JPH075559B2

JPH075559B2 - γ−ピリドン誘導体の製法

Info

Publication number: JPH075559B2
Application number: JP9403286A
Authority: JP
Inventors: 陽一郎上田; 幸久後藤; 和久正本
Original assignee: Daicel Chemical Industries Ltd
Current assignee: Daicel Corp
Priority date: 1986-04-23
Filing date: 1986-04-23
Publication date: 1995-01-25
Anticipated expiration: 2010-01-25
Also published as: JPS62249973A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）この発明は、1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジ
ンカルボキサミド化合物の新規な製法に関するものであ
る。この発明によって得られる化合物は、医薬、農薬あ
るいはそれらの合成中間体として有用である。

（従来技術）この発明に関する1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピ
リジンカルボキサミド化合物を製造する方法としては、
以下のものが知られている。加藤鉄三等は、３−アミノ
クロトンアニリド類とジケテンとを60℃または90℃に加
熱することによって、Ｎ−（４−クロロフェニル）−1,
4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−３−ピリジ
ンカルボキサミド、1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４
−オキソ−Ｎ−フェニル−１−（フェニルメチル）−３
−ピリジンカルボキサミド、Ｎ−（４−クロロフェニ
ル）−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−１
−（フェニルメチル）−３−ピリジンカルボキサミド、
および1,4−ジヒドロ−Ｎ−（４−メトキシフェニル）
−2,6−ジメチル−４−オキソ−１−（フェニルメチ
ル）−３−ピリジンカルボキサミドを得ている（薬学雑
誌、101、40（1981）参照）が、どの場合も収率が低く
工業的に応用しうる製造方法とは考えられない。

カナダ特許第1,115,278号では、Ｎ−（４−クロロフェ
ニル）−３−（エチルアミノ）−２−ブテンアミドとジ
ケテンとをトリエチルアミンの存在のもとで、トルエン
還流下に反応させて、Ｎ−（４−クロロフェニル）−１
−エチル−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ
−３−ピリジンカルボキサミドを得ているが、収率の記
載はない。また同特許は、β−ケトアミド類を、酸触媒
の存在下脱水を伴う二量化反応によって、1,4−ジヒド
ロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド類を製造
する方法を開示している。しかしながら、この方法は、
γ−ピリドン環の２位と６位の置換基、および１位とア
ミドの窒素原子の置換基がそれぞれ同一である1,4−ジ
ヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド化合
物の製造にしか適用できないため、一般的な製法とはい
えない。

一方、特開昭52−144676号は、４−オキソ−4H−ピラン
−３−カルボン酸エステル誘導体と第１級アミンとを、
酸触媒の存在下に処理することによる、1,4−ジヒドロ
−４−オキソ−３−ピリジンカルボン酸エステル誘導体
の製法について記載している。しかしながら、我々の試
験によれば、４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサ
ミド誘導体と第１級アミンとを酸触媒の存在下に処理し
た場合には、目的とする1,4−ジヒドロ−４−オキソ−
３−ピリジンカルボキサミド誘導体はほとんど得られな
いことが判明した。

（発明の目的）この発明は、1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジ
ンカルボキサミド化合物を好収率で製造するための一般
的応用可能な方法を提供することを目的とするものであ
る。

（発明の構成）この発明は一般式（Ｉ）：〔R¹はアルキル基、R²はアラルキル基；ハロゲン原子、
アルキル基もしくはアルコキシ基で置換されていてもよ
いアリール基；又は５もしくは６員の異項環基：R³、R⁴
はそれぞれ同一もしくは異なって、水素原子；アルキル
基；ハロゲン化アルキル基；ハロゲン原子、アルキル基
もしくはアルコキン基で置換されていてもよいアリール
基又は、アラルキル基を表わすか、あるいはR³及びR⁴は
一緒に−(CH₂)ｍ−（ｍは３又は４である）を表わす〕で表わされる化合物と一般式（II）： R⁵NH₂ （II）〔R⁵は−(CH₂)n-R⁶（ｎは１〜４の整数；R⁶は水素原
子；アルキル基；アルケニル基；アルキニル基；シクロ
アルキル基；アルコキシ基；アルキルチオ基；アリール
チオ基；ハロゲン原子；メルカプト基；ヒドロキシ基；
置換されてもよいアミノ基；カルボキシ基；アルコキシ
カルボニル基；シアノ基；置換されてもよいカルバモイ
ル基；アルキル基，ハロゲン原子もしくはアルコキシ基
で置換されていてもよいアリール基；または５もしくは
６員の異項環基）を表わす〕で表わされる化合物とを、無機または有機の塩基の存在
下に処理して一般式（III）：〔R¹〜R⁵は上記の定義と同じ〕で表わされるγ−ピリドン誘導体を製造する方法を要旨
とする。

一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、一般式（IV）また
は（IV）′：〔式中R¹,R²は上記と同じ:lは０〜６の整数、R⁸はジア
ルキルアミノ基を表わす〕で表わされる化合物と一般式（Ｖ）：〔式中R³,R⁴は上記と同じ：R⁹,R¹⁰は水素原子アルキル
基あるいはフェニル基を表わすかまたはR⁹およびR¹⁰が
共にアルキル基のときシクロアルキル基を形成してもよ
い〕で表わされる化合物を反応させるか又は一般式（VI）：〔式中R¹,R²は上記と同じ：R¹¹,R¹²は水素原子、アルキ
ル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アリール基、
異項環基を表わすかまたはR¹¹およびR¹²か共にアルキル
基のとき１〜３個のヘテロ原子を伴うかまたは伴わずに
環を形成してもよい〕で表わされる化合物と一般式
（Ｖ）の化合物とを第３級有機塩基の存在下反応させる
ことによって容易に得られる。R³が水素原子でありかつ
R⁴がメチル基である場合には、一般式（Ｖ）の化合物の
かわりに、ジケテンを用いることができる。〔又、一般
式（Ｉ）の化合物は、その他の既知の方法によって得る
こともできる。〕 R¹の定義において、アルキル基としてはメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペン
チル、オクチル、ドデシルのような炭素数１〜12の直鎖
状あるいは分岐状のアルキル基があげられる。

R²の定義においてアラルキル基としては、置換されてい
てもよいアリール基で置換されたアルキル基；アリール
基としては、ハロゲン原子、アルキル基もしくはアルコ
キシ基で置換されていてもよいフェニル基またはナフチ
ル基;5もしくは６員の異項環基としては、５もしくは６
員の置換されていてもよい異項環基が含まれる。

R³,R⁴定義において、アルキル基としてはR¹におえる例
示と同じものが；アリール基及びアラルキル基としては
R²における例示と同じものが；ハロゲン化アルキル基と
してはトリフルオロメチル、ジフルオロメチル、クロロ
メチルなどが含まれる。

R⁶の定義において、アルキル基としてはR¹における例示
と同じものが；アルケニル基またはアルキニル基として
は炭素数２〜７のアルケニル基またはアルキニル基が；
シクロアルキル基としては炭素数３〜７のシクロアルキ
ル基が；またはアルキルチオ基としては炭素数１〜12の
アルコキシ基またはアルキルチオ基；アリールチオ基と
してはR¹において例示したアリール基を含むアリ−ルチ
オ基が含まれる。

この発明の方法において用いられる無機または有機の塩
基としては水酸リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸
化バリウムなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属
の水酸化物；ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウムメトキサイド、カリウムエトキサイ
ドなどのアルカリ金属のアルコキサイド；炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩；リン酸
ナトリウム、リン酸カリウムなどのアルカリ金属のリン
酸塩；ホウ酸カリウムなどのアルカリ金属のホウ酸塩；
酢酸ナトリウム、ギ酸カリウムなどのアルカリ金属の有
機酸塩；テトラプロピルアンモニウムハイドロオキサイ
ド、テトラブチルアンモニウムハイドロオキサイド、ト
リオクチルメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ベ
ンジルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイドなど
の第４級アルキルアンモニウムハイドロオキサイド；ア
ンバ−リスト−Ａ−26（OH^-形）、アンバ−リスト−27
（OH^-形）などの交換基が第４級アンモニウムハイドロ
オキサイドである陰イオン交換樹脂；トリエチルアミ
ン、トリプロピルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミ
ノピリジン、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.0〕オクタン、
1,5−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−５などの第
３級有機塩基；又は、式（II）の化合物自身などが挙げ
られる。

塩基の使用量は、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムな
ど比較的強い塩基の場合は、式（Ｉ）の化合物に対して
触媒量で充分であるが、トリエチルアミンなど比較的弱
い塩基を用いる場合には式（Ｉ）の化合物に対して過剰
量、好ましくは２当量以上用いると好結果が得られる。

