JPH0764077B2 - Manufacturing method of pore-forming ceramics sintered body - Google Patents
Manufacturing method of pore-forming ceramics sintered bodyInfo
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- JPH0764077B2 JPH0764077B2 JP1083307A JP8330789A JPH0764077B2 JP H0764077 B2 JPH0764077 B2 JP H0764077B2 JP 1083307 A JP1083307 A JP 1083307A JP 8330789 A JP8330789 A JP 8330789A JP H0764077 B2 JPH0764077 B2 JP H0764077B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、空孔形成セラミックス焼結体の製造方法に関
し、更に詳しくは、空孔内に焼結残渣が含まれない空孔
形成セラミックス焼結体の製造方法に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a pore-forming ceramics sintered body, and more specifically, a pore-forming ceramics sintered body in which pores do not contain a sintering residue. The present invention relates to a method for manufacturing a bound body.
(従来の技術) 空孔形成セラミックス焼結体を製造する方法としては、
例えば特開昭63−99955号に記載されているような方法
がある。この製造方法は、光重合型感光性樹脂でパター
ンを形成し、このパターンをセラミックスのグリーンシ
ートの間に挟み込んで一体に積層し、この積層体を焼成
して上記樹脂のパターンを熱分解により消失させて、空
孔形成セラミックス焼結体を得るものである。(Prior Art) As a method for producing a pore-forming ceramics sintered body,
For example, there is a method described in JP-A-63-99955. In this manufacturing method, a pattern is formed with a photopolymerizable photosensitive resin, the pattern is sandwiched between ceramic green sheets and laminated integrally, and the laminated body is fired to cause the resin pattern to disappear by thermal decomposition. By doing so, a pore-forming ceramics sintered body is obtained.
また、特開昭63−4959号には、感光性樹脂シートを用い
て上記と同様の方法でインク流路を形成したセラミック
インクジェットヘッドが開示されている。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-4959 discloses a ceramic ink jet head in which an ink flow path is formed by using a photosensitive resin sheet in the same manner as described above.
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記の方法で空孔形成セラミックス焼結
体を製造する場合には、硬化した光重合型感光性樹脂の
パターンの熱分解温度がグリーンシートの有機結合剤の
熱分解温度より高いため、焼成の際にグリーンシートの
有機結合剤の方が先に熱分解することになる。このよう
にグリーンシートの有機結合剤が先に熱分解すると、感
光性樹脂のパターンが熱収縮する時点では、まだマトリ
ックスのセラミックス粉体が焼結収縮を開始しておらず
非常に脆い状態となっているので、パターンの収縮に伴
ってパターン周辺のセラミックス粉体が剥ぎ取られるこ
とになる。そのため、得られる空孔形成セラミックス焼
結体は、空孔内部にマトリックスセラミックスと同成分
の焼結残渣を含んでしまうという問題があり、例えば上
記のセラミックインクジェットヘッドの場合には、この
焼結残渣によりインクが詰まり易くなるという不都合が
あった。(Problems to be Solved by the Invention) However, when the void-forming ceramics sintered body is manufactured by the above method, the thermal decomposition temperature of the pattern of the cured photopolymerizable photosensitive resin is the organic binder of the green sheet. Since it is higher than the thermal decomposition temperature of 1, the organic binder of the green sheet is first thermally decomposed during firing. Thus, when the organic binder of the green sheet is thermally decomposed first, at the time when the pattern of the photosensitive resin is thermally shrunk, the ceramic powder of the matrix has not yet started to shrink and becomes extremely brittle. Therefore, the ceramic powder around the pattern is stripped off as the pattern shrinks. Therefore, the obtained pore-forming ceramics sintered body has a problem that it contains a sintering residue of the same component as the matrix ceramics inside the pores. For example, in the case of the above ceramic inkjet head, the sintering residue is Therefore, there is a problem that the ink is easily clogged.
本発明は上記問題に鑑みてなされたもので、空孔内に焼
結残渣を含まない空孔形成セラミックス焼結体の製造方
法を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for producing a pore-forming ceramic sintered body that does not contain a sintering residue in the pores.
(課題を解決するための手段) 本発明の空孔形成セラミックス焼結体の製造方法は、絶
縁性セラミックス材料を主成分とするグリーンシートの
表面に感光性樹脂組成物よりなる細線パターンを形成
し、このグリーンシート中の有機結合剤より低温で熱溶
融もしくは熱分解する有機材料、該有機結合剤の熱分解
開始温度より低温で昇華する昇華性材料、該有機結合剤
の熱分解終了温度より高温で熱分解する粉末材料のいず
れか一種以上より成る空孔形成用材料を、上記の細線パ
ターン間に充填した後、該細線パターンを消失させて空
孔形成用材料よりなる空孔パターンを形成し、この空孔
パターンの形成されたグリーンシートを複数枚積層、圧
着して焼成することを特徴としており、これにより上記
目的が達成される。(Means for Solving the Problems) The method for producing a void-forming ceramics sintered body of the present invention comprises forming a fine line pattern made of a photosensitive resin composition on the surface of a green sheet containing an insulating ceramic material as a main component. , An organic material that melts or decomposes at a temperature lower than the organic binder in the green sheet, a sublimable material that sublimes at a temperature lower than the thermal decomposition start temperature of the organic binder, and a temperature higher than the thermal decomposition end temperature of the organic binder. After filling the pore forming material consisting of any one or more of the powder materials which are pyrolyzed by the above between the fine line patterns, the fine line pattern is eliminated to form a pore pattern made of the pore forming material. The present invention is characterized in that a plurality of green sheets having this hole pattern are laminated, pressure-bonded and fired, whereby the above object is achieved.
以下、図面を参照しながら本発明を詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
本発明によれば、最初、第1図(イ)に示すようにグリ
ーンシート1の表面に感光性樹脂組成物よりなる細線パ
ターン2を形成する。According to the present invention, first, a fine line pattern 2 made of a photosensitive resin composition is formed on the surface of a green sheet 1 as shown in FIG.
本発明に使用するグリーンシート1はセラミックス粉末
を主体とする焼成前の成形体であって、焼成後に絶縁性
を有するものである。上記セラミックス粉末としては、
例えばアルミナ、ジルコニア、アグネシア、サイアロ
ン、スピネル、ムライト、結晶化ガラス、炭化ケイ素、
窒化ケイ素、窒化アルミニウム等の粉末及びMgO−SiO2
−CaO系、B2O3−SiO2系、PbO−B2O3−SiO2系、CaO−SiO
2−MgO−B2O3系、PbO−SiO2−B2O3−CaO系等のガラスフ
リット粉末があげられ、単独もしくは二種類以上併用さ
れる。The green sheet 1 used in the present invention is a molded product mainly composed of ceramic powder before firing and has an insulating property after firing. As the above ceramic powder,
For example, alumina, zirconia, Agnesia, sialon, spinel, mullite, crystallized glass, silicon carbide,
Powder of silicon nitride, aluminum nitride, etc. and MgO-SiO 2
-CaO based, B 2 O 3 -SiO 2 system, PbO-B 2 O 3 -SiO 2 system, CaO-SiO
2 -MgO-B 2 O 3 based glass frit powder such as PbO-SiO 2 -B 2 O 3 -CaO based and the like, used in combination either alone or two or more kinds.
