JPH0755983B2 - ブロック共重合体およびその製造方法 - Google Patents
ブロック共重合体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0755983B2 JPH0755983B2 JP2028309A JP2830990A JPH0755983B2 JP H0755983 B2 JPH0755983 B2 JP H0755983B2 JP 2028309 A JP2028309 A JP 2028309A JP 2830990 A JP2830990 A JP 2830990A JP H0755983 B2 JPH0755983 B2 JP H0755983B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- block copolymer
- polyamide
- represented
- general formula
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Polyamides (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なブロック共重合体及びその製造方法に
関し、より詳しくはフッ素原子を含有するポリアミド−
ポリブタジエン系ブロック共重合体及びその製造方法に
関する。
関し、より詳しくはフッ素原子を含有するポリアミド−
ポリブタジエン系ブロック共重合体及びその製造方法に
関する。
ポリブタジエンは柔軟な分子構造を有し、スチレン−ブ
チジエンブロック共重合体によって代表されるポリブタ
ジエン系のブロック共重合体は優れた熱可塑性弾性体と
なることが知られている。しかしながら、このブロック
共重合体のポリスチレン連鎖は軟化温度が低く、ブロッ
ク共重合体を比較的高温で使用する場合等では、満足な
性能を示さないという問題があった。この問題点を解決
するために、スチレンに代わってポリアミドを使用した
ポリアミド−ポリブタジエン系ブロック共重合体が提案
されている(特開昭60−49026号公報及び特公昭62−317
1号公報)。
チジエンブロック共重合体によって代表されるポリブタ
ジエン系のブロック共重合体は優れた熱可塑性弾性体と
なることが知られている。しかしながら、このブロック
共重合体のポリスチレン連鎖は軟化温度が低く、ブロッ
ク共重合体を比較的高温で使用する場合等では、満足な
性能を示さないという問題があった。この問題点を解決
するために、スチレンに代わってポリアミドを使用した
ポリアミド−ポリブタジエン系ブロック共重合体が提案
されている(特開昭60−49026号公報及び特公昭62−317
1号公報)。
〔発明が解決しようとする課題〕 従来提案された上記ポリアミド−ポリブタジエン系ブロ
ック共重合体は、特に電気絶縁性が強く要求される材料
として使用する場合、吸収性や吸湿性、さらには誘電率
が十分に低くないと言う問題があった。
ック共重合体は、特に電気絶縁性が強く要求される材料
として使用する場合、吸収性や吸湿性、さらには誘電率
が十分に低くないと言う問題があった。
本発明は、この様な問題点を改善することを目的として
なされたものである。すなわち、本発明の目的は、電気
絶縁性、耐熱性、接着性及び溶媒溶解性等の特性と共
に、吸収性及び吸湿性に優れ、高い誘電率を有するポリ
アミド−ポリブタジエン系ブロック共重合体を提供する
ことにある。
なされたものである。すなわち、本発明の目的は、電気
絶縁性、耐熱性、接着性及び溶媒溶解性等の特性と共
に、吸収性及び吸湿性に優れ、高い誘電率を有するポリ
アミド−ポリブタジエン系ブロック共重合体を提供する
ことにある。
本発明者等は、上記ポリアミド−ポリブタジエン系ブロ
ック共重合体を得るにあたり、ポリアミド部分の形成
に、含フッ素アルキル基が主鎖に置換基として含有する
芳香族ジアミンのモノマーを使用することにより、上記
の問題が解決されることを見出だした。
ック共重合体を得るにあたり、ポリアミド部分の形成
に、含フッ素アルキル基が主鎖に置換基として含有する
芳香族ジアミンのモノマーを使用することにより、上記
の問題が解決されることを見出だした。
本発明の含フッ素ポリアミド−ポリブタジエン系ブロッ
ク共重合体は、芳香族ジカルボン酸と芳香族ジアミンと
の重縮合により形成される両末端にアミノアリール基を
有するポリアミドと、両末端にカルボキシル基を有する
ブタジエン重合体又はアクリロニトリル−ブタジエン共
重合体との重縮合体からなり、下記一般式(I)で示さ
れることを特徴とする。
ク共重合体は、芳香族ジカルボン酸と芳香族ジアミンと
の重縮合により形成される両末端にアミノアリール基を
有するポリアミドと、両末端にカルボキシル基を有する
ブタジエン重合体又はアクリロニトリル−ブタジエン共
重合体との重縮合体からなり、下記一般式(I)で示さ
れることを特徴とする。
(式中、Rは二価の芳香族基を示し、Arは下記式(1)
又は(2)で示される二価の芳香族基を示し、 x、y、z、m及びnは、それぞれ平均重合度であっ
て、x=3〜7、y=0〜4、z=5〜15、n=1〜3
0、m=2〜20の数を示す) 本発明の含フッ素ポリアミド−ポリブタジエン系ブロッ
ク共重合体のうち、特に好ましいものは、下記一般式
(I A)で示されるものである。
又は(2)で示される二価の芳香族基を示し、 x、y、z、m及びnは、それぞれ平均重合度であっ
て、x=3〜7、y=0〜4、z=5〜15、n=1〜3
0、m=2〜20の数を示す) 本発明の含フッ素ポリアミド−ポリブタジエン系ブロッ
ク共重合体のうち、特に好ましいものは、下記一般式
(I A)で示されるものである。
(式中、R1は基 を示し、Ar1は、基 を示し、x、y、z、m及びnは、それぞれ平均重合度
