JPH0754582B2 - 可撓性磁気デイスク - Google Patents
可撓性磁気デイスクInfo
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- JPH0754582B2 JPH0754582B2 JP61240620A JP24062086A JPH0754582B2 JP H0754582 B2 JPH0754582 B2 JP H0754582B2 JP 61240620 A JP61240620 A JP 61240620A JP 24062086 A JP24062086 A JP 24062086A JP H0754582 B2 JPH0754582 B2 JP H0754582B2
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜型の可撓性磁気ディスク（フレキシブル磁
気ディスク）に関する。
気ディスク）に関する。
近年、可撓性磁気ディスクを記録媒体として用いるフレ
キシブル磁気ディスク装置は、媒体交換、ランダムアク
セスが可能で安価であるため小型コンピュータの外部記
憶装置を始めとして広く用いられ、さらに高記録密度
化、高信頼性化が進められている。磁気記録における高
記録密度化は主として磁気記録媒体の磁性層の高保磁力
化と薄層化とによって実現されるが、従来使用されてい
る磁性体微粒子を高分子バインダ中に分散させたものを
基体上に塗布した構造のいわゆる塗布型磁気記録媒体に
比べて、高保磁力化が容易で薄層化に適したCo-Ni合金
の蒸着膜やスパッタ膜、或いはCo-Pt合金スパッタ膜等
を用いる金属薄膜型磁気記録媒体が注目されている。一
方、このような磁気記録媒体の面内方向に記録を行なう
従来の長手記録方式とは異なり、磁気記録媒体の厚さ方
向に残留磁化を形成して信号の記録を行なう垂直磁気記
録方式は、高い記録密度が得られる点で注目され、その
記録媒体としてCo-Cr合金の蒸着膜またはスパッタ膜が
研究されている。
キシブル磁気ディスク装置は、媒体交換、ランダムアク
セスが可能で安価であるため小型コンピュータの外部記
憶装置を始めとして広く用いられ、さらに高記録密度
化、高信頼性化が進められている。磁気記録における高
記録密度化は主として磁気記録媒体の磁性層の高保磁力
化と薄層化とによって実現されるが、従来使用されてい
る磁性体微粒子を高分子バインダ中に分散させたものを
基体上に塗布した構造のいわゆる塗布型磁気記録媒体に
比べて、高保磁力化が容易で薄層化に適したCo-Ni合金
の蒸着膜やスパッタ膜、或いはCo-Pt合金スパッタ膜等
を用いる金属薄膜型磁気記録媒体が注目されている。一
方、このような磁気記録媒体の面内方向に記録を行なう
従来の長手記録方式とは異なり、磁気記録媒体の厚さ方
向に残留磁化を形成して信号の記録を行なう垂直磁気記
録方式は、高い記録密度が得られる点で注目され、その
記録媒体としてCo-Cr合金の蒸着膜またはスパッタ膜が
研究されている。
これら高記録密度用薄膜媒体をフレキシブル磁気ディス
クとする事が試みられている。この時には、可撓性の高
分子フィルムを基体として、上記の強磁性薄膜をその両
面に蒸着スパッタリング等の方法で形成したものをディ
スク形状に成形する。
クとする事が試みられている。この時には、可撓性の高
分子フィルムを基体として、上記の強磁性薄膜をその両
面に蒸着スパッタリング等の方法で形成したものをディ
スク形状に成形する。
しかしながら従来の薄膜型のフレキシブル磁気ディスク
には磁気ヘッドとの摺動に対する機械的耐久性が実用上
充分でないという問題点があった。
には磁気ヘッドとの摺動に対する機械的耐久性が実用上
充分でないという問題点があった。
フレキシブル磁気ディスク装置においては信号の記録再
生時、媒体は磁気ヘッドに押し付けらるが、媒体自身の
可撓性によって磁気ヘッド表面に密着するように変形
し、ディスクの回転に伴い接触摺動する。この為、媒体
と磁気ヘッドとの間隙は小さくなり、優れた記録再生特