式（II）の化合物は、通常式（Ｉ）の化合物に対して１
〜２当量用いる。又、式（II）の化合物自体を塩基とし
て用いることも可能である。この場合には、式（II）の
化合物を式（Ｉ）の化合物に対して２当量以上用いると
好結果が得られる。他に塩基が存在しない場合には、式
（II）の化合物を式（Ｉ）の化合物に対して当量用いて
も、目的物である式（III）の化合物は極めて低い収率
でしか得られない。

反応溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘ
キサンなどの炭化水素；塩化メチレン、クロロホルム、
ジクロロエタンなどのハロゲン化物；ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソールなど
のエーテル；メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコールなどのアルコール；水素又はこれらの混合物が
用いられる。

反応温度は60℃以下が好ましいが、反応速度の点および
収率、操作上の点から−10℃から40℃の範囲が特に好ま
しい。60℃を越えると副反応が著しくなって不利であ
る。

（発明の効果）この発明の方法により、1,4−ジヒドロ−４−オキソ−
３−ピリジンカルボキサミド化合物が入手しやすい原料
を用い、簡単な操作によって収率良く得ることができる
ようになった。

以下実施例によって、この発明をさらに具体的に説明す
る。

実施例１ 1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェ
ニル−１−フェニルメチル−３−ピリジンカルボキサミ
ドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミド2.43g（10mmol）、ベンジルア
ミン1.61g（15mmol）、エタノール15ml、水3mlおよび2N
炭酸ナトリウム水溶液0.5mlの混合物を室温で終夜攪伴
した。析出した結晶を濾過、乾燥し、題記化合物2.56g
（収率77％）を得た。融点180.5−181.5℃。

比較例１ 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミド2.43g（10mmol）、ベンジルア
ミン1.07g（10mmol）、エタノール15mlおよび水3mlの混
合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物を¹H-NMRによっ
て分析した結果、1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−
オキソ−Ｎ−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリ
ジンカルボキサミドはトレース程度であった。

実施例２１−ヘキシル−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−Ｎ−
（2,6−ジメチルフェニル）−４−オキソ−３−ピリジ
ンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−Ｎ−（2,6−ジメチルフェニル）−４−
ソキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点114.5
−115℃）3.00g（11.1mmol）、ヘキシルアミン1.68g（1
6.6mmol）、エタノール18ml、水3.5mlおよび2N炭酸ナト
リウム水溶液0.55mlの混合物を室温で終夜攪拌した。反
応混合物に酢酸エチル50mlおよび無水硫酸ナトリウムを
入れてよく振りまぜた後、濾過し、その濾液を濃縮し、
残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合液から晶析して題記
化合物3.20g（収率82％）を得た。融点119−120.5℃。

実施例３Ｎ−（４−クロロフェニル）−1,4−ジヒドロ−2,6−ジ
メチル−１−（２−ジメチルアミノエチル）−４−オキ
ソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成Ｎ−（４−クロロフェニル）−2,6−ジメチル−４−オ
キソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点194−197
℃）833mg（3mmol）、N,N−ジメチルエチレンジアミン
0.40g（4.5mmol）エタノール5ml、水1mlおよび2N炭酸ナ
トリウム水溶液0.15mlの混合物を室温で８時間攪伴し
た。反応混合物に酢酸エチル20mlおよび無水硫酸ナトリ
ウムを入れてよく振りまぜた後、濾過し、その濾液を濃
縮し、残渣を酢酸エチルとヘキサンとの混合液から晶析
して題記化合物770mg（収率74％）を得た。融点162−16
4℃。

実施例４Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−１−
（３−メトキシプロピル）−2,6−ジメチル−４−オキ
ソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点83.5−
84.5℃）3.00g（10.0mmol）、３−メトキシプロピルア
ミン1.34g（15.0mmol）、エタノール17.5ml、水3.5mlお
よび2N炭酸ナトリウム水溶液0.5mlの混合物を室温で終
夜攪伴した。反応混合物に酢酸エチル60mlおよび無水硫
酸ナトリウムを入れてよく振りまぜた後濾過し、その濾
液を濃縮し、残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合液から
晶析して題記化合物2.94g（収率79％）を得た。融点106
−107℃。

実施例５Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−１−
（２−ヒドロキシエチル）−2,6−ジメチル−４−オキ
ソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成３−メトキシプロピルアミンのかわりに、２−アミノエ
タノールを用いる以外は実施例４と同様の操作を行うこ
とにより題記化合物2.26g（収率66％）を得た。融点203
−205℃。

実施例６Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−１−
〔2,2−ビス（メトキシ）エチル〕−2,6−ジメチル−４
−オキソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成３−メトキシプロピルアミンのかわりに、2,2−ビス
（メトキシ）エチルアミンを用いる以外は実施例４と同
様の反応操作を行った後、反応混合物を濃縮し、残渣を
シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによって
処理し油状の題記化合物1.55g（収率40％）を得た。

実施例７Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−６−トリフルオロメ
チル−1,4−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ−１−
（２−フェニルエチル）−３−ピリジンカルボキサミド
の合成Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−６−トリフルオロメ
チル−２−メチル−４−オキソ−4H−ピラン−３−カル
ボキサミド（融点140−141℃）0.90g（2.55mmol）、２
−フェニルエチルアミン0.46g（3.82mmol）、エタノー
ル9ml、水1mlおよび2N炭酸ナトリウム水溶液0.15mlの混
合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物に水を加えて、
析出した結晶を濾過、乾燥して、題記化合物1.01g（収
率87％）を得た。

融点179−180℃。

実施例８ 1,4−ジヒドロ−Ｎ−（2,4−ジメトキシピリミジン−６
−イル）−2,6−ジメチル−４−オキソ−１−フェニル
メチル−３−ピリジンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミドのかわりに、Ｎ−（2,4−ジメ
トキシピリミジン−６−イル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点202−2
03.5℃）を用いる以外は実施例１と同様に操作を行うこ
とにより、題記化合物を収率78％で得た。

融点196−198℃。

実施例９ 1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−Ｎ−（２−メチル−1,
3,4−チアジアゾール−５−イル）−４−オキソ−１−
フェニルメチル−３−ピリジンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミドのかわりに2,6−ジメチル−Ｎ
−（２−メチル−1,3,4−チアジアゾール−５−イル）
−４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点
203−204℃）を用いる以外は実施例１と同様の操作を行
うことにより、題記化合物を収率73％で得た。融点240
−242℃。

実施例10 1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−（１
−フェニルエチル）−１−フェニルメチル−３−ピリジ
ンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミドのかわりに2,6−ジメチル−４
−オキソ−Ｎ−（１−フェニルエチル）−4H−ピラン−
３−カルボキサミドを用いる以外は、実施例１と同様の
操作を行うことにより、題記化合物を収率75％で得た。

融点173.5−175℃。

実施例11 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−2,5,
6−トリメチル−４−オキソ−１−フェニルメチル−３
−ピリジンカルボキサミドの合成Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,5,6−トリメチル−
４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点74
−75℃）0.94g（3mmol）、ベンジルアミン0.48g（4.5mm
ol）、トルエン5mlおよび1N水酸化ナトリウムメタノー
ル溶液0.3mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合
物に水を加えた後、分液ロートに移してよく振りまぜ
た。有機層を常法により乾燥、濾過、濃縮し、残渣をイ
ソプロピルエーテルとジエチルエーテルの混合液から晶
析し題記化合物0.88g（収率73％）を得た。融点172−17
4℃。

実施例12 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4,5,6,7,8,−ヘキ
サヒドロ−２−メチル−４−オキソ−１−（２−フェニ
ルエチル）−３−キノリンカルボキサミドの合成Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−5,6,7,8,−テトラヒ
ドロ−２−メチル−４−オキソ−4H−クロメン−３−カ
ルボキサミド（融点115−117℃）1.30g（3.83mmol）、
２−フェニルエチルアミン0.70g（5.74mmol）、エタノ
ール10ml、水2ml及び1N水酸化ナトリウム水溶液0.8mlの
混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物から減圧下に
溶媒を除去した後、酢酸エチル及び水を加え分液ロート
に移してよく振りまぜた。有機層を常法により乾燥、濾
過、濃縮し、残渣を酢酸エチルから晶析して題記化合物
0.70g（収率41％）を得た。融点188−190℃。

実施例13 １−ブチル−Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジ
ヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−５−フェニルメ
チル−３−ピリジンカルボキサミドの合成Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−５−フェニルメチル−4H−ピラン−３−カルボ
キサミド（融点95−96℃）1.00g（2.57mmol）、ブチル
アミン0.28g（3.85mmol）、トルエン5ml及び1N水酸化ナ
トリウムメタノール溶液0.9mlの混合物を室温で２日間
攪伴した。反応混合物に水を加えた後、分液ロートに移
してよく振りまぜた。有機層を常法により乾燥、濾過、
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
よって処理し、油状の題記化合物0.75g（収率66％）を
得た。

実施例14 1,4−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニ
ル−１−フェニルメチル−６−プロピル−３−ピリジン
カルボキサミドの合成２−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−６−プロピル
−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点133−134℃）
1.00g（3.69mmol）、ベンジルアミン0.59g（5.53mmo
l）、トルエン5ml及び1N水酸化ナトリウムメタノール溶
液0.4mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物に
水及びエチルエーテルを加え、析出した結晶を濾過、乾
燥して、題記化合物1.11g（収率83％）を得た。融点112
−113℃。

実施例15 Ｎ−（３−クロロ−２−メチルフェニル）−1,4−ジヒ
ドロ−2,5,6−トリメチル−４−オキソ−１−（２−フ
ェニルエチル）−３−ピリジンカルボキサミドの合成Ｎ−（３−クロロ−２−メチルフェニル）−2,5,6−ト
リメチル−４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミ
ド（融点170−171℃）0.65g（2.13mmol）、２−フェニ
ルエチルアミン0.39g（3.19mmol）、トルエン5ml及び1N
水酸化ナトリウムメタノール溶液0.6mlの混合物を室温
で終夜攪伴した。反応混合物に水及びエチルエ−テルを
加え、析出した結晶を濾過、乾燥して、題記化合物0.62
g（収率71％）を得た。融点200−202℃。

実施例16 1,4−ジヒドロ−４−オキソ−Ｎ−フェニル−2,6−ジプ
ロピル−１−（２−ピリジルメチル−３−ピリジンカル
ボキサミドの合成４−オキソ−Ｎ−フェニル−2,6−ジプロピル−4H−ピ
ラン−３−カルボキサミド（融点103.5−105℃）1.00g
（3.34mmol）、２−ピリジルメチルアミン0.54g（5.01m
mol）、トルエン5ml及び1N水酸化ナトリウムメタノール
溶液1mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物に
酢酸エチル及び水を加え、分液ロートに移してよく振り
まぜた。有機層から溶媒を減圧下に除去し、その残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって処理した
後、酢酸エチル及びヘキサンの混合液から晶析して題記
化合物1.00g（収率77％）を得た。融点93.5−95℃。

実施例17 １−ブチル−1,4−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ
−N,6−ジフェニル−３−ピリジンカルボキサミドの合
成２−メチル−４−オキソ−N,6−−ジフェニル−4H−ピ
ラン−３−カルボキサミド（融点165−167℃）0.92g（3
mmol）、ブチルアミン2.20g（30mmol）、エタノール8m
l、水1ml及び1N水酸化ナトリウム水溶液0.6mlの混合物
を室温で終夜攪伴した。反応混合物から溶媒を減圧下に
除去した後、水及びエチルエーテルを加え、析出した結
晶を濾過、乾燥し、題記化合物0.77g（収率71％）を得
た。融点181−183℃。

実施例18 １−（３−クロロフェニル）−1,4−ジヒドロ−2,6−ジ
メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−３−ピリジンカル
ボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミド1.00g（4.11mmol）、ｍ−クロ
ロアニリン0.79g（6.17mmol）、トルエン5ml及び1N水酸
化ナトリウムメタノール溶液3mlの混合物を室温で２日
間攪伴した。反応混合物から溶媒を減圧下に除去した
後、残渣に塩化メチレン及び水を加え、分液ロートに移
してよく振りまぜた。有機層を常法により乾燥、濃縮
し、残渣をエチルエーテルから晶析して題記化合物0.84
g（収率58％）を得た。

融点207−209℃。

比較例２ 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミド1.50g（6.17mmol）、ｍ−クロ
ロアニリン0.87g（6.78mmol）、ｐ−トルエンスルホン
酸１水和物20mg及びトルエン15mlの混合物を３時間加熱
還流した。反応混合物から溶媒を減圧下に除去した後、
残渣を¹H-NMRで分析した結果１−（３−クロロフェニ
ル）−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ
−フェニル−３−ピリジンカルボキサミドはトレース程
度であった。

実施例19 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−2,6
ジメチル−１−（２−ジメチルアミノエチル）−４−オ
キソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド1.50g（5.01m
mol）、N,N−ジメチルエチレンジアミン0.44g（5.01mmo
l）、トリエチルアミン10.2g（100mmol）、エタノール2
5ml及び水5mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合
物から減圧下に溶媒及びトリエチルアミンを除去した
後、残渣をイソプロピルエーテルから晶析し、題記化合
物1.52g（収率82％）を得た。融点121−122℃。

実施例20 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−2,6
−ジメチル−１−（２−ジメチルアミノエチル）−４−
オキソ−３−ピリジカルボキサミドの合成Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド1.50g（5.01m
mol）、N,N−ジメチルエチレンジアミン8.82ml（100mmo
l）、エタノール25ml及び水5mlの混合物を室温で７時間
攪伴した。反応混合物から減圧下に溶媒及び未反応のN,
N−ジメチルエチレンジアミンを除去した後、残渣をイ
ソプロピルエーテルから晶析し、題記化合物1.52g（収
率82％）を得た。

融点121−122℃。

実施例21 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−1,5,
6−トリメチル−４−オキソ−２−プロピル−３−ピリ
ジンカルボキサミドの合成Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−5,6−ジメチル−４−
オキソ−２−プロピル−4H−ピラン−３−カルボキサミ
ド（融点59.5−61℃）0.93g（2.72mmol）、40％メチル
アミン水溶液2.7ml及びエタノール5mlの混合物を室温で
終夜攪伴した。反応混合物から減圧下に未反応のメチル
アミン及び溶媒を除去した後、残渣をエチルエーテルと
ヘキサンの混合液から晶析することにより、題記化合物
0.81g（収率84％）を得た。

融点148−150.5℃。

以上の実施例記載の合成によって得られた化合物の赤外
線吸収スペクトル（IR）及びプロトン核磁気共鳴スペク
トル（¹H-NMR）の抜粋データを表に記した。IRスペクト
ルデータからは約1600−1700cm^-1の範囲にある吸収極大
の波数を、また¹H-NMRスペクトルデータからは一重線の
シグナル（ピリジン環の１位窒素に直結したメチレン基
のもの及びアミドのプロトンは除外した）の化学シフト
及びプロトン数を記した。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（Ｉ）：〔R¹はアルキル基：R²はアラルキル基；ハロゲン原子、
アルキル基もしくはアルコキシ基で置換されていてもよ
いアリール基；又は５もしくは６員の異項環基：R³、R⁴
はそれぞれ同一もしくは異なって、水素原子；アルキル
基；ハロゲン化アルキル基；ハロゲン原子、アルキル基
もしくはアルコキン基で置換されていてもよいアリール
基又は、アラルキル基を表すか；あるいはR³及びR⁴は一
緒に−(CH₂)m−（ｍは３又は４である）を表わす〕で表わされる化合物と一般式（II）： R⁵NH₂ （II）〔R⁵は−(CH₂)n-R⁶（ｎは１〜４の整数、R⁶は水素原
子；アルキル基；アルケニル基；アルキニル基；シクロ
アルキル基；アルコキシ基；アルキルチオ基；アリール
チオ基；ハロゲン原子；メルカプト基；ヒドロキシ基；
置換されてもよいアミノ基；カルボキシ基；アルコキシ
カルボニル基；シアノ基；置換されてもよいカルバモイ
ル基；アルキル基，ハロゲン原子もしくはアルコキシ基
で置換されていてもよいアリール基；または５もしくは
６員の異項環基）を表わす〕で表わされる化合物とを、無機または有機の塩基の存在
下に処理して一般式（III）：〔R¹〜R⁵は上記の定義と同じ〕で表わされるγ−ピリドン誘導体を製造する方法。
【請求項２】塩基がアルカリ金属またはアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸塩もしくはアルコキサイド又は第４
級アンモニウムハイドロオキサイドである特許請求の範
囲第１項記載の方法。
【請求項３】塩基が触媒量用いられる特許請求の範囲第
２項記載の方法。
【請求項４】塩基が第３級有機塩基である特許請求の範
囲第１項記載の方法。
【請求項５】塩基として、過剰量の式（II）の化合物を
用いる特許請求の範囲第１項記載の方法。
【請求項６】一般式（Ｉ）の化合物と一般式（II）の化
合物との処理が−10℃〜40℃で行われる特許請求の範囲
第１〜４項記載の方法。