であって、x=3〜7、y=0〜4、z=5〜15、n=
1〜30、m=2〜20の数を示す) 本発明の上記一般式(I)で示される含フッ素ポリアミ
ド−ポリブタジエン系ブロック共重合体は、下記一般式
(II)で示される両末端にカルボキシル基を有するブタ
ジエン重合体又はアクリロニトリル−ブタジエン共重合
体 (式中、x、y及びzは、それぞれ上記したものと同意
義を有する) と、下記一般式(III)で示される両末端にアミノアリ
ール基を有するポリアミド (式中、R、Ar及びnは、それぞれ上記したものと同意
義を有する) とを、重縮合させることによって製造することができ
る。
であって、x=3〜7、y=0〜4、z=5〜15、n=
1〜30、m=2〜20の数を示す) 本発明の上記一般式(I)で示される含フッ素ポリアミ
ド−ポリブタジエン系ブロック共重合体は、下記一般式
(II)で示される両末端にカルボキシル基を有するブタ
ジエン重合体又はアクリロニトリル−ブタジエン共重合
体 (式中、x、y及びzは、それぞれ上記したものと同意
義を有する) と、下記一般式(III)で示される両末端にアミノアリ
ール基を有するポリアミド (式中、R、Ar及びnは、それぞれ上記したものと同意
義を有する) とを、重縮合させることによって製造することができ
る。
上記一般式(II)で示される両末端にカルボキシル基を
有するブタジエン重合体又はアクリロニトリル−ブタジ
エン共重合体と、上記一般式(III)で示される両末端
にアミノアリール基を有するポリアミドとの重縮合反応
は、芳香族亜リン酸エステルとピリジン誘導体の存在下
で実施するのが好ましい。なお、重縮合反応は、両末端
にカルボキシル基を有するブタジエン重合体又はアクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体と、両末端にアミノア
リール基を有するポリアミドとを単に混合し加熱して実
施することもできるが、その場合には、重縮合反応を高
温下で行う必要があり、その結果、アミド交換反応やブ
タジエン重合体又はアクリロニトリル−ブタジエン共重
合体鎖の分解反応などの副反応を伴うことが避けられな
い。しかしながら芳香族亜リン酸エステルとピリジン誘
導体の存在下で実施すると、重縮合に際して高温を必要
とせず、アクリロニトリル−ブタジエン鎖の分解反応な
ど副反応やアミド交換反応を避けることができるため、
構造の規制されたブロック共重合体を容易に製造するこ
とができるという大きな利点を有している。
有するブタジエン重合体又はアクリロニトリル−ブタジ
エン共重合体と、上記一般式(III)で示される両末端
にアミノアリール基を有するポリアミドとの重縮合反応
は、芳香族亜リン酸エステルとピリジン誘導体の存在下
で実施するのが好ましい。なお、重縮合反応は、両末端
にカルボキシル基を有するブタジエン重合体又はアクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体と、両末端にアミノア
リール基を有するポリアミドとを単に混合し加熱して実
施することもできるが、その場合には、重縮合反応を高
温下で行う必要があり、その結果、アミド交換反応やブ
タジエン重合体又はアクリロニトリル−ブタジエン共重
合体鎖の分解反応などの副反応を伴うことが避けられな
い。しかしながら芳香族亜リン酸エステルとピリジン誘
導体の存在下で実施すると、重縮合に際して高温を必要
とせず、アクリロニトリル−ブタジエン鎖の分解反応な
ど副反応やアミド交換反応を避けることができるため、
構造の規制されたブロック共重合体を容易に製造するこ
とができるという大きな利点を有している。
使用される芳香族亜リン酸エステルとしては、亜リン酸
トリフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリ−o
−トリル、亜リン酸ジ−o−トリル、亜リン酸トリ−m
−トリル、亜リン酸ジ−m−トリル、亜リン酸トリ−p
−トリル、亜リン酸ジ−p−トリル、亜リン酸ジ−o−
クロロフェニル、亜リン酸トリ−p−クロロフェニル、
亜リン酸ジ−p−クロロフェニル等をあげることができ
る。
トリフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリ−o
−トリル、亜リン酸ジ−o−トリル、亜リン酸トリ−m
−トリル、亜リン酸ジ−m−トリル、亜リン酸トリ−p
−トリル、亜リン酸ジ−p−トリル、亜リン酸ジ−o−
クロロフェニル、亜リン酸トリ−p−クロロフェニル、
亜リン酸ジ−p−クロロフェニル等をあげることができ
る。
また、ピリジン誘導体としては、ピリジン、2−ピコリ
ン、3−ピコリン、4−ピコリン、2,4−ルチジン、2,6
−ルチジン、3,5−ルチジン等をあげることができる。
ン、3−ピコリン、4−ピコリン、2,4−ルチジン、2,6
−ルチジン、3,5−ルチジン等をあげることができる。
反応に際しては、通常の場合、ピリジン誘導体を含む混
合溶媒を用いる溶液重合法が採用される。混合溶媒とし
て使用される有機溶媒としては、両反応成分や、芳香族
亜リン酸エステルと実質的に反応しない溶媒であるとい
う制限を受けるが、このほかに、両反応成分に対する良
溶媒であって、しかも反応生成物のブロック共重合体に
対する良溶媒であることが望ましい。このような有機溶
媒として代表的なものとしては、N−メチルピロリドン
やジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒があげられ
る。
合溶媒を用いる溶液重合法が採用される。混合溶媒とし
て使用される有機溶媒としては、両反応成分や、芳香族
亜リン酸エステルと実質的に反応しない溶媒であるとい
う制限を受けるが、このほかに、両反応成分に対する良
溶媒であって、しかも反応生成物のブロック共重合体に
対する良溶媒であることが望ましい。このような有機溶
媒として代表的なものとしては、N−メチルピロリドン
やジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒があげられ
る。
本発明において、重合度の大きいブロック共重合体を得
る場合には、塩化リチウム、塩化カルシウムによって代
表される無機塩類を反応系に添加することができる。
る場合には、塩化リチウム、塩化カルシウムによって代
表される無機塩類を反応系に添加することができる。
本発明の製造方法において使用する上記一般式(II)で
示される両末端にカルボキシル基を有するブタジエン重
合体又はアクリロニトリル−ブタジエン共重合体におい
て、二重結合の立体化学構造は、シス構造でもトランス
構造でもよい。上記一般式(II)で示される両末端にカ
ルボキシル基を有するブタジエン重合体又はアクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体は、カルボキシル基を両末
端に導入する重合法であれば、如何なる方法によって製
造してもよく、通常、アニオン重合またはラジカル重合
によって製造することができる。また、平均重合度z
は、通常生成するブロック共重合体の引張り強度、引張
り弾性率などの物性を考慮すると、5〜15の範囲が好適
である。
示される両末端にカルボキシル基を有するブタジエン重
合体又はアクリロニトリル−ブタジエン共重合体におい
て、二重結合の立体化学構造は、シス構造でもトランス
構造でもよい。上記一般式(II)で示される両末端にカ
ルボキシル基を有するブタジエン重合体又はアクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体は、カルボキシル基を両末
端に導入する重合法であれば、如何なる方法によって製
造してもよく、通常、アニオン重合またはラジカル重合
によって製造することができる。また、平均重合度z
は、通常生成するブロック共重合体の引張り強度、引張
り弾性率などの物性を考慮すると、5〜15の範囲が好適
である。
本発明の製造方法において使用する上記一般式(III)
で示されるポリアミドにおいて、Rで示される二価の芳
香族基としては、イソフタル酸又は5−ヒドロキシイソ
フタル酸から誘導されるものが好ましい。
で示されるポリアミドにおいて、Rで示される二価の芳
香族基としては、イソフタル酸又は5−ヒドロキシイソ
フタル酸から誘導されるものが好ましい。
なお、上記一般式(III)で示される両末端にアミノア
リール基を有するポリアミドは、下記反応式にしたがっ
て一般式(IV)で示される含フッ素アルキル基を主鎖に
置換基として含有する芳香族ジアミンの過剰量と、一般
式(V)で示される芳香族ジカルボン酸またはその誘導
体を反応させることによって製造することができる。
リール基を有するポリアミドは、下記反応式にしたがっ
て一般式(IV)で示される含フッ素アルキル基を主鎖に
置換基として含有する芳香族ジアミンの過剰量と、一般
式(V)で示される芳香族ジカルボン酸またはその誘導
体を反応させることによって製造することができる。
(式中、Xはヒドロキシル基、メトキシ基などのアルコ
キシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基、エチル
チオ基などのアルキルチオ基、フェニルチオ基などのア
リールチオ基などを表わし、Ar、R及びnは、それぞれ
上記したと同意義を有する) 上記一般式(IV)で示される含フッ素アルキル基を主鎖
に置換基として含有する芳香族ジアミンとしては、例え
ば、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)ヘキ
サフルオロプロパンが使用される。
キシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基、エチル
チオ基などのアルキルチオ基、フェニルチオ基などのア
リールチオ基などを表わし、Ar、R及びnは、それぞれ
上記したと同意義を有する) 上記一般式(IV)で示される含フッ素アルキル基を主鎖
に置換基として含有する芳香族ジアミンとしては、例え
ば、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)ヘキ
サフルオロプロパンが使用される。
上記一般式(V)で示される芳香族ジカルボン酸として
は、例えばイソフタル酸、5−ヒドロキシイソフタル
酸、テレフタル酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸、
3,3′−メチレン二安息香酸、4,4′−メチレン二安息香
酸、4,4′−オキシ二安息香酸、4,4′−チオ二安息香
酸、3,3′−カルボニル二安息香酸、4,4′−カルボニル
二安息香酸、4,4′−スルホニル二安息香酸、1,4−ナフ
タレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、
2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,2−ビス(4−カルボ
キシフェニル)ヘキサフルオロプロパン等を例示するこ
とができる。
は、例えばイソフタル酸、5−ヒドロキシイソフタル
酸、テレフタル酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸、
3,3′−メチレン二安息香酸、4,4′−メチレン二安息香
酸、4,4′−オキシ二安息香酸、4,4′−チオ二安息香
酸、3,3′−カルボニル二安息香酸、4,4′−カルボニル
二安息香酸、4,4′−スルホニル二安息香酸、1,4−ナフ
タレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、
2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,2−ビス(4−カルボ
キシフェニル)ヘキサフルオロプロパン等を例示するこ
とができる。
上記一般式(IV)で表わされる含フッ素アルキル基を主
鎖に置換基として含有する芳香族ジアミンの過剰量と、
上記一般式(V)で示される芳香族ジカルボン酸との反
応は、如何なる方法によって行っても差し支えない。製
造される上記一般式(III)で示されるポリアミドの平
均重合度nは、生成するブロック共重合体の引張り強
度、引張り弾性率の物性を考慮すると、通常1〜30の範
囲が好適である。
鎖に置換基として含有する芳香族ジアミンの過剰量と、
上記一般式(V)で示される芳香族ジカルボン酸との反
応は、如何なる方法によって行っても差し支えない。製
造される上記一般式(III)で示されるポリアミドの平
均重合度nは、生成するブロック共重合体の引張り強
度、引張り弾性率の物性を考慮すると、通常1〜30の範
囲が好適である。
次に、本発明の重縮合反応について更に詳しく説明する
と、上記一般式(II)で示される両末端にカルボキシル
基を有するブタジエン重合体又はアクリロニトリル−ブ
タジエン共重合体および一般式(III)で示される両末
端にアミノアリール基を有するポリアミドの所望の量
を、芳香族亜リン酸エステルとピリジン誘導体の存在下
に、N−メチルピロリドンによって代表される有機溶媒
中で、窒素等の不活性雰囲気下で加熱攪拌することによ
って行われる。
と、上記一般式(II)で示される両末端にカルボキシル
基を有するブタジエン重合体又はアクリロニトリル−ブ
タジエン共重合体および一般式(III)で示される両末
端にアミノアリール基を有するポリアミドの所望の量
を、芳香族亜リン酸エステルとピリジン誘導体の存在下
に、N−メチルピロリドンによって代表される有機溶媒
中で、窒素等の不活性雰囲気下で加熱攪拌することによ
って行われる。
使用される芳香族亜リン酸エステルの量は、通常、上記
一般式(II)で示されるブタジエン重合体又はアクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合体のカルボキシル基に対し
て等モル量以上であるが、30モル量以上の使用は経済的
にみて得策ではない。また、ピリジン誘導体の量は、上
記一般式(II)で示されるブタジエン重合体又はアクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体のカルボキシル基に対
して等モル量以上であることが必要であるが、実際に
は、反応溶媒としての役割を果たす為に大過剰使用する
のが好ましい。また、混合溶媒が使用される場合、その
使用量は、通常、反応成分を5〜30重量%含むようにな
る量が好ましい。
一般式(II)で示されるブタジエン重合体又はアクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合体のカルボキシル基に対し
て等モル量以上であるが、30モル量以上の使用は経済的
にみて得策ではない。また、ピリジン誘導体の量は、上
記一般式(II)で示されるブタジエン重合体又はアクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体のカルボキシル基に対
して等モル量以上であることが必要であるが、実際に
は、反応溶媒としての役割を果たす為に大過剰使用する
のが好ましい。また、混合溶媒が使用される場合、その
使用量は、通常、反応成分を5〜30重量%含むようにな
る量が好ましい。
本発明において、反応温度は、通常の場合60〜140℃の
範囲が好ましい。また、反応時間は、反応温度により大
きく影響されるが、多くの場合、数分から20時間の間で
ある。そして如何なる場合にも最高の重合度を意味する
最高粘度が得られるまでの反応系を攪拌するのが望まし
い。
範囲が好ましい。また、反応時間は、反応温度により大
きく影響されるが、多くの場合、数分から20時間の間で
ある。そして如何なる場合にも最高の重合度を意味する
最高粘度が得られるまでの反応系を攪拌するのが望まし
い。
反応終了後は、反応混合物をメタノール、ヘキサン等の
非溶媒中に投じて生成したブロック共重合体を分離し、
更に再沈澱法により精製を行って、副生物や無機塩類な
どを除去し、精製されたブロック共重合体を得ることが
できる。
非溶媒中に投じて生成したブロック共重合体を分離し、
更に再沈澱法により精製を行って、副生物や無機塩類な
どを除去し、精製されたブロック共重合体を得ることが
できる。
なお、生成するブロック共重合体において、平均重合度
mは2〜20であることが必要であり、mが20を越える
と、加工性の点で好ましくなくなる。両反応成分のいず
れか一方を過剰に使用して縮重合を行うと平均重合度を
小さくすることが可能になる。
mは2〜20であることが必要であり、mが20を越える
と、加工性の点で好ましくなくなる。両反応成分のいず
れか一方を過剰に使用して縮重合を行うと平均重合度を
小さくすることが可能になる。
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発
明はこれ等実施例によって限定されるものではない。
明はこれ等実施例によって限定されるものではない。
実施例1 イソフタル酸1.58g(9.5mmol)、2,2−ビス(4−アミ
ノフェノキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン5.18g
(10mmol)、塩化リチウム0.3g、塩化カルシウム1.1g、
N−メチルピロリドン20ml、ピリジン3mlを50mlの3口
フラスコ中に入れ、撹拌して溶解させた後、亜リン酸ト
リフェニル6.2gを加えて、110℃で3時間反応させて、
含フッ素ポリアミド体を生成した。この含フッ素ポリア
ミド体に、両末端にカルボキシル基を持つポリブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体(Hrcar CTBN、Goodrich
社製)(x=5、y=2.5、z=10)6.22gを20mlのピリ
ジンに溶かした溶液を加え、さらに4時間反応させた
後、室温で冷却した。この反応液をメタノール500mlに
投入して、ポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体
部の含有量が50重量%である含フッ素ポリアミド−ポリ
ブタジエン−アクリロニトリルブロック共重合体を析出
させた。この析出ポリマーをさらにメタノールで洗浄
し、メタノール還流して精製した。得られたブロック共
重合体の固有粘度は0.64dl/g(ジメチルアセトアミド、
30℃)であった。このブロック共重合体の赤外吸収スペ
クトルを第1図に示す。
ノフェノキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン5.18g
(10mmol)、塩化リチウム0.3g、塩化カルシウム1.1g、
N−メチルピロリドン20ml、ピリジン3mlを50mlの3口
フラスコ中に入れ、撹拌して溶解させた後、亜リン酸ト
リフェニル6.2gを加えて、110℃で3時間反応させて、
含フッ素ポリアミド体を生成した。この含フッ素ポリア
ミド体に、両末端にカルボキシル基を持つポリブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体(Hrcar CTBN、Goodrich
社製)(x=5、y=2.5、z=10)6.22gを20mlのピリ
ジンに溶かした溶液を加え、さらに4時間反応させた
後、室温で冷却した。この反応液をメタノール500mlに
投入して、ポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体
部の含有量が50重量%である含フッ素ポリアミド−ポリ
ブタジエン−アクリロニトリルブロック共重合体を析出
させた。この析出ポリマーをさらにメタノールで洗浄
し、メタノール還流して精製した。得られたブロック共
重合体の固有粘度は0.64dl/g(ジメチルアセトアミド、
30℃)であった。このブロック共重合体の赤外吸収スペ
クトルを第1図に示す。
実施例2 実施例1におけるイソフタル酸を0.75g(4.5mmol)に変
え、さらに5−ヒドロキシイソフタル酸を0.82g(4.5mm
ol)を加えた以外は、全く同様の方法でポリアミド体を
作成し、同様にしてポリブタジエン−アクリロニトリル
共重合体部の含有量が50重量%であるフェノール性水酸
基を含有する含フッ素ポリアミド−ポリブタジエン−ア
クリロニトリルブロック共重合体を得た。このブロック
共重合体の固有粘度は0.37dl/g(ジメチルアセトアミ
ド、30℃)であった。このブロック共重合体の赤外吸収
スペクトルを第2図に示す。
え、さらに5−ヒドロキシイソフタル酸を0.82g(4.5mm
ol)を加えた以外は、全く同様の方法でポリアミド体を
作成し、同様にしてポリブタジエン−アクリロニトリル
共重合体部の含有量が50重量%であるフェノール性水酸
基を含有する含フッ素ポリアミド−ポリブタジエン−ア
クリロニトリルブロック共重合体を得た。このブロック
共重合体の固有粘度は0.37dl/g(ジメチルアセトアミ
ド、30℃)であった。このブロック共重合体の赤外吸収
スペクトルを第2図に示す。
実施例3 実施例2における5−ヒドロキシイソフタル酸を0.08g
(0.45mmol)、イソフタル酸を0.67g(4.05mmol)に変
えた以外は、全く同様の方法でポリアミド体を作成し、
同様にしてポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体
部の含有量が50重量%であるフェノール性水酸基を含有
する含フッ素ポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニ
トリルブロック共重合体を得た。このブロック共重合体
の固有粘度は0.38dl/g(ジメチルアセトアミド、30℃)
であった。このブロック共重合体の赤外吸収スペクトル
を第3図に示す。
(0.45mmol)、イソフタル酸を0.67g(4.05mmol)に変
えた以外は、全く同様の方法でポリアミド体を作成し、
同様にしてポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体
部の含有量が50重量%であるフェノール性水酸基を含有
する含フッ素ポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニ
トリルブロック共重合体を得た。このブロック共重合体
の固有粘度は0.38dl/g(ジメチルアセトアミド、30℃)
であった。このブロック共重合体の赤外吸収スペクトル
を第3図に示す。
実施例4 イソフタル酸0.83g(5.0mmol)、5−ヒドロキシイソフ
タル酸0.91g(5.0mmol)、2,2−ビス(4−アミノフェ
ノキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン6.01g(11mmo
l)、塩化リチウム0.3g、塩化カルシウム1.1g、N−メ
チルピロリドン20ml、ピリジン3mlを、50mlの3口丸底
フラスコ中に入れ、撹拌して溶解させた後、亜リン酸ト
リフェニル6.2gを加えて、110℃で3時間反応させて、
含フッ素ポリアミド体を生成した。この含フッ素ポリア
ミド体に、両末端にカルボキシル基を持つポリブタジエ
ン(Hycar CTB、Goodrich社製)3.60gを20mlのピリジン
に溶かした溶液を加え、さらに4時間反応させた後、室
