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JPH0753571B2 - Disilane purification method - Google Patents
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JPH0753571B2 - Disilane purification method - Google Patents

Disilane purification method

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JPH0753571B2
JPH0753571B2 JP29338986A JP29338986A JPH0753571B2 JP H0753571 B2 JPH0753571 B2 JP H0753571B2 JP 29338986 A JP29338986 A JP 29338986A JP 29338986 A JP29338986 A JP 29338986A JP H0753571 B2 JPH0753571 B2 JP H0753571B2
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正義 伊藤
博治 宮川
智弘 安部
圭一 池田
雅美 村上
紀行 柳川
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三井東圧化学株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、ジシラン(Si2H6)中に微量含まれるホスフ
ィン(PH3)を除去し、ジシランを精製する方法に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for purifying disilane by removing phosphine (PH 3 ) contained in a small amount in disilane (Si 2 H 6 ).

背景技術 近年エレクトロニクス工業の発展に伴い、多結晶シリコ
ンあるいはアモルファスシリコン等の半導体用シリコン
の需要が急激に増大している。
BACKGROUND ART In recent years, with the development of the electronics industry, demand for semiconductor silicon such as polycrystalline silicon or amorphous silicon has rapidly increased.

Si2H6は、モノシラン(SiH4)とともにかかる半導体用
シリコンの新しい製造用原料として最近特に脚光を浴び
ており、今後の需要増加が期待されている。
Si 2 H 6 has recently been particularly spotlighted as a new raw material for the production of silicon for semiconductors together with monosilane (SiH 4 ), and it is expected that demand will increase in the future.

Si2H6の製造方法としては、以下に例示するようにいく
つかの方法が知られているが、いずれの方法を採用する
にせよ通常合成されたジシランガス中には微量のPH3
含まれる。特に、による方法で製造した水素化ケイ
素中には、 濃度百ppm前後のPH3が含有される。半導体ガスとして使
用される水素化ケイ素中における不純物としてのPH3
影響は大きく、通常その含有量を10-9以下(ppb以下)
にする必要がある。
As a method for producing Si 2 H 6 , several methods are known as exemplified below, but whichever method is adopted, the disilane gas normally synthesized contains a trace amount of PH 3. . In particular, in silicon hydride produced by the method according to PH 3 is contained at a concentration of around 100 ppm. The effect of PH 3 as an impurity in silicon hydride used as a semiconductor gas is large, and its content is usually 10 -9 or less (ppb or less).
Need to

従来技術 Si2H6(bp−15℃)中におけるPH3(bp−88℃)の蒸留分
離には限界があり、蒸留によりPH3の含有量を10-9以下
にすることは実質的に不可能である。
Prior art There is a limit to the distillation separation of PH 3 (bp-88 ° C) in Si 2 H 6 (bp-15 ° C), and it is practical to reduce the PH 3 content to 10 -9 or less by distillation. It is impossible.

従来吸着剤を用いて水素化ケイ素中のPH3を除去する方
法としては、SiH4については数多く知られているが、Si
2H6については殆ど報告されていない。
SiH 4 is known as a number of conventional methods for removing PH 3 in silicon hydride using an adsorbent.
Little is reported about 2 H 6 .

すなわちSiH4については、例えばSiH4を殆ど吸着しない
均一細孔径を有するゼオライト中の交換可能な陽イオン
を2価の陽イオンに交換したもの(特公昭48−41437、4
8−41439)、合成ゼオライト4A中のナトリウムイオンを
2価の陽イオン、あるいは銀イオンに交換したもの(特
開昭48−75475、特開昭59−30711)、活性炭および合成
ゼオライト−4Aを併用するもの(特開昭58−69715、58
−172220)、水素吸蔵用金属材料または金属水素化物を
使用するもの(特開昭58−120511)などの方法が報告さ
れている。
That is, with regard to SiH 4 , for example, the exchangeable cation in zeolite having a uniform pore size that hardly adsorbs SiH 4 is exchanged with a divalent cation (Japanese Patent Publication No. 48-41437, 4).
8-41439), sodium ion in synthetic zeolite 4A exchanged with divalent cation or silver ion (JP-A-48-75475, JP-A-59-30711), activated carbon and synthetic zeolite-4A in combination What does (Japanese Patent Laid-Open No. 58-69715, 58
-172220), a method using a metal material for hydrogen storage or a metal hydride (JP-A-58-120511), and the like.

