JPH0758312B2 - Wafer prober - Google Patents
Wafer proberInfo
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- JPH0758312B2 JPH0758312B2 JP62134599A JP13459987A JPH0758312B2 JP H0758312 B2 JPH0758312 B2 JP H0758312B2 JP 62134599 A JP62134599 A JP 62134599A JP 13459987 A JP13459987 A JP 13459987A JP H0758312 B2 JPH0758312 B2 JP H0758312B2
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- JP
- Japan
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- probe card
- probe
- cleaning
- wafer prober
- cleaning means
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- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はシリコン等の半導体ウェハ上に形成されたチ
ップとプローブ針との接触を図ることによりチップの電
気的特性を測定するためのウェハプローバに関する。The present invention relates to a wafer prober for measuring the electrical characteristics of a chip formed by contacting a chip formed on a semiconductor wafer such as silicon with a probe needle. Regarding
[従来の技術] ウェハプローバにおいては、半導体ウェハに形成された
多数のチップの各電極にプローブ針を順次、接触させな
がら各チップの電気的特性を測定するが、測定の際、プ
ローブ針には大電流が流れるため針先が酸化したり、あ
るいはプローブ針と電極とを圧接させるためプローブ針
にアルミニウムのくず等が付着したりする。このような
プローブ針の酸化やAl等の付着があると正しい測定がで
きなくなり製品(チップ)の歩留りが低下するため、一
般にウェハプローバ2は第5図に示すようにウェハ載置
台7(チャック)の横あるいはウェハ載置台7上にプロ
ーブ針の研磨用のセラミック板10を置き、このセラミッ
ク板をプローブ針51の下方から当接させて針先を削って
研磨している。[Prior Art] In a wafer prober, a probe needle is sequentially brought into contact with each electrode of a large number of chips formed on a semiconductor wafer, and the electrical characteristics of each chip are measured. Since a large current flows, the needle tip is oxidized, or aluminum scraps or the like are attached to the probe needle because the probe needle and the electrode are pressed against each other. When such probe needles are oxidized or Al is attached, correct measurement cannot be performed and the yield of products (chips) is reduced. Therefore, the wafer prober 2 is generally mounted on the wafer mounting table 7 (chuck) as shown in FIG. A ceramic plate 10 for polishing the probe needle is placed on the side of or on the wafer mounting table 7, and the ceramic plate is brought into contact with the probe needle 51 from below to scrape and polish the needle tip.
[発明が解決しようとする問題点] しかし、このような従来のプローブ針の研磨は針先を削
るものであるから当然プローブ針の寿命は短かくなり、
頻繁にプローブカードを交換しなければならなかった。
更に、第6図のように針先以外にAlのくず等が付着して
いる場合には完全に除去できないという欠点があった。[Problems to be Solved by the Invention] However, since such conventional polishing of a probe needle sharpens the needle tip, the life of the probe needle naturally becomes short,
I had to change the probe card frequently.
Further, as shown in FIG. 6, when Al debris or the like is attached to other than the needle tip, there is a drawback that it cannot be completely removed.
この発明はこのような従来の欠点を解消し、プローブ針
を摩耗することなく常に清浄に保ち、もって高精度の測
定が維持できるウェハプローバを提供せんとするもので
ある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned drawbacks of the prior art and provides a wafer prober that can keep probe needles clean at all times without wearing them and thus maintain highly accurate measurement.
[問題点を解決するための手段] このような目的を達成するため本発明のウェハプローバ
はプローブカード取付部が設けられたプロービング部を
備えたウェハプローバにおいて、プローブカードに配設
されたプローブ針を洗浄する洗浄手段と、プローブカー
ド取付部から取り外されたプローブカードを洗浄手段に
搬送する搬送手段とを備えたことを特徴とし、また、プ
ローブカード取付部が設けられたプロービング部と、プ
ローブカードを供給するプローブカード供給部とを備
え、プローブカード自動交換機能を有するウェハプロー
バにおいて、プローブカードに配設されたプローブ針を
洗浄する洗浄手段と、プローブカード供給部に複数枚の
プローブカードを収納するストッカ、及びストッカに収
納されたプローブカードをプローブカード取付部に搬送
する搬送手段とを備え、搬送手段はプローブカード取付
部から取り外されたプローブカードを洗浄手段に搬送す
る機能を備えたことを特徴とし、特に洗浄手段として超
音波洗浄器又は、洗浄剤噴射ノズルを備えたことを特徴
とする。このような洗浄手段によってプローブ針に発生
した酸化物又は付着物を洗浄することによりプローブ針
を摩耗することなく上記酸化物又は付着物を除去する。[Means for Solving the Problems] In order to achieve such an object, the wafer prober of the present invention is a wafer prober including a probing portion provided with a probe card attachment portion, and a probe needle arranged on the probe card. Cleaning means for cleaning the probe card, and a conveying means for conveying the probe card removed from the probe card mounting portion to the cleaning means, and a probing portion provided with the probe card mounting portion and a probe card. In a wafer prober having a probe card supply section for supplying a probe card with an automatic probe card exchange function, a cleaning means for cleaning probe needles arranged on the probe card and a plurality of probe cards are stored in the probe card supply section. The stocker and the probe card stored in the stocker A cleaning means for transferring the probe card removed from the probe card mounting portion to the cleaning means, and in particular, an ultrasonic cleaner or a cleaning means as the cleaning means. It is characterized in that it is provided with an agent injection nozzle. By cleaning the oxides or deposits generated on the probe needles by such a cleaning means, the oxides or deposits are removed without wearing the probe needles.
次に洗浄手段として超音波洗浄器を備えた場合および洗
浄剤噴射ノズルを備えた場合について各々実施例を挙げ
て説明する。Next, a case where an ultrasonic cleaner is provided as a cleaning means and a case where a cleaning agent injection nozzle is provided will be described with reference to examples.
[実施例1] 第1図に示すウェハプローバ1はウェハ搬送部2、プロ
ービング部3及びプローブカード供給部4を備えたプロ
ーブカード自動交換機能付ウェハプローバでプローブカ
ード供給部4は複数枚のプローブカード5を収納するス
トッカ41とストッカ41からプローブカード5を取り出し
プロービング部3のプローブカード取付部31に搬送する
ハンドリングアーム42とから成る。[Embodiment 1] The wafer prober 1 shown in FIG. 1 is a wafer prober with a probe card automatic exchange function including a wafer transfer section 2, a probing section 3 and a probe card supply section 4, and the probe card supply section 4 has a plurality of probes. It comprises a stocker 41 for accommodating the card 5 and a handling arm 42 for taking out the probe card 5 from the stocker 41 and transporting it to the probe card mounting portion 31 of the probing unit 3.
このプローブカード供給部4に近接してプローブ針の洗
浄手段として超音波洗浄器6が設置される。第1図では
プローバ1のフロント側にプローブカード供給部4、プ
ローバ1の後方側に超音波洗浄器6が設置されている
が、両者は入れ替ってもよく、要するにプローブカード
供給部4のハンドリングアーム42によってプローブカー
ド5が超音波洗浄器6に搬送可能な位置にあることが望
ましい。An ultrasonic cleaner 6 is installed as a probe needle cleaning means in the vicinity of the probe card supply unit 4. In FIG. 1, the probe card supply unit 4 is installed on the front side of the prober 1 and the ultrasonic cleaning device 6 is installed on the rear side of the prober 1. However, they may be replaced with each other. It is desirable that the probe card 5 be located at a position where it can be conveyed to the ultrasonic cleaner 6 by the arm 42.
超音波洗浄器6は第2図に示すようにアルコール等の溶
媒を貯留する容器61と図示しない駆動装置によって超音
波を発生し且つプローブカード5が載置される皿62とか
ら成る公知の装置で、超音波振動と溶媒との協働によっ
て皿62に載置されたプローブカード5のプローブ針51を
洗浄する。As shown in FIG. 2, the ultrasonic cleaner 6 is a known device including a container 61 for storing a solvent such as alcohol and a dish 62 for generating ultrasonic waves by a driving device (not shown) and on which the probe card 5 is placed. Then, the probe needle 51 of the probe card 5 placed on the dish 62 is washed by the cooperation of the ultrasonic vibration and the solvent.
アーム42は例えば第3図に示すように先端が開閉するこ
とによりプローブカード5を機械的に係止する手段を有
すると共に、回転軸43に対し伸縮可能であり、プローブ
カード5をプローバ1の取付部31、ストッカ41及び超音
波洗浄器6との間で搬送する。For example, as shown in FIG. 3, the arm 42 has means for mechanically locking the probe card 5 by opening and closing the tip, and it is extendable / contractible with respect to the rotating shaft 43. It is conveyed between the unit 31, the stocker 41, and the ultrasonic cleaner 6.
以上のような構成において、例えばプロービング終了後
のプローブカード5を取付部31からの係止を解いた後、
ハンドリングアーム42で超音波洗浄器6に搬送し、ここ
でプローブ針を洗浄し再びハンドリングアーム42により
ストッカ41に収納する。これによりプローブ針を常に清
浄に保つことができる。In the above configuration, for example, after the probe card 5 after probing is released from the attachment portion 31,
It is conveyed to the ultrasonic cleaner 6 by the handling arm 42, where the probe needle is cleaned and stored again in the stocker 41 by the handling arm 42. This allows the probe needle to be kept clean at all times.
「実施例2」 第4図に示す実施例において、洗浄手段8は例えばウェ
ハを搭載するチャック7に近接して設置させてもよく、
この洗浄手段8はプローブ針にアルコール等の洗浄用溶
媒を噴射する噴射ノズル81と洗浄後の溶媒を回収する受
け皿82とから成る。Second Embodiment In the embodiment shown in FIG. 4, the cleaning means 8 may be installed, for example, in the vicinity of the chuck 7 on which the wafer is mounted.
The cleaning means 8 is composed of a spray nozzle 81 for spraying a cleaning solvent such as alcohol onto the probe needle and a tray 82 for collecting the solvent after cleaning.
噴射ノズル81は図示しない溶媒タンク及び空気供給源と
連結されており、操作者の操作等によってプローブ針に
溶媒を一定量、一定圧で噴射することができる。The injection nozzle 81 is connected to a solvent tank and an air supply source (not shown), and can inject a solvent at a constant amount and a constant pressure onto the probe needle by an operator's operation or the like.
この場合、洗浄手段8は従来の針研摩機構部に設けるこ
とにより従来の針研摩機構におけるプローブカード係止
手段によってプローブカードを係止し清浄を行うことが
できる。In this case, by providing the cleaning means 8 in the conventional needle polishing mechanism, the probe card can be locked by the probe card locking means in the conventional needle polishing mechanism for cleaning.
「発明の効果」 以上の実施例からも明らかなように本発明のウェハプロ
ーバはプローブカード取付部が設けられたプロービング
部を備えたウェハプローバにおいて、プローブカードに
配設されたプローブ針を洗浄する洗浄手段と、プローブ
カード取付部から取り外されたプローブカードを洗浄手
段に搬送する搬送手段とを備えているので、従来のよう
にプローブ針を研摩することなく清浄に保ち、高い測定
精度が維持できる。しかもプローブ針が摩耗しないので
プローブカードの交換頻度を少なくすることができ、操
作者の負担を軽減できる。"Effects of the Invention" As is clear from the above embodiments, the wafer prober of the present invention is a wafer prober having a probing portion provided with a probe card attachment portion, and is for cleaning probe needles arranged on the probe card. Since the cleaning means and the conveying means for conveying the probe card removed from the probe card mounting portion to the cleaning means are provided, the probe needle can be kept clean without polishing as in the conventional case, and high measurement accuracy can be maintained. . Moreover, since the probe needle does not wear, the frequency of replacement of the probe card can be reduced, and the burden on the operator can be reduced.
第1図は本発明に係るウェハプローバの1実施例を示す
図、第2図及び第3図はそれぞれ同実施例の要部を示す
図、第4図は第1図とは別の実施例を示す図、第5図は
従来のプローブ針研摩機構部を示す図、第6図はプロー
ブ針の汚れを示す図である。 1……ウェハプローバ 4……プローブカード供給部 5……プローブカード 51……プローブ針 6……超音波洗浄器(洗浄手段) 8……洗浄手段 81……噴射ノズルFIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a wafer prober according to the present invention, FIGS. 2 and 3 are diagrams showing the essential parts of the same embodiment, and FIG. 4 is an embodiment different from FIG. FIG. 5 is a diagram showing a conventional probe needle polishing mechanism, and FIG. 6 is a diagram showing contamination of the probe needle. 1 ... Wafer prober 4 ... Probe card supply unit 5 ... Probe card 51 ... Probe needle 6 ... Ultrasonic cleaner (cleaning means) 8 ... Cleaning means 81 ... Injection nozzle
Claims (4)
ビング部を備えたウェハプローバにおいて、プローブカ
ードに配設されたプローブ針を洗浄する洗浄手段と、前
記プローブカード取付部から取り外された前記プローブ
カードを前記洗浄手段に搬送する搬送手段とを備えたこ
とを特徴とするウェハプローバ。1. A wafer prober having a probing portion provided with a probe card mounting portion, a cleaning means for cleaning probe needles arranged on the probe card, and the probe card detached from the probe card mounting portion. And a transfer means for transferring the cleaning means to the cleaning means.
ビング部と、プローブカードを供給するプローブカード
供給部とを備え、プローブカード自動交換機能を有する
ウェハプローバにおいて、前記プローブカードに配設さ
れたプローブ針を洗浄する洗浄手段と、前記プローブカ
ード供給部に複数枚の前記プローブカードを収納するス
トッカ、及び前記ストッカに収納された前記プローブカ
ードを前記プローブカード取付部に搬送する搬送手段と
を備え、前記搬送手段は前記プローブカード取付部から
取り外された前記プローブカードを前記洗浄手段に搬送
する機能を備えたことを特徴とするウェハプローバ。2. A wafer prober provided with a probe card mounting portion and a probe card supply portion for supplying a probe card, and having a probe card automatic exchange function. A cleaning means for cleaning the needle, a stocker for storing the plurality of probe cards in the probe card supply section, and a transport means for transporting the probe card stored in the stocker to the probe card mounting section, The wafer prober, wherein the carrying means has a function of carrying the probe card removed from the probe card mounting portion to the cleaning means.
求の範囲第1項又は第2項記載のウェハプローバ。3. The wafer prober according to claim 1, wherein the cleaning means is an ultrasonic cleaning device.
許請求の範囲第1項又は第2項記載のウェハプローバ。4. The wafer prober according to claim 1, wherein the cleaning means is a cleaning liquid jet nozzle.
Priority Applications (1)
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| JP62134599A JPH0758312B2 (en) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | Wafer prober |
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|---|---|---|---|
| JP62134599A JPH0758312B2 (en) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | Wafer prober |
Publications (2)
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| JPS63298171A JPS63298171A (en) | 1988-12-05 |
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Family Applications (1)
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Families Citing this family (3)
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| JPH04364746A (en) * | 1991-06-12 | 1992-12-17 | Tokyo Electron Yamanashi Kk | Probe apparatus |
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Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS5840836A (en) * | 1981-09-03 | 1983-03-09 | Seiko Epson Corp | Semiconductor device |
| JPS626807U (en) * | 1985-06-28 | 1987-01-16 | ||
| JPS635542A (en) * | 1986-06-25 | 1988-01-11 | Nippon Maikuronikusu:Kk | Semiconductor wafer prober |
-
1987
- 1987-05-29 JP JP62134599A patent/JPH0758312B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPS63298171A (en) | 1988-12-05 |
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