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JPH0756466B2 - Vibration type semiconductor transducer - Google Patents
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JPH0756466B2 - Vibration type semiconductor transducer - Google Patents

Vibration type semiconductor transducer

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JPH0756466B2
JPH0756466B2 JP27265387A JP27265387A JPH0756466B2 JP H0756466 B2 JPH0756466 B2 JP H0756466B2 JP 27265387 A JP27265387 A JP 27265387A JP 27265387 A JP27265387 A JP 27265387A JP H0756466 B2 JPH0756466 B2 JP H0756466B2
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semiconductor transducer
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直 西川
隆司 吉田
哲也 渡辺
秀樹 桑山
小林  隆
謹爾 原田
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Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は振動形半導体トランスデューサに関するもので
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Field of Application> The present invention relates to a vibrating semiconductor transducer.

本発明はシリコン基板に形成した振動梁をその振動梁の
固有振動数で振動させておき、その基板に加えられる力
または環境の変化に対応して振動梁に生ずる振動周波数
の変化を検出する振動形トランスデューサに関するもの
である。
The present invention vibrates a vibrating beam formed on a silicon substrate at the natural frequency of the vibrating beam, and detects a change in vibration frequency that occurs in the vibrating beam in response to a force applied to the substrate or a change in environment. Shape transducer.

さらに詳述すれば、S/N比が高く、自励発振を安定に起
こす事ができる振動形半導体トランスデューサに関する
ものである。
More specifically, the present invention relates to a vibrating semiconductor transducer having a high S / N ratio and capable of stably causing self-excited oscillation.

〈従来の技術〉 第5図〜第8図は昭和61年6月6日出願の特願昭61-131
456号「振動式半導体トランスデューサ」の一実施例の
構成説明図である。第5図は振動形トランスデューサを
圧力センサとして用いた構成斜視図、第6図は第5図に
おけるA部の拡大平面図に電気配線を施した図、第7図
は第6図のA−A断面図、第8図(A)、(B)は第6
図を電気回路で示した図であり、第8図(B)はp形層
とn+形層の間に逆バイアス電圧を印加するための電源を
示している。
<Prior Art> FIGS. 5 to 8 show Japanese Patent Application No. 61-131 filed on June 6, 1986.
It is a structure explanatory view of one Example of No. 456 "vibration type semiconductor transducer". FIG. 5 is a perspective view of a structure using a vibration type transducer as a pressure sensor, FIG. 6 is an enlarged plan view of a portion A in FIG. 5 with electric wiring, and FIG. 7 is AA of FIG. A cross-sectional view, FIGS. 8 (A) and 8 (B), shows a sixth view.
FIG. 8 is a diagram showing an electric circuit, and FIG. 8 (B) shows a power supply for applying a reverse bias voltage between the p-type layer and the n + -type layer.

これらの図において、10は{100}面を有する、例えば
不純物濃度1015原子/cm3以下のp形のシリコン基板で
ある。このシリコン基板10の一方の面にダイアフラム11
がエッチングにより形成されている。このダイアフラム
11の表面(エッチングしない面)には部分的に不純物濃
度1017程度のn+拡散層(図では省略)が形成され、この
n+拡散層の一部に振動梁12が〈001〉方向に形成されて
いる。なお、この振動梁12はダイアフラム11に形成され
たn+層およびp層をフォトリソグラフィとアンダエッチ
ングの技術を用いて加工する。
In these figures, 10 is a p-type silicon substrate having a {100} plane, for example, an impurity concentration of 10 15 atoms / cm 3 or less. The diaphragm 11 is formed on one surface of the silicon substrate 10.
Are formed by etching. This diaphragm
An n + diffusion layer (not shown in the figure) with an impurity concentration of about 10 17 is partially formed on the surface of 11 (the surface that is not etched).
The vibrating beam 12 is formed in the <001> direction on a part of the n + diffusion layer. The vibrating beam 12 is formed by processing the n + layer and the p layer formed on the diaphragm 11 by using photolithography and under etching techniques.