性が得られるのである。しかし逆に、装置作動状態では
この様な変形と接触摺動を繰り返すため、媒体は磁気ヘ
ッドとの摺動に対する機械的耐久性に優れていることが
要求される。
生時、媒体は磁気ヘッドに押し付けらるが、媒体自身の
可撓性によって磁気ヘッド表面に密着するように変形
し、ディスクの回転に伴い接触摺動する。この為、媒体
と磁気ヘッドとの間隙は小さくなり、優れた記録再生特
性が得られるのである。しかし逆に、装置作動状態では
この様な変形と接触摺動を繰り返すため、媒体は磁気ヘ
ッドとの摺動に対する機械的耐久性に優れていることが
要求される。
従来の塗布型媒体では磁性層の厚さが数μｍと厚く、し
かも磁性体微粒子を高分子バインダ中に分散させた構造
であるため繰り返しの変形、摺動に対しても実用上充分
な耐久性を実現出来た。これに対して薄膜型媒体では磁
性層の厚さが１μｍ以下と薄く、連続薄膜であるため実
用上必要な機械的耐久性を実現するのが困難であった。
かも磁性体微粒子を高分子バインダ中に分散させた構造
であるため繰り返しの変形、摺動に対しても実用上充分
な耐久性を実現出来た。これに対して薄膜型媒体では磁
性層の厚さが１μｍ以下と薄く、連続薄膜であるため実
用上必要な機械的耐久性を実現するのが困難であった。
フレキシブル磁気ディスクのような可撓性の材料の耐久
性には材料全体の柔軟性もしくは剛性が大きな影響を及
ぼす事が知られている（例えば、社団法人 日本潤滑学
会発行「潤滑」、第30巻、第８号、554ページ）。しか
し、その最適値は個々の機械システムによって異なるた
め、一般的には決められない。
性には材料全体の柔軟性もしくは剛性が大きな影響を及
ぼす事が知られている（例えば、社団法人 日本潤滑学
会発行「潤滑」、第30巻、第８号、554ページ）。しか
し、その最適値は個々の機械システムによって異なるた
め、一般的には決められない。
本発明者は、薄膜型フレキシブル磁気ディスクの機械的
耐久性を向上させるため、種々の曲げ剛性の媒体を試作
し、それらの摺動耐久性に対して曲げ剛性の大きさに或
る最適値がある事を見出し、本発明に至ったものであ
る。
耐久性を向上させるため、種々の曲げ剛性の媒体を試作
し、それらの摺動耐久性に対して曲げ剛性の大きさに或
る最適値がある事を見出し、本発明に至ったものであ
る。
本発明の可撓性磁気ディスクは、可撓性の基体の両面に
強磁性薄膜を形成して磁気記録層とする可撓性磁気ディ
スクにおいて、曲げ剛性が１×10-5Ｎ・ｍ以上１×10-4
Ｎ・ｍ以下である事を特徴とする。
強磁性薄膜を形成して磁気記録層とする可撓性磁気ディ
スクにおいて、曲げ剛性が１×10-5Ｎ・ｍ以上１×10-4
Ｎ・ｍ以下である事を特徴とする。
次に、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。
次の第１表の試料１〜12に示す材質、厚さの異なる基体
を用いてフレキシブル磁気ディスクを試作した。基体の
材質はポリイミド（PI）とポリエチレンテレフタレート
（PET）である。
を用いてフレキシブル磁気ディスクを試作した。基体の
材質はポリイミド（PI）とポリエチレンテレフタレート
（PET）である。
磁性層構成が単層の試料は基体の両面にCoCr合金をター
ゲットとしたArガス中のスパッタリングによりそれぞれ
厚さ3000ÅのCoCr薄膜を形成したものである。磁性層構
成が二層の試料は基体の両面にNiFe合金をターゲットと
したArガス中のスパッタリングにより厚さ5000ÅのNiFe
薄膜を形成し、この上にCoCr合金をターゲットとしたAr
ガス中でのスパッタリングにより厚さ3000ÅのCoCr薄膜
を形成したものである。単層、二層共、これら磁性層の
上にさらにSiO2をターゲットとしたArガス中のスパッタ
リングにより厚さ200ÅのSiO2保護膜を形成した。これ
らを3.5インチ径のマイクロフロッピーディスクの形状
に加工した後、潤滑剤としてパーフロロアルキルポリエ
ーテル（デュポン社製、商品名クライトックス）を塗布
して潤滑層を形成し、フレキシブル磁気ディスク媒体と
