6:Dフリップフロップ、7:NANDゲート、8:トランジ
スタ、9:抵抗。
FIG. 1 is an explanatory diagram of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a driving circuit thereof, and FIGS. 3 (a) to 3 (f) are diagrams showing signal waveforms of respective parts in the driving circuit. . 1: Electron beam generator, 2: Electron beam generator, 3: Deflection means, 3a, 3b: Flat plate electrode, 4: Irradiated member, 5: Shift register, 6: D flip-flop, 7: NAND gate, 8: Transistor, 9: resistor.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】形成すべき画像の全幅に対する長さにわた
って配列された複数の冷陰極電子源を具備する電子ビー
ム発生装置を有する画像形成装置において、 変更可能なパルス幅を持つ駆動許可信号が入力される入
力端子を各々が備え、前記入力端子が互いに短絡されて
おり、前記駆動許可信号のパルスがオンの間に限り画像
データを出力する複数の画像データ出力手段と、 複数の冷陰極電子源の各々を前記画像データに基づいて
駆動する複数の駆動手段と、 を有することを特徴とする画像形成装置。
1. An image forming apparatus having an electron beam generator having a plurality of cold cathode electron sources arranged over the entire width of an image to be formed, wherein a drive permission signal having a variable pulse width is input. A plurality of input terminals, each of which is short-circuited to each other, outputs a plurality of image data only while the drive enable signal pulse is ON, and a plurality of cold cathode electron sources. A plurality of driving means for driving each of the above based on the image data, and an image forming apparatus.
【請求項2】前記画像データ出力手段は、NANDゲートを
含む特許請求の範囲第1項に記載の画像形成装置。
2. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the image data output means includes a NAND gate.
【請求項3】前記電子ビーム発生装置は、前記電子ビー
ム発生装置から出射される電子ビーム群を前記画像の幅
方向と直交する方向に一括して偏向する偏向手段を備え
る特許請求の範囲第1項または第2項に記載の画像形成
装置。
3. The electron beam generator comprises deflection means for collectively deflecting an electron beam group emitted from the electron beam generator in a direction orthogonal to the width direction of the image. The image forming apparatus according to item 2 or item 3.
【請求項4】前記偏向手段は、偏向電極に階段状の電圧
波形を与え、前記電子ビーム群の照射領域が、1画面上
で1ラインごとに重複しないように、前記電子ビーム群
を偏向させる特許請求の範囲第3項に記載の画像形成装
置。
4. The deflection means applies a stepwise voltage waveform to a deflection electrode, and deflects the electron beam group so that the irradiation regions of the electron beam group do not overlap line by line on one screen. The image forming apparatus according to claim 3.
【請求項5】前記画像データ出力手段の前記入力端子に
は、前記偏向電極に印加する階段状の電圧波形の電圧が
切り替わるタイミングにおいてオフのパルスの前記駆動
許可信号が入力されている特許請求の範囲第4項に記載
の画像形成装置。
5. The drive permission signal of an OFF pulse is input to the input terminal of the image data output means at a timing at which a voltage having a stepwise voltage waveform applied to the deflection electrode is switched. The image forming apparatus according to item 4.
【請求項6】前記電子ビーム群は、レジストを露光する
特許請求の範囲第3項乃至第6項のいずれか1項に記載
の画像形成装置。
6. The image forming apparatus according to any one of claims 3 to 6, wherein the electron beam group exposes a resist.
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