13は振動梁12の略中央上部に振動梁12に直交し、かつ、
非接触の状態で設けられた磁石、14は絶縁膜としてのSi
O2膜(第7図参照)である。15a、15bは例えばAlなどの
金属電極で、この金属電極15aの一端は振動梁12から延
長したn+層にSiO2層に設けたコンタクトホール16a、を
通じて接続され、他端はリード線を介して振動梁12の抵
抗値とほぼ等しい比較抵抗R0および増幅器20の一端に接
続されている。増幅器20の出力は出力信号として取出さ
れるとともに分岐して一次コイルL1の一端に接続されて
いる。このコイルL1の他端はコモンラインに接続されて
いる。
13 is orthogonal to the vibrating beam 12 approximately above the center of the vibrating beam 12, and
Magnet provided in a non-contact state, 14 is Si as an insulating film
It is an O 2 film (see FIG. 7). 15a and 15b are metal electrodes such as Al, one end of which is connected through a contact hole 16a provided in the SiO 2 layer to the n + layer extending from the vibrating beam 12, and the other end through a lead wire. Is connected to one end of a comparison resistor R 0 and an amplifier 20, which is approximately equal to the resistance value of the vibrating beam 12. The output of the amplifier 20 is taken out as an output signal and is branched and connected to one end of the primary coil L 1 . The other end of this coil L 1 is connected to the common line.

一方比較抵抗R0の他端は中点がコモンラインに接続した
2次コイルL2の他端に接続され、この2次コイルL2の他
端は振動梁12の他端に前記同様に形成された金属電極15
bに接続されている。
On the other hand, the other end of the comparison resistor R 0 is connected to the other end of the secondary coil L 2 whose middle point is connected to the common line, and the other end of the secondary coil L 2 is formed on the other end of the vibrating beam 12 in the same manner as above. Metal electrode 15
connected to b.

上記構成において、p形層(基板10)とn+形層(振動梁
12)の間に逆バイアス電圧を印加して絶縁し、振動梁12
に交流電流iを流すと振動梁12の共振周波数において電
磁誘導作用により振動梁のインピーダンスが上昇して、
比較抵抗R0、および中点をコモンラインに接続したL2
より構成されるブリッジにより不平衡信号を得ることが
できる。この信号を増幅器20で増幅し、コイルL1に正帰
還すると、系は振動梁12の固有振動数で自励発振する。
In the above structure, the p-type layer (substrate 10) and the n + -type layer (vibrating beam)
12) Applying a reverse bias voltage between
When an AC current i is applied to the vibrating beam 12, the impedance of the vibrating beam increases at the resonance frequency of the vibrating beam 12 due to electromagnetic induction.
An unbalanced signal can be obtained by the bridge composed of the comparison resistor R 0 and L 2 whose middle point is connected to the common line. When this signal is amplified by the amplifier 20 and is positively fed back to the coil L 1 , the system self-oscillates at the natural frequency of the vibrating beam 12.

上記構成において、振動梁12のインピーダンスRは固有
振動数に応じて上昇する。このインピーダンスRは、次
式のように表わすことができる。
In the above structure, the impedance R of the vibrating beam 12 increases according to the natural frequency. This impedance R can be expressed by the following equation.

R≒(1/222)・(1/(Egr)1/2) ・(AB2l2/bh2)・Q+R0 ここで、 E;弾性率 g;重力加速 r;振動子を構成している材料の密度 A;振動モードによって決まる定数 B;磁束密度 l;振動梁の長さ b;振動梁の幅 h;振動梁の厚さ Q;共振の鋭さ R0;直流抵抗値 上式によれば振動梁のQが数百〜数万の値をとるため、
共振状態において増幅器の出力として、大きな振幅信号
を得ることができる。このように振動形半導体トランス
デューサ増幅器のゲインを充分取って正帰還するように
構成すれば系は固有振動数で自励発振する。
R ≒ (1/222) ・ (1 / (Egr) 1/2 ) ・ (AB 2 l 2 / bh 2 ) ・ Q + R 0 where E: Elastic modulus g; Gravity acceleration r; Density of material A; constant determined by vibration mode B; magnetic flux density l; length of vibrating beam b; width of vibrating beam h; thickness of vibrating beam Q; sharpness of resonance R 0 ; DC resistance value For example, the Q of the vibrating beam takes a value of hundreds to tens of thousands,
In the resonance state, a large amplitude signal can be obtained as the output of the amplifier. In this way, if the gain of the vibration type semiconductor transducer amplifier is sufficiently taken and positive feedback is performed, the system self-oscillates at the natural frequency.

〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、この様な装置においては、振動梁12に発
生する逆起電力を交流ブリッジを用いて検出している
が、励振電流の励振成分を、交流ブリッジで完全に抑圧
することは事実上不可能であるから、ブリッジ出力には
励振電流成分が乗ってくる。
<Problems to be Solved by the Invention> However, in such a device, although the counter electromotive force generated in the vibrating beam 12 is detected by using the AC bridge, the exciting component of the exciting current is detected by the AC bridge. Since it is practically impossible to completely suppress it, an excitation current component is carried on the bridge output.

このために、S/N比が悪く安定な出力信号が得られな
い。
For this reason, the S / N ratio is poor and a stable output signal cannot be obtained.

本発明は、この問題点を解決するものである。The present invention solves this problem.

本発明の目的は、S/N比が良好で安定な出力信号が得ら
れる振動形半導体トランスデューサを提供するにある。
An object of the present invention is to provide a vibrating semiconductor transducer having a good S / N ratio and capable of obtaining a stable output signal.

〈問題点を解決するための手段〉 この目的を達成するために、本発明は、シリコン単結晶
の基板上に設けられたシリコン単結晶材よりなる振動子
本体と、該振動子本体を励振する励振手段と、前記振動
子本体の励振された振動を検出する振動検出手段とを具
備する振動形半導体トランスデューサにおいて、両端が
前記基板に固定され互いに平行に配置された二個の第一
振動子と該第一振動子の振動の腹の部分を機械的に結合
する第二振動子とを備える振動子本体と、該振動子本体
に直交する直流磁界を加え一方の第一振動子の両端ある
いは二個の第一振動子の一方の同一端側に交流電流を流
して磁気誘導作用により振動子を磁界と電流に直交する
方向に励振する励振手段と、他方の第一振動子の両端あ
るいは二個の第一振動子の他方の同一端側に発生する起
電力を検出し自励振するに必要なゲインを付与する増幅
器と必要な位相を与えるフイルターとを具備し前記振動
子本体の固有振動数で自励発振が持続するように構成さ
れた振動検出手段とを具備してなる振動形半導体トラン
スデューサを構成したものである。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve this object, the present invention excites a vibrator body made of a silicon single crystal material provided on a substrate of a silicon single crystal, and the vibrator body. A vibrating semiconductor transducer comprising: an exciting means; and a vibration detecting means for detecting the excited vibration of the vibrator body, wherein two first vibrators, both ends of which are fixed to the substrate and arranged in parallel with each other, A vibrator main body including a second vibrator that mechanically couples the antinode portion of the vibration of the first vibrator, and a DC magnetic field orthogonal to the vibrator main body is applied to both ends or two ends of one first vibrator. Excitation means for applying an alternating current to one end of one of the first oscillators to excite the oscillator in a direction perpendicular to the magnetic field and the current by magnetic induction, and both ends or two of the other first oscillator. The other end of the first oscillator of A self-excited oscillation is maintained at the natural frequency of the vibrator body, which includes an amplifier that gives a gain necessary for detecting the electromotive force generated on the side and self-excites, and a filter that gives a necessary phase. And a vibration detecting means.

〈作用〉 以上の構成において、基板に外力が加わると、振動子本
体の固有振動数は外力に対応して変化する。振動子本体
の振動は振動検出手段により検出され周波数は出力信号
として取出される。
<Operation> In the above configuration, when an external force is applied to the substrate, the natural frequency of the vibrator body changes in accordance with the external force. The vibration of the vibrator body is detected by the vibration detecting means, and the frequency is taken out as an output signal.

この結果、基板に加わった外力が検出出来る。As a result, the external force applied to the substrate can be detected.

以下、実施例に基づき詳細に説明する。Hereinafter, detailed description will be given based on examples.

〈実施例〉 第1図は本発明の一実施例の原理的要部構成説明図であ
る。
<Embodiment> FIG. 1 is an explanatory view of a principal configuration of a principle of an embodiment of the present invention.

図において、第5図と同一記号の構成は同一機能を表わ
す。
In the figure, the same symbols as those in FIG. 5 represent the same functions.

以下、第5図と相違部分のみ説明する。Only parts different from FIG. 5 will be described below.

30は振動子本体である。振動子本体30は両端が基板11に
固定され互いに平行に配置された二個の第1振動子31と
第一振動子31の振動の腹の部分を相互に機械的に結合す
る第二振動子32とを備える。
30 is the oscillator body. The vibrator main body 30 has two ends fixed to the substrate 11 and arranged in parallel to each other. The first vibrator 31 and the second vibrator 31 mechanically couple the antinodes of the vibration of the first vibrator 31 with each other. 32 and.