一方、Si2H6については、本出願人による特開昭58−172
220に活性炭および合成ゼオライトで処理する方法が提
案されているが、この方法によれば副生ハロゲン化ケイ
素化合物や低フッ点脂肪族炭化水素が除去されるだけで
ある。Si2H6とPH3の混合ガスの分離を吸着法により行お
うとする場合、この両者間では、被吸着物質となるべき
PH3の方がSi2H6より低沸点であるため、温度的にはSi2H
6中のPH3の除去はSiH4の場合に比べるとかなり困難と予
想される。すなわちSiH4、Si2H6、PH3の沸点はそれぞれ
−112℃、−14.5℃、−87℃であり、Si2H4の吸着が優先
され、原理的に吸着剤によるSi2H6中のPH3は、PH3がよ
り高沸点成分であるため吸着除去が比較的容易である
が、Si2H6中のPH3の場合には、この温度関係が逆とな
り、PH3よりSi2H6の吸着が優先する。従ってPH3の選択
的吸着は困難であると考えられていた。また更にこれら
の分子の分子径がほぼ同じであるためPH3の吸着分離を
困難とされていた。
On the other hand, as for Si 2 H 6 , Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-172 filed by the present applicant.
In 220, a method of treating with activated carbon and synthetic zeolite has been proposed, but this method only removes by-product silicon halide compound and low-fluoride-point aliphatic hydrocarbon. When the mixture gas of Si 2 H 6 and PH 3 is to be separated by an adsorption method, it should be a substance to be adsorbed between the two.
PH 3 has a lower boiling point than Si 2 H 6 , so Si 2 H
Removal of PH 3 in 6 is expected to be considerably more difficult than in the case of SiH 4 . That SiH 4, Si 2 boiling point of H 6, PH 3, respectively -112 ° C., -14.5 ° C., a -87 ° C., adsorption of Si 2 H 4 has priority, in Si 2 H 6 by principle adsorbent PH 3 of is adsorbed and removed for PH 3 is higher boiling components is relatively easy, in the case of PH 3 in Si 2 H 6, the temperature relationship is reversed, than the PH 3 Si 2 H 6 adsorption has priority. Therefore, selective adsorption of PH 3 was considered to be difficult. Furthermore, since the molecular diameters of these molecules are almost the same, it has been difficult to adsorb and separate PH 3 .

本発明者らは、これらの従来の予想に反しSi2H6中のPH3
を選択的に除去できる新規な吸着剤の開発を鋭意検討し
た結果、本発明に到達した。
Contrary to these conventional expectations, the present inventors have found that PH 3 in Si 2 H 6
As a result of earnest studies on the development of a new adsorbent capable of selectively removing carbon dioxide, the present invention has been achieved.

すなわち本発明は、Si2H6が殆ど極性をを有しないのにP
H3がごくわずかに極性(塩基性)を有することに着目
し、極性(酸性)の強い吸着剤を用いることによりPH3
の吸着エネルギーを大きくし、Si2H6中のPH3を選択的に
吸着しようとしたものである。
That is, according to the present invention, although Si 2 H 6 has almost no polarity,
Paying attention to the fact that H 3 has a very slight polarity (basicity), and using a strongly polar (acidic) adsorbent, PH 3
It is intended to selectively adsorb PH 3 in Si 2 H 6 by increasing the adsorption energy of.

発明の要旨 すなわち、本発明は、ホスフィンを含有するジシラン
を、4A型合成ゼオライトの交換可能な陽イオンの一部ま
たは全部を2価の陽イオンで交換したもので処理するこ
とを特徴とするジシランの精製方法に存する。
SUMMARY OF THE INVENTION That is, the present invention is characterized in that disilane containing phosphine is treated with 4A type synthetic zeolite in which a part or all of the exchangeable cations are exchanged with divalent cations. Method of purification.

