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JPH075402B2 - 窒化アルミニウム焼結体とその表面処理方法 - Google Patents
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JPH075402B2 - 窒化アルミニウム焼結体とその表面処理方法 - Google Patents

窒化アルミニウム焼結体とその表面処理方法

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JPH075402B2
JPH075402B2 JP61157367A JP15736786A JPH075402B2 JP H075402 B2 JPH075402 B2 JP H075402B2 JP 61157367 A JP61157367 A JP 61157367A JP 15736786 A JP15736786 A JP 15736786A JP H075402 B2 JPH075402 B2 JP H075402B2
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sintered body
nitride sintered
aluminum
dysprosium
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英子 福島
裕介 井寄
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体用基板、IC基板等に使用する窒化アル
ミニウム燒結体の外周面に、α−Al2O3とディスプロシ
ウム(Dy)およびアルミニウムの固溶酸化物との二相よ
りなる酸化物層を形成してメタライズしやすくするとと
もに、耐水性を持たせた窒化アルミニウム燒結体とその
表面処理方法に関する。
[従来の技術] 窒化アルミニウムは、熱伝導率が高く、熱膨張率が小さ
く、しかも機械的強度が強いことから絶縁基板材料とし
て使用されるようになってきた。
窒化アルミニウム製の基板材料を半導体等のパッケージ
として使用する場合、窒化アルミニウム基板上にSiチッ
プを載せ、その上面を窒化アルミニウム等のセラミック
で密封状に覆い、Siチップに接続したリードフレーム
を、窒化アルミニウム基板とそれを覆うセラミックとの
接合間を通して外部に突出させていた。そして窒化アル
ミニウム基板とそれを覆うセラミックとの接合面は、密
着させるためそれぞれメタライズさせ、リードフレーム
の部分はさらにハンダ付けしている。
しかし、窒化アルミニウムは化学的に安定なためメタラ
イズが困難であり、そのため窒化アルミニウム燒結体の
表面を酸化させながらメタライズする方法が特開昭50−
75208号公報に開示されている。
また、特開昭61−84037号公報には、窒化アルミニウム
系セラミック基板の表面にアルミナ層を形成させる方法
が開示されている。
[発明が解決しようとする課題] 窒化アルミニウム燒結体を半導体等のパッケージとして
使用する場合、窒化アルミニウム燒結体は、耐水性が悪
く、水と反応してアンモニアを生じやすいという問題が
あった。
また窒化アルミ燒結体は、メタライズが困難なため、そ
のメタライズのために窒化アルミニウム燒結体の表面を
酸化させながらメタライズするという複雑な手段をとら
なければならなかった。
そこで本発明は、窒化アルミニウム燒結体を種々の熱処
理試験をして窒化アルミニウム燒結体の表面にあらかじ
めα−Al2O3と、ディスプロシウムおよびアルミの固溶
酸化物との二相よりなる層を形成し、耐水性を持たせる
とともに、メタライズを容易にできるようにした窒化ア
ルミ燒結体とその表面処理方法を提供するものである。
[課題を解決するための手段] 本発明は、ディスプロシウムを燒結助剤に使用した窒化
アルミニウム燒結体の外表面にα−Al2O3と、ディスプ
ロシウムおよびアルミの固溶酸化物との二相よりなる酸
化物層が形成されていることを特徴とする窒化アルミニ
ウム燒結体である。
またもう1つの発明は、ディスプロシウムを燒結助剤に
使用した窒化アルミニウム燒結体を酸素を含む雰囲気
中、950〜1200℃で30分以下加熱することにより窒化ア
ルミニウム燒結体の外表面にα−Al2O3と、ディスプロ
シウムおよびアルミの固溶酸化物との二相よりなる酸化
物層を形成する窒化アルミニウム燒結体の表面処理方法
である。
外表面の層は、酸素が21%以下の酸化性雰囲気中で熱処
理温度950〜1200℃、30分以下の処理を行なうことによ
り形成される。
この層は、窒化アルミニウムの燒結助剤としてディスプ
ロシウムを添加するために得られるディスプロシウムと
アルミの固溶酸化物と、α−Al2O3とよりなることが望
ましい。α−Al2O3の層だけでは耐水性が必ずしも十分
でなく、固溶酸化物が存在することでα−Al2O3粒子間
のバインダーの役割をはたすため十分な耐水性を持たせ
ることができるのである。
酸素が21%以下の酸化性雰囲気でするのは、それ以上に
すると耐水性のある緻密な層を形成することが困難なた
めである。
熱処理温度を950〜1200℃としたのは、950℃より低いと
α−Al2O3層は形成されず、1200℃より高いと外表面層
に多数の小孔が生じ、またバインダーとなるディスプロ
シウムとアルミの固溶酸化物の形成が困難なためであ
る。処理時間を30分以下としたのは、それ以上にすると
外表面層に多数の小孔が生じ、また層が5μm以上とな
って、窒化アルミニウム本来の高熱伝導性を十分利用す
ることが困難なためである。