した。
ゲットとしたArガス中のスパッタリングによりそれぞれ
厚さ3000ÅのCoCr薄膜を形成したものである。磁性層構
成が二層の試料は基体の両面にNiFe合金をターゲットと
したArガス中のスパッタリングにより厚さ5000ÅのNiFe
薄膜を形成し、この上にCoCr合金をターゲットとしたAr
ガス中でのスパッタリングにより厚さ3000ÅのCoCr薄膜
を形成したものである。単層、二層共、これら磁性層の
上にさらにSiO2をターゲットとしたArガス中のスパッタ
リングにより厚さ200ÅのSiO2保護膜を形成した。これ
らを3.5インチ径のマイクロフロッピーディスクの形状
に加工した後、潤滑剤としてパーフロロアルキルポリエ
ーテル（デュポン社製、商品名クライトックス）を塗布
して潤滑層を形成し、フレキシブル磁気ディスク媒体と
した。
この他に試料13として従来使われている塗布型の媒体
（日本電気（株）、マイクロフロッピーディスク、商品
番号PC-FD802-10）も同時に評価した。
（日本電気（株）、マイクロフロッピーディスク、商品
番号PC-FD802-10）も同時に評価した。
また、これらの試料の曲げ剛性を測定した。第１図は曲
げ剛性の測定装置の概要を示したものである。測定対象
の試料１を間隔Ｌのナイフエッジ2.2′で支持し、その
中央部にナイフエッジ３で荷重Ｗを加え、試料１の中央
部が撓みｙだけたわんだとすると、試料１の曲げ剛性Ｄ
は試料１の幅をｂとすると第１式で与えられる。
げ剛性の測定装置の概要を示したものである。測定対象
の試料１を間隔Ｌのナイフエッジ2.2′で支持し、その
中央部にナイフエッジ３で荷重Ｗを加え、試料１の中央
部が撓みｙだけたわんだとすると、試料１の曲げ剛性Ｄ
は試料１の幅をｂとすると第１式で与えられる。
ここに、Ｅ及びＩはそれぞれ試料１の弾性係数及び断面
二次モーメントである。
二次モーメントである。
このようにして測定した各試料の曲げ剛性を第１表にま
とめた。
とめた。
これらの試料を市販のマイクロフロッピーディスク駆動
装置に装着して15KFRPIの信号を記録した後、ヘッドロ
ード状態で信号の読みだしを行ない、再生出力が初期出
力の70％に低下するまでの摺動回数を摺動耐久性とし、
結果を第２図にまとめた。測定は温度25℃、相対湿度50
％の環境で行なった。
装置に装着して15KFRPIの信号を記録した後、ヘッドロ
ード状態で信号の読みだしを行ない、再生出力が初期出
力の70％に低下するまでの摺動回数を摺動耐久性とし、
結果を第２図にまとめた。測定は温度25℃、相対湿度50
％の環境で行なった。
第２図からわかるように、薄膜型可撓性磁気ディスクの
摺動耐久性は基体の材質、磁性層の構成には依存せず媒
体全体の曲げ剛性に依存する。JIS C6291に従ってフレ
キシブル磁気ディスクの実用可能な摺動耐久性を300万
回以上とすると、実用可能な薄膜型媒体はその曲げ剛性
が値が１×10-5Ｎ・ｍ以上１×10-4Ｎ・ｍ以下の範囲の
ものであることがわかる。従来の塗布型媒体の曲げ剛性
はこの範囲よりも大きな値となっており、これは薄膜型
媒体では従来の塗布型媒体と同程度の曲げ剛性では充分
な耐久性が得られないことを示している。
摺動耐久性は基体の材質、磁性層の構成には依存せず媒
体全体の曲げ剛性に依存する。JIS C6291に従ってフレ
キシブル磁気ディスクの実用可能な摺動耐久性を300万
回以上とすると、実用可能な薄膜型媒体はその曲げ剛性
が値が１×10-5Ｎ・ｍ以上１×10-4Ｎ・ｍ以下の範囲の
ものであることがわかる。従来の塗布型媒体の曲げ剛性
はこの範囲よりも大きな値となっており、これは薄膜型
媒体では従来の塗布型媒体と同程度の曲げ剛性では充分
な耐久性が得られないことを示している。
薄膜型フレキシブル磁気ディスクの摺動耐久性がその曲
げ剛性に大きく依存し、しかもその値の最適範囲が１×
10-5Ｎ・ｍ以上１×10-4Ｎ・ｍ以下である理由は未だ明
確ではない。しかし、あまりに曲げ剛性が高い時には媒
体が磁気ヘッド表面に沿う形にうまく変形できず、磁気