発明の詳細な開示 以下、本発明の詳細に説明する。Detailed Disclosure of the Invention Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明において用いられる吸着剤とは、4A型合成ゼオラ
イトの交換可能な陽イオンの一部又は全部を2価の陽イ
オンで交換したものである。該4A型合成ゼオライトは、
初め米国Linde社から「リンデモレキュラーシーブス」
の商標により市販されたものであり、その組成式が、Na
12〔(AlO212(SiO212〕・27H2Oで表わされる4A型
ゼオライトであり通常の市販されているものを用い得
る。またその有効細孔径は約4Åである。本発明にいう
2価の陽イオンは、周期律表第(II)族の元素イオン、
例えばマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、亜
鉛、カドミウム;周期律表第(VIII)族の元素イオン、
例えば鉄、コバルト、ニッケル;およびその他の族の元
素イオン、例えばマンガン、鉛、スズ等である。これら
のうち、特にマンガン、カルシウム、亜鉛、鉛の各イオ
ンが好ましい。
The adsorbent used in the present invention is one in which a part or all of the exchangeable cations of the 4A type synthetic zeolite are exchanged with divalent cations. The 4A type synthetic zeolite is
"Lynde Molecular Sieves" from Linde, USA
It is marketed under the trademark of
12 [(AlO 2 ) 12 (SiO 2 ) 12 ] · 27H 2 O 4A type zeolite represented by ordinary commercial products can be used. The effective pore size is about 4Å. The divalent cation referred to in the present invention is an element ion of Group (II) of the periodic table,
For example, magnesium, calcium, strontium, zinc, cadmium; element ion of Group (VIII) of the periodic table,
For example, iron, cobalt, nickel; and other group elemental ions such as manganese, lead, tin, and the like. Among these, manganese, calcium, zinc and lead ions are particularly preferable.

本発明における陽イオンの交換方法には特に制限はな
く、例えば上記した2価の陽イオンとなる金属の塩酸
塩、硝酸塩等の水溶性の塩の水溶液に、4A型ゼオライト
を単に浸漬する等の一般的な方法によって行い得る。交
換率は20乃至100%、好ましくは40乃至90%である。ま
た使用前に行う賦活は通常200乃至500℃の範囲にて、減
圧下及び不活性ガス中で行われる。
There is no particular limitation on the method for exchanging cations in the present invention. For example, 4A type zeolite is simply immersed in an aqueous solution of a water-soluble salt such as a metal salt of a divalent cation or a nitrate mentioned above. This can be done by a general method. The exchange rate is 20 to 100%, preferably 40 to 90%. In addition, activation prior to use is usually carried out in the range of 200 to 500 ° C. under reduced pressure and in an inert gas.

本発明におけるSi2H6の吸着剤による精製処理は、減圧
下でも加圧下でも行うことができ、かつSi2H6は気相で
も液相でも良いが、好ましくは気相で行うのが望まし
い。また吸着処理の温度には特に制限はないが、好まし
くは−50乃至50℃である。この範囲より低温だとSi2H6
(bp−14.5℃)の凝縮により、PH3の吸着速度が減少し
好ましくなく、この範囲より高温だとPH3の吸着容量が
小さくなるため好ましくない。もちろん他の吸着剤と併
用することも可能である。またSi2H6中にPH3以外のガス
(例えば、水素、窒素、稀ガス、メタン、シラン等)を
含んでも構わない。
The purification treatment of Si 2 H 6 with an adsorbent in the present invention can be carried out under reduced pressure or under pressure, and Si 2 H 6 may be in a gas phase or a liquid phase, but it is preferable to carry out in a gas phase. . The temperature of the adsorption treatment is not particularly limited, but it is preferably -50 to 50 ° C. At temperatures below this range Si 2 H 6
By condensation of (bp-14.5 ℃), not preferred adsorption rate of PH 3 is decreased, undesirably adsorption capacity of PH 3 than the range that it high temperature decreases. Of course, it is also possible to use it together with other adsorbents. Further, Si 2 H 6 may contain a gas other than PH 3 (for example, hydrogen, nitrogen, rare gas, methane, silane, etc.).

以下、本発明を実施例によって説明する。Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples.

<実施例1> モレキュラーシーブ−4A(西尾工業社製、30乃至60メッ
シュ)50gを、Mn(NO32191gを溶解させた水溶液2
中に2日間浸漬させた。その後濾過、洗浄を行い、得ら
れたゼオライトを空気中400℃にて一時間焼成した。化
学分析結果によれば、マンガンイオンでの交換率は70%
であった。
<Example 1> molecular sieves -4A the (Nishio Kogyo Co., 30 to 60 mesh) 50g, Mn (NO 3) solution 2 obtained by dissolving 2 191 g
It was immersed in it for 2 days. Then, filtration and washing were performed, and the obtained zeolite was calcined in air at 400 ° C. for 1 hour. According to the results of chemical analysis, the exchange rate with manganese ion is 70%.
Met.