このグリーンシート1の製造方法は任意の方法を採用し
てよく、例えば上記セラミックス粉末をプレス成形して
もよいが、後述するように、グリーンシート1はその表
面に空孔形成用材料よりなる空孔パターン3aを形成した
後、複数枚積層圧着されるのであり、圧着の際に空孔パ
ターン3aがセラミックス粉末で完全に包み込まれること
が必要となるので、ある程度の柔軟性を有するものが良
い。従って、グリーンシート1は上記セラミックス粉末
と有機結合剤と必要ならば溶剤とを混合した混合物を射
出成形、押出成形、圧縮成形、流延成形等の成形方で成
形するのが好ましく、特に、ポリエステルフィルム、ガ
ラス板等の基材上にスラリー状にした混合物をドクター
ブレードによって塗布した後乾燥する、いわゆるドクタ
ーブレード法によって成形するのが好ましい。上記の有
機結合剤としては、例えばポリビニルブチラール、ポリ
ビニルアルコール、ポリ(メタ)アクリレート、セルロ
ース、デキストリン、ポリエチレンワックス、澱粉、カ
ゼインなどの高分子材料及びジオクチルフタレート、ジ
ブチルフタレート、ポリエチレングリコールなどの可塑
剤があげられる。また、上記の溶剤としては、例えばメ
タノール、エタノール、ブタノール、プロパノール、メ
チルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、トルエン、
水等があげられる。有機結合剤や溶剤の添加量は、グリ
ーンシートの製造条件等により適宜決定すればよいが、
通常、セラミックス粉末100重量部に対し、有機結合剤
は5〜30重量部の範囲内で、溶剤は20〜100重量部の範
囲内で添加するのが適当である。The green sheet 1 may be manufactured by any method, for example, the above-mentioned ceramic powder may be press-molded. However, as described later, the green sheet 1 has a void formed of a hole-forming material on its surface. After forming the hole pattern 3a, a plurality of layers are laminated and pressure-bonded, and it is necessary that the hole pattern 3a be completely wrapped with the ceramic powder at the time of pressure-bonding. Therefore, it is preferable to have some flexibility. Therefore, the green sheet 1 is preferably formed by a molding method such as injection molding, extrusion molding, compression molding, or casting molding in which a mixture of the above ceramic powder, an organic binder and, if necessary, a solvent is molded. It is preferable to form the mixture in the form of a slurry on a substrate such as a film or a glass plate by applying a doctor blade and then drying the mixture, that is, forming by a so-called doctor blade method. Examples of the organic binder include polymeric materials such as polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, poly (meth) acrylate, cellulose, dextrin, polyethylene wax, starch and casein, and plasticizers such as dioctyl phthalate, dibutyl phthalate and polyethylene glycol. can give. Examples of the solvent include methanol, ethanol, butanol, propanol, methyl ethyl ketone, acetone, ethyl acetate, toluene,
Water etc. can be given. The addition amount of the organic binder and the solvent may be appropriately determined depending on the manufacturing conditions of the green sheet, etc.
Usually, it is suitable to add the organic binder in the range of 5 to 30 parts by weight and the solvent in the range of 20 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ceramic powder.
細線パターン2は、感光性樹脂組成物をグリーンシート
1の表面に積層し、所定の細線パターンを有するホトマ
スクを重ねて、露光、現像することにより形成すること
が好ましく、露光に際して活性光線源として紫外線、電
子線、エックス線等を使用すれば、1μm程度の線幅の
細線パターンを形成することが可能である。The fine line pattern 2 is preferably formed by laminating a photosensitive resin composition on the surface of the green sheet 1, superimposing a photomask having a predetermined fine line pattern, and exposing and developing. It is possible to form a fine line pattern having a line width of about 1 μm by using an electron beam, an X-ray or the like.
上記の感光性樹脂組成物としては、ドライフィルムホト
レジストとして市販されているもの等が好適に使用され
るが、グリーンシート1に有機溶剤可溶の有機結合剤を
含む場合は、溶剤現像するとグリーンシートが破壊され
ることがあるので、アルカリ現像タイプのドライフィル
ムホトレジストを使用するのが好ましく、また、グリー
ンシート1に水溶性の有機結合剤を含む場合は、アルカ
リ現像するとグリーンシートが破壊されることがあるの
で、溶剤現像タイプのドライフィルムホトレジストを使
用するのが好ましい。このようなドライフィルムホトレ
ジストでグリーンシート1の表面に細線パターン2を形
成するには、従来から回路基板等の作製に採用されてい
る種々の方法を採用することが可能であり、例えばグリ
ーンシート表面にアルカリ現像タイプのドライフィルム
ホトレジストを圧着もしくは熱溶融着して、その上に細
線パターンが設けられたホトマスクを重ね合わせ、高圧
水銀灯等で活性光線を照射して露光し、照射部分の感光
性樹脂組成物を硬化させてからホトマスクを剥離して、
炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
を溶解したアルカリ水溶液で現像する方法等が好ましく
採用される。又、ガラス板、ステンレス板、アルミニウ
ム板等の指示体上に感光性樹脂組成物の細線パターンを
形成し、これをグリーンシートの表面に転写する方法等
も採用される。As the above-mentioned photosensitive resin composition, those commercially available as a dry film photoresist are preferably used. When the green sheet 1 contains an organic solvent-soluble organic binder, the green sheet is subjected to solvent development. Therefore, it is preferable to use an alkali development type dry film photoresist, and when the green sheet 1 contains a water-soluble organic binder, the alkali development may destroy the green sheet. Therefore, it is preferable to use a solvent-developing type dry film photoresist. In order to form the fine line pattern 2 on the surface of the green sheet 1 with such a dry film photoresist, it is possible to adopt various methods that have been conventionally used for producing a circuit board or the like. Alkali-developing type dry film photoresist is pressure-bonded or heat-melted onto it, and a photomask with a fine line pattern is laid on top of it and exposed by activating light rays with a high pressure mercury lamp etc. After curing the composition, remove the photomask,
A method of developing with an alkaline aqueous solution in which sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like is dissolved is preferably adopted. Further, a method of forming a fine line pattern of the photosensitive resin composition on an indicator such as a glass plate, a stainless plate or an aluminum plate and transferring the fine line pattern on the surface of the green sheet is also adopted.
上記の感光性樹脂組成物による細線パターン2の形成が
完了すると、第1図(ロ)に示すようにグリーンシート
1表面の細線パターン2間に空孔形成用材料3を充填す
る。この空孔形成用材料3は、グリーンシート1中の有
機結合剤より低温で熱溶融もしくは熱分解する有機材
料、該有機結合剤の熱分解開始温度より低温で昇華する
昇華性材料、該有機結合剤の熱分解終了温度より高温で
熱分解する粉末材料のいずれか一種以上より成るもので
ある。When the formation of the fine line pattern 2 by the above-mentioned photosensitive resin composition is completed, the hole forming material 3 is filled between the fine line patterns 2 on the surface of the green sheet 1 as shown in FIG. The pore-forming material 3 is an organic material that melts or decomposes at a lower temperature than the organic binder in the green sheet 1, a sublimable material that sublimes at a temperature lower than the thermal decomposition start temperature of the organic binder, and the organic bond. It is composed of any one or more of powder materials which are thermally decomposed at a temperature higher than the thermal decomposition end temperature of the agent.
上記の有機材料は、グリーンシート1中の有機結合剤よ
り低温で熱溶融もしくは熱分解するものであればよく、
例えばパラフィンワックス、マイクロスタリンワック
ス、ポリメチルスチレン、ポリメチルメタクリレート、
ポリブチレン、ポリスチレン等が使用される。特に、グ
リーンシートの有機結合剤がポリビニルブチラールであ
る場合には、パラフィンワックスやマイクロワックス等
が好適である。この有機材料よりなる空孔形成用材料3
を感光性樹脂組成物の細線パターン2間に充填する方法
としては種々の充填方法が採用可能であり、例えば有機
材料がワックスである場合は、ワックスを融点以上に加
熱して溶融状態となし、同時にグリーンシート1をワッ
クスの融点以上で有機結合剤が劣化しない温度以下に予
熱した状態に保って、このグリーンシート1上に上記の
溶融ワックスを塗布し、スキージやヘラ等を用いて0.1
〜20kg/cm2の圧でワックスを引き伸ばしながら細線パタ
ーン2の間に押し込み、冷却、乾燥等により固化させる
のが好ましい。尚、細線パターン2上に残ったワックス
等の有機材料は拭き取るなどして除去するのがよい。The above-mentioned organic material may be one that melts or decomposes at a lower temperature than the organic binder in the green sheet 1,
For example, paraffin wax, microstarine wax, polymethylstyrene, polymethylmethacrylate,
Polybutylene, polystyrene, etc. are used. Particularly, when the organic binder of the green sheet is polyvinyl butyral, paraffin wax, microwax and the like are suitable. Void forming material 3 made of this organic material
Various filling methods can be adopted as a method of filling the space between the fine line patterns 2 of the photosensitive resin composition. For example, when the organic material is wax, the wax is heated to a temperature higher than the melting point to form a molten state, At the same time, the green sheet 1 is preheated to a temperature above the melting point of the wax and below the temperature at which the organic binder does not deteriorate, and the above-mentioned molten wax is applied to the green sheet 1, and a squeegee, spatula, etc.
It is preferable to push the wax between the fine wire patterns 2 while stretching the wax at a pressure of -20 kg / cm 2 and to solidify it by cooling, drying or the like. The organic material such as wax remaining on the fine line pattern 2 is preferably removed by wiping it off.
また、空孔形成用材料3として使用される前記の昇華性
材料は、グリーンシート1中の有機結合剤の熱分解開始
温度より低温で熱溶融過程を経ずに気化するか、或いは
自然放置や源圧により気化する固形粉末であり、例えば
ナフタリン、安息香酸、アントラキノン、アントラニル
酸、イソフタルニトリル、2,3−ジクロロ−1,4−ナフト
キノン、α−ナフトール、p−フェニルフェノール、p
−ニトロフェノール等の粉末が挙げられる。これらは、
メタノール、エタノール、ブタノール、プロパノール、
シクロヘキサノール、テルピネオール、メチルエチルケ
トン、アセトン、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ベ
ンゼン、エーテル、水等の溶剤に混ぜてペースト状にし
て使用される。このようなペースト状の昇華性材料を細
線パターン2の間に充填する方法としては種々の方法が
採用可能であり、例えば該ペースト状昇華性材料をグリ
ーンシート1上に塗布し、スキージやヘラ等を用いて0.
1〜20kg/cm2の圧で該ペースト状材料を引き伸ばしなが
ら細線パターン2の間に押し込む等の方法が好ましく採
用される。The sublimable material used as the pore-forming material 3 is vaporized at a temperature lower than the thermal decomposition start temperature of the organic binder in the green sheet 1 without undergoing a heat-melting process, or left naturally. A solid powder that is vaporized by source pressure, such as naphthalene, benzoic acid, anthraquinone, anthranilic acid, isophthalnitrile, 2,3-dichloro-1,4-naphthoquinone, α-naphthol, p-phenylphenol, p
-Powder such as nitrophenol. They are,
Methanol, ethanol, butanol, propanol,
It is used as a paste by mixing it with a solvent such as cyclohexanol, terpineol, methyl ethyl ketone, acetone, ethyl acetate, toluene, xylene, benzene, ether and water. Various methods can be adopted as a method of filling the paste-like sublimable material between the fine line patterns 2. For example, the paste-like sublimable material is applied onto the green sheet 1, and a squeegee, a spatula, or the like is used. Using 0.
A method in which the paste-like material is stretched at a pressure of 1 to 20 kg / cm 2 and pressed between the fine wire patterns 2 is preferably adopted.
また、空孔形成用材料3として使用される前記の粉末材
料は、グリーンシート1中の有機結合剤の熱分解終了温
度より高温で熱分解するものであればよいが、溶融する
ことなく分解気化するものが好ましく、例えばグラファ
イト、カーボンブラック、グラッシーカーボンなどの炭
素粉末や、メラミン、ポリイミド、イソフタル酸、テレ
フタル酸、四フッ化エチレン樹脂などの粉末が挙げられ
る。これらは、メタノール、エタノール、ブタノール、
プロパノール、シクロヘキサノール、テルピネオール、
メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、トルエ
ン、キシレン、ベンゼン、エーテル、水等の溶剤と混ぜ
てペースト状にして使用される。このようなペースト状
材料は、前述の有機材料やペースト状昇華性材料と同様
の方法で細線パターン2の間に充填すればよい。The powder material used as the pore-forming material 3 may be one that is thermally decomposed at a temperature higher than the thermal decomposition end temperature of the organic binder in the green sheet 1, but is decomposed and vaporized without melting. Preferred are carbon powders such as graphite, carbon black, and glassy carbon, and powders of melamine, polyimide, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrafluoroethylene resin, and the like. These are methanol, ethanol, butanol,
Propanol, cyclohexanol, terpineol,
It is used as a paste by mixing with a solvent such as methyl ethyl ketone, acetone, ethyl acetate, toluene, xylene, benzene, ether, and water. Such a pasty material may be filled between the fine line patterns 2 in the same manner as the above-mentioned organic material or pasty sublimable material.
上記のようにして、有機材料、昇華性材料、粉末材料の
いずれか一種以上よりなる空孔形成用材料3を細線パタ
ーン2の間へ充填する作業が完了すると、第1図(ハ)
に示すように細線パターン2を剥離消失させて空孔形成
用材料より成る空孔パターン3aをグリーンシート1表面
に形成する。As described above, when the work for filling the space between the fine wire patterns 2 with the pore forming material 3 made of one or more of the organic material, the sublimable material, and the powder material is completed, FIG.
As shown in (3), the fine line pattern 2 is peeled off to form a hole pattern 3a made of a hole forming material on the surface of the green sheet 1.
この細線パターン2の剥離は、空孔形成用材料3が有機
材料、昇華性材料、粉末材料のいずれであっても、現像
に用いた現像液等をスプレーすることにより行われる
が、該細線パターン2の感光性樹脂組成物は活性光線の
照射で硬化しているので、細線パターン形成時の現像条
件では剥離しにくい。従って、感光性樹脂組成物の硬化
の程度に応じて現像時間を長くするか、或いは現像液の
温度を上げるか、或いは現像液の濃度を上げるかして剥
離することが好ましい。このように細線パターン2を剥
離すると、その細線パターンの反転された形状、つまり
細線パターンの間隙形状を有する空孔形成用材料の空孔
パターン3aがグリーンシート1表面に形成されることに
なる。尚、空孔形成用材料が前記の高温分解タイプの粉
末材料のペーストである場合は、空孔パターン3aを形成
した後、必要に応じて50〜160℃で10〜60分保持し、ペ
ースト中の残存溶剤を飛散させて固化させるのがよい。The fine line pattern 2 is peeled off by spraying a developing solution or the like used for development, regardless of whether the hole forming material 3 is an organic material, a sublimable material or a powder material. Since the photosensitive resin composition of No. 2 is cured by irradiation with actinic rays, it does not easily peel off under the developing conditions at the time of forming the fine line pattern. Therefore, it is preferable to lengthen the developing time, increase the temperature of the developing solution, or increase the concentration of the developing solution according to the degree of curing of the photosensitive resin composition to peel off. When the thin line pattern 2 is peeled off in this manner, the hole pattern 3a of the hole forming material having an inverted shape of the thin line pattern, that is, a gap shape of the thin line pattern is formed on the surface of the green sheet 1. In addition, when the material for forming pores is a paste of the powder material of the above-mentioned high temperature decomposition type, after forming the pore pattern 3a, it is held at 50 to 160 ° C. for 10 to 60 minutes, if necessary, in the paste. It is preferable to solidify the residual solvent by scattering.
上記のようにして空孔パターン3aの形成が完了すると、
第1図(ニ)に示すように、空孔パターン3aが形成され
たグリーンシート1を複数枚積層、圧着して積層体4を
形成し、この積層体4を更に脱脂、焼成して、第1図
(ホ)に示すような空孔5を有するセラミックス焼結体
Aを得る。When the formation of the hole pattern 3a is completed as described above,
As shown in FIG. 1 (d), a plurality of green sheets 1 having the hole patterns 3a are laminated and pressure-bonded to form a laminated body 4, and the laminated body 4 is further degreased and fired. A ceramic sintered body A having pores 5 as shown in FIG. 1 (e) is obtained.
グリーンシート1の積層枚数は、目的とする空孔形成セ
ラミックス焼結体の大きさによって適宜決定すればよい
が、あまり厚くなると圧着しにくくなり、空孔パターン
3aがグリーンシート1によって包み込まれにくくなるの
で、グリーンシート1及び空孔パターン3aの厚さが10μ
mオーダーの場合には50〜1000枚程度積層するのが好ま
しい。そして、より厚いものを得たい場合には、一度積
層圧着した積層体を複数個積層し、再度圧着すればよ
い。The number of laminated green sheets 1 may be appropriately determined according to the size of the target pore-forming ceramics sintered body, but if it is too thick, it becomes difficult to press-bond and the pore pattern is formed.
Since 3a is less likely to be wrapped by the green sheet 1, the thickness of the green sheet 1 and the hole pattern 3a is 10μ.
In the case of the m-order, it is preferable to stack about 50 to 1000 sheets. Then, in order to obtain a thicker product, it is sufficient to stack a plurality of laminated bodies that have been laminated and pressure-bonded once and then pressure-bond them again.
圧着条件は適宜決定すればよいが、空孔パターン3aを前
述の有機材料で形成した場合は、温度条件として20〜16
0℃の範囲内で且つ空孔パターン3aが軟化しない温度を
採用し、加圧条件として1〜100kg/cm2の圧力で1〜10
分圧着するのが適当である。また、空孔パターン3aを前
述の昇華性材料のペーストで形成した場合は、昇華性材
料の蒸気圧が大きくならない温度で、1〜100kg/cm2の
加圧下に1〜10分圧着するのが適当であり、また、空孔
パターン3aを前述の粉末材料のペーストで形成した場合
は、20〜160℃で1〜100kg/cm2の加圧下に1〜10分圧着
するのが適当である。The pressure bonding conditions may be appropriately determined, but when the hole pattern 3a is formed of the organic material described above, the temperature condition is 20 to 16
The temperature is within the range of 0 ° C and the hole pattern 3a is not softened, and the pressure condition is 1 to 10 kg / cm 2 at a pressure of 1 to 10
It is appropriate to carry out split pressure bonding. Also, the case of forming the holes pattern 3a with a paste of sublimable material described above, at a temperature no greater vapor pressure of sublimable material, to crimp 10 minutes under a pressure of 1 to 100 kg / cm 2 When the hole pattern 3a is formed of the above-mentioned powder material paste, it is suitable to perform pressure bonding at 20 to 160 ° C. under a pressure of 1 to 100 kg / cm 2 for 1 to 10 minutes.
なお、空孔パターン3aはグリーンシート1の両面に形成
してもよく、その場合は、空孔パターン3aの形成された
グリーンシート1と形成されてないグリーンシートを交
互に積層、圧着して積層体を形成すればよい。The hole patterns 3a may be formed on both sides of the green sheet 1. In that case, the green sheet 1 having the hole patterns 3a and the green sheet not having the hole patterns 3a are alternately laminated and pressure-bonded to each other. You just have to form the body.
上記の条件で積層、圧着された積層体4は、加熱炉で加
熱されて脱脂、焼成されるが、空孔パターン3aが前述の
有機材料で形成されている場合は、脱脂する前に、脱脂
温度より低温、つまりグリーンシート1の有機結合剤が
分解しない温度で空孔パター3aの有機材料を熱分解して
空孔5を形成する。また、空孔パターン3aが前述の昇華
性材料で形成されている場合も、脱脂する前に昇華性材
料を気化させて空孔5を形成する。気化させる方法とし
ては、グリーンシート1の有機結合剤の分解開始温度よ
り低温での加熱、1Torr以下の減圧、これら加熱と減圧
の作用、或いは常温放置など、種々の方法が採用され
る。このように脱脂前に空孔5を形成すると、この空孔
形成の段階ではグリーンシート1の有機結合剤が熱分解
しておらず、セラミックス粉末は有機結合剤で強固に結
合された状態にあるので、空孔5周辺のセラミックス粉
末が崩壊して空孔5内に入ることはない。一方、空孔パ
ターン3aが前述の高温分解タイプの粉末材料で形成され
ている場合は、脱脂後の焼成段階で粉末材料が熱分解し
て空孔5が形成されるので、脱脂前に空孔形成処理する
必要はない。The laminated body 4 laminated and pressure-bonded under the above conditions is heated in a heating furnace to be degreased and fired. However, when the hole pattern 3a is formed of the organic material described above, degreasing is performed before degreasing. At a temperature lower than the temperature, that is, at a temperature at which the organic binder of the green sheet 1 is not decomposed, the organic material of the hole pattern 3a is thermally decomposed to form the holes 5. Also, when the hole pattern 3a is formed of the above-described sublimable material, the sublimable material is vaporized before degreasing to form the holes 5. As a method of vaporizing, various methods such as heating at a temperature lower than the decomposition start temperature of the organic binder of the green sheet 1, depressurization of 1 Torr or less, action of these heating and depressurizing, or leaving at room temperature are adopted. When the pores 5 are thus formed before degreasing, the organic binder of the green sheet 1 is not thermally decomposed at the stage of forming the pores, and the ceramic powder is in a state of being strongly bonded by the organic binder. Therefore, the ceramic powder around the holes 5 does not collapse and enter the holes 5. On the other hand, when the pore pattern 3a is formed of the above-mentioned high temperature decomposition type powder material, the powder material is thermally decomposed to form the pores 5 in the firing step after degreasing, so the pores before degreasing are formed. No formation processing is required.
積層体4の脱脂の条件は、空孔パターン3aの材料やグリ
ーンシート1中の有機結合剤を考慮して適宜決定すれば
よいが、空孔パターン3aを前述の有機材料や昇華性材料
で形成した積層体の場合は、1〜100℃/hrの昇温速度で
昇温し、280〜600℃で1〜5時間保持して脱脂するのが
適当であり、空孔パターン3aを前述の粉末材料で形成し
た積層体の場合は、1〜100℃/hrの昇温速度で昇温し、
280〜700℃で1〜5時間保持して脱脂するのが適当であ
る。The degreasing condition of the laminated body 4 may be appropriately determined in consideration of the material of the hole pattern 3a and the organic binder in the green sheet 1, but the hole pattern 3a is formed of the above-mentioned organic material or sublimable material. In the case of the laminated body, it is appropriate to raise the temperature at a temperature rising rate of 1 to 100 ° C./hr and hold it at 280 to 600 ° C. for 1 to 5 hours to degrease it. In the case of a laminate formed of the material, the temperature is raised at a heating rate of 1 to 100 ° C / hr,
It is suitable to hold at 280 to 700 ° C for 1 to 5 hours for degreasing.
また、脱脂後の焼成条件は、グリーンシート1のセラミ
ックス粉末の種類を考慮して適宜決定すればよいが、一
般には10〜300℃/hrの昇温速度で昇温し、760〜1650℃
で1〜5時間保持して焼成するのが適当である。The firing conditions after degreasing may be appropriately determined in consideration of the type of ceramic powder of the green sheet 1, but generally, the temperature is raised at a heating rate of 10 to 300 ° C / hr to 760 to 1650 ° C.
It is suitable to hold at 1 to 5 hours for firing.
以上のようにして得られる空孔形成セラミックス焼結体
は、空孔形成段階において空孔パターン周辺のセラミッ
クス粉末が崩壊しないので、その焼結残渣が空孔内に含
まれることはない。In the void-forming ceramics sintered body obtained as described above, since the ceramic powder around the void pattern does not collapse in the void forming stage, the sintering residue is not contained in the voids.
(作 用) 本発明の空孔形成セラミックス焼結体の製造方法は、上
述のようにグリーンシート中の有機結合剤より低温で熱
溶融もしくは熱分解する有機材料、該有機結合剤の熱分
解開始温度より低温で昇華する昇華性材料、該有機結合
剤の熱分解終了温度より高温で熱分解する粉末材料のい
ずれか一種以上より成る空孔形成材料を用いて、グリー
ンシート表面に空孔パターンを形成し、これを複数枚積
層、圧着して焼成するため、空孔パターンが上記の有機
材料や昇華性材料で形成されている場合は、焼成の初期
段階(脱脂の前の段階)で空孔パターンの材料が分解も
しくは気化して空孔が形成されることになり、この空孔
形成段階では、グリーンシートの有機結合剤が熱分解し
ておらず、セラミックス粉末は有機結合剤で強固に結合
された状態にあるので、空孔パターン周辺のセラミック
ス粉末が崩壊して空孔内に入ることはない。また、空孔
パターンが上記の粉末材料で形成されている場合は、焼
成の後期段階(脱脂の後の段階)で該粉末材料が分解し
て空孔が形成されることになり、この空孔形成段階で
は、セラミックス粉末が焼結収縮を開始して強固に結合
しているため、やはり空孔パターン周辺のセラミックス
粉末が崩壊して空孔内に入ることはない。従って、いず
れの場合も、空孔内にセラミックス粉末の焼結残渣が含
まれないセラミックス焼結体を得ることができる。(Operation) As described above, the method for producing the pore-forming ceramics sintered body according to the present invention is an organic material which is thermally melted or decomposed at a lower temperature than the organic binder in the green sheet, and the thermal decomposition of the organic binder is started. Using a pore-forming material made of one or more of a sublimable material that sublimes at a temperature lower than the temperature and a powder material that thermally decomposes at a temperature higher than the thermal decomposition end temperature of the organic binder, a pore pattern is formed on the surface of the green sheet. When the hole pattern is made of the above organic material or sublimable material, the holes are formed at the initial stage of firing (the stage before degreasing), because the layers are formed, and a plurality of these layers are stacked and pressure-bonded and fired. The pattern material is decomposed or vaporized to form vacancies. At this vacancies formation stage, the organic binder on the green sheet is not thermally decomposed, and the ceramic powder is firmly bound by the organic binder. Was done Because the state is not to enter into the pores ceramic powder around the holes pattern collapses. Further, when the pore pattern is formed of the above powder material, the powder material is decomposed to form pores in the latter stage of firing (the stage after degreasing). At the forming stage, since the ceramic powder starts sintering shrinkage and is firmly bonded, the ceramic powder around the hole pattern does not collapse and enter the holes. Therefore, in any case, it is possible to obtain a ceramics sintered body in which the sintering residue of the ceramics powder is not contained in the pores.
(実施例) 本発明を実施例について以下に説明する。尚、「部」と
あるのは「重量部」を意味する。(Examples) The present invention will be described below with reference to Examples. The term "part" means "part by weight".
実施例1 アルミナボールミルに、平均粒径3μmのアルミナ粉末
を96部、平均粒径5μmのPbO−SiO2−B2O3−CaO系ガラ
スフリットを4部、ポリメタクリレート(Mw:13万)を1
7部、ジブチルフタレートを5部、メチルエチルケトン
を24部、トルエンを18部、イソプロピルアルコールを18
部、Solvent Black 7を0.5部供給し、3時間混練してス
ラリーを得た。このスラリーをドクターブレード型グリ
ーンシート作製機に供給し、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に塗布、乾燥し、厚さ60μmのグリーンシ
ート(100mm×100mm)のグリーンシートを作製した。Example 1 In an alumina ball mill, 96 parts of alumina powder having an average particle size of 3 μm, 4 parts of PbO—SiO 2 —B 2 O 3 —CaO glass frit having an average particle size of 5 μm, and polymethacrylate (Mw: 130,000) were used. 1
7 parts, dibutyl phthalate 5 parts, methyl ethyl ketone 24 parts, toluene 18 parts, isopropyl alcohol 18 parts
0.5 parts of Solvent Black 7 was kneaded and kneaded for 3 hours to obtain a slurry. This slurry was supplied to a doctor blade type green sheet making machine, coated on a polyethylene terephthalate film and dried to produce a green sheet (100 mm × 100 mm) having a thickness of 60 μm.
一方、メタクリル酸メチル−メタクリル酸n−ブチル−
アクリル酸共重合体(6/2/2,Mw:15万)60部、2,2′ビス
(4−メタアクリロキシジエトキシフェニル)プロパン
15部、ヘキサメチレンジアクリレート15部、2,4−ジメ
チルチオキサントン2部、p−ジメチルアミノ安息香酸
エチル2部、マラカイトグリーン0.05部、パラメトキシ
フェノール0.1部及びメチルエチルケトン200部を均一に
溶解させて感光液を得、この感光液を厚さ20μmのポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に塗布、乾燥して、
厚さ25μmのドライフイルムホトレジストを作製した。On the other hand, methyl methacrylate-n-butyl methacrylate-
Acrylic acid copolymer (6/2/2, Mw: 150,000) 60 parts, 2,2 'bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) propane
15 parts, 15 parts of hexamethylene diacrylate, 2 parts of 2,4-dimethylthioxanthone, 2 parts of ethyl p-dimethylaminobenzoate, 0.05 parts of malachite green, 0.1 parts of paramethoxyphenol and 200 parts of methyl ethyl ketone are uniformly dissolved and exposed. A liquid is obtained, and this photosensitive liquid is applied on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 μm and dried,
A dry film photoresist having a thickness of 25 μm was produced.
このドライフィルムホトレジストを上記グリーンシート
に100℃、3kg/cm2で熱ラミネートし、ドライフィルムホ
トレジストの支持体であるポリエチレンテレフタレート
フィルムに、細線パターンを有する陰画のホトマスクを
密着させて、3kW高圧水銀灯から50cmの距離で紫外線を3
5mJ/cm2露光した。そしてポリエチレンテレフタレート
フィルムを剥離し、30℃の炭酸ナトリウムの1重量%水
溶液を1kg/cm2でスプレーして30秒で現像し、線幅25μ
m、線間隔30μmの細線パターンをグリーンシート表面
に形成した。This dry film photoresist is heat-laminated on the green sheet at 100 ° C. at 3 kg / cm 2 , and the polyethylene terephthalate film that is the support of the dry film photoresist is brought into close contact with a negative photomask having a fine line pattern, from a 3 kW high pressure mercury lamp. 3 UV rays at a distance of 50 cm
It was exposed to 5 mJ / cm 2 . Then remove the polyethylene terephthalate film, spray a 1% by weight aqueous solution of sodium carbonate at 30 ° C at 1 kg / cm 2 and develop in 30 seconds, line width 25μ
m, a fine line pattern having a line interval of 30 μm was formed on the surface of the green sheet.
この細線パターンを形成したグリーンシートを80℃に加
熱し、その上に溶融したパラフィンワックス(m.p.68
℃)を塗布し、2kg/cm2の圧で押さえたスキージを移動
して、細線パターン間にパラフィンワックスを充填した
後、常温まで冷却してパラフィンワックスを固化させ
た。次いで、30℃の水酸化ナトリウムの3重量%水溶液
を1kg/cm2でスプレーして3分間処理し、ドライフィル
ムホトレジストの細線パターンを剥離して、線幅30μ
m、厚さ20μmのパラフィンワックスの空孔パターンを
グリーンシート表面に形成した。The green sheet on which this fine line pattern was formed was heated to 80 ° C, and the paraffin wax (mp68
C) was applied and the squeegee pressed with a pressure of 2 kg / cm 2 was moved to fill the paraffin wax between the fine line patterns and then cooled to room temperature to solidify the paraffin wax. Then, spray a 3% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 30 ° C. at 1 kg / cm 2 and treat for 3 minutes. Peel off the fine line pattern of the dry film photoresist to obtain a line width of 30 μm.
A hole pattern of paraffin wax having a thickness of 20 μm was formed on the surface of the green sheet.
このグリーンシートから支持体であるポリエチレンテレ
フタレートフィルムを剥離し、該グリーンシートを600
枚積層して常温で35kg/cm2の圧力下に3分間プレスし、
100×100×48mmの積層体を得た。この積層体を積層面と
垂直にスライスして厚さ3mmのスライス体となし、この
スライス体を加熱炉に供給して80℃で10時間保持した
後、2.5℃/hrの昇温速度で175℃まで昇温し、10時間保
持してパラフィンワックスを分解した。次いで2.5℃/hr
の昇温速度で500℃で昇温し、2時間保持して脱脂し、
更に100℃/hrの昇温速度で1650℃まで昇温し2時間焼成
して、厚さ2.5mmのセラミックス焼結体を得た。このセ
ラミックス焼結体は、一面から相対向する他面へ通じる
多数の空孔が形成されており、該空孔内には焼結残渣が
含まれていなかった。The polyethylene terephthalate film, which is the support, was peeled from this green sheet, and the green sheet was
Laminate the sheets and press at room temperature under pressure of 35 kg / cm 2 for 3 minutes,
A laminate of 100 × 100 × 48 mm was obtained. This laminated body is sliced perpendicularly to the laminating plane to form a sliced body having a thickness of 3 mm, and the sliced body is supplied to a heating furnace and held at 80 ° C. for 10 hours, and then 175 at a heating rate of 2.5 ° C./hr. The temperature was raised to ℃ and kept for 10 hours to decompose the paraffin wax. Next 2.5 ° C / hr
At a heating rate of 500 ℃, hold for 2 hours to degrease,
Further, the temperature was raised to 1650 ° C. at a heating rate of 100 ° C./hr, and firing was performed for 2 hours to obtain a ceramics sintered body having a thickness of 2.5 mm. This ceramic sintered body had a large number of holes communicating from one surface to the other surface facing each other, and no sintering residue was contained in the holes.
実施例2 実施例1と同様にしてグリーンシート上に線幅25μm、
線間隔30μmのドライフィルムホトレジストよりなる細
線パターンを形成した。Example 2 Similar to Example 1, a line width of 25 μm was formed on the green sheet,
A fine line pattern made of a dry film photoresist with a line interval of 30 μm was formed.
次に、ナフタリンを粉砕し、この粉末にベンゼンを20
部、エタノールを10部、テルピネオールを10部を加えて
混練し、40℃で溶剤を飛散させながら2600psまで粘度を
上げてナフタリンペーストを得た。Next, crush the naphthalene and add benzene to this powder.
Parts, 10 parts of ethanol and 10 parts of terpineol were added and kneaded, and the viscosity was increased to 2600 ps while scattering the solvent at 40 ° C. to obtain a naphthalene paste.
このナフタリンペーストを上記グリーンシートの細線パ
ターン間に塗布して2kg/cm2の圧で押さえたスキージを
移動し、細線パターン間にナフタリンペーストを充填し
た後、常温で30分乾燥させた。そして、30℃の炭酸ナト
リウムの1重量%水溶液を1kg/cm2でスプレーして2分
間処理し、ドライフィルムホトレジストの細線パターン
を剥離して、線幅30μm、線間隔25μm、厚さ12μmの
ナフタリンよりなる空孔パターンをグリーンシート表面
に形成した。This naphthalene paste was applied between the fine line patterns of the green sheet, a squeegee pressed with a pressure of 2 kg / cm 2 was moved, the naphthalene paste was filled between the fine line patterns, and then dried at room temperature for 30 minutes. Then, a 1% by weight aqueous solution of sodium carbonate at 30 ° C. is sprayed at 1 kg / cm 2 and treated for 2 minutes, the fine line pattern of the dry film photoresist is peeled off, and the line width is 30 μm, the line interval is 25 μm, and the thickness is 12 μm. And a hole pattern was formed on the surface of the green sheet.
このグリーンシートを実施例1と同様に常温で40kg/cm2
の条件下に圧着し、スライスして、厚さ3mmのスライス
体となし、このスライス体を減圧炉に供給して、20℃,
0.5Torrで10時間保持した後、0.1Torrで10時間保持し、
更に10-3Torrで5時間保持してそのまま10℃/hrの昇温
速度で60℃まで昇温した。そして、大気圧中で2.5℃/hr
の昇温速度で400℃まで昇温し、2時間保持して脱脂し
てから、100℃/hrの昇温速度で1650℃まで昇温して2時
間焼成し、厚さ2.5mmのセラミックス焼結体を得た。こ
のセラミックス焼結体は、一面から相対向する他面へ通
じる多数の空孔が形成されており、該空孔内には焼結残
渣が含まれていなかった。This green sheet was 40 kg / cm 2 at room temperature as in Example 1.
Pressure bonding under the conditions of, and sliced to form a sliced body with a thickness of 3 mm, this sliced body is supplied to a decompression furnace, and 20 ° C,
After holding at 0.5 Torr for 10 hours, hold at 0.1 Torr for 10 hours,
The temperature was further maintained at 10 −3 Torr for 5 hours, and the temperature was raised to 60 ° C. at a temperature rising rate of 10 ° C./hr. And 2.5 ℃ / hr at atmospheric pressure
The temperature is raised to 400 ° C at a heating rate of 2 hours, held for 2 hours to degrease, then raised to 1650 ° C at a heating rate of 100 ° C / hr and fired for 2 hours. I got a union. This ceramic sintered body had a large number of holes communicating from one surface to the other surface facing each other, and no sintering residue was contained in the holes.
実施例3 実施例2のナフタリンに代えて安息香酸を使用し、その
粉末にベンゼンを20部、エタノールを10部、テルピネオ
ールを10部加えて混練し、40℃で溶剤を飛散させながら
2600psまで粘度を上げて安息香酸ペーストを得た。そし
て実施例2と同様にして厚さ3mmのスライス体を得、こ
のスライス体を減圧炉に供給して60℃,0.1Torrで10時間
保持し、更に、10℃/hrで100℃まで昇温して5×10-2To
rrで10時間保持した。次いで、大気圧中で2.5℃/hrで40
0℃まで昇温し、以後実施例2と同様にして、空孔内に
焼結残渣のない空孔形成セラミックス焼結体を得た。Example 3 Benzoic acid was used in place of the naphthalene of Example 2, 20 parts of benzene, 10 parts of ethanol and 10 parts of terpineol were added to the powder and kneaded, and the solvent was scattered at 40 ° C.
The viscosity was increased to 2600 ps to obtain a benzoic acid paste. Then, a sliced body having a thickness of 3 mm was obtained in the same manner as in Example 2, the sliced body was supplied to a decompression furnace, held at 60 ° C. and 0.1 Torr for 10 hours, and further heated to 100 ° C. at 10 ° C./hr. Then 5 × 10 -2 To
Hold at rr for 10 hours. Then 40 at atmospheric pressure 2.5 ℃ / hr
The temperature was raised to 0 ° C., and thereafter, in the same manner as in Example 2, a pore-forming ceramics sintered body having no sintering residue in the pores was obtained.
実施例4 アルミナボールミルに、平均粒系3μmのアルミナ粉末
を40部、平均粒径5μmのPbO−SiO2−B2O3−CaO系ガラ
スフリットを60部、ポリビニルブチラールを12部、ジブ
チルフタレートを5部、メチルエチルケトンを24部、ト
ルエンを18部、イソプロピルアルコールを18部、Solven
t Black 7を0.5部供給し、実施例1と同様にしてグリー
ンシートを得た。Example 4 In an alumina ball mill, 40 parts of alumina powder having an average particle size of 3 μm, 60 parts of PbO—SiO 2 —B 2 O 3 —CaO glass frit having an average particle size of 5 μm, 12 parts of polyvinyl butyral and dibutyl phthalate were used. 5 parts, methyl ethyl ketone 24 parts, toluene 18 parts, isopropyl alcohol 18 parts, Solven
0.5 parts of t Black 7 was supplied, and a green sheet was obtained in the same manner as in Example 1.
次いで、実施例1と同様にして線幅25μm、線間隔30μ
mの細線パターンをグリーンシート上に形成し、カーボ
ンペースト(藤倉化成(株)製、XC−12)にテルピネオ
ールを20部混練して40℃で溶剤を飛散して2600psまで増
粘したものをグリーンシート表面に塗布し、2kg/cm2の
圧で押さえたスキージを移動して細線パターン間に増粘
カーボンペーストを充填し、常温で30分乾燥させた。そ
して、実施例2と同様にしてドライフィルムホトレジス
トの細線パターンを剥離した後、80℃で30分保持してカ
ーボンペーストを固化させ、線幅30μm、線間隔25μ
m、厚さ12μmのカーボンペーストよりなる空孔パター
ンをグリーンシート表面に形成した。Then, in the same manner as in Example 1, the line width is 25 μm and the line spacing is 30 μm.
A thin line pattern of m is formed on a green sheet, 20 parts of terpineol is mixed with carbon paste (Fujikura Kasei Co., Ltd., XC-12), the solvent is dispersed at 40 ° C and the viscosity is increased to 2600ps. The squeegee pressed on the surface of the sheet and pressed with a pressure of 2 kg / cm 2 was moved to fill the thickened carbon paste between the fine line patterns, and dried at room temperature for 30 minutes. Then, the fine line pattern of the dry film photoresist was peeled off in the same manner as in Example 2 and then held at 80 ° C. for 30 minutes to solidify the carbon paste to obtain a line width of 30 μm and a line interval of 25 μm.
A hole pattern made of carbon paste having a thickness of 12 m and a thickness of 12 m was formed on the surface of the green sheet.
このグリーンシートからその支持体であるポリエチレン
テレフタレートフィルムを剥離し、600枚積層して120
℃、60kg/cm2の条件で3分間プレスし、100×100×40mm
の積層体を得た。そしてこの積層体を積層面と垂直にス
ライスして厚さ3mmのスライス体となし、これを加熱炉
に供給して10℃/hrで650℃まで昇温し4時間保持した
後、更に100℃/hrで昇温して950℃で2時間焼成し、空
孔内に焼結残渣のない厚さ2.5mmの空孔形成セラミック
ス焼結体を得た。The polyethylene terephthalate film that is the support is peeled from this green sheet, and 600 sheets are laminated to form 120 sheets.
Pressed for 3 minutes under the condition of ℃ and 60kg / cm 2 , 100 × 100 × 40mm
A laminated body of was obtained. Then, this laminated body was sliced perpendicularly to the laminated surface to form a sliced body having a thickness of 3 mm, which was supplied to a heating furnace and heated to 650 ° C. at 10 ° C./hr for 4 hours and then further heated to 100 ° C. The temperature was raised at a rate of / hr and firing was carried out at 950 ° C. for 2 hours to obtain a pore-forming ceramics sintered body having a thickness of 2.5 mm and no sintering residue in the pores.
実施例5 実施例1と同様にしてグリーンシート上に線幅25μm、
線間隔30μmのドライフィルムホトレジストの細線パタ
ーンを形成した。一方、イソフタル酸粉末にテルピネオ
ールを30部とイソプロパノールを10部加えて混練し、40
℃で溶剤を飛散させながら2600psまで増粘してイソフタ
ル酸ペーストを得た。そして、このペーストを実施例2
と同様にしてグリーンシートの細線パターン間に充填
し、60℃で30分乾燥してから、30℃の水酸化ナトリウム
の3重量%水溶液を1kg/cm2でスプレーして3分間処理
し、ドライフィルムホトレジストの細線パターンを剥離
した後、120℃で30分乾燥し、線幅30μm、線間隔25μ
m、厚さ12μmのイソフタル酸よりなる空孔パターンを
グリーンシート表面に形成した。Example 5 In the same manner as in Example 1, a line width of 25 μm was formed on the green sheet,
A fine line pattern of dry film photoresist with a line spacing of 30 μm was formed. On the other hand, 30 parts of terpineol and 10 parts of isopropanol were added to the isophthalic acid powder and kneaded to obtain 40 parts.
While isolating the solvent at ℃, the viscosity was increased to 2600 ps to obtain an isophthalic acid paste. Then, this paste is used in Example 2.
In the same manner as above, fill the space between the thin line patterns on the green sheet, dry at 60 ° C for 30 minutes, then spray a 3% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 30 ° C at 1 kg / cm 2 for 3 minutes and dry. After peeling off the thin line pattern of film photoresist, it is dried at 120 ° C for 30 minutes, line width 30μm, line interval 25μ
A hole pattern made of isophthalic acid having a thickness of m and a thickness of 12 μm was formed on the surface of the green sheet.
このグリーンシートを実施例1と同様にして積層、圧着
し、さらにスライスして、厚さ3mmのスライス体を得
た。そして、このスライス体を加熱炉に入れて2.5℃/hr
で300℃に昇温し、2時間保持してグリーンシートを脱
脂した後、2.5℃/hrで330℃に昇温し、24時間保持して
イソフタル酸を気化させた。次いで、5℃/hrで500℃ま
で昇温し、さらに100℃/hrで1650℃まで昇温して2時間
焼成し、厚さ2.5mmで空孔内に焼結残渣のない空孔成形
セラミックス焼結体を得た。This green sheet was laminated, pressure-bonded and sliced in the same manner as in Example 1 to obtain a sliced body having a thickness of 3 mm. Then, put this sliced body in a heating furnace and 2.5 ℃ / hr
After heating to 300 ° C. for 2 hours to degrease the green sheet, the temperature was raised to 330 ° C. at 2.5 ° C./hr and maintained for 24 hours to vaporize isophthalic acid. Then, the temperature is raised to 500 ° C at 5 ° C / hr, further raised to 1650 ° C at 100 ° C / hr, and fired for 2 hours to form a 2.5 mm-thick pore-forming ceramic with no sintering residue in the pores. A sintered body was obtained.
(発明の効果) 本発明の空孔形成セラミックス焼結体の製造方法は、こ
のように空孔形成段階で空孔パターン周辺のセラミック
ス粉末が崩壊して空孔内に入ることがないので、空孔内
に該セラミックス粉末の焼結残渣が含まれない空孔形成
セラミックス焼結体を得ることができるといった顕著な
効果を奏する。(Effect of the Invention) In the method for producing a void-forming ceramics sintered body of the present invention, since the ceramic powder around the void pattern does not collapse and enter the voids in the void forming stage, A remarkable effect is obtained in that a pore-forming ceramic sintered body can be obtained in which the sintering residue of the ceramic powder is not contained in the pores.
第1図(イ)〜(ホ)は本発明の空孔形成セラミックス
焼結体の製造方法を段階的に説明する説明図である。 1……グリーンシート、2……細線パターン、3……空
孔形成用材料、3a……空孔パターン、4……積層体、5
……空孔、A……空孔形成セラミックス焼結体。FIGS. 1 (a) to 1 (e) are explanatory views for explaining step by step a method for producing a void-forming ceramics sintered body of the present invention. 1 ... Green sheet, 2 ... Fine line pattern, 3 ... Hole forming material, 3a ... Hole pattern, 4 ... Laminated body, 5
…… Void, A …… Void-forming ceramic sintered body.
Claims (1)
リーンシートの表面に感光性樹脂組成物よりなる細線パ
ターンを形成し、このグリーンシート中の有機結合剤よ
り低温で熱溶融もしくは熱分解する有機材料、該有機結
合剤の熱分解開始温度より低温で昇華する昇華性材料、
該有機結合剤の熱分解終了温度より高温で熱分解する粉
末材料のいずれか一種以上より成る空孔形成用材料を、
上記の細線パターン間に充填した後、該細線パターンを
消失させて空孔形成用材料より成る空孔パターンを形成
し、この空孔パターンの形成されたグリーンシートを複
数枚積層、圧着して焼成することを特徴とする空孔形成
セラミック焼結体の製造方法。1. An organic substance which is formed by forming a fine line pattern made of a photosensitive resin composition on the surface of a green sheet containing an insulating ceramic material as a main component, and which is melted or decomposed by heat at a lower temperature than the organic binder in the green sheet. A material, a sublimable material that sublimes at a temperature lower than the thermal decomposition starting temperature of the organic binder,
A pore-forming material comprising any one or more of powder materials that are pyrolyzed at a temperature higher than the thermal decomposition end temperature of the organic binder,
After filling between the fine line patterns described above, the fine line patterns are eliminated to form a hole pattern made of a hole forming material, and a plurality of green sheets having the hole patterns are laminated, pressure-bonded and fired. A method of manufacturing a pore-forming ceramic sintered body, comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1083307A JPH0764077B2 (en) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | Manufacturing method of pore-forming ceramics sintered body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1083307A JPH0764077B2 (en) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | Manufacturing method of pore-forming ceramics sintered body |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02261652A JPH02261652A (en) | 1990-10-24 |
| JPH0764077B2 true JPH0764077B2 (en) | 1995-07-12 |
Family
ID=13798762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1083307A Expired - Lifetime JPH0764077B2 (en) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | Manufacturing method of pore-forming ceramics sintered body |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0764077B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4507873B2 (en) * | 2003-12-18 | 2010-07-21 | 東レ株式会社 | Photosensitive ceramic composition |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP1083307A patent/JPH0764077B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02261652A (en) | 1990-10-24 |
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