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JPH0756543B2 - Liquid crystal display device manufacturing method - Google Patents
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JPH0756543B2 - Liquid crystal display device manufacturing method - Google Patents

Liquid crystal display device manufacturing method

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Publication number
JPH0756543B2
JPH0756543B2 JP60025037A JP2503785A JPH0756543B2 JP H0756543 B2 JPH0756543 B2 JP H0756543B2 JP 60025037 A JP60025037 A JP 60025037A JP 2503785 A JP2503785 A JP 2503785A JP H0756543 B2 JPH0756543 B2 JP H0756543B2
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
transparent electrode
organic material
spacer
Prior art date
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Application number
JP60025037A
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Japanese (ja)
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舜平 山崎
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 『発明の利用分野』 本発明は液晶表示パネルまたはアクティブ・マトリック
ス方式による液晶表示パネルに関するものであって、マ
イクロコンピュータ、ワードプロセッサまたはテレビ等
の表示部の薄型化を図る液晶表示装置の作製方法に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a liquid crystal display panel or an active matrix liquid crystal display panel, and a liquid crystal for thinning a display unit of a microcomputer, a word processor, a television, or the like. The present invention relates to a method for manufacturing a display device.

『従来の技術』 従来の液晶表示装置に関しては、2つの透明基板の内側
にそれぞれ透明導電膜、配向膜が設けられ、この間に液
晶を充填して、2つの電極間に印加される電圧の有無に
より「オン」「オフ」を制御していた。そしてこの表示
により、文字、グラフまたは絵を表示するものである。
[Prior Art] Regarding a conventional liquid crystal display device, a transparent conductive film and an alignment film are provided inside two transparent substrates, respectively, and liquid crystal is filled between them to determine whether or not a voltage is applied between two electrodes. It controlled "on" and "off". Then, by this display, a character, a graph or a picture is displayed.

しかしこの2つの透明電極間は、約10μもの厚い間隔を
有し、最近はこの間隔も5μにまでなった。しかしかか
る広い間隔はTN(ツゥィフテック・ネマチック)型液晶
においては必要であるが、カイラル・スメクチックスC
相を用いる強誘電性液晶(以下FLCという)を使用する
ならば、3μ以下一般には2±0.5μが求められてい
る。
However, there is a thick gap of about 10 μ between these two transparent electrodes, and these gaps have recently become as small as 5 μ. However, such a wide interval is necessary in TN (Twiftec nematic) type liquid crystal, but it is a chiral smectics C.
If a ferroelectric liquid crystal using a phase (hereinafter referred to as FLC) is used, 3 μ or less is generally required to be 2 ± 0.5 μ.

従来、この10μの間隔に表面張力を用いて公知のTN液晶
を充填する場合、この間隙を制御するスペーサが考えだ
された。即ちスペーサは一般に有機樹脂の球形を有する
粒子であって、例えばミクロパールSP−210(平均粒径1
0.0±0.5μ)を用いている。このミクロパールはジビニ
ルベンゼン系架橋重合体であり、透明な真球微粒子であ
る。
In the past, when a known TN liquid crystal was filled into this 10 μ space by using surface tension, a spacer that controls this space was devised. That is, the spacers are generally spherical particles of organic resin, such as Micropearl SP-210 (average particle size 1
0.0 ± 0.5μ) is used. The micro pearls are divinylbenzene-based cross-linked polymers and are transparent true fine particles.

即ち、第1図に従来の液晶表示装置の縦断面図を示して
いる。図面において、液晶表示用の2つの透明基板
(1),(1′)の周辺部には、液晶が外部にもれない
よう樹脂とスペーサ(7)とを混合したシール材(6)
が溜めてあり、2つの基板間の距離を周辺部において一
定に保っている。しかし表示部(10)即ち液晶(5)が
充填された領域において、外部より透明基板の機械的な
ストレスが加わった場合、または基板の平坦性のなさに
より2つの透明電極が互いにショートまたは近接しやす
い。その結果、液晶が透光性でなくなったり、一部が黒
化して不良が発生してしまいやすかった。このため、液
晶部に対しても他のミクロパールスペーサ(4)を散在
させてそれぞれの電極がショートしないよう一定の距離
に保たせていた。
That is, FIG. 1 shows a vertical sectional view of a conventional liquid crystal display device. In the drawing, a sealing material (6) is prepared by mixing a resin and a spacer (7) around the periphery of two transparent substrates (1) and (1 ') for displaying liquid crystal so that liquid crystal does not leak to the outside.
Are stored, and the distance between the two substrates is kept constant in the peripheral portion. However, when the transparent substrate is mechanically stressed from the outside in the display part (10), that is, the region filled with the liquid crystal (5), or due to the lack of flatness of the substrate, the two transparent electrodes are shorted or close to each other. Cheap. As a result, the liquid crystal is not translucent, or a part of the liquid crystal is blackened, and defects are likely to occur. For this reason, other micropearl spacers (4) are scattered also in the liquid crystal part to keep the respective electrodes at a constant distance so as not to short-circuit.