ヘッドとの接触面積が小さくなり、結果として単位面積
当りの荷重が大きくなり耐久性が低下すると考えられ
る。逆に、曲げ剛性があまりに小さい時には磁気ヘッド
との摩擦力によって媒体全体が大きく変形して、薄膜の
変形限界を越えてしまうと考えられる。
げ剛性に大きく依存し、しかもその値の最適範囲が１×
10-5Ｎ・ｍ以上１×10-4Ｎ・ｍ以下である理由は未だ明
確ではない。しかし、あまりに曲げ剛性が高い時には媒
体が磁気ヘッド表面に沿う形にうまく変形できず、磁気
ヘッドとの接触面積が小さくなり、結果として単位面積
当りの荷重が大きくなり耐久性が低下すると考えられ
る。逆に、曲げ剛性があまりに小さい時には磁気ヘッド
との摩擦力によって媒体全体が大きく変形して、薄膜の
変形限界を越えてしまうと考えられる。
なお、本発明を実施する可撓性磁気ディスクの基体は上
述のポリイミドまたはポリエチレンテレフタレートに限
られず、そのほかに例えば、酢酸セルロース、ニトロセ
ルロース、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポ
リテトラフルオロエチレン、ポリトリフルオルエチレ
ン、エチレン、プロピレン等α−オレフィンの重合体あ
るいは共重合体、ポリ塩化ビニルの重合体あるいは共重
合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリエ
チレンナフタレート、等の有機高分子フィルムも用いら
れる。
述のポリイミドまたはポリエチレンテレフタレートに限
られず、そのほかに例えば、酢酸セルロース、ニトロセ
ルロース、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポ
リテトラフルオロエチレン、ポリトリフルオルエチレ
ン、エチレン、プロピレン等α−オレフィンの重合体あ
るいは共重合体、ポリ塩化ビニルの重合体あるいは共重
合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリエ
チレンナフタレート、等の有機高分子フィルムも用いら
れる。
また、強磁性薄膜は上述のCoCrまたはNiFeに限られず、
例えば、Fe、Co、Niその他の強磁性金属、あるいはこれ
らの酸化物、あるいはFe-Co、Co-Ni、Fe-Ti、Fe-Cr、Fe
-Si、Co-V、Co-Sm、Co-Pt、Co-P、Co-Ni-P、Fe-Cr-Co等
の強磁性合金あるいはこれらに添加物を加えたものを真
空蒸着、スパッタリング法、イオンプレーティング法、
電気メッキ法、無電解メッキ法、等によって薄膜状に形
成したものでもよい。強磁性薄膜の厚さは0.01〜２μｍ
の範囲が好ましい。
例えば、Fe、Co、Niその他の強磁性金属、あるいはこれ
らの酸化物、あるいはFe-Co、Co-Ni、Fe-Ti、Fe-Cr、Fe
-Si、Co-V、Co-Sm、Co-Pt、Co-P、Co-Ni-P、Fe-Cr-Co等
の強磁性合金あるいはこれらに添加物を加えたものを真
空蒸着、スパッタリング法、イオンプレーティング法、
電気メッキ法、無電解メッキ法、等によって薄膜状に形
成したものでもよい。強磁性薄膜の厚さは0.01〜２μｍ
の範囲が好ましい。
また上述のSiO2保護膜は、必ずしも必要ではない。また
SiO2保護膜のほかに例えば、Ti、Cr、Mo、Ｗ、Al2O3、S
iO2、TiO2、ZrO2、Cr2O3、B4C、SiC、TiC、WC、BN、Si3
N4等の保護膜を設けても良い。
SiO2保護膜のほかに例えば、Ti、Cr、Mo、Ｗ、Al2O3、S
iO2、TiO2、ZrO2、Cr2O3、B4C、SiC、TiC、WC、BN、Si3
N4等の保護膜を設けても良い。
さらに強磁性薄膜上、もしくは上記保護覆を設けた場合
は保護膜上に潤滑層を形成する。潤滑層としては脂肪
酸、金属石鹸等の炭化水素系の潤滑剤、シリコーンオイ
ル、フロロシリコンオイル、パーフロロアルキルポリエ
ーテル等の潤滑油、テトラフロロエチレン低重合体、カ
ーボン、二硫化モリブデン等の固体潤滑剤、もしくはこ