内径3mm、長さ42mmの吸着管に、上記ゼオライト0.25gを
充填した。400℃にてヘリウム中1時間、更に減圧下
(0.2mmHg)にて2時間処理した後、吸着管の温度を−
5℃とし、PH3を120ppm含むSi2H6とH2の混合ガス(Si2H
635vol%、H265vol%)を流速115ml/minの速度で流通さ
せSi2H6の精製を行った。
An adsorption tube having an inner diameter of 3 mm and a length of 42 mm was filled with 0.25 g of the above zeolite. After treatment in helium at 400 ° C for 1 hour and further under reduced pressure (0.2 mmHg) for 2 hours, the temperature of the adsorption tube was-
5 ℃, mixed gas of Si 2 H 6 and H 2 containing 120 ppm of PH 3 (Si 2 H
6 35 vol%, H 2 65 vol%) was passed at a flow rate of 115 ml / min to purify Si 2 H 6 .

結果を第1図に示す。第1図より、該吸着剤の吸着容量
(吸着管出口のPH3濃度が10ppbとなる点、以下同じ)は
約5mgPH3/g吸着剤であることがわかった。なお、出口ガ
ス中のPH3濃度はFPDを検出器とするガスクロマトグラフ
ィーにより分析した。
The results are shown in Fig. 1. From FIG. 1, it was found that the adsorption capacity of the adsorbent (the point where the PH 3 concentration at the adsorption tube outlet was 10 ppb, the same applies hereinafter) was about 5 mg PH 3 / g adsorbent. The PH 3 concentration in the outlet gas was analyzed by gas chromatography using FPD as a detector.

<実施例2乃至5> 実施例1で用いたモレキュラーシーブ−4A50gを、それ
ぞれZnCl293g、MgCl265g、CaCl228g、CoCl240gを溶解さ
せた稀薄塩酸水溶液2中に2日間浸漬させた。その
後、濾過、洗浄を行い、得られた各ゼオライトを空気中
400℃にて一時間焼成した。化学分析結果によれば、各
イオンでの交換率はそれぞれ71%、52%、46%、43%で
あった。
<Examples 2 to 5> 50 g of the molecular sieve-4A used in Example 1 was immersed for 2 days in a dilute hydrochloric acid solution 2 in which ZnCl 2 93 g, MgCl 2 65 g, CaCl 2 28 g and CoCl 2 40 g were dissolved. . After that, filtration and washing are performed, and each obtained zeolite is placed in air.
It was baked at 400 ° C. for 1 hour. According to the results of chemical analysis, the exchange rates of the respective ions were 71%, 52%, 46% and 43%, respectively.

これらのゼオライトを用い、実施例1と同様に実験を行
った。
An experiment was conducted in the same manner as in Example 1 using these zeolites.

これらの場合における吸着容量は、それぞれ第1表に示
すとおりであった。
The adsorption capacities in these cases were as shown in Table 1, respectively.

<実施例6、7> 実施例2において、ZnCl2の使用量を46gあるいは104gと
し、それぞれ陽イオン交換率が、59%、87%のゼオライ
トを得た。
<Examples 6 and 7> In Example 2, the amount of ZnCl 2 used was 46 g or 104 g, and cation exchange rates of 59% and 87% were obtained.

このゼオライトを吸着剤に用いて、実施例2と同様に実
験を行った。
An experiment was conducted in the same manner as in Example 2 using this zeolite as an adsorbent.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

<実施例8、9> 実施例2において、吸着温度を−10℃、20℃とした以外
は実施例1と同様に実験を行った。
<Examples 8 and 9> An experiment was performed in the same manner as in Example 1 except that the adsorption temperature was changed to -10 ° C and 20 ° C.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

<実施例10> 内径6mm、長さ100mmの吸着管に実施例2で用いたのと同
一の亜鉛交換したゼオライト1.8gを充填した。吸着管の
温度を0℃、吸着管内の圧力を5.3Kg/cm2 absとし、PH3
を120ppm含むSi2H6の精製を液相にて行った。Si2H6の供
給速度は、0.2g/minであった。
<Example 10> An adsorption tube having an inner diameter of 6 mm and a length of 100 mm was filled with 1.8 g of the same zinc-exchanged zeolite as used in Example 2. The temperature of the adsorption tube is 0 ℃, the pressure in the adsorption tube is 5.3Kg / cm 2 abs, PH 3
Si 2 H 6 containing 120 ppm of was purified in a liquid phase. The supply rate of Si 2 H 6 was 0.2 g / min.

この場合における吸着容量は第1表に示すとおりであっ
た。
The adsorption capacity in this case was as shown in Table 1.

<実施例11> ケイ化マグネシウム(Mg2Si)を濃度20wt%の塩酸水溶
液と反応させることにより、PH390ppm、SiH477%、Si2H
623%の混合ガスを得た。この混合ガスを−20乃至50
℃、7気圧の条件で50段の蒸留塔を用いて蒸留し、PH31
1ppmを含むSi2H6を得た。
Example 11 By reacting magnesium silicide (Mg 2 Si) with a hydrochloric acid aqueous solution having a concentration of 20 wt%, PH 3 90 ppm, SiH 4 77%, Si 2 H
6 23% mixed gas was obtained. This mixed gas is -20 to 50
Distilled using a 50-stage distillation column under the conditions of ℃ and 7 atm, PH 3 1
Si 2 H 6 containing 1 ppm was obtained.

内径8mm、長さ1000mmの吸着管に実施例2で用いたのと
同一の亜鉛交換したモレキュラーシーブ−4A32gを充填
させた。吸着管の温度を−5℃に設定した後、上記の合
成したSi2H6ガスを流量30ml/min×速度(線速1.0cm/se
c、接触時間1.67min)で流通させ、精製後のSi2H6をド
ライアイス温度で冷却したシリンダー中に捕集した。流
通開始495時間後、流通を停止し、捕集ガス中のPH3をFP
Dを検出器とするガスクロマトグラフィーにより分析し
たところPH3は検出されなかった(検出限界約10ppb、こ
の時点ではPH3吸着量は6.5mgPH3/g吸着剤)。更にこの
精製SiH4を用いてエピタキシャル膜を作成し、その比抵
抗を測定したところ1105Ωcmであった。
An adsorption tube having an inner diameter of 8 mm and a length of 1000 mm was filled with 32 g of the same zinc-exchanged molecular sieve-4A as that used in Example 2. After the temperature of the adsorption tube was set to -5 ° C, the synthesized Si 2 H 6 gas was flown at a flow rate of 30 ml / min x velocity (linear velocity 1.0 cm / se
c, contact time 1.67 min), and purified Si 2 H 6 was collected in a cylinder cooled at dry ice temperature. After 495 hours from the beginning of distribution, the distribution is stopped and PH 3 in the collected gas is
When analyzed by gas chromatography using D as a detector, PH 3 was not detected (detection limit of about 10 ppb, PH 3 adsorption amount at this point was 6.5 mg PH 3 / g adsorbent). Furthermore, an epitaxial film was formed using this purified SiH 4 , and its specific resistance was measured and found to be 1105 Ωcm.

<比較例1> 吸着剤にイオン交換しないモレキュラーシーブ−4Aを用
いた以外は、実施例1と同様に実験を行った。
<Comparative Example 1> An experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that the molecular sieve-4A that did not undergo ion exchange was used as the adsorbent.

この場合における吸着容量は第1表に示したように極め
て小さく、PH3の吸着は殆ど認められなかった。
The adsorption capacity in this case was extremely small as shown in Table 1, and almost no adsorption of PH 3 was observed.

発明の効果 本発明の方法における吸着剤によれば、Si2H6により吸
着阻害されることなく、PH3を選択的に吸着除去でき
る。本発が対象とするごときSi2H6中のPH3の吸着除去方
法は本発明によって初めて提案されたものである。
Effect of the Invention According to the adsorbent in the method of the present invention, PH 3 can be selectively adsorbed and removed without being inhibited by Si 2 H 6 for adsorption. The method of adsorption and removal of PH 3 in Si 2 H 6 , which is the subject of the present invention, was first proposed by the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は吸着管出口ガス中のPH3濃度とPH3吸着量の関係
を示すグラフである。
FIG. 1 is a graph showing the relationship between the PH 3 concentration in the adsorption tube outlet gas and the PH 3 adsorption amount.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 雨宮 弘治 (56)参考文献 特開 昭61−53106(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page Examiner Koji Amamiya (56) References JP-A-61-53106 (JP, A)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ホスフィンを含有するジシランを、4A型合
成ゼオライトの交換可能な陽イオンの一部または全部を
2価の陽イオンで交換したもので処理することを特徴と
するジシランの精製方法。
1. A method for purifying disilane, which comprises treating a disilane containing phosphine with 4A type synthetic zeolite in which a part or all of the exchangeable cations are exchanged with divalent cations.
【請求項2】2価の陽イオンがマンガンイオンあるいは
亜鉛イオンである特許請求の範囲第1項記載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the divalent cation is manganese ion or zinc ion.
JP29338986A 1986-12-11 1986-12-11 Disilane purification method Expired - Lifetime JPH0753571B2 (en)

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