しかし、このスペーサは単に配向膜間に散在させたのみ
であり、それぞれと点接触となり、この接触部は局部荷
重が大きく加わってしまった。そしてこの接触部にもし
アクティブ素子があると、この素子を破壊してしまうこ
ともあり得る。
However, the spacers were merely scattered between the alignment films and made point contacts with each other, and a large local load was applied to these contact parts. If there is an active element at this contact portion, this element may be destroyed.

『発明が解決しようとする問題点』 さらにこのTN液晶を用いて実際に液晶表示装置を作らん
とすると、2つの基板をシール材で周辺の一部を除きシ
ールしてしまった後、この中を真空に保ち、毛細管現象
を利用して液晶を充填している。しかしその間隔が3μ
またはそれ以下を必要とするFLCの如き液晶では、毛細
管現象を利用して充填する場合スペーサが動いてしまっ
たり、またスペーサそれ自体が小さいため、ますます互
いに凝集しやすくなり、均一に散在させることが不可能
であった。
“Problems to be solved by the invention” Furthermore, when actually manufacturing a liquid crystal display device using this TN liquid crystal, after sealing the two substrates with a sealing material except for a part of the periphery, The vacuum is kept and the liquid crystal is filled by utilizing the capillary phenomenon. However, the interval is 3μ
For liquid crystals such as FLC that require less than that, the spacers may move when filling by utilizing the capillary phenomenon, and the spacers themselves are more and more likely to aggregate with each other, so that they are evenly dispersed. Was impossible.

またスペーサと配向膜とは何等接着させていないため、
封止後、表示装置の温度が上がると、液晶それ自体の熱
膨張により基板がふくらみやすくなり、2つの電極間距
離を一定に保てなくなる。このため表示のコントラスト
は中央部と周辺部で異なってしまう現象が見られてしま
った。特に表示装置が20cm×30cmと大きなパネル状にな
った時に不良が発生しやすかった。さらにスペーサが散
在する位置がばらばらであるため、アクティブ素子が連
結したディスプレイにおいて、この素子に局部的に応力
を加えてしまうことも起き、素子の不良を誘発してしま
いやすい。
Moreover, since the spacer and the alignment film are not adhered at all,
After the sealing, when the temperature of the display device rises, the substrate tends to swell due to the thermal expansion of the liquid crystal itself, and the distance between the two electrodes cannot be kept constant. For this reason, it has been observed that the display contrast differs between the central part and the peripheral part. In particular, when the display device had a large panel shape of 20 cm x 30 cm, defects were likely to occur. Further, since the positions where the spacers are scattered are scattered, in a display in which active elements are connected, a stress may be locally applied to the elements, which easily causes a failure of the elements.

『問題を解決するための手段』 このため本発明は、従来より公知の単体でできでいるス
ペーサを用いるのではなく、一方の基板上側に透明電極
またはこの電極とフィルタ(赤、緑、青のカラーフィル
タ)及び配向処理または配向膜が形成された表面上に所
定の高さに塗布法等により感光性有機樹脂例えばポリイ
ミド系前駆体で覆い、これに基板の裏面側より透明電極
またはこれとフィルタとを実効的なマスクとして光(紫
外光)照射を行う。すると、このマスクの作られていな
い透明電極間の間隙は光が透過し、感光性樹脂を感光さ
せることができる。このようにしてマスクのない領域の
みを選択的に感光せしめた後エッチング工程にて選択的
に電極間の絶縁領域にのみ線状の“貝柱”のスペーサを
形成したものである。その結果、透明電極が設けられた
画素の端部にその端部を概略一致(光の若干のまわりこ
みエッチの際のオーバエッチまたはアンダーエッチによ
るズレ等を含む)せしめてスペーサを絶縁領域に設ける
ことができる。さらに同時に周辺部のシール材をも同じ
材料で同じ高さ(厚さ)で形成させてしまうものであ
る。このため、特にこの塗布される有機樹脂として感光
性ポリイミド樹脂を用い、電極または電極とフィルタと
を実効的なマスクとして作用させることにより、いわゆ
るフォトマスクを使用する工程を省略した。
[Means for Solving the Problem] Therefore, the present invention does not use a conventionally known spacer made of a single substance, but a transparent electrode or this electrode and a filter (red, green, blue) on one substrate upper side. (Color filter) and alignment treatment or an alignment film is formed on the surface of the substrate and covered with a photosensitive organic resin such as a polyimide precursor at a predetermined height by a coating method, etc., and a transparent electrode or a filter with this is applied from the back side of the substrate. And (2) are used as effective masks for light (ultraviolet light) irradiation. Then, the light is transmitted through the gap between the transparent electrodes where the mask is not formed, and the photosensitive resin can be exposed. In this way, only the region without a mask is selectively exposed to light, and then a linear "scallop" spacer is selectively formed only in the insulating region between the electrodes in the etching process. As a result, the end portion of the pixel on which the transparent electrode is provided is made to substantially coincide with the end portion (including deviation due to over-etching or under-etching at the time of etching that slightly wraps around light) and the spacer is provided in the insulating region. You can Further, at the same time, the sealing material in the peripheral portion is formed with the same material and at the same height (thickness). Therefore, in particular, a photosensitive polyimide resin is used as the applied organic resin, and the electrode or the electrode and the filter act as an effective mask, thereby omitting the step of using a so-called photomask.

『作用』 かくすることにより、スペーサとして作用する樹脂はそ
の高さを周辺部のシール材と表示部のスペーサと同一材
料で構成し、またその高さのばらつきも同じ塗布膜を選
択的に残存せしめたもののため、所定の厚さ±0.5μ以
下を得ることができる。加えてこのシール材、スペーサ
としての材料を電極部に用いないため開口率を向上でき
る。さらにフルカラー表示をさせる時例えば赤を表示さ
せる時、隣の画素の緑または青が漏光により一部透光す
ることをこのストライプ状のスペーサは防ぐことができ
る。さらにこの材料により、対抗する他の透光性基板の
内側面と互いに密着させている。このため、2つの基板
は初期において、基板自体のうねり的な凹凸による多少
の非平坦性を有しても、その少なくとも一方の基板をセ
ミハードの加圧により変形し得る固さを有する基板を用
いることにより、シール材とスペーサの大きさ(高さ)
により一定にすることができる。即ち、電極上ではなく
電極間隙に自己整合的に形成させた。このポリイミド樹
脂のストライプ状“貝柱”によりシール部とスペース部
を構成させた後、セミハードの透光性を有する他の基板
をその上側に真空中でその電極またはそれとフィルタ、
配向膜が形成されている面側を向合わせて配設する。そ
の後、外側を加圧(大気圧)とし内部を真空(減圧)と
して外側より均圧を加え、同時に加熱し、プレス・キュ
ア方式によりそれぞれのスペーサ、シール材を他の面と
密着させる。すると互いに密着したシール部とスペーサ
部により、この後真空をといてもそれぞれの基板が実質
的に互いに密着しているため、もとの非平坦の状態に戻
らず、電極間の間隙が一定になって、最終状態におい
て、パネルの一部が広すぎる等の支障が発生しない。ま
たスペーサにより互いの基板を密着させたため、表示パ
ネルそれ自体の機械的強度も1枚のみの強度ではなく、
合わせガラスに近い実質的に2枚の強度に等しい強固さ
を有せしめることが可能となった。
[Action] By doing so, the resin that acts as a spacer has its height made of the same material as the sealing material in the peripheral part and the spacer of the display part, and the coating film with the same height variation remains selectively. Since it is made of metal, it is possible to obtain a predetermined thickness of ± 0.5μ or less. In addition, since the sealing material and the material for the spacer are not used for the electrode portion, the aperture ratio can be improved. Further, when performing full-color display, for example, when displaying red, this stripe spacer can prevent green or blue of the adjacent pixel from partially transmitting due to light leakage. Furthermore, this material is in close contact with the inner surface of the other translucent substrate that opposes. For this reason, even if the two substrates initially have some non-flatness due to the wavy irregularities of the substrates themselves, at least one of the substrates has such a hardness that it can be deformed by applying semi-hard pressure. By this, the size (height) of the sealing material and spacer
Can be made constant. That is, it was formed not on the electrodes but in the electrode gap in a self-aligned manner. After forming the seal part and the space part with this polyimide resin striped “scallop”, another electrode having semi-hard translucency is placed on the upper side of the electrode in vacuum with the electrode or the filter,
The surface side on which the alignment film is formed is arranged to face each other. After that, the outside is pressurized (atmospheric pressure), the inside is vacuum (decompressed), the pressure is applied from the outside, and at the same time, heating is performed, and the respective spacers and sealing materials are brought into close contact with other surfaces by the press cure method. Then, due to the seal portion and the spacer portion which are in close contact with each other, the respective substrates are substantially in close contact with each other even if a vacuum is applied thereafter, so that the original non-flat state is not returned and the gap between the electrodes is kept constant. Therefore, in the final state, there is no problem such as a part of the panel being too wide. Further, since the substrates are closely attached by the spacer, the mechanical strength of the display panel itself is not the strength of only one sheet,
It has become possible to have a strength close to that of laminated glass, which is substantially equal to the strength of two sheets.

以下に実施例に従って本発明を記す。The present invention will be described below according to examples.

実施例1 第2図に本発明の液晶表示装置の製造工程を示す縦断面
図を示す。
Embodiment 1 FIG. 2 is a vertical sectional view showing a manufacturing process of a liquid crystal display device of the present invention.

第2図(A)において、2つの透光性基板、例えばガラ
ス基板(1),(1′)、一方は固いガラス基板
(1′)(図面では第2図(C)にのみ図示)他方は間
隙を真空引きした際、曲がり得る程度のセミハードなガ
ラス板または耐熱性透光性有機樹脂基板(1)(この基
板として耐熱性偏向板をも用い得る)を用いた。
In FIG. 2 (A), two transparent substrates, for example, glass substrates (1) and (1 ′), one is a hard glass substrate (1 ′) (in the drawing, only shown in FIG. 2 (C)) The other Used a semi-hard glass plate or a heat-resistant translucent organic resin substrate (1) (a heat-resistant deflecting plate can also be used as this substrate) which can bend when the gap is evacuated.

このセミハード基板(1)の一方の面に所定のカラーフ
ィルタ(図面では省略)及び液晶用電極を透光性導電膜
(2)、例えばITOまたはSnO2により形成した。それぞ
れの電極間には絶縁領域(22)が設けられている。この
上面にポリイミド樹脂(3)を薄く形成し、公知のラビ
ング処理により配向処理を行った。他方の第2図(C)
にしか図示されていないが、固い基板(1′)に対して
も同様の透光性導電膜(2′),配向処理(3′)を行
った。この基板(1′)は、その上にアクティブ素子を
各画素に対応して(24)の領域に設けている。
A predetermined color filter (not shown in the drawing) and a liquid crystal electrode were formed on one surface of the semi-hard substrate (1) by a transparent conductive film (2) such as ITO or SnO 2 . An insulating region (22) is provided between each electrode. A polyimide resin (3) was thinly formed on this upper surface, and an alignment treatment was performed by a known rubbing treatment. The other FIG. 2 (C)
Although not shown in the figure, the same transparent conductive film (2 ') and alignment treatment (3') were performed on the hard substrate (1 '). This substrate (1 ') has active elements provided thereon in the region (24) corresponding to each pixel.

次に第2図(A)に示す如く、一方の側の上面にスピナ
ー、ロールコータ、スプレー法またはスクリーン印刷法
により、紫外線硬化型ポリイミド前駆体溶液(15)を塗
布する。
Next, as shown in FIG. 2 (A), an ultraviolet-curable polyimide precursor solution (15) is applied to the upper surface on one side by a spinner, a roll coater, a spray method or a screen printing method.

このポリイミド溶液は全芳香族ポリイミド前駆体溶液
(15)であり、その一例として東レ株式会社より販売さ
れているフォトニースを用いた。
This polyimide solution was a wholly aromatic polyimide precursor solution (15), and as an example, Photo Nice sold by Toray Industries, Inc. was used.

この塗布の厚さはポストベークにより40〜50%の体積減
少があるため、このことを考慮し例えば4.5μとした。
The thickness of this coating is reduced by 40 to 50% due to post-baking.

次にこのポリイミド前駆体溶液(15)を第2図(A)に
示す如く、塗布の後、プリベークを80℃、60分間行っ
た。
Next, as shown in FIG. 2 (A), this polyimide precursor solution (15) was applied and then prebaked at 80 ° C. for 60 minutes.

次に液晶を後工程で充填する穴をシール部に作るため、
基板(1)の下側にマジックインキ(黒)でガイド用の
線(面)を書いておく。するとこの部分には紫外光が照
射されないためシール材が形成されず、液晶充填用穴と
することができる。
Next, to make a hole in the seal part to fill the liquid crystal in a later process,
Write a guide line (face) on the lower side of the substrate (1) with magic ink (black). Then, since no ultraviolet light is applied to this portion, the sealing material is not formed and the hole can be used as a liquid crystal filling hole.

その後、紫外光(20)を基板の裏面側より露光(10mW/c
m2の強さの光を約30秒)した。すると透明電極(2)ま
たはこの上側または下側に設けられている赤(Rとい
う),緑(Gという),青(Bという)のフィルタによ
り紫外光は遮断されるため、これらの上方のポリイミド
前駆体(15)は感光しない。そして絶縁領域(22)及び
基板周辺部のシール部のポリイミド前駆体のみを感光さ
せることができる。即ち電極間隙に自己整合的にスペー
サを作ることができる。
After that, UV light (20) was exposed from the back side of the substrate (10 mW / c
Light with m 2 intensity was applied for about 30 seconds). Then, ultraviolet light is blocked by the transparent electrode (2) or the red (R), green (G), and blue (B) filters provided on the upper side or the lower side of the transparent electrode (2). The precursor (15) is not light sensitive. Then, only the polyimide precursor in the insulating region (22) and the seal portion around the substrate can be exposed. That is, the spacer can be formed in self-alignment with the electrode gap.

この紫外光用のマスクとしてフィルタがガラス面に設け
られ、さらにその上に透明電極が形成される場合、紫外
光露光によるフィルタの退色を防ぐため、弱い光を長時
間例えば2〜3分加える法が好ましい。また他方、ガラ
ス面に密接して透明導電膜が形成され、その上にフィル
タが形成されている場合は、紫外光はその光学的エネル
ギバンド巾を4eV以上(310nm以下の波長例えば254nm)
有し、透明電導膜をマスクとして作用させる。この場合
はフィルタには紫外光が照射されず、退色を防げるため
30秒の露光で十分である。
When a filter is provided on the glass surface as a mask for this ultraviolet light, and a transparent electrode is further formed on the glass surface, a method of applying weak light for a long time, for example, 2 to 3 minutes in order to prevent the filter from fading due to exposure to ultraviolet light. Is preferred. On the other hand, when a transparent conductive film is formed in close contact with the glass surface and a filter is formed on it, the ultraviolet light has an optical energy band width of 4 eV or more (wavelength of 310 nm or less, for example, 254 nm).
The transparent conductive film acts as a mask. In this case, the filter is not exposed to ultraviolet light, so it is possible to prevent fading.
A 30 second exposure is sufficient.

このためスペーサはアクティブ素子に直列に連結された
1つの液晶の電極が400μ、絶縁領域(電極間隔)20
μであった場合、アクティブ素子及び透明電極上には必
然的に形成されずに、絶縁領域(22)上にスペーサ(1
4)としての“貝柱”をその端部を画素(フィルタまた
は電極)の端部に概略一致して作ることができた。同時
に基板の周辺部には巾約5mmで液晶充填用穴を除き、他
部の内部の画素を取り囲むようにシール材(6)として
の貝柱を設けた。即ち、スペーサ間を所定の間隔として
散在させて配設させることが可能となる。さらにこのマ
スクレス・セルファライン方式で“貝柱”を作ることに
より、アクティブ方式の液晶パネルであった場合、配
線、非線型素子またはスイッチング素子の存在する領域
をもこの素子が非透光性であるため、同様にその上方の
有機樹脂は感光せず、結果として素子の存在する領域に
スペーサが存在することを意図的に避けることができ
る。即ちスペーサによりその後の使用に際し、機械応力
等によりリードが断線したり、また素子が不動作になる
可能性を避けることができる。
For this reason, one spacer of the liquid crystal connected in series to the active element is 400 μ , and the spacer is the insulating region (electrode interval) 20
If it is μ, it is not necessarily formed on the active element and the transparent electrode, and the spacer (1
It was possible to make a “scallop” as 4) with its end roughly corresponding to the end of the pixel (filter or electrode). At the same time, in the peripheral portion of the substrate, a liquid crystal filling hole having a width of about 5 mm was removed, and a scallop as a sealing material (6) was provided so as to surround pixels inside the other portion. That is, it is possible to disperse the spacers with a predetermined interval in a scattered manner. Furthermore, by making a "scallop" by this maskless self-aligning method, in the case of an active type liquid crystal panel, this element is also non-translucent even in the region where wiring, non-linear elements or switching elements exist. Therefore, similarly, the organic resin above it is not exposed to light, and as a result, it is possible to intentionally avoid the presence of the spacer in the region where the element exists. That is, it is possible to avoid the possibility that the lead will be disconnected or the element will not operate due to mechanical stress or the like in the subsequent use by the spacer.

かかる後、現像を超音波現像法で25℃、25分、所定のDV
−140を用いて行った。さらにイソパロノールにて超長
波リンスを25℃、15秒間行った。
After that, the development is carried out by an ultrasonic development method at 25 ° C. for 25 minutes for a predetermined DV.
Performed using -140. Furthermore, ultra-long-wave rinse was performed with isopalonol at 25 ° C for 15 seconds.

かくして、第2図(B)に示した如く、透光性基板
(1)上のフィルタおよび透光性導電膜(2)とその上
のポリイミド配向膜(3)上に密着して、外周辺のシー
ル材(6)及びスペーサ(14)を電極間隙及び周辺部に
配設することができた。
Thus, as shown in FIG. 2B, the filter and the translucent conductive film (2) on the translucent substrate (1) and the polyimide alignment film (3) on the filter and the translucent conductive film (3) are in close contact with each other to form the outer periphery. The sealing material (6) and the spacer (14) of (3) could be arranged in the electrode gap and the peripheral portion.

次に第2図(C)に示す如く、第2図(B)の上側をさ
かさに配設し(下側面とし)、他の予めアクティブ素子
が作られた基板(1′)とその上に透光性電極
(2′)、配向膜(3′)が上側面に設けられた透光性
基板(1′)を互いに対抗させて合わせた。さらにこの
合わせ工程と同時にこれら全体の真空引きも行った。こ
の真空状態に保持した後、大気圧または減圧(100〜400
torr)として基板を互いに外側より加圧し、加えてポス
トベークを200〜400℃即ち例えば180℃30分+300℃30分
+400℃30分にて行った。いわゆる「プレス・キュア方
式」も発明している。すると貝柱の(6),(14)が対
向する基板またはこの上(内側表面)のポリイミドの貝
柱または配向膜に密着し2枚のガラスを互いにはりあわ
せることができる。
Next, as shown in FIG. 2 (C), the upper side of FIG. 2 (B) is arranged upside down (to be the lower side), and another substrate (1 ′) on which active elements have been formed in advance is placed on top of it. The transparent substrate (1 ') having the transparent electrode (2') and the alignment film (3 ') provided on the upper surface thereof was opposed to each other and combined. Further, vacuuming of all of them was performed at the same time as this combining step. After maintaining this vacuum state, atmospheric pressure or reduced pressure (100 to 400
As a torr), the substrates were pressed against each other from the outside, and additionally post-baked at 200 to 400 ° C., for example, 180 ° C. for 30 minutes + 300 ° C. for 30 minutes + 400 ° C. for 30 minutes. We also invented the so-called "press cure system". Then, the scallops (6) and (14) are brought into close contact with the opposing substrate or the polyimide scallops or the alignment film on this (inner surface), so that the two glasses can be attached to each other.

このポストベーク後でその高さを3μまたはそれ以下、
この場合には2.2μ±0.5μにするようにしFLCにとって
好ましい間隔とした。
After this post bake, its height is 3μ or less,
In this case, the interval was set to 2.2 μ ± 0.5 μ, which was a preferable interval for FLC.

この場合、対抗するガラスの少なくとも一方をセミハー
ドな固さとすると、ガラス自体が持っている歪みにそっ
て他方のガラスを合わせ、かつ、そのスペーサでお互い
を固着してしまうため、ガラス基板自体が歪み(滑らか
な凹凸のうねり)を有していても、それと無関係に電極
間隙を一定としてその対向する基板同志を実質的に互い
に張り合わせ得る。
In this case, if at least one of the opposing glasses has a semi-hard hardness, the other glass is aligned according to the distortion that the glass itself has, and the spacers fix each other, so the glass substrate itself is distorted. Even if it has (smooth uneven waviness), it is possible to substantially bond the opposing substrates to each other with the electrode gap kept constant irrespective thereof.

本発明の実施例においては、この後このスペーサで保持
された間隙内に強誘電性液晶(5)を公知の方法で充填
した。
In the example of the present invention, thereafter, the ferroelectric liquid crystal (5) was filled in the gap held by the spacer by a known method.

第3図は第2図に対応した液晶表示パネルの一部の平面
図(A)及び縦断面図(B)を示す。
FIG. 3 shows a plan view (A) and a vertical sectional view (B) of a part of the liquid crystal display panel corresponding to FIG.

第3図(A)におけるA−A′の縦断面図を第2図
(C)に示す。またB−B′の縦断面図を第3図(B)
に示す。
FIG. 2 (C) is a vertical sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 3 (A). A vertical cross-sectional view of BB 'is shown in FIG.
Shown in.

図面においてX方向は線状の透明電極(第2図(C)で
は上側基板に密接した電極(2))を構成せしめ、図面
(A)では下側より表面張力でFLCを充填させる。また
第3図(B)は第3図(A)のB−B′の縦断面図を示
す。
In the drawing, a linear transparent electrode (the electrode (2) in contact with the upper substrate in FIG. 2 (C)) is formed in the X direction, and the FLC is filled from the lower side with surface tension in the drawing (A). Further, FIG. 3 (B) is a vertical sectional view taken along the line BB ′ in FIG. 3 (A).

第3図(B)を略記する。FIG. 3 (B) is abbreviated.

下側の透明電極基板(1′)側にはアクティブ素子(2
5),透明電極(2′),配向膜又は配向処理(3′)
が設けられている。アクティブ素子は下側電極(21),
非線型素子(22),上側電極(23)よりなり、この素子
(25)を機械的に保護するとともに、電極(2′)を平
坦にするため、周辺部に絶縁物(24)を設けている。こ
のアクティブ素子の電極(21)はY方向のリード(31)
に連結しており、電極(23)は各画素に対応する透明電
極(3′)に密接している。このため第3図(A)にお
けるA−A′の縦断面図の第2図(C)では、基板
(1′)周辺部の絶縁物(24)上が示され、これらの上
に透明電極(2′),配向膜または配向処理(3′)が
設けられている。カラーフィルタは透明電極(2)また
は(2′)のいずれかの側(ここでは(2)側)に設け
る。FLC(5)がそれぞれの透明電極の間または配向膜
の間に充填されている。
On the lower transparent electrode substrate (1 ') side, the active element (2
5), transparent electrode (2 '), alignment film or alignment treatment (3')
Is provided. The active element is the lower electrode (21),
It is composed of a non-linear element (22) and an upper electrode (23). This element (25) is mechanically protected, and an insulating material (24) is provided in the periphery to flatten the electrode (2 '). There is. The electrode (21) of this active element is the lead (31) in the Y direction.
The electrode (23) is in close contact with the transparent electrode (3 ') corresponding to each pixel. Therefore, in FIG. 2C which is a vertical sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 3A, the insulator (24) around the substrate (1 ′) is shown, and the transparent electrode is formed on these. (2 '), an alignment film or alignment treatment (3') is provided. The color filter is provided on either side (here, the side (2)) of the transparent electrode (2) or (2 '). FLC (5) is filled between the transparent electrodes or between the alignment films.

かくして第3図(A)に示される如く、スペーサ(14)
とシール材(6)とを何等のフォトマスクを用いること
なしに設けることができた。
Thus, as shown in FIG. 3 (A), the spacer (14)
And the sealing material (6) could be provided without using any photomask.

もちろん第2図(C)において、下側基板に何等のアク
ティブ素子を用いずY方向のストライブを有し上側基板
のX方向のストライブと組合わせて単純マトリックス構
成をさせることも本発明では有効である。
Of course, in FIG. 2C, it is also possible to form a simple matrix structure by using a stripe in the Y direction without using any active element on the lower substrate and combining it with a stripe in the X direction of the upper substrate. It is valid.

またスペーサシール材はこの実施例ではアクティブ素子
の形成されていない側に作った。しかしその逆にアクテ
ィブ素子側に作っても、また双方に作ってもよい。
In addition, the spacer sealing material is formed on the side where the active element is not formed in this embodiment. However, conversely, it may be formed on the active element side or on both sides.

『効果』 本発明は以上に示す如く、2つの相対向する電極の間隙
を一定にするため、ポリイミド樹脂膜を選択的に残存さ
せて高さを一定とした。さらにスペーサ及びシール材と
同じ材料のポリイミド系の配向膜とを互いにプレス・キ
ュア方式により密着せしめたものである。その結果、2
つの配向膜間の間隔は所定の厚さ±0.5μの範囲で一定
にできた。特にアクティブマトリックス構造を有し、そ
のドット数を400×1920も有する20cm×30cmもの大面積
の液晶パネルにおいて、中央部が必要以上に膨れたり、
また互いに2つの電極間が近接したりすることを防ぐこ
とができた。
[Effect] As described above, in the present invention, in order to make the gap between the two electrodes facing each other constant, the polyimide resin film is selectively left to have a constant height. Further, the spacer and the sealing material and the polyimide-based alignment film made of the same material are closely adhered to each other by a press cure method. As a result, 2
The distance between the two alignment films could be kept constant within a predetermined thickness ± 0.5μ. In particular, in a liquid crystal panel with a large area of 20 cm × 30 cm that has an active matrix structure and the number of dots is 400 × 1920, the central part swells more than necessary,
It was also possible to prevent the two electrodes from approaching each other.

このため、従来では大面積の基板を用いて液晶を作らん
とすると、それぞれの基板の内側表面をきわめて精密に
研磨しなければならず、またシール材とスペーサとはま
ったく異なった材料、異なった工程により作られてい
た。加えてスペーサは上下の基板内面とは密着していな
かった。またスペーサの位置の推定ができなかった。し
かし本発明においては、かかるガラス基板の価格の2〜
5倍もの高価な研磨処理工程がない、シール材によりシ
ールする工程と、スペーサを散在させる工程とを1工程
として簡略化できるという他の特長を有する。
For this reason, in the past, when a liquid crystal was made using a large-area substrate, the inner surface of each substrate had to be polished extremely accurately, and the sealing material and the spacer were completely different materials, different materials. It was made by the process. In addition, the spacer did not adhere to the inner surfaces of the upper and lower substrates. Moreover, the position of the spacer could not be estimated. However, in the present invention, the price of such a glass substrate is
It has another feature that there is no polishing process which is 5 times expensive and the process of sealing with a sealing material and the process of scattering spacers can be simplified as one process.

加えてスペーサが電極間隔即ち約400μ間に1個設けら
れているため、いわゆる合わせガラスと同様にきわめて
強固な基板として液晶パネルを取り扱うことができるよ
うになった。
In addition, since one spacer is provided between the electrodes, that is, at an interval of about 400 μ, it has become possible to handle the liquid crystal panel as an extremely strong substrate like a so-called laminated glass.

スペーサの形状を基板表面と点接触ではなく面接触また
は線接触とし得、またそのスペーサにより、ブラックマ
トリックス化(隣の色の漏光を防ぐ)をし得た。
The shape of the spacer could be a surface contact or a line contact with the substrate surface instead of a point contact, and the spacer could be made into a black matrix (prevent light leakage of an adjacent color).

本発明において、ガラス基板の周辺部のシール材部にお
いて、ガラス基板上に配向膜を残存させても、また除去
させてもよい。
In the present invention, the alignment film may be left on or removed from the glass substrate in the sealing material portion around the glass substrate.

本発明において紫外光は透明電極のみをマスクとして使
用する場合、その電極の光学的エネルギバンド巾は〜3.
5eVを有するため、4eV以上の光(310nm以下)を用いる
と有効である。またカラーフィルタ(R,G,B)を同時に
有する場合はこのフィルタが退色しやすいため、弱い紫
外光(一般には300〜400nmの波長の3〜5mW/cm2の光)
を用いることが有効である。
In the present invention, when ultraviolet light uses only a transparent electrode as a mask, the optical energy bandwidth of the electrode is ~ 3.
Since it has 5 eV, it is effective to use light of 4 eV or more (310 nm or less). Also, if you have color filters (R, G, B) at the same time, this filter easily fades, so weak ultraviolet light (generally 3 to 5 mW / cm 2 of wavelength of 300 to 400 nm)
Is effective.

本発明において、“貝柱”とその上下の配向膜とは同一
主成分材料を用いた。これはすべてをポリイミド系とす
ることにより、密着性を向上させるためである。しかし
この密着性が保証されるなら他の材料を用いてもよい。
In the present invention, the same main component material was used for the “scallop” and the alignment films above and below it. This is because the adhesiveness is improved by making all of them polyimide-based. However, other materials may be used as long as this adhesion is guaranteed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は従来より公知の液晶表示装置の縦断面図を示
す。 第2図は本発明の液晶表示装置の作成工程の縦断面図を
示す。 第3図は本発明の液晶表示装置の平面図および縦断面図
を示す。
FIG. 1 is a vertical sectional view of a conventionally known liquid crystal display device. FIG. 2 shows a vertical cross-sectional view of the manufacturing process of the liquid crystal display device of the present invention. FIG. 3 shows a plan view and a vertical sectional view of the liquid crystal display device of the present invention.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】配線、非線型素子又はスイッチング素子の
存在する領域及び透明電極を有する基板上にスペーサを
構成し得る感光性有機材料を被膜状に形成する工程と、 前記基板の裏面側より該被膜に対して前記領域及び透明
電極をマスクとして、前記透明電極により遮断される光
を照射し、前記マスク以外の透光性電極間の絶縁領域の
前記有機材料を感光せしめる工程と、 前記有機材料のうち感光していない有機材料をエッチン
グ除去することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
1. A step of forming a film of a photosensitive organic material capable of forming a spacer on a substrate having wiring, a region where a non-linear element or a switching element exists and a transparent electrode, and a step of forming a photosensitive organic material from the back surface side of the substrate. Using the region and the transparent electrode as a mask for the coating film, irradiating light blocked by the transparent electrode to expose the organic material in an insulating region between the transparent electrodes other than the mask, and the organic material A method for manufacturing a liquid crystal display device, which comprises removing an unexposed organic material by etching.
【請求項2】透明電極及び透光性基板の裏面側に遮光用
の線又は面が形成された領域とを有し、 前記透明電極の画素と該画素間の絶縁領域を含む前記基
板上に感光性有機材料を被膜状に形成する工程と、 該材料に対して前記基板の裏側より前記透明電極及び遮
光用の線又は面をマスクとして、前記透明電極により遮
断される光を照射し、前記マスク以外の光が照射された
有機材料を感光せしめる工程と、 前記有機材料のうち感光していない有機材料をエッチン
グ除去することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
2. A transparent electrode and a region in which a light-shielding line or surface is formed on the back surface side of the transparent substrate, and the transparent electrode is provided on the substrate including a pixel and an insulating region between the pixels. Forming a photosensitive organic material in the form of a film, and irradiating the material with light blocked by the transparent electrode from the back side of the substrate using the transparent electrode and the light-shielding line or surface as a mask, A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: exposing an organic material other than a mask, which is irradiated with light, to light; and removing an unexposed organic material from the organic material by etching.
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