α−Al2O3層の厚さを0.5〜3μmとするのは、0.5μm
より小さいとメタライズが困難となり、3μmより大き
いと熱伝導性が低下し、半導体素子の放熱が困難となる
ためである。
またAl2O3層の表面アラサは、メタライズをよくするた
め6.3μm以下が望ましい。
[実施例] ディスプロシウムを燒結助剤として燒結した窒化アルミ
ニウム燒結体を大気中、6種類の温度900、950、1000、
1100、1200、1300℃の各温度でそれぞれ30分加熱し、燒
結体表面にα−Al2O3と、ディスプロシウムおよびアル
ミの固溶酸化物との二相よりなる層を形成した。
上記各熱処理を窒化アルミニウム燒結体の表面と破断面
とでの電子顕微鏡組織写真をとり、第1図(a)〜
(f)に示した。なお図中、上側が表面で、下側が破断
面である。また、比較のため本発明の熱処理をしない窒
化アルミニウム燒結体の表面と破断面の電子顕微鏡写真
も第1図(g)に示した。第1図(a)〜(g)から分
かるように、加熱温度が950〜1300℃のものは表面にα
−Al2O3と、ディスプロシウムおよびアルミの固溶酸化
物との2層からなる層が0.3〜3μmの厚さで生じてい
ることがわかる。しかし加熱温度1200℃以上のものは、
窒化アルミ燒結体粒子中に多数の小孔が生じ耐水性がな
いので、半導体素子のパッケージに使用するのは望まし
くない。また加熱温度900℃のものはα−Al2O3と固溶酸
化物の2層からなる層が生じないことがわかる。
次にX線解析法により加熱温度が900、1000、1100、120
0、1300℃の窒化アルミ燒結体の表面の組成を同定し、
その測定結果を第2図に示した。
第2図から、燒結温度が950〜1300℃の試料でα−Al2O3
とディスプロシウムおよびアルミの固溶酸化物[DyAl
O3、DyAl2(AlO4]とが生じており、比較例(g)
では生じていないことがわかる。なお950℃では第1図
(b)の写真に、他の同様の表面層が生じていることか
ら、α−Al2O3と、ディスプロシウムおよびアルミの固
溶酸化物とが生じていると推定した。
次に加熱温度が1000、1100、1200、1300℃の窒化アルミ
ニウム燒結体の耐水性を試験(プレッシャークッカーテ
スト)するため、それぞれを121℃、2atm、温度100%の
条件下におき、腐食による重量増加を時間経過で第3図
に示した。第3図には、比較のため未処理のものも測定
して示した。
熱処理温度950〜1200℃の試料は、重量増加(g/m2)が
約0.7g/m2であり、耐水性を有する。熱処理温度1300℃
の試料は、重量増加が大きく耐水性を有さないがこれは
α−Al2O3と、他の固溶酸化物との層が生じていても、
第1図(f)のように多孔性であるためと考えられる。
また未処理の試料は、表面に窒化アルミニウムが露出し
ているためである。
次に第1図(a)〜(g)に対応する各試料についてメ
タライズし、さらにコバール治具をハンダ付けし、コバ
ール治具に引っ張り荷重を与えて接着強度を測定した。
その結果、本実施例に対応する(b)〜(f)の各試料
では、約7kg/cm2であり、比較例(g)の場合の3kg/cm2
よりかなり強いことがわかった。
さらに第1図(a)〜(g)に対応する試料の表面アラ
サを測定した結果、本実施例(b)〜(f)の方が比較
例(g)より若干荒いが、それでも5.4μm以下であり
熱伝導上、の基準値0.8μmよりかなり小さく問題はな
い。
[発明の効果] 本発明では、窒化アルミ燒結体の表面にα−Al2O3の、
ディスプロシウムおよびアルミの固溶酸化物との二相よ
りなる酸化物層を形成している。そのため、それを半導
体のパッケージ等の絶縁基板として使用すれば、熱伝導
率が高く、しかもその表面のAl2O3層によりメタライズ
が容易となり、かつ耐水性も十分なものとなる。また本
発明の方法によれば、前記効果を有する窒化アルミ燒結
体を確実に作成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(g)は本発明試料および比較例の窒化
アルミニウム燒結体の表面(図中上側)と破断面(図中
下側)との電子顕微鏡組織写真(2000倍)であり、第2
図は同じく本発明試料および比較例のX線回折法による
成分テストの結果を示すグラフ、第3図は本発明試料お
よび比較例の耐水性を示すグラフである。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ディスプロシウムを燒結助剤に使用した窒
    化アルミニウム燒結体の外表面にα−Al2O3と、ディス
    プロシウムおよびアルミの固溶酸化物との二相よりなる
    酸化物層が形成されていることを特徴とする窒化アルミ
    ニウム燒結体。
  2. 【請求項2】ディスプロシウムを燒結助剤に使用した窒
    化アルミニウム燒結体を酸素を含む雰囲気中、950〜120
    0℃で30分以下加熱することにより窒化アルミニウム燒
    結体の外表面にα−Al2O3と、ディスプロシウムおよび
    アルミの固溶酸化物との二相よりなる酸化物層を形成す
    る窒化アルミニウム燒結体の表面処理方法。
  3. 【請求項3】外表面の酸化物層の厚さを0.5〜3μmと
    した特許請求の範囲第2項に記載の窒化アルミニウム燒
    結体の表面処理方法。
  4. 【請求項4】外表面の表面アラサを6.3μm以下とする
    特許請求の範囲第2項に記載の窒化アルミニウム燒結体
    の表面処理方法。
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