40は振動子本体30に直交する直流磁界を磁石13により加
え一方の第一振動子31の両端に交流電流を入力トランス
41により流して磁気誘導作用により振動子本体30を磁界
と電流に直交する方向に励振する励振手段である。
40 is a transformer for applying a DC magnetic field orthogonal to the vibrator body 30 by the magnet 13 and inputting an AC current to both ends of the first vibrator 31.
It is an excitation means that is caused to flow by 41 to excite the vibrator body 30 in a direction orthogonal to the magnetic field and the current by the magnetic induction action.

入力トランス41は、二次側が一方の第一振動子31の両端
に接続されている。
The secondary side of the input transformer 41 is connected to both ends of the one first oscillator 31.

50は他方の第一振動子31の両端に発生する起電力を検出
する振動検出手段である。この場合は、出力トランス5
1、増幅器52が用いられている。出力トランス51の一次
側は、他方の第一振動子31の両端に接続され、二次側は
増幅器52を介して出力端子53に接続されるとともに、分
岐して入力トランス41の一次側に接続されている。
50 is a vibration detecting means for detecting an electromotive force generated at both ends of the other first vibrator 31. In this case, output transformer 5
1, the amplifier 52 is used. The primary side of the output transformer 51 is connected to both ends of the other first oscillator 31, the secondary side is connected to the output terminal 53 via the amplifier 52, and is branched and connected to the primary side of the input transformer 41. Has been done.

以上の構成において、励振手段40に入力された入力信号
により、振動子本体30は励振される。振動子本体30の振
動は、振動検出手段50により検出され出力信号として取
出される。
In the above configuration, the vibrator body 30 is excited by the input signal input to the excitation means 40. The vibration of the vibrator body 30 is detected by the vibration detecting means 50 and taken out as an output signal.

この結果、振動子本体30は、励振用の第一振動子31と、
起電力検出用の第一振動子31に分けられ、第二振動子32
で、第一振動子31の振動の腹の部分を結合するようにさ
れたので、電気的には分離されているが、機械的には結
合されているため、高い励振成分除去比(S/N比)が得
られる。
As a result, the vibrator body 30 has the first vibrator 31 for excitation,
The first oscillator 31 for electromotive force detection is divided into the second oscillator 32.
Thus, since the antinode portion of the vibration of the first oscillator 31 is coupled, it is electrically separated but mechanically coupled, so that the high excitation component removal ratio (S / N ratio) is obtained.

第2図は振動子本体30の実際例で、(A)は平面図、
(B)は(A)のB−B断面図である。
FIG. 2 is an actual example of the vibrator body 30, (A) is a plan view,
(B) is a BB sectional view of (A).

第3図に実験結果を示す。The experimental results are shown in FIG.

S/N比は30〜40dBが得られている。The S / N ratio is 30-40 dB.

第3図の縦方向は一目盛りが5dBを示し、ピーク値の中
心周波数は71551.1Hzである。
In the vertical direction of FIG. 3, one scale indicates 5 dB, and the center frequency of the peak value is 71551.1 Hz.

第4図は本発明の他の実施例の要部構成説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a main part configuration of another embodiment of the present invention.

本実施例では、入力トランス41の二次側を二個の第一振
動子31の一方の同一端側に接続し、出力トランス51の一
次側を二個の第一振動子31の他方の同一端側に接続する
ようにしたものである。
In this embodiment, the secondary side of the input transformer 41 is connected to one same end side of the two first vibrators 31, and the primary side of the output transformer 51 is the same as the other one of the two first vibrators 31. It is connected to the end side.

なお、振動梁の加工手段および形状は本実施例に限るも
のではなく、例えば、n形シリコン基板にB(ボロン)
を4×1019原子/cm3以上拡散して選択性エッチングに
より形成したものを用いてもよい。
The processing means and shape of the vibrating beam are not limited to those in this embodiment, and for example, B (boron) may be added to an n-type silicon substrate.
4 × 10 19 atoms / cm 3 or more may be diffused to form by selective etching.

なお、前述の実施例においては、第二振動子32はP形シ
リコンよりなると説明したが、これに限ることはなく、
例えば、酸化シリコン(SiO2)、あるいは、窒化珪素
(Si3N4)にアルミニウムなどの導体を蒸着したもので
あってもよい。
Although the second oscillator 32 is described as being made of P-type silicon in the above embodiment, the present invention is not limited to this.
For example, silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (Si 3 N 4 ) may be vapor-deposited with a conductor such as aluminum.

なお、上記トランスデューサはシリコンの弾性率の温度
係数によってその振動周波数が変化するので、圧力計の
ほかに真空容器に収納して温度計として利用できるほ
か、密度計としても利用することができる。
Since the vibration frequency of the transducer changes depending on the temperature coefficient of the elastic modulus of silicon, it can be used not only as a pressure gauge but also as a thermometer by being housed in a vacuum container and also as a density meter.

〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明は、シリコン単結晶の基板
上に設けられたシリコン単結晶材よりなる振動子本体
と、該振動子本体を励振する励振手段と、前記振動子本
体の励振された振動を検出する振動検出手段とを具備す
る振動形半導体トランスデューサにおいて、両端が前記
基板に固定され互いに平行に配置された二個の第一振動
子と該第一振動子の振動の腹の部分を機械的に結合する
第二振動子とを備える振動子本体と、該振動子本体に直
交する直流磁界を加え一方の第一振動子の両端あるいは
二個の第一振動子の一方の同一端側に交流電流を流して
磁気誘導作用により振動子を磁界と電流に直交する方向
に励振する励振手段と、他方の第一振動子の両端あるい
は二個の第一振動子の他方の同一端側に発生する起電力
を検出し自励振するに必要なゲインを付与する増幅器と
必要な位相を与えるフイルターとを具備し前記振動子本
体の固有振動数で自励発振が持続するように構成された
振動検出手段とを具備してなる振動形半導体トランスデ
ューサを構成した。
<Effects of the Invention> As described above, the present invention provides a vibrator main body made of a silicon single crystal material provided on a substrate of a silicon single crystal, an excitation means for exciting the vibrator main body, and the vibrator. A vibration type semiconductor transducer comprising a vibration detecting means for detecting an excited vibration of a main body, in which two first vibrators having both ends fixed to the substrate and arranged in parallel with each other and a vibration of the first vibrator A vibrator main body including a second vibrator mechanically coupling the antinode portion of the first vibrator, and a DC magnetic field orthogonal to the vibrator main body is applied to both ends of one first vibrator or two first vibrators. Excitation means for applying an alternating current to one of the same ends to excite the vibrator by a magnetic induction action in a direction orthogonal to the magnetic field and the current, and one end of the other first vibrator or the other of the two first vibrators. Of electromotive force generated on the same end side of And a vibration detecting means configured to maintain self-oscillation at the natural frequency of the vibrator body, the amplifier including an amplifier that gives a gain necessary for self-excited oscillation and a filter that gives a necessary phase. We have constructed a vibrating semiconductor transducer.

この結果、振動子本体は、励振用の第一振動子と、起電
力検出用の第一振動子に分けられ、第二振動子で、第一
振動子の振動の腹の部分を結合するようにされたので、
電気的には分離されているが、機械的には結合されてい
るため、高い励振成分除去比(S/N比)が得られる。
As a result, the oscillator body is divided into a first oscillator for excitation and a first oscillator for electromotive force detection, and the second oscillator is connected to the antinode portion of the vibration of the first oscillator. Because I was told
Since they are electrically separated, but mechanically coupled, a high excitation component removal ratio (S / N ratio) can be obtained.

従って、本発明によれば、S/N比が良好で安定な周波数
出力信号が得られる振動形半導体トランスデューサを実
現することが出来る。
Therefore, according to the present invention, it is possible to realize a vibrating semiconductor transducer having a good S / N ratio and capable of obtaining a stable frequency output signal.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例の原理的要部構成説明図、第
2図は第1図の要部構成説明図で、(A)は平面図、
(B)は(A)のB−B断面図、第3図は第1図の効果
説明図、第4図は本発明の他の実施例の要部構成説明
図、第5図〜第8図は従来より一般に使用されている従
来例の構成説明図で、第5図はトランスデューサを圧力
計として構成した斜視図、第6図は第5図におけるA部
の拡大平面図に電気配線を施した図、第7図は第6図の
A−A断面図、第8図は第6図を電気回路で示した図で
ある。 10……基板、11……ダイアフラム、13……磁石、30……
振動子本体、31……第一振動子、32……第二振動子、40
……励振手段、41……入力トランス、42……入力端子、
50……振動検出手段、51……出力トランス、52……増幅
器、53……出力端子。
FIG. 1 is an explanatory view of the configuration of a principal part of one embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram of the structure of the principal part of FIG. 1, (A) is a plan view,
(B) is a sectional view taken along line BB in (A), FIG. 3 is an explanatory view of the effect of FIG. 1, FIG. 4 is an explanatory view of a main part configuration of another embodiment of the present invention, and FIGS. The figure is a configuration explanatory view of a conventional example generally used from the past. FIG. 5 is a perspective view in which a transducer is used as a pressure gauge, and FIG. 6 is an enlarged plan view of a portion A in FIG. FIG. 7, FIG. 7 is a sectional view taken along line AA in FIG. 6, and FIG. 8 is a view showing FIG. 6 in an electric circuit. 10 …… substrate, 11 …… diaphragm, 13 …… magnet, 30 ……
Vibrator body, 31 …… First vibrator, 32 …… Second vibrator, 40
...... Excitation means, 41 …… Input transformer, 42 …… Input terminal,
50 …… Vibration detection means, 51 …… Output transformer, 52 …… Amplifier, 53 …… Output terminal.

フロントページの続き (72)発明者 渡辺 哲也 東京都武蔵野市中町2丁目9番32号 横河 電機株式会社内 (72)発明者 桑山 秀樹 東京都武蔵野市中町2丁目9番32号 横河 電機株式会社内 (72)発明者 小林 隆 東京都武蔵野市中町2丁目9番32号 横河 電機株式会社内 (72)発明者 原田 謹爾 東京都武蔵野市中町2丁目9番32号 横河 電機株式会社内Front page continuation (72) Inventor Tetsuya Watanabe 2-932 Nakamachi, Musashino City, Tokyo Yokogawa Electric Co., Ltd. (72) Hideki Kuwayama 2-39 Nakamachi, Musashino City, Tokyo Yokogawa Electric Co., Ltd. In-house (72) Takashi Kobayashi 2-9-32 Nakamachi, Musashino-shi, Tokyo Yokogawa Electric Co., Ltd. (72) In-house author Sagara Harada 2-9-32 Nakamachi, Musashino-shi, Tokyo Yokogawa Electric Co., Ltd. Within

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】シリコン単結晶の基板上に設けられたシリ
コン単結晶材よりなる振動子本体と、該振動子本体を励
振する励振手段と、前記振動子本体の励振された振動を
検出する振動検出手段とを具備する振動形半導体トラン
スデューサにおいて、 両端が前記基板に固定され互いに平行に配置された二個
の第一振動子と該第一振動子の振動の腹の部分を機械的
に結合する第二振動子とを備える振動子本体と、該振動
子本体に直交する直流磁界を加え一方の第一振動子の両
端あるいは二個の第一振動子の一方の同一端側に交流電
流を流して磁気誘導作用により振動子を磁界と電流に直
交する方向に励振する励振手段と、他方の第一振動子の
両端あるいは二個の第一振動子の他方の同一端側に発生
する起電力を検出し自励振するに必要なゲインを付与す
る増幅器と必要な位相を与えるフイルターとを具備し前
記振動子本体の固有振動数で自励発振が持続するように
構成された振動検出手段とを具備してなる振動形半導体
トランスデューサ。
1. A vibrator main body made of a silicon single crystal material provided on a silicon single crystal substrate, an excitation means for exciting the vibrator main body, and a vibration for detecting the excited vibration of the vibrator main body. In a vibrating semiconductor transducer comprising a detecting means, two first oscillators, both ends of which are fixed to the substrate and arranged in parallel with each other, are mechanically coupled to a vibration antinode portion of the first oscillators. A vibrator main body including a second vibrator and a DC magnetic field orthogonal to the vibrator main body are applied, and an alternating current is applied to both ends of one first vibrator or one end of two first vibrators. The excitation means that excites the oscillator in the direction perpendicular to the magnetic field and the current by the magnetic induction action, and the electromotive force generated at both ends of the other first oscillator or the same end of the other two first oscillators. Gain necessary for detecting and self-exciting A vibration type semiconductor transducer, comprising: an amplifier for applying a desired phase and a filter for providing a required phase, and a vibration detecting means configured to maintain self-excited oscillation at a natural frequency of the vibrator body.
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