温で冷却した。この反応液をメタノール500mlに投入し
て、ポリブタジエン部分の含有量が32重量%である含フ
ッ素ポリアミド−ポリブタジエンブロック共重合体を析
出させた。この析出ポリマーをさらにメタノールで洗浄
し、メタノール還流して精製した。得られたブロック共
重合体の固有粘度は0.26dl/g(ジメチルアセトアミド、
30℃)であった。このブロック共重合体の赤外吸収スペ
クトルを第4図に示す。
タル酸0.91g(5.0mmol)、2,2−ビス(4−アミノフェ
ノキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン6.01g(11mmo
l)、塩化リチウム0.3g、塩化カルシウム1.1g、N−メ
チルピロリドン20ml、ピリジン3mlを、50mlの3口丸底
フラスコ中に入れ、撹拌して溶解させた後、亜リン酸ト
リフェニル6.2gを加えて、110℃で3時間反応させて、
含フッ素ポリアミド体を生成した。この含フッ素ポリア
ミド体に、両末端にカルボキシル基を持つポリブタジエ
ン(Hycar CTB、Goodrich社製)3.60gを20mlのピリジン
に溶かした溶液を加え、さらに4時間反応させた後、室
温で冷却した。この反応液をメタノール500mlに投入し
て、ポリブタジエン部分の含有量が32重量%である含フ
ッ素ポリアミド−ポリブタジエンブロック共重合体を析
出させた。この析出ポリマーをさらにメタノールで洗浄
し、メタノール還流して精製した。得られたブロック共
重合体の固有粘度は0.26dl/g(ジメチルアセトアミド、
30℃)であった。このブロック共重合体の赤外吸収スペ
クトルを第4図に示す。
比較例1 実施例1における2,2−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)ヘキサフルオロプロパンを3,4′−オキシジア
ニリン2.00g(10mmol)に変えた以外は、実施例1と全
く同様の方法でポリアミド体を作成し、同様にしてポリ
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体部の含有量が50
重量%であるポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニ
トリルブロック共重合体を得た。このブロック共重合体
の固有粘度は0.94dl/g(ジメチルアセトアミド、30℃)
であった。
ェニル)ヘキサフルオロプロパンを3,4′−オキシジア
ニリン2.00g(10mmol)に変えた以外は、実施例1と全
く同様の方法でポリアミド体を作成し、同様にしてポリ
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体部の含有量が50
重量%であるポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニ
トリルブロック共重合体を得た。このブロック共重合体
の固有粘度は0.94dl/g(ジメチルアセトアミド、30℃)
であった。
比較例2 実施例2における2,2−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)ヘキサフルオロプロパンを3,4′−オキシジア
ニリン2.00g(10mmol)に変えた以外は、実施例2と全
く同様の方法でポリアミド体を作成し、同様にしてポリ
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体の含有量が50重
量%であるフェノール性水酸基を含有するポリアミド−
ポリブタジエン−アクリロニトリルブロック共重合体を
得た。このブロック共重合体の固有粘度は1.25dl/g(ジ
メチルアセトアミド、30℃)であった。
ェニル)ヘキサフルオロプロパンを3,4′−オキシジア
ニリン2.00g(10mmol)に変えた以外は、実施例2と全
く同様の方法でポリアミド体を作成し、同様にしてポリ
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体の含有量が50重
量%であるフェノール性水酸基を含有するポリアミド−
ポリブタジエン−アクリロニトリルブロック共重合体を
得た。このブロック共重合体の固有粘度は1.25dl/g(ジ
メチルアセトアミド、30℃)であった。
比較例3 実施例3における2,2−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)ヘキサフルオロプロパンを3,4′−オキシジア
ニリン2.00g(10mmol)に変えた以外は、実施例3と全
く同様の方法でポリアミド体を作成し、同様にしてポリ
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体部の含有量が50
重量%であるフェノール性水酸基を含有するポリアミド
−ポリブタジエン−アクリロニトリルブロック共重合体
を得た。このブロック共重合体の固有粘度は0.37dl/g
(ジメチルアセトアミド、30℃)であった。
ェニル)ヘキサフルオロプロパンを3,4′−オキシジア
ニリン2.00g(10mmol)に変えた以外は、実施例3と全
く同様の方法でポリアミド体を作成し、同様にしてポリ
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体部の含有量が50
重量%であるフェノール性水酸基を含有するポリアミド
−ポリブタジエン−アクリロニトリルブロック共重合体
を得た。このブロック共重合体の固有粘度は0.37dl/g
(ジメチルアセトアミド、30℃)であった。
実施例1ないし3及び比較例1ないし3で得られたブロ
ック共重合体の吸湿率及び誘電率を下記第1表に示す。
なお、吸湿率は、ブロック共重合体よりなるフィルム約