れらの混合物を直接、または適当な溶剤に溶解もしくは
分散させたものを強磁性薄膜上もしくは被覆上に真空蒸
着法、浸漬法スプレー法、蒸着法、ローラーコート法、
スピンコート法等の塗布方法によって塗布して形成す
る。
は保護膜上に潤滑層を形成する。潤滑層としては脂肪
酸、金属石鹸等の炭化水素系の潤滑剤、シリコーンオイ
ル、フロロシリコンオイル、パーフロロアルキルポリエ
ーテル等の潤滑油、テトラフロロエチレン低重合体、カ
ーボン、二硫化モリブデン等の固体潤滑剤、もしくはこ
れらの混合物を直接、または適当な溶剤に溶解もしくは
分散させたものを強磁性薄膜上もしくは被覆上に真空蒸
着法、浸漬法スプレー法、蒸着法、ローラーコート法、
スピンコート法等の塗布方法によって塗布して形成す
る。
以上のように、本発明によれば、可撓性基体上に形成し
た強磁性薄膜を磁気記録層とする可撓性磁気ディスクに
おいて、磁気ヘッドとの摺動に対して優れた耐久性を得
ることができる。
た強磁性薄膜を磁気記録層とする可撓性磁気ディスクに
おいて、磁気ヘッドとの摺動に対して優れた耐久性を得
ることができる。
第１図は試料の曲げ剛性の測定方法を示す図、第２図は
試料の曲げ剛性と摺動耐久性との関係を示すグラフであ
る。 １……試料、2,2′,3……エッジ。
試料の曲げ剛性と摺動耐久性との関係を示すグラフであ
る。 １……試料、2,2′,3……エッジ。
Claims (1)
- 【請求項１】可撓性の基体の両面に強磁性薄膜を形成し
て磁気記録層とする可撓性磁気ディスクにおいて、曲げ
剛性が１×10-5Ｎ・ｍ以上１×10-4Ｎ・ｍ以下である事
を特徴とする可撓性磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61240620A JPH0754582B2 (ja) | 1986-10-08 | 1986-10-08 | 可撓性磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61240620A JPH0754582B2 (ja) | 1986-10-08 | 1986-10-08 | 可撓性磁気デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6394433A JPS6394433A (ja) | 1988-04-25 |
| JPH0754582B2 true JPH0754582B2 (ja) | 1995-06-07 |
Family
ID=17062200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61240620A Expired - Lifetime JPH0754582B2 (ja) | 1986-10-08 | 1986-10-08 | 可撓性磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0754582B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6470913A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-16 | Toshiba Corp | Magnetic recording medium |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0760503B2 (ja) * | 1985-04-17 | 1995-06-28 | ティーディーケイ株式会社 | ビデオテープ |
-
1986
- 1986-10-08 JP JP61240620A patent/JPH0754582B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6394433A (ja) | 1988-04-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |