JPH0755966B2 - Resin composition for groove material or protective film of optical disk - Google Patents
Resin composition for groove material or protective film of optical diskInfo
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- JPH0755966B2 JPH0755966B2 JP60291949A JP29194985A JPH0755966B2 JP H0755966 B2 JPH0755966 B2 JP H0755966B2 JP 60291949 A JP60291949 A JP 60291949A JP 29194985 A JP29194985 A JP 29194985A JP H0755966 B2 JPH0755966 B2 JP H0755966B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光信号を高速、高密度に記録、再生する光デ
ィスク記録媒体用溝材等として有用な、紫外線等により
硬化し、基材に対する接着性、耐熱水性の良好な耐ヒー
トシヨツク性、硬度の優れた光デイスク用樹脂組成物に
関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Use) The present invention is useful for a groove material for an optical disk recording medium for recording and reproducing an optical signal at high speed and high density, which is cured by ultraviolet rays or the like to a substrate. The present invention relates to a resin composition for an optical disk, which has excellent adhesiveness, hot water resistance, heat shock resistance, and hardness.
（従来の技術） 現在、民生用のデイスクの材料としては、ポリカーボネ
ート樹脂やメチルメタクリレート樹脂が使用されてい
る。又、2,2−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ
フエニル）プロパンとスチレン等の単量体からなるデイ
スクの材料も提案されている。産業用の光デイスクは、
長期信頼性等の品質要求のため無機ガラスを基材として
デイスクの開発が行なわれており、同時にガラス基材用
の溝材の開発も進められている。(Prior Art) Currently, polycarbonate resins and methyl methacrylate resins are used as materials for consumer-use disks. In addition, a disk material composed of a monomer such as 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxyphenyl) propane and styrene has also been proposed. Industrial optical discs
Discs are being developed using inorganic glass as a base material for quality requirements such as long-term reliability, and at the same time, groove materials for glass base materials are being developed.
（発明が解決しようとする問題点） 産業用の光デイスクは、長期信頼性が要求されるため、
溝材に対する特性として、耐熱水性、耐ヒートシヨツク
性、高い硬度、透明性等の優れた品質が要求されてい
る。(Problems to be solved by the invention) Industrial optical discs require long-term reliability.
Excellent properties such as hot water resistance, heat shock resistance, high hardness, and transparency are required for the groove material.
従来、紫外線硬化型樹脂組成物としては、多くの組成物
が知られているが、上記の特性を十分に満たす組成物は
今日まで、見い出されていないのが実状である。特開昭
59−71317号公報には、ガラスを基材とした光デイスク
用の光硬化型接着性組成物が提案されている。この組成
物は、２−エチル−２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート等の分子中にOH基を持ったモノ（メタ）アクリ
レートを主成分としており、溝材として使用するには、
耐熱水性や硬度等が不十分であり、不向きである。Conventionally, many compositions have been known as ultraviolet curable resin compositions, but in reality, no compositions have been found to date that sufficiently satisfy the above-mentioned properties. JPA
In Japanese Patent Publication No. 59-71317, a photocurable adhesive composition for optical discs, which uses glass as a base material, is proposed. This composition contains, as a main component, mono (meth) acrylate having an OH group in the molecule such as 2-ethyl-2-hydroxyethyl (meth) acrylate.
Not suitable for hot water resistance and hardness.
（問題点を解決するための手段） 上記の問題を解決するために、本発明者らは鋭意研究の
結果、紫外線による硬化が速く、耐熱水性、耐ヒートセ
ット性、硬度にすぐれた光ディスク用樹脂組成物を製出
することに成功し本発明を完成させた。すなわち、本発
明は下記一般式〔Ｉ〕で示される化合物（Ａ） （式中Ｒは水素原子またはメチル基を意味する） 10〜80重量％と、ビスフェノール型エポキシアクリレー
ト（Ｂ）20〜90重量％及び光増感剤（Ｃ）０〜10重量％
（但し０を除く）を含有することを特徴とする光ディス
クの溝材又は保護膜用樹脂組成物を提供する。(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the inventors of the present invention have earnestly studied and, as a result, have found that the resin for optical discs, which has a fast curing by ultraviolet rays, is excellent in hot water resistance, heat setting resistance, and hardness. The present invention was completed successfully by producing a composition. That is, the present invention provides a compound (A) represented by the following general formula [I] (Wherein R represents a hydrogen atom or a methyl group) 10 to 80% by weight, bisphenol type epoxy acrylate (B) 20 to 90% by weight and photosensitizer (C) 0 to 10% by weight
There is provided a resin composition for a groove material or a protective film for an optical disk, which contains (but excluding 0).
本発明に使用される一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物
は、ヒドロキシ・ジシクロペンタジエンを水素化するこ
とによって得られるヒドロキシトリシクロ〔5,2,1,
02,6〕デカンと（メタ）アクリル酸をエステル化反応さ
せることにより得ることができる。一般式〔Ｉ〕で示さ
れる化合物（Ａ）としては、（メタ）アクリロイルオキ
シ基が８−位又は９−位に入った化合物等が挙げられ
る。一般式〔Ｉ〕で示される化合物（Ａ）は、容易に市
販品として入手する事ができる（日立化成（株）製、FA
−513A（アクリレート）、FA−513M（メタクリレー
ト））。The compound represented by the general formula [I] used in the present invention is hydroxytricyclo [5,2,1,1] obtained by hydrogenating hydroxy dicyclopentadiene.
[0 2,6 ] Decane and (meth) acrylic acid can be obtained by an esterification reaction. Examples of the compound (A) represented by the general formula [I] include compounds having a (meth) acryloyloxy group in the 8-position or 9-position. The compound (A) represented by the general formula [I] can be easily obtained as a commercially available product (FA manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.).
-513A (acrylate), FA-513M (methacrylate)).
ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｂ）はビス
フェノール型エポキシ樹脂（例えばシェル石油化学社
製、エポコート828、1001、1004等のビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂）と（メタ）アクリル酸との反応によっ
て得られるビスフェノールＡ型エポキシアクリレート類
で市販品が容易に入手できる。The bisphenol A type epoxy acrylate (B) is a bisphenol type epoxy resin (for example, bisphenol A such as Epocoat 828, 1001, 1004 manufactured by Shell Petrochemical Co., Ltd.
Type epoxy resin) and bisphenol A type epoxy acrylates obtained by the reaction of (meth) acrylic acid, and commercially available products are easily available.
ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｂ）は、１
種又は、２種以上使用することができる。光増感剤
（Ｃ）としては、公知のどのような光増感剤でも使用す
ることができるが配合後の貯蔵安定性の良いものが望ま
しい。この様な光増感剤としては、例えばベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインブチルエーテルなどのベンゾ
インアルキルエーテル系、2,2−ジエトリキアセトフエ
ノン、４′−フエノキシ−2,2−ジクロロアセトフエノ
ンなどのアセトフエノン系、２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロピオフエノン、４′−イソプロピル−２−ヒドロ
キシ−２−メチルプロピオフエノンなどのプロピオフエ
ノン系、１−ヒドロキシシクロヘキシルフエニルケト
ン、ベンジルジメチルケトン及び２−エチルアントラキ
ノン、２−クロルアントラキノンなどのアントラキノン
系、２−クロルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキ
サントンなどのチオキサントン系光増感剤などがあげら
れる。特に好ましいものとしては１−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフエニルケトン等があげられる。これら光増感
剤は、１種または２種以上を任意の割合で混合して使用
する事が出来る。Bisphenol A type epoxy acrylate (B) is 1
One kind or two or more kinds can be used. As the photosensitizer (C), any known photosensitizer can be used, but one having good storage stability after compounding is desirable. Examples of such a photosensitizer include benzoin alkyl ethers such as benzoin ethyl ether and benzoin butyl ether, and acetophenone such as 2,2-dietrixacetophenone and 4'-phenoxy-2,2-dichloroacetophenone. System, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropionenone and other propiophenone systems, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyl dimethyl ketone and 2-ethyl Examples include anthraquinone-based photosensitizers such as anthraquinone and 2-chloroanthraquinone, and thioxanthone-based photosensitizers such as 2-chlorothioxanthone and 2,4-dimethylthioxanthone. Particularly preferred is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone. These photosensitizers can be used alone or in combination of two or more at an arbitrary ratio.
本発明に使用される（Ａ）成分の量は、光デイスク用材
料（組成物）の好ましくは10〜80重量％、特に好ましく
は、20〜60重量％が望ましい。The amount of the component (A) used in the present invention is preferably 10 to 80% by weight, and particularly preferably 20 to 60% by weight of the material (composition) for optical discs.
（Ｂ）成分の量は、光デイスク用材料（組成物）の好ま
しくは20〜90重量％、特に好ましくは40〜80重量％であ
る。（Ｃ）成分の量は、光デイスク用材料（組成物）の
好ましくは、０〜10重量％（但し、０を除く）、特に好
ましくは、１〜５重量％である。The amount of the component (B) is preferably 20 to 90% by weight, particularly preferably 40 to 80% by weight of the optical disk material (composition). The amount of the component (C) is preferably 0 to 10% by weight (excluding 0) of the optical disk material (composition), and particularly preferably 1 to 5% by weight.
本発明の光デイスク用樹脂組成物は、（Ａ），（Ｂ）及
び（Ｃ）の成分物質だけで十分所期の目的を達成するも
のであるが、さらに性能改良のため、本来の特性を変え
ない範囲で、シランカツプリング剤，重合禁止剤、レベ
リング剤等の材料を添加することもできる。The resin composition for an optical disk of the present invention achieves the intended purpose only with the component materials of (A), (B) and (C), but in order to further improve the performance, the original characteristics are improved. Materials such as a silane coupling agent, a polymerization inhibitor, and a leveling agent may be added within a range that does not change.
シランカツプリング剤としては、γ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。重合禁止剤
としては、メトキノン、メチル・ハイドロキノン、ベン
ゾキノン等が挙げられる。又、レベリング剤としては、
モダフロー（モンサント社製）、フルオラド（3M社製）
等が挙げられる。シランカツプリング剤、重合禁止剤、
レベリング剤の使用量としては、それぞれ組成物の０〜
３重量％の範囲が好ましい。As the silane coupling agent, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl)
Examples include aminopropyltrimethoxysilane and γ-mercaptopropyltrimethoxysilane. Examples of the polymerization inhibitor include metoquinone, methyl hydroquinone, benzoquinone and the like. Also, as a leveling agent,
Modaflow (Monsanto), Fluorad (3M)
Etc. Silane coupling agent, polymerization inhibitor,
The amount of the leveling agent used is 0 to 0, respectively.
A range of 3% by weight is preferred.
本発明の光デイスク用樹脂組成物の紫外線照射による硬
化は、常法により行うことができる。例えば、低圧又は
高圧水銀灯、キセノン灯等を用いて紫外線を照射すれば
よい。Curing of the resin composition for an optical disk of the present invention by ultraviolet irradiation can be performed by a conventional method. For example, ultraviolet rays may be irradiated using a low pressure or high pressure mercury lamp, a xenon lamp, or the like.
本発明の光デイスク用樹脂組成物は、特に、無機ガラス
を基板とする光デイスク用溝材（無機ガラス基板上に溝
を形成させるための樹脂組成物）として、又、光デイス
クの記録膜の保護コーテイング剤として有用である。The resin composition for an optical disk of the present invention is particularly useful as a groove material for an optical disk having an inorganic glass substrate (a resin composition for forming grooves on an inorganic glass substrate) and also for forming a recording film of an optical disk. It is useful as a protective coating agent.
本発明の光デイスク用樹脂組成物を用いたガラス基板上
の溝の形成は、スタンパ（金型）の上に光デイスク用樹
脂組成物（溝材）を例えばスピンコート法等により塗布
し、塗布面にガラス基板を空気が入らないようにのせ、
ガラス基板をとおして紫外線を照射して溝材を硬化し、
次いでスランパをガラス基板より離型させることによ
り、ガラス基板上に溝が形成される。スタンパの上に溝
材を塗布する場合、その厚さは通常10〜100μ程度とす
るのが好ましい。このようにして得られる溝が形成され
た基板の上に金属（例えば、Gd,Tb,Te,Ge,Au,Pt,Pb,Sb,
Ti,Ag,Se,TeO2,Fe等の合金を常法により蒸着させ記録膜
を形成させる。その後スピンコート法等によりスパツタ
リング膜（記録膜）上に光デイスク用材料（光デイスク
用保護コーテイング剤）を好ましくは１〜５μの厚さに
塗布し、紫外線を照射して保護コーテイング剤を硬化す
ると保護膜が形成される。The formation of grooves on a glass substrate using the resin composition for optical disks of the present invention is carried out by applying the resin composition for optical disks (groove material) on a stamper (mold) by, for example, a spin coating method or the like. Place the glass substrate on the surface so that air does not enter,
Irradiate ultraviolet rays through the glass substrate to cure the groove material,
Then, the groove is formed on the glass substrate by releasing the slumper from the glass substrate. When the groove material is applied on the stamper, its thickness is usually preferably about 10 to 100 μm. A metal (for example, Gd, Tb, Te, Ge, Au, Pt, Pb, Sb,
An alloy such as Ti, Ag, Se, TeO 2 or Fe is vapor-deposited by a conventional method to form a recording film. After that, a material for optical disc (protective coating agent for optical disc) is applied on the spattering film (recording film) by a spin coating method or the like to a thickness of preferably 1 to 5 μm, and the protective coating agent is cured by irradiating with ultraviolet rays. A protective film is formed.
（実施例） 以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。な
お、実施例中の部は、重量部である。(Examples) Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples. The parts in the examples are parts by weight.
実施例１ アクリロイルオキシートリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカン
（日立化成（株）製、FA−513A）（Ａ）55部、エポキシ
アクリレート〔エピコート828（シエル石油化学社製、
ビスフエノール型エポキシ樹脂）をアクリル酸でエステ
ル化して得られた樹脂〕（Ｂ）15部、ジオキサングリコ
ールジアクリレート（日本化薬（株）製、KAYARAD,R−6
04）（Ｂ）30部、イルガキユアー184（チバ・ガイギー
社製、光増感剤）（１−ヒドロキシシクロヘキシルフエ
ニルケトン）（Ｃ）３部を混合し、紫外線硬化型樹脂組
成物（光デイスク用材料）を調製した。Example 1 55 parts of acryloyloxy-tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane (FA-513A, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) (A), epoxy acrylate [Epicoat 828 (Ciel Petrochemical Co., Ltd.,
Resin obtained by esterifying bisphenol type epoxy resin) with acrylic acid] (B) 15 parts, dioxane glycol diacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD, R-6)
04) (B) 30 parts, IRGAKIURE 184 (manufactured by Ciba-Geigy, photosensitizer) (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone) (C) 3 parts are mixed, and an ultraviolet curable resin composition (for optical discs is used. Material) was prepared.
清浄なソーダガラス板にα−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン１重量％入りイソプロピルアルコール
を塗布し、100℃で30分間加熱し、該シランの焼付処理
を施した。上記の紫外線硬化剤樹脂組成物をニツケル板
の上にスピンコーターで塗布し、塗布面にシラン処理ガ
ラス板を気泡の入らない様にのせ、高圧水銀灯（東芝社
製2KW）によりガラス面より照射し該組成物を硬化させ
た。その後ニツケル板とガラス板を離すと、ガラス板上
に該組成物の硬化物が均一に密着したガラス基板を得
た。Isopropyl alcohol containing 1% by weight of α-methacryloxypropyltrimethoxysilane was applied to a clean soda glass plate and heated at 100 ° C. for 30 minutes to subject the silane to baking. The above ultraviolet curing agent resin composition is applied onto a nickel plate with a spin coater, and a silane-treated glass plate is placed on the coated surface so that air bubbles do not enter, and the glass surface is irradiated with a high pressure mercury lamp (2KW manufactured by Toshiba). The composition was cured. Then, the nickel plate and the glass plate were separated from each other to obtain a glass substrate in which the cured product of the composition was uniformly adhered to the glass plate.
得られた基板を100℃の熱水に１時間浸けて耐熱水性の
試験を行なった後、基板には全く異常がなかった。耐ヒ
ートシヨツク性について、液体窒素中に基板を５分間浸
ける試験を行なった所、基板には全く異常がなかった。
該組成物の硬度は、Shore Dで85であった。After the obtained substrate was immersed in hot water at 100 ° C. for 1 hour to conduct a hot water resistance test, no abnormality was found on the substrate. Regarding the heat shock resistance, when the substrate was immersed in liquid nitrogen for 5 minutes, no abnormality was found on the substrate.
The hardness of the composition was 85 at Shore D.
硬度の測定は、該組成物をニツケル板の上に厚さ2mm塗
布し、高圧水銀灯でN2ガス中で硬化し、これをSnore D
硬度計を用いて硬度測定した。Hardness is measured by applying the composition to a nickel plate with a thickness of 2 mm and curing the composition with a high pressure mercury lamp in N 2 gas, and then applying Snore D
The hardness was measured using a hardness meter.
実施例２ メタクリロイルオキシートリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカ
ン（日立化成（株）製、FA−513M）（Ａ）50部、トリメ
チロールプロパントリアクリレートイ（Ｂ）30部、テト
ラヒドロフルフリルアクリレート（Ｂ）10部、エポキシ
アクリレート〔エピコート828（シエル石油化学社製、
ビスフエノール型エポキシ樹脂）をアクリル酸でエステ
ル化して得られた樹脂〕（Ｂ）10部、イルガキユアー18
4（Ｃ）３部を混合し、紫外線硬化型樹脂組成物（光デ
イスク用材料）を調製した。これを用い、実施例１と同
様にして、硬化物が均一に密着したガラス基板を得た。Example 2 50 parts of methacryloyloxy-tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane (FA-513M manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) (A), 30 parts of trimethylolpropane triacrylate (B), Tetrahydrofurfuryl acrylate (B) 10 parts, epoxy acrylate [Epicoat 828 (Ciel Petrochemical Co., Ltd.,
Resin obtained by esterifying bisphenol type epoxy resin) with acrylic acid] (B) 10 parts, Irgakiure 18
3 parts of 4 (C) were mixed to prepare an ultraviolet curable resin composition (material for optical disk). Using this, in the same manner as in Example 1, a glass substrate having a cured product uniformly adhered thereto was obtained.
実施例１と同様に試験を行ない、耐熱水性及び耐ヒート
シヨツク性の試験の結果、基板にはいずれも全く異常が
なかった。硬度は、Shore Dで83であった。The same test as in Example 1 was carried out, and as a result of the hot water resistance and heat shock resistance tests, no abnormality was found on any of the substrates. The hardness was 83 Shore D.
実施例３ アクリロイルオキシートリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカン
（Ａ）40部、ジシクロペンタジエンオキシエチルアクリ
レート（Ｂ）10部、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート（日本化薬（株）製、KAYARAD,PET−30）（Ｂ）30
部、ジペンタエリスリトールのε−カプロラクトン付加
物のヘキサアクリレート（日本化薬（株）製、KAYARAD,
DPCA−20）（Ｂ）10部、エポキシアクリレート〔エピコ
ート828をアクリル酸でエステル化して得られた樹脂〕
（Ｂ）10部、イルガキユアー184（Ｃ）５部を混合し、
紫外線硬化型樹脂組成物（光デイスク用材料）を調製し
た。これを用いて、実施例１と同様にして硬化物が均一
に密着したガラス基板を得た。実施例１と同様に試験を
行ない、耐熱水性及び耐ヒートシヨツク性の試験の結
果、基板には、いずれも全く異常がなかった。硬度は、
Shore Dで、87であった。Example 3 40 parts of acryloyloxy-tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane (A), 10 parts of dicyclopentadieneoxyethyl acrylate (B), pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) , KAYARAD, PET-30) (B) 30
Part, hexaacrylate of ε-caprolactone adduct of dipentaerythritol (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD,
DPCA-20) (B) 10 parts, epoxy acrylate [resin obtained by esterifying Epicoat 828 with acrylic acid]
(B) 10 parts, Irgakiure 184 (C) 5 parts are mixed,
An ultraviolet curable resin composition (material for optical disc) was prepared. Using this, a glass substrate to which a cured product was uniformly adhered was obtained in the same manner as in Example 1. The same tests as in Example 1 were carried out, and as a result of the hot water resistance and heat shock resistance tests, no abnormality was found on any of the substrates. The hardness is
It was 87 at Shore D.
実施例４ アクリロイルオキシートリシクロ〔5,2,1,02,6〕デカン
（Ａ）55部、2,2−ビス（４−アクリロイルポリオキシ
エチレンオキシフエニル）プロパン（日本化薬（株）
製、KAYARAD,R−551）（Ｂ）35部、エポキシアクリレー
ト〔エピコート828をアクリル酸でエステル化して得ら
れた樹脂〕（Ｂ）10部を混合し、樹脂組成物（光デイス
ク用材料）を調製した。これにイルガキユアー184 ３
部を混合し、これを用いて実施例１と同様にして、硬化
物が均一に密着したガラス基板を得た。実施例１と同様
に試験を行ない、耐熱水性及び耐ヒートシヨツク性の試
験の結果、基板には、いずれも全く異常がなかった。硬
度は、Shore Dで86であった。Example 4 Acryloyloxy-tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane (A) 55 parts, 2,2-bis (4-acryloyl polyoxyethyleneoxyphenyl) propane (Nippon Kayaku Co., Ltd.)
KAYARAD, R-551) (B) 35 parts and epoxy acrylate [resin obtained by esterification of Epicoat 828 with acrylic acid] (B) 10 parts were mixed to prepare a resin composition (optical disk material). Prepared. Irgaki Your 184 3
The parts were mixed and the resulting mixture was used in the same manner as in Example 1 to obtain a glass substrate on which a cured product was uniformly adhered. The same tests as in Example 1 were carried out, and as a result of the hot water resistance and heat shock resistance tests, no abnormality was found on any of the substrates. The hardness was 86 in Shore D.
比較例１ １−エチル−２−ヒドロキシアクリレート70部、2,2−
ビス（４−アクリロイルポリオキシエチレンオキシフエ
ニル）プロパン（日本化薬（株）製、KAYARAD,R−551）
30部、イルガキユアー184、３部を混合し、紫外線硬化
型樹脂組成物を調製した。これを用い実施例１と同様に
して、硬化物が均一に密着したガラス基板を得た。実施
例１と同様に試験を行なった。耐熱水性の試験の結果、
ガラス基板の硬化物は白化し、一部ガラスよりはがれが
発生した。耐ヒートシヨツク性の試験の結果、基板に
は、異常がなかった。Comparative Example 1 70 parts of 1-ethyl-2-hydroxy acrylate, 2,2-
Bis (4-acryloyl polyoxyethyleneoxyphenyl) propane (Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD, R-551)
30 parts, Irgaki cure 184, and 3 parts were mixed to prepare an ultraviolet curable resin composition. Using this, in the same manner as in Example 1, a glass substrate having a cured product uniformly adhered thereto was obtained. The test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result of hot water resistance test,
The cured product of the glass substrate was whitened and peeled off from the glass. As a result of the heat shock resistance test, there was no abnormality on the substrate.
硬度は、Shore Dで51であった。The hardness was 51 in Shore D.
（発明の効果） 本発明の光デイスク用樹脂組成物は、硬化して得られる
硬化物の硬度は硬く、耐熱水性、耐ヒートシヨツク性に
優れ、吸水率が非常に低く、透明性に優れ、光デイスク
用溝材又は光デイスク用保護コーテイング剤（保護膜）
として特に有用である。(Effect of the invention) The resin composition for an optical disc of the present invention has a hardened cured product obtained by curing, is excellent in hot water resistance and heat shock resistance, has a very low water absorption rate, and is excellent in transparency. Optical disc groove material or protective coating agent for optical disc (protective film)
Is particularly useful as
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−90204（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−99111（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−124604（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−152515（ＪＰ，Ａ) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) Reference JP-A-60-90204 (JP, A) JP-A-60-99111 (JP, A) JP-A-60-124604 (JP, A) JP-A-60- 152515 (JP, A)
Claims (1)
ト（Ｂ）20〜90重量％及び光増感剤（Ｃ）０〜10重量％
（但し０を除く）を含有することを特徴とする光ディス
クの溝材又は保護膜用樹脂組成物1. A compound (A) represented by the following general formula [I]: (Wherein R represents a hydrogen atom or a methyl group) 10 to 80% by weight, bisphenol type epoxy acrylate (B) 20 to 90% by weight and photosensitizer (C) 0 to 10% by weight
Resin composition for groove material or protective film of optical disk, characterized by containing (excluding 0)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60291949A JPH0755966B2 (en) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | Resin composition for groove material or protective film of optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60291949A JPH0755966B2 (en) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | Resin composition for groove material or protective film of optical disk |
Publications (2)
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|---|---|
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| JPH0755966B2 true JPH0755966B2 (en) | 1995-06-14 |
Family
ID=17775543
Family Applications (1)
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| JP60291949A Expired - Fee Related JPH0755966B2 (en) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | Resin composition for groove material or protective film of optical disk |
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-
1985
- 1985-12-26 JP JP60291949A patent/JPH0755966B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPS62151413A (en) | 1987-07-06 |
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