30mgを、湿度0%のデシケーター(乾燥剤:P2O5を使
用)中に質量が減少しなくなるまで放置して、質量測定
を行った後、湿度66%のデシケーター(湿度調節はNaNO
2の飽和水溶液を使用)中に、質量変化が生じなくなる
まで放置して質量測定を行い、次式によって求めた。
ック共重合体の吸湿率及び誘電率を下記第1表に示す。
なお、吸湿率は、ブロック共重合体よりなるフィルム約
30mgを、湿度0%のデシケーター(乾燥剤:P2O5を使
用)中に質量が減少しなくなるまで放置して、質量測定
を行った後、湿度66%のデシケーター(湿度調節はNaNO
2の飽和水溶液を使用)中に、質量変化が生じなくなる
まで放置して質量測定を行い、次式によって求めた。
さらに、誘電率は、ブロック共重合体よりなるフィルム
(5cm×5cm)の両面にアルミニウム電極を蒸着して、誘
電体損測定装置(安藤電気(株)製:TRS−10T型)を使
用して、室温で110Hzにおける誘電容量を測定した。
(5cm×5cm)の両面にアルミニウム電極を蒸着して、誘
電体損測定装置(安藤電気(株)製:TRS−10T型)を使
用して、室温で110Hzにおける誘電容量を測定した。
〔発明の効果〕 本発明の含フッ素ポリアミド−ポリブタジエン系ブロッ
ク共重合体は、溶媒溶解性、他のポリマーとの相溶性が
よく、取り扱い性が優れているばかりでなく、低い吸水
性吸湿性、誘電率を示し、電気絶縁性材料として利用範
囲の広い素材として有用性を有している。
ク共重合体は、溶媒溶解性、他のポリマーとの相溶性が
よく、取り扱い性が優れているばかりでなく、低い吸水
性吸湿性、誘電率を示し、電気絶縁性材料として利用範
囲の広い素材として有用性を有している。
第1図ないし第4図は、それぞれ本発明の実施例1ない
し4のポリアミド−アクリロニトリル−ブタジエンブロ
ック共重合体の赤外線吸収スペクトルを示すグラフであ
る。
し4のポリアミド−アクリロニトリル−ブタジエンブロ
ック共重合体の赤外線吸収スペクトルを示すグラフであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−47836(JP,A) 特開 平2−245032(JP,A)
Claims (3)
- 【請求項1】芳香族ジカルボン酸と芳香族ジアミンとの
重縮合により形成される両末端にアミノアリール基を有
するポリアミドと、両末端にカルボキシル基を有するブ
タジエン重合体又はアクリロニトリル−ブタジエン共重
合体との重縮合体からなることを特徴とする下記一般式
(I)で示される含フッ素ポリアミド−ポリブタジエン
系ブロック共重合体。 (式中、Rは二価の芳香族基を示し、Arは下記式(1)
又は(2)で示される二価の芳香族基を示し、 x、y、z、m及びnは、それぞれ平均重合度であっ
て、x=3〜7、y=0〜4、z=5〜15、n=1〜3
0、m=2〜20の数を示す) - 【請求項2】下記一般式(I A)で示される特許請求の
範囲第1項に記載の含フッ素ポリアミド−ポリブタジエ
ン系ブロック共重合体。 (式中、R1は基 を示し、Ar1は、基 を示し、x、y、z、m及びnは、それぞれ平均重合度
であって、x=3〜7、y=0〜4、z=5〜15、n=
1〜30、m=2〜20の数を示す) - 【請求項3】下記一般式(II)で示される両末端にカル
ボキシル基を有するブタジエン重合体又はアクリロニト
リル−ブタジエン共重合体 (式中、x、y及びzは、それぞれ平均重合度で、x=
3〜7、y=0〜4、z=5〜15の数を示す) と、下記一般式(III)で示される両末端にアミノアリ
ール基を有するポリアミド (式中、Rは二価の芳香族基を示し、Arは下記式(1)
又は(2)で示される二価の芳香族基を示し、 nは平均重合度で、n=1〜30の整数を示す) とを、芳香族亜リン酸エステルとピリジン誘導体の存在
下で重縮合させることを特徴とする特許請求の範囲第1
項に記載のポリアミド−ポリブタジエン系ブロック共重
合体の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2028309A JPH0755983B2 (ja) | 1990-02-09 | 1990-02-09 | ブロック共重合体およびその製造方法 |
| DE69010036T DE69010036T2 (de) | 1989-03-17 | 1990-03-19 | Blockcopolymer und Verfahren zu seiner Herstellung. |
| EP90302942A EP0388243B1 (en) | 1989-03-17 | 1990-03-19 | Block copolymer and method of producing the same |
| US08/011,845 US5342895A (en) | 1989-03-17 | 1993-01-28 | Block copolymer and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2028309A JPH0755983B2 (ja) | 1990-02-09 | 1990-02-09 | ブロック共重合体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03234722A JPH03234722A (ja) | 1991-10-18 |
| JPH0755983B2 true JPH0755983B2 (ja) | 1995-06-14 |
Family
ID=12245021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2028309A Expired - Fee Related JPH0755983B2 (ja) | 1989-03-17 | 1990-02-09 | ブロック共重合体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0755983B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002129101A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-09 | Nippon Kayaku Co Ltd | ポリアミド樹脂含有ワニス及びその用途 |
| JP5072876B2 (ja) * | 2009-02-10 | 2012-11-14 | 日本化薬株式会社 | ポリアミド樹脂の精製方法 |
| WO2015100478A1 (pt) * | 2014-01-06 | 2015-07-09 | Figueiredo Rafael Oliveira De | Poliamida heterocíclica fluorada |
| FR3026107B1 (fr) * | 2014-09-24 | 2018-02-16 | Arkema France | Utilisation d'un copolymere a blocs pour la protection de pieces a base de metaux |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH075729B2 (ja) * | 1989-04-24 | 1995-01-25 | 株式会社巴川製紙所 | ブロック共重合体およびその製造方法 |
-
1990
- 1990-02-09 JP JP2028309A patent/JPH0755983B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03234722A (ja) | 1991-10-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5342895A (en) | Block copolymer and method of producing the same | |
| JPH0755983B2 (ja) | ブロック共重合体およびその製造方法 | |
| JP2511353B2 (ja) | フェノ―ル性水酸基を含有するトリブロック共重合体およびその製造方法 | |
| JP3053940B2 (ja) | 芳香族ポリアミド−ポリシロキサン系共重合体およびその製造方法 | |
| JP2745381B2 (ja) | スルホン酸基含有ポリアミドの製造方法 | |
| JPH075729B2 (ja) | ブロック共重合体およびその製造方法 | |
| JPH04202224A (ja) | ポリアミド系ブロック共重合体及びその製造方法 | |
| JP3051537B2 (ja) | フェノール性水酸基を含有するジブロック共重合体およびその製造方法 | |
| JP3051521B2 (ja) | フェノール性水酸基を有する構造の規制されたジブロック共重合体およびその製造方法 | |
| JPH0689150B2 (ja) | ブロック共重合体およびその製造方法 | |
| JP2775378B2 (ja) | ポリシロキサン−芳香族ポリアミド系共重合体の製造方法 | |
| US5210175A (en) | Preparation of aromatic polyamides from CO, aromatic, diamine and di(trifluoromethane sulfonate) | |
| JP3022605B2 (ja) | ポリアミド−水素添加型アクリロニトリル変性ポリブタジエン系ブロック共重合体およびその製造方法 | |
| JP3621200B2 (ja) | 低吸湿性フェノール性水酸基含有芳香族ポリアミド樹脂 | |
| JPH075728B2 (ja) | ポリアミド―水素添加型ポリブタジエン系ブロック共重合体及びその製造方法 | |
| JP2524271B2 (ja) | フェノ―ル性水酸基を有する構造の規制されたトリブロック共重合体およびその製造方法 | |
| JP3022606B2 (ja) | ポリアミド−水素添加型アクリロニトリル変性ポリブタジエン系共重合体およびその製造方法 | |
| JPH07116291B2 (ja) | フェノール性水酸基を含有するブロック共重合体およびその製造方法 | |
| US5349018A (en) | Polyamide-hydrogenated polybutadiene-acrylonitrile copolymers | |
| JP2548642B2 (ja) | フェノール性水酸基含有ポリアミド−ポリオキシエチレンブロック共重合体およびその製造方法 | |
| US5780662A (en) | Naphthyl and ether chain-containing carboxyl derivatives | |
| JP3707183B2 (ja) | シクロブタンポリイミドの製造法 | |
| JPH1077343A (ja) | ブロック共重合体及びその製造方法 | |
| JPH05287078A (ja) | ブロック共重合体及びその製造方法 | |
| JPH04252224A (ja) | 新規ポリアミド−脂肪族ブロック共重合体およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080614 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090614 Year of fee payment: 14 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |