JPH0764850B2 - マロン酸エステルを基礎にしたプラスチツク用光安定剤 - Google Patents
マロン酸エステルを基礎にしたプラスチツク用光安定剤Info
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、化学線放射に曝されたとき、劣化に耐えるポ
リマー組成物に関する。特に、本発明は、有効量のポリ
アルキル4−オキソピペリジンの環状アセタールで安定
化されたポリプロピレン等の樹脂に関する。更に、本発
明は、光劣化を遅らせる作用による、合成ポリマー用の
添加剤として有用な新規な物質の群及びその製造方法に
関する。
リマー組成物に関する。特に、本発明は、有効量のポリ
アルキル4−オキソピペリジンの環状アセタールで安定
化されたポリプロピレン等の樹脂に関する。更に、本発
明は、光劣化を遅らせる作用による、合成ポリマー用の
添加剤として有用な新規な物質の群及びその製造方法に
関する。
太陽光に曝露されたとき、多くの合成有機ポリマーは急
速に劣化する。この急速な劣化を回避するために多くの
添加剤が開発され、有害な放射に対して上記の樹脂を安
定化させている。これらの添加剤に、ヒドロキシベンゾ
フエノン、ヒドロキシベンゾトリアゾール、オルガノニ
ツケル錯体、及び4位で置換されている2,2,6,6−テト
ラアルキルピペリジン等のヒンダードアミンを配合して
いる多くの化合物が包含される。しかしながら、ポリマ
ーの広範囲の形体及び応用において、ポリマーの安定化
要求を充分に満足させる化合物は無いので、一層満足さ
せる新規な物質に対する要求がある。
速に劣化する。この急速な劣化を回避するために多くの
添加剤が開発され、有害な放射に対して上記の樹脂を安
定化させている。これらの添加剤に、ヒドロキシベンゾ
フエノン、ヒドロキシベンゾトリアゾール、オルガノニ
ツケル錯体、及び4位で置換されている2,2,6,6−テト
ラアルキルピペリジン等のヒンダードアミンを配合して
いる多くの化合物が包含される。しかしながら、ポリマ
ーの広範囲の形体及び応用において、ポリマーの安定化
要求を充分に満足させる化合物は無いので、一層満足さ
せる新規な物質に対する要求がある。
本発明のポリマー組成物は、ヒンダードピペリドン化合
物から誘導される新規なアセタールの有効量を配合する
ことによつて製造される。これらのピペリドン化合物
は、式I 〔式中、R1は水素、及び例えばメチル基、エチル基、n
−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基等の1〜
5個の炭素原子からなるアルキル基から選択されるが、
好ましくは水素及びメチル基から選択され、最も好まし
くは、水素であり; R2は水素、オキシル基、水酸基、例えばメチル基、エチ
ル基、オクチル基、オクタデシル基又は2−エチルヘキ
シル基等の1〜18個の炭素原子を有する直鎖又は分枝鎖
のメチレン連鎖のアルキル基、例えばアセチル基、プロ
パノイル基、ブタノイル基、イソペンタノイル基又はス
テアロイル基等の2〜18個の炭素原子を有するアルカノ
イル基、3〜4個の炭素原子のアルケニル基、例えばア
クリロイル基、メタクリロイル基、クロトニル基、2,3
−ジメチルクロトニル基等の3〜6個の炭素原子を有す
るアルケノイル基、例えばプロパニル基又は2−ブチニ
ル基等の3〜6個の炭素原子を有するアルキニル基、シ
アノメチル基、2,3−エポキシプロピル基、例えば3,5−
ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル基、3−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジル基又は3−tert
−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルベンジル基等の
7〜15個の炭素原子の無置換又は置換アラルキル基、−
CH2CH(OR4)‐R5基、及び式 (式中、mは0又は1であり、ZはOR6; −N(R7)(R8)及び から選択される基であり、mが0のときZは−C(O)
‐OR10基であつてもよい。) から選択され、 R3はR2と同様の1〜18個の炭素原子を有するアルキル基
及び式II (式中R1及びR2は前記したと同様である。)からなる基
から選択され、 R4は水素、R2と同様の1〜18個の炭素原子の脂肪族基、
例えばベンジル及びフエネチル等の芳香脂肪族基及びR2
と同様の2〜18個の炭素原子の脂肪族アシル基から選択
され、 R5は水素、R2と同様の1〜16個の炭素原子のアルキル基
及びフエニル基から選択され; R6は1〜18個の炭素原子のアルキル基、例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基及びシ
クロドデシル基等の5〜12個の炭素原子のシクロアルキ
ル基、アリル基、ベンジル基、フエニル基及び式IIから
選択され; R7及びR8は同一又は異なり、水素、例えばメチル基、エ
チル基、ヘキシル基等の1〜8個の炭素原子を有するア
ルキル基、R6と同様の5〜12個の炭素原子を有するシク
ロアルキル基、例えば4−メチルフエニル基、2−メチ
ルフエニル基、4−ブチルフエニル基、等の6〜10個の
炭素原子を有するアリール基及び例えばベンジル基、o.
m及びp−アルキル置換ベンジル基及びフエネチル基等
の7〜15個の炭素原子を有するアラルキル基から選択さ
れるか、R7及びR8は、それに結合する窒素原子と共に、
例えばピロリジン、ピペリジン及びホモピペリジン等の
5〜7員環を形成することができ; Aは1〜12個の炭素原子の直鎖又は分枝鎖のアルキレン
基、フエニレン基及び−NH−R11−NH−基(式中R11は2
〜18個の炭素原子の直鎖又は分枝鎖のアルキレン基、5
〜18個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、6〜18
個の炭素原子を有するアリールレン基及び7〜18個の炭
素原子を有するアラルキレン基から選択される。)から
選択され、そしてR9は式III (式中、R1及びR3は前記したと同様である)の基であ
り、 R10はR2と同様の1〜18個の炭素原子のアルキル基、フ
エニル基及びベンジル基から選択され、好ましくは1〜
2個の炭素原子のアルキル基であり、 Xは−O−又は−NR12−(式中、R12は水素又は例えば
メチル基、エチル基、ブチル基又はオクチル基等の1〜
8個の炭素原子のアルキル基から選択される。)であ
る。〕の構造のものから選択されうる。
物から誘導される新規なアセタールの有効量を配合する
ことによつて製造される。これらのピペリドン化合物
は、式I 〔式中、R1は水素、及び例えばメチル基、エチル基、n
−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基等の1〜
5個の炭素原子からなるアルキル基から選択されるが、
好ましくは水素及びメチル基から選択され、最も好まし
くは、水素であり; R2は水素、オキシル基、水酸基、例えばメチル基、エチ
ル基、オクチル基、オクタデシル基又は2−エチルヘキ
シル基等の1〜18個の炭素原子を有する直鎖又は分枝鎖
のメチレン連鎖のアルキル基、例えばアセチル基、プロ
パノイル基、ブタノイル基、イソペンタノイル基又はス
テアロイル基等の2〜18個の炭素原子を有するアルカノ
イル基、3〜4個の炭素原子のアルケニル基、例えばア
クリロイル基、メタクリロイル基、クロトニル基、2,3
−ジメチルクロトニル基等の3〜6個の炭素原子を有す
るアルケノイル基、例えばプロパニル基又は2−ブチニ
ル基等の3〜6個の炭素原子を有するアルキニル基、シ
アノメチル基、2,3−エポキシプロピル基、例えば3,5−
ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル基、3−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジル基又は3−tert
−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルベンジル基等の
7〜15個の炭素原子の無置換又は置換アラルキル基、−
CH2CH(OR4)‐R5基、及び式 (式中、mは0又は1であり、ZはOR6; −N(R7)(R8)及び から選択される基であり、mが0のときZは−C(O)
‐OR10基であつてもよい。) から選択され、 R3はR2と同様の1〜18個の炭素原子を有するアルキル基
及び式II (式中R1及びR2は前記したと同様である。)からなる基
から選択され、 R4は水素、R2と同様の1〜18個の炭素原子の脂肪族基、
例えばベンジル及びフエネチル等の芳香脂肪族基及びR2
と同様の2〜18個の炭素原子の脂肪族アシル基から選択
され、 R5は水素、R2と同様の1〜16個の炭素原子のアルキル基
及びフエニル基から選択され; R6は1〜18個の炭素原子のアルキル基、例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基及びシ
クロドデシル基等の5〜12個の炭素原子のシクロアルキ
ル基、アリル基、ベンジル基、フエニル基及び式IIから
選択され; R7及びR8は同一又は異なり、水素、例えばメチル基、エ
チル基、ヘキシル基等の1〜8個の炭素原子を有するア
ルキル基、R6と同様の5〜12個の炭素原子を有するシク
ロアルキル基、例えば4−メチルフエニル基、2−メチ
ルフエニル基、4−ブチルフエニル基、等の6〜10個の
炭素原子を有するアリール基及び例えばベンジル基、o.
m及びp−アルキル置換ベンジル基及びフエネチル基等
の7〜15個の炭素原子を有するアラルキル基から選択さ
れるか、R7及びR8は、それに結合する窒素原子と共に、
例えばピロリジン、ピペリジン及びホモピペリジン等の
5〜7員環を形成することができ; Aは1〜12個の炭素原子の直鎖又は分枝鎖のアルキレン
基、フエニレン基及び−NH−R11−NH−基(式中R11は2
〜18個の炭素原子の直鎖又は分枝鎖のアルキレン基、5
〜18個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、6〜18
個の炭素原子を有するアリールレン基及び7〜18個の炭
素原子を有するアラルキレン基から選択される。)から
選択され、そしてR9は式III (式中、R1及びR3は前記したと同様である)の基であ
り、 R10はR2と同様の1〜18個の炭素原子のアルキル基、フ
エニル基及びベンジル基から選択され、好ましくは1〜
2個の炭素原子のアルキル基であり、 Xは−O−又は−NR12−(式中、R12は水素又は例えば
メチル基、エチル基、ブチル基又はオクチル基等の1〜
8個の炭素原子のアルキル基から選択される。)であ
る。〕の構造のものから選択されうる。
式Iのアセタールは、R2及びR3の性質に依存する単一又
は多工程で製造できる。これらのアセタールは、アセタ
ールを製造するのに一般に公知の適当な酸触媒及び適当
な溶媒を使用して、式(HOCH2)2C‐(CO2R3)2のジオール
と式IV (式中R1及びR2は前記と同様である。)の4−オキソポ
リアルキルピペリジンとの反応より製造されうる。適当
な酸触媒の例は多数あるが、制限を加えないで挙げる
と、パラトルエンスルホン酸及びメタンスルホン酸があ
る。適当な溶媒にはシクロヘキサンとベンゼンがある。
本反応のために、R3は1〜18個の炭素原子のどんなアル
キル基でもよいが、エチル基が好ましい。
は多工程で製造できる。これらのアセタールは、アセタ
ールを製造するのに一般に公知の適当な酸触媒及び適当
な溶媒を使用して、式(HOCH2)2C‐(CO2R3)2のジオール
と式IV (式中R1及びR2は前記と同様である。)の4−オキソポ
リアルキルピペリジンとの反応より製造されうる。適当
な酸触媒の例は多数あるが、制限を加えないで挙げる
と、パラトルエンスルホン酸及びメタンスルホン酸があ
る。適当な溶媒にはシクロヘキサンとベンゼンがある。
本反応のために、R3は1〜18個の炭素原子のどんなアル
キル基でもよいが、エチル基が好ましい。
好ましい原料の製造は文献〔オーガニツク・シンセシス
・コレクテブ(Organic Synthesis Collective)第V巻
第381〜383頁(1973年)〕に記載されており、商業的に
入手できる。この方法では、炭酸カリウム等の触媒の存
在下にマロン酸ジエチルとホルムアルデヒド水溶液とを
反応させ、次いで塩析及び溶媒抽出によつて生成物を分
離することを必要とする。
・コレクテブ(Organic Synthesis Collective)第V巻
第381〜383頁(1973年)〕に記載されており、商業的に
入手できる。この方法では、炭酸カリウム等の触媒の存
在下にマロン酸ジエチルとホルムアルデヒド水溶液とを
反応させ、次いで塩析及び溶媒抽出によつて生成物を分
離することを必要とする。
対応するアセタール誘導体を形成するための、2,2,6,6
−テトラアルキル−4−ピペリドンとジヒドロキシ体と
の反応は公知であり、米国特許第3,790,525;3,899,464;
4,007,158;4,105,626号明細書及び欧州特許第22,997号
明細書に記載された方法と類似の技術を使用できる。出
発物質として特に興味のあるものは2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリドンである。このケトンの製造法を上
記文献中及び米国特許第4,105,626号明細書第9欄で知
ることができる。具体的にはこの化合物はアンモニアと
アセトンとの反応によつて製造される。
−テトラアルキル−4−ピペリドンとジヒドロキシ体と
の反応は公知であり、米国特許第3,790,525;3,899,464;
4,007,158;4,105,626号明細書及び欧州特許第22,997号
明細書に記載された方法と類似の技術を使用できる。出
発物質として特に興味のあるものは2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリドンである。このケトンの製造法を上
記文献中及び米国特許第4,105,626号明細書第9欄で知
ることができる。具体的にはこの化合物はアンモニアと
アセトンとの反応によつて製造される。
式IVのその他のポリアルキルピペリジン−4−オンの製
造は、アンモニアと例えばメチルエチルケトン等の脂肪
族ケトンとの反応によつて製造されうる。この方法はダ
ブリユー・トラウベ(W.Traube)により、ケミツシエ・
ベリヒテ(Chem,Ber.)第41巻第777頁(1908年)に記載
されている。
造は、アンモニアと例えばメチルエチルケトン等の脂肪
族ケトンとの反応によつて製造されうる。この方法はダ
ブリユー・トラウベ(W.Traube)により、ケミツシエ・
ベリヒテ(Chem,Ber.)第41巻第777頁(1908年)に記載
されている。
2位と6位にその他のアルキル置換基をもつ式IVの化合
物を、ヘルベチカ・ケミカ・アクタ(Helv.Chim.Acta)
第30巻第1114頁(1947年)及びモナツシエ・ケミ(Mona
tsh.Chem.)第88巻、第464頁(1957年)に概要を記載さ
れた方法に従う2段階方法で製造でき、次いで得られた
ピリミジンを加水分解する。
物を、ヘルベチカ・ケミカ・アクタ(Helv.Chim.Acta)
第30巻第1114頁(1947年)及びモナツシエ・ケミ(Mona
tsh.Chem.)第88巻、第464頁(1957年)に概要を記載さ
れた方法に従う2段階方法で製造でき、次いで得られた
ピリミジンを加水分解する。
アセタール化反応は、一般に、酸触媒の存在下に約80℃
の温度で、水に不混和性の溶媒の還流溶液中に実地され
る。よく用いられる溶媒はシクロヘキサン及びベンゼン
であり、その他のものも用いられるであろう。通常使用
される酸触媒にメタンスルホン酸、パラトルエンスルホ
ン酸及び有用であると考えられるその他のもの等の有機
酸がある。
の温度で、水に不混和性の溶媒の還流溶液中に実地され
る。よく用いられる溶媒はシクロヘキサン及びベンゼン
であり、その他のものも用いられるであろう。通常使用
される酸触媒にメタンスルホン酸、パラトルエンスルホ
ン酸及び有用であると考えられるその他のもの等の有機
酸がある。
ビス(ヒドロキシメチル)マロン酸ジエチルと適切なピ
ペリジン−4−オンとの反応より得られるアセタール
は、一般に溶済抽出により分離され、濃縮後、蒸留又は
結晶化により精製されうる。
ペリジン−4−オンとの反応より得られるアセタール
は、一般に溶済抽出により分離され、濃縮後、蒸留又は
結晶化により精製されうる。
ジエチルスピロアセタールを、本方法の第2段階用の出
発原料として使用できる。高分子量の単一エステル類及
びアミド類を、リチウムアミド又はチタニウムテトライ
ソプロポキシドのような塩基性触媒を使用して、ジエチ
ルスピロアセタール自体又は溶液状のジエチルスピロア
セタールと高分子量の単官能アルコール類、アミン類も
しくはそれらの混合物との反応によつて製造できる。適
当な溶媒の例に、リグロイン及びトルエンがある。生成
物は溶媒溶液から分離され、通常、粉末化、結晶化又は
その他の適切な方法によつて精製される。
発原料として使用できる。高分子量の単一エステル類及
びアミド類を、リチウムアミド又はチタニウムテトライ
ソプロポキシドのような塩基性触媒を使用して、ジエチ
ルスピロアセタール自体又は溶液状のジエチルスピロア
セタールと高分子量の単官能アルコール類、アミン類も
しくはそれらの混合物との反応によつて製造できる。適
当な溶媒の例に、リグロイン及びトルエンがある。生成
物は溶媒溶液から分離され、通常、粉末化、結晶化又は
その他の適切な方法によつて精製される。
アセタールを本発明の化合物へ変換するために使用され
る4−ヒドロキシポリアルキルピペリジン及び4−アミ
ノポリアルキルピペリジンは、ドイツ特許第2,352,658
号明細書及び米国特許第3,684,765号明細書より知れ
る。一般に、4−ヒドロキシ化合物はラネーニツケルに
よる触媒的水素添加による還元によつて対応の4−オキ
ソピペリジンから製造され、そして4−アミノ化合物
は、アンモニア又は目的の特定第1級アミンを使用する
還元的アミノ化によつて合成される。
る4−ヒドロキシポリアルキルピペリジン及び4−アミ
ノポリアルキルピペリジンは、ドイツ特許第2,352,658
号明細書及び米国特許第3,684,765号明細書より知れ
る。一般に、4−ヒドロキシ化合物はラネーニツケルに
よる触媒的水素添加による還元によつて対応の4−オキ
ソピペリジンから製造され、そして4−アミノ化合物
は、アンモニア又は目的の特定第1級アミンを使用する
還元的アミノ化によつて合成される。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル
基及び2,3−エポキシプロピル基の導入は、最初に製造
された多置換ピペリジンの遊離N−Hを含むアセタール
と、例えばヨウ化メチル、臭化エチル、臭化プロピル、
塩化ドデシル及び塩化オクタデシル;アリルブロミド、
メタリルクロリド、ブテニルクロリド、プロパルギルブ
ロミド、ベンジルクロリド、フエネチルブロミド及びエ
ピクロルヒドリン等の適当なハロゲン化物との反応によ
つて達成されうる。発生したハロゲン化水素は、反応混
合物に炭酸塩又は水酸化物等の無機塩基の添加による
か、トリエチルアミン等の有機アミンの添加によつて捕
集されうる。
基及び2,3−エポキシプロピル基の導入は、最初に製造
された多置換ピペリジンの遊離N−Hを含むアセタール
と、例えばヨウ化メチル、臭化エチル、臭化プロピル、
塩化ドデシル及び塩化オクタデシル;アリルブロミド、
メタリルクロリド、ブテニルクロリド、プロパルギルブ
ロミド、ベンジルクロリド、フエネチルブロミド及びエ
ピクロルヒドリン等の適当なハロゲン化物との反応によ
つて達成されうる。発生したハロゲン化水素は、反応混
合物に炭酸塩又は水酸化物等の無機塩基の添加による
か、トリエチルアミン等の有機アミンの添加によつて捕
集されうる。
1−アルキル基、1−アルケニル基、1−アルキニル
基、1−アラルキル基又は1−〔2,3−エポキシプロピ
ル〕基を含む本発明の化合物、特に本発明の目的の化合
物がエステルである場合の製造の別の方法に、米国特許
第4,014,887号明細書に記載されているような1−置換
ポリアルキルピペリジン−4−オールを調製し、上述し
たようなエステル交換反応を実施することがある。
基、1−アラルキル基又は1−〔2,3−エポキシプロピ
ル〕基を含む本発明の化合物、特に本発明の目的の化合
物がエステルである場合の製造の別の方法に、米国特許
第4,014,887号明細書に記載されているような1−置換
ポリアルキルピペリジン−4−オールを調製し、上述し
たようなエステル交換反応を実施することがある。
アルカノイル基又はアルケノイル基の導入は、適切な酸
ハライド又は都合のよい場合には酸無水物を使用してN
−H親化合物のアシル化によつて達成されうる。酸ハラ
イドを使用する場合、発生したハロゲン化水素は、上述
したと同様な方法で捕集されうる。この群の例に、塩化
アセチル、プロピオニルクロリド、ヘキサノイルクロリ
ド、ドデカノイルクロリド、オクタデカノイルクロリ
ド、無水酢酸及び無水プロピオン酸、マロニルクロリ
ド、サクシニルクロリド並びにアジポイルクロリドがあ
る。
ハライド又は都合のよい場合には酸無水物を使用してN
−H親化合物のアシル化によつて達成されうる。酸ハラ
イドを使用する場合、発生したハロゲン化水素は、上述
したと同様な方法で捕集されうる。この群の例に、塩化
アセチル、プロピオニルクロリド、ヘキサノイルクロリ
ド、ドデカノイルクロリド、オクタデカノイルクロリ
ド、無水酢酸及び無水プロピオン酸、マロニルクロリ
ド、サクシニルクロリド並びにアジポイルクロリドがあ
る。
R2が基−CH2CH(OR4)‐R5であるときの化合物のために、
置換基をN−H親化合物と例えばエチレンオキシド、プ
ロピレンオキシド及びスチレンオキシド等の対応のアル
キレンオキシドとの反応によつて導入しうる。得られた
ヒドロキシ化合物を適当な酸ハライドを使用する公知の
方法によつてアシル化し、そしてハロゲン化ナトリウム
等の塩基を使用してアルコキシドを発生させ、それを目
的のアルキルハライド又はアラルキルハライドで処理す
ることによつてアルキル化しうる。
置換基をN−H親化合物と例えばエチレンオキシド、プ
ロピレンオキシド及びスチレンオキシド等の対応のアル
キレンオキシドとの反応によつて導入しうる。得られた
ヒドロキシ化合物を適当な酸ハライドを使用する公知の
方法によつてアシル化し、そしてハロゲン化ナトリウム
等の塩基を使用してアルコキシドを発生させ、それを目
的のアルキルハライド又はアラルキルハライドで処理す
ることによつてアルキル化しうる。
R2が基CH2 mCOZでmが0である場合、適切な基を、
N−H親化合物と例えばメチルクロロホルメート、エチ
ルクロロホルメート、アリルクロロホルメート、ヘキシ
ルクロロホルメート、デシルクロロホルメート、オクタ
デシルクロロホルメート及びフエニルクロロホルメート
等のクロロホルメートとを反応させることによつて結合
しうる。オキサミド半エステルの製造は、N−H親化合
物とオキサリルクロリドモノメチルエステル及びオキサ
リルクロリドモノエチルエステルとの反応によつて達成
され、発生した塩化水素を前述したような塩基で捕集す
る。
N−H親化合物と例えばメチルクロロホルメート、エチ
ルクロロホルメート、アリルクロロホルメート、ヘキシ
ルクロロホルメート、デシルクロロホルメート、オクタ
デシルクロロホルメート及びフエニルクロロホルメート
等のクロロホルメートとを反応させることによつて結合
しうる。オキサミド半エステルの製造は、N−H親化合
物とオキサリルクロリドモノメチルエステル及びオキサ
リルクロリドモノエチルエステルとの反応によつて達成
され、発生した塩化水素を前述したような塩基で捕集す
る。
対応する尿素類の製造のために、N−H親化合物を、例
えばメチルカルバミルクロリド、エチルカルバミルクロ
リド、ブチルカルバミルクロリド、フエニルカルバミル
クロリド、ジメチルカルバミルクロリド、ジエチルカル
バミルクロリド、ジヘキシルカルバミルクロリド、ピロ
リジニルカルバミルクロリド、ピペリジンカルバミルク
ロリド、及びホモピペリジンカルバミルクロリド等の適
当なカルバミルハライドで処理できる。又、尿素類は、
N−H親化合物を適当なイソシアネートで処理すること
によつて製造しうる。ビス−尿素類は適当なジイソシア
ネートを使用して製造されうる。
えばメチルカルバミルクロリド、エチルカルバミルクロ
リド、ブチルカルバミルクロリド、フエニルカルバミル
クロリド、ジメチルカルバミルクロリド、ジエチルカル
バミルクロリド、ジヘキシルカルバミルクロリド、ピロ
リジニルカルバミルクロリド、ピペリジンカルバミルク
ロリド、及びホモピペリジンカルバミルクロリド等の適
当なカルバミルハライドで処理できる。又、尿素類は、
N−H親化合物を適当なイソシアネートで処理すること
によつて製造しうる。ビス−尿素類は適当なジイソシア
ネートを使用して製造されうる。
R2がオキシル基である場合の式Iの化合物は、タングス
テン酸ナトリウムのような触媒を存在させて、過酸化水
素等の過酸化物での酸化又はメタクロロパーオキシ安息
香酸のような過カルボン酸での酸化によつて対応するN
−H化合物より得られる。
テン酸ナトリウムのような触媒を存在させて、過酸化水
素等の過酸化物での酸化又はメタクロロパーオキシ安息
香酸のような過カルボン酸での酸化によつて対応するN
−H化合物より得られる。
R2が基−(CH2)m−COZ及びmが1であるとき、適切な基
は、N−H親化合物と、例えばメチルクロロアセテー
ト、エチルクロロアセテート、シクロヘキシルクロロア
セテート、エチルクロロアセテート、シクロヘキシルク
ロロアセテート、ベンジルクロロアセテート、アリルク
ロロアセテート及びフエニルクロロアセテート等のクロ
ル酢酸のエステルとを反応させることによつて結合され
る。
は、N−H親化合物と、例えばメチルクロロアセテー
ト、エチルクロロアセテート、シクロヘキシルクロロア
セテート、エチルクロロアセテート、シクロヘキシルク
ロロアセテート、ベンジルクロロアセテート、アリルク
ロロアセテート及びフエニルクロロアセテート等のクロ
ル酢酸のエステルとを反応させることによつて結合され
る。
本発明の化合物は、合成有機ポリマー用の有用な光安定
剤である。
剤である。
次の実施例は例示のためであつて、本発明の範囲を限定
するものではない。
するものではない。
実施例1 8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザス
ピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸、ジエチ
ルエステル 360ミリリツトルのシクロヘキサン中のトリアセトンア
ミン(25.1グラム、0.14モル)、ビス(ヒドロキシメチ
ル)マロン酸ジエチル(35.2グラム、0.16モル)及びパ
ラトルエンスルホン酸(30.4グラム、0.16モル)の混合
物を還流するまで加熱し、発生する水をデイーン−スタ
ークトラツプ中の擬縮液として除去した。追加の上記の
マロン酸エステル(17.6グラム、0.08モル)を添加後、
10時間、混合物を還流下に攪拌した。更に18時間還流
後、混合物を室温まで冷却し、酸を300ミリリツトルの
炭酸カリウム(55.2グラム、0.4モル)水溶液で中和し
た。層が分離され、水性部分をシクロヘキサンで洗つ
た。合わせた有機抽出物を乾燥後、減圧下で濃縮すると
オレンジ色の粘稠な液体を得た(約52グラム)。粗生成
物を減圧下で蒸留し、標記のスピロアセタール(44.1グ
ラム、85%)を得た。0.15mmHgでのb.p.は135〜140℃で
あつた。
ピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸、ジエチ
ルエステル 360ミリリツトルのシクロヘキサン中のトリアセトンア
ミン(25.1グラム、0.14モル)、ビス(ヒドロキシメチ
ル)マロン酸ジエチル(35.2グラム、0.16モル)及びパ
ラトルエンスルホン酸(30.4グラム、0.16モル)の混合
物を還流するまで加熱し、発生する水をデイーン−スタ
ークトラツプ中の擬縮液として除去した。追加の上記の
マロン酸エステル(17.6グラム、0.08モル)を添加後、
10時間、混合物を還流下に攪拌した。更に18時間還流
後、混合物を室温まで冷却し、酸を300ミリリツトルの
炭酸カリウム(55.2グラム、0.4モル)水溶液で中和し
た。層が分離され、水性部分をシクロヘキサンで洗つ
た。合わせた有機抽出物を乾燥後、減圧下で濃縮すると
オレンジ色の粘稠な液体を得た(約52グラム)。粗生成
物を減圧下で蒸留し、標記のスピロアセタール(44.1グ
ラム、85%)を得た。0.15mmHgでのb.p.は135〜140℃で
あつた。
元素分析 C18H31NO6 計算値: 60.48%C, 8.74%H, 3.92%N 実測値: 60.01%C, 8.78%H, 3.78%N 実施例2 6,8−ジエチル−7,8,10−トリメチル−1,5−ジオキサ−
9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン
酸、ジエチルエステル この化合物は、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−オンを2,6−ジエチル−2,3,6−トリメチルピペリジン
−4−オンに置換して実施例1の製造と同じ方法で製造
した。ケトンは米国特許第4,105,626号明細書第12欄に
記載されているようにして製造した。
9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン
酸、ジエチルエステル この化合物は、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−オンを2,6−ジエチル−2,3,6−トリメチルピペリジン
−4−オンに置換して実施例1の製造と同じ方法で製造
した。ケトンは米国特許第4,105,626号明細書第12欄に
記載されているようにして製造した。
実施例3 8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザス
ピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジノールとのジエステル 還流下で、100ミリリツトルのリグロイン(90〜100℃)
中に15.41グラム(0.043モル)の実施例1の生成物及び
2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール(13.56グ
ラム、0.86モル)を含む混合物に触媒として100mgのリ
チウムアミドを添加した。約24時間、反応混合物の表面
上で窒素を穏やかに通過させながら、還流下に攪拌させ
た。反応混合物をリグロインで抽出し、それに別の熱リ
グロインに注ぎ、不溶分を過して除去し、液を濃縮
し、そして混合物を結晶化させることによつて精製し
た。過によつて生成物を分離し、18.64グラム(0.032
モル、収率75%)の標記の化合物を得た。m.p.167.5〜1
69℃。
ピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジノールとのジエステル 還流下で、100ミリリツトルのリグロイン(90〜100℃)
中に15.41グラム(0.043モル)の実施例1の生成物及び
2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール(13.56グ
ラム、0.86モル)を含む混合物に触媒として100mgのリ
チウムアミドを添加した。約24時間、反応混合物の表面
上で窒素を穏やかに通過させながら、還流下に攪拌させ
た。反応混合物をリグロインで抽出し、それに別の熱リ
グロインに注ぎ、不溶分を過して除去し、液を濃縮
し、そして混合物を結晶化させることによつて精製し
た。過によつて生成物を分離し、18.64グラム(0.032
モル、収率75%)の標記の化合物を得た。m.p.167.5〜1
69℃。
元素分析 C32H57N3O4 計算値: 66.29%C, 9.91%H, 7.25%N 実測値: 66.25%C, 9.47%H, 7.48%N 実施例4 8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザス
ピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールとのジエステ
ル 還流下(90〜110℃)で約50mlのリグロイン中の実施例
1の化合物(2.94グラム、8.2ミリモル)及び1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジノール(2.82グラム、1
6.4ミリモル)の混合物に触媒としてリチウムアミド(3
8mg)を添加した。熱混合物を別の熱リグロインに注
ぎ、次いで溶液を過する前に、窒素の穏やかな流れを
混合物の表面上を20時間通過させた。液を濃縮し、結
晶化させると、3.2グラム(収率64%)の白色固体の標
記の化合物を得た。
ピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールとのジエステ
ル 還流下(90〜110℃)で約50mlのリグロイン中の実施例
1の化合物(2.94グラム、8.2ミリモル)及び1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジノール(2.82グラム、1
6.4ミリモル)の混合物に触媒としてリチウムアミド(3
8mg)を添加した。熱混合物を別の熱リグロインに注
ぎ、次いで溶液を過する前に、窒素の穏やかな流れを
混合物の表面上を20時間通過させた。液を濃縮し、結
晶化させると、3.2グラム(収率64%)の白色固体の標
記の化合物を得た。
m.p.83〜87℃。
元素分析 C34H61N3O6 計算値: 67.18%C, 10.12%H, 6.91%N 実測値: 66.42%C, 10.27%H, 6.46%N 実施例5 9−ブチル8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ−
9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン
酸の1−ブチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−オールとのジエステル 実施例3(5.8g、10ミリモル)の生成物の混合物を、ト
リエチルアミン(36ミリモル)を含有する25mlのテトラ
ヒドロフラン中で4.5g(33ミリモル)の1−ブロモブタ
ンで処理した。混合物を還流下72時間加熱し、次いで冷
却し、濃縮し、そして残留物をジクロロメタンと水との
間で分配させた。有機溶液を乾燥(硫酸ナトリウムで)
させ、濃縮した。残留物の精製によつて目的化合物を
得、NMR及び質量分析で確認された。
9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン
酸の1−ブチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−オールとのジエステル 実施例3(5.8g、10ミリモル)の生成物の混合物を、ト
リエチルアミン(36ミリモル)を含有する25mlのテトラ
ヒドロフラン中で4.5g(33ミリモル)の1−ブロモブタ
ンで処理した。混合物を還流下72時間加熱し、次いで冷
却し、濃縮し、そして残留物をジクロロメタンと水との
間で分配させた。有機溶液を乾燥(硫酸ナトリウムで)
させ、濃縮した。残留物の精製によつて目的化合物を
得、NMR及び質量分析で確認された。
実施例で記載されたと同様な方法で次の物が製造され
る。
る。
(化合物/有機ハライド) 9−アリル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ
−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボ
ン酸、1−アリル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−オールとのジエステル/アリルブロミド 9−ドデシル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキ
サ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカル
ボン酸の1−ドデシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−4−オールとのジエチル/1−ブロモドデカン 9−プロパルギル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジ
オキサ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジ
カルボン酸の1−プロパルギル−2,2,6,6−テトラメチ
ル−ピペリジン−4−オールとのジエステル/プロパル
ギルブロミド 9−〔2,3−エポキシプロピル〕8,8,10,10−テトラメチ
ル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカ
ン−3,3−ジカルボン酸の1−〔2,3−エポキシプロピ
ル〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール
とのジエステル/エピクロルヒドリン 9−〔1−エトキシカルボニルメチル〕−8,8,10,10−
テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ−〔5,
5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−エトキシカル
ボニルメチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−オールとのジエステル/エチルクロロアセテート 9−〔1−ドデシルオキシカルボニルメチル〕−8,8,1
0,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ
−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−ドデシ
ルオキシカルボニルメチル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−オールとのジエステル/ドデシルクロロ
アセテート 9−〔1−シクロヘキシルオキシカルボニルメチル〕−
8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザス
ピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−シ
クロヘキシルオキシカルボニルメチル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−オールとのジエステル/シク
ロヘキシルクロロアセテート 9−〔1−アリルオキシカルボニル〕−8,8,10,10−テ
トラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウ
ンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−アリルオキシカル
ボニル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オー
ルとのジエステル/アリルクロロホルメート 9−〔1−エトキシカルボニル〕−8,8,10,10−テトラ
メチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデ
カン−3,3−ジカルボン酸の1−エトキシカルボニル−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オールとのジ
エステル/エチルクロロホルメート 9−〔1−フエニルオキシカルボニル〕−8,8,10,10−
テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕
ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−フエニルオキシ
カルボニル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−
オールとのジエステル/フエニルクロロホルメート 実施例6 8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザス
ピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸、ジオク
タデシルエステル 窒素流下で135℃に加熱した実施例1の化合物(5.71g、
16.0ミリモル)及び1−オクタデカノール(9.50g、35.
0ミリモル)の混合物にナトリウムメトキシド(120mg)
を添加した。温度を160〜170℃に上昇させ、約3時間維
持した。続いて混合物を冷却すると灰白色の固体を得た
(13g、回収率100%)。この物質を脱色及びある程度の
精製をするためにヘキサン及びエーテルで処理した。m.
p.54〜56℃。
−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボ
ン酸、1−アリル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−オールとのジエステル/アリルブロミド 9−ドデシル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキ
サ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカル
ボン酸の1−ドデシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−4−オールとのジエチル/1−ブロモドデカン 9−プロパルギル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジ
オキサ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジ
カルボン酸の1−プロパルギル−2,2,6,6−テトラメチ
ル−ピペリジン−4−オールとのジエステル/プロパル
ギルブロミド 9−〔2,3−エポキシプロピル〕8,8,10,10−テトラメチ
ル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカ
ン−3,3−ジカルボン酸の1−〔2,3−エポキシプロピ
ル〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール
とのジエステル/エピクロルヒドリン 9−〔1−エトキシカルボニルメチル〕−8,8,10,10−
テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ−〔5,
5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−エトキシカル
ボニルメチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−オールとのジエステル/エチルクロロアセテート 9−〔1−ドデシルオキシカルボニルメチル〕−8,8,1
0,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ
−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−ドデシ
ルオキシカルボニルメチル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−オールとのジエステル/ドデシルクロロ
アセテート 9−〔1−シクロヘキシルオキシカルボニルメチル〕−
8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザス
ピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−シ
クロヘキシルオキシカルボニルメチル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−オールとのジエステル/シク
ロヘキシルクロロアセテート 9−〔1−アリルオキシカルボニル〕−8,8,10,10−テ
トラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウ
ンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−アリルオキシカル
ボニル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オー
ルとのジエステル/アリルクロロホルメート 9−〔1−エトキシカルボニル〕−8,8,10,10−テトラ
メチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデ
カン−3,3−ジカルボン酸の1−エトキシカルボニル−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オールとのジ
エステル/エチルクロロホルメート 9−〔1−フエニルオキシカルボニル〕−8,8,10,10−
テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕
ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−フエニルオキシ
カルボニル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−
オールとのジエステル/フエニルクロロホルメート 実施例6 8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザス
ピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸、ジオク
タデシルエステル 窒素流下で135℃に加熱した実施例1の化合物(5.71g、
16.0ミリモル)及び1−オクタデカノール(9.50g、35.
0ミリモル)の混合物にナトリウムメトキシド(120mg)
を添加した。温度を160〜170℃に上昇させ、約3時間維
持した。続いて混合物を冷却すると灰白色の固体を得た
(13g、回収率100%)。この物質を脱色及びある程度の
精製をするためにヘキサン及びエーテルで処理した。m.
p.54〜56℃。
元素分析 C50H95NO6 計算値: 73.70%C, 12.24%H, 1.79%N 実測値: 73.68%C, 11.48%H, 1.42%N 実施例7 9−アセチル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキ
サ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカル
ボン酸、ジエチルエステル 44.68g(0.125モル)の実施例1の生成物及び71.05g
(0.70モル)の無水酢酸を含有する混合物を還流下24時
間加熱した。溶液を冷却し、クロロホルムで希釈し、そ
して飽和炭酸ナトリウム溶液で洗い(4×200ml)、次
いで水洗(2×200ml)した。硫酸ナトリウムで乾燥し
濃縮後、褐色の固体が単離された。再結晶すると白色固
体(40.0g、収率80%)を得た。m.p.75〜77℃。
サ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカル
ボン酸、ジエチルエステル 44.68g(0.125モル)の実施例1の生成物及び71.05g
(0.70モル)の無水酢酸を含有する混合物を還流下24時
間加熱した。溶液を冷却し、クロロホルムで希釈し、そ
して飽和炭酸ナトリウム溶液で洗い(4×200ml)、次
いで水洗(2×200ml)した。硫酸ナトリウムで乾燥し
濃縮後、褐色の固体が単離された。再結晶すると白色固
体(40.0g、収率80%)を得た。m.p.75〜77℃。
元素分析 C20H33NO7 計算値: 60.13%C, 8.33%H, 3.51%N 実測値: 60.13%C, 8.39%H, 3.58%N 実施例8 9−アセチル8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ
−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボ
ン酸の1,2,2,6,6−ペンタメチル−1,4−ピペリジノール
とのジエステル 還流下で100mlのリグロイン(90〜110℃)中の実施例7
の化合物(9.22g、23ミリモル)及び1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジノール(7.88g、46ミリモル)の
混合物に触媒としてリチウムアミド(53mg、2.3ミリモ
ル)を添加した。混合物を穏やかな窒素流下で5時間還
流し、次いでリグロインで希釈した。氷酢酸で触媒を破
壊し、次いで混合物を過、脱色そして濃縮して白色体
を得た。クロマトグラフイー精製により、5.95gの目的
物(収率40%)を白色体として得た。m.p.68〜70℃。
−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボ
ン酸の1,2,2,6,6−ペンタメチル−1,4−ピペリジノール
とのジエステル 還流下で100mlのリグロイン(90〜110℃)中の実施例7
の化合物(9.22g、23ミリモル)及び1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジノール(7.88g、46ミリモル)の
混合物に触媒としてリチウムアミド(53mg、2.3ミリモ
ル)を添加した。混合物を穏やかな窒素流下で5時間還
流し、次いでリグロインで希釈した。氷酢酸で触媒を破
壊し、次いで混合物を過、脱色そして濃縮して白色体
を得た。クロマトグラフイー精製により、5.95gの目的
物(収率40%)を白色体として得た。m.p.68〜70℃。
元素分析 C36H63N3O7 計算値: 66.53%C, 9.77%H, 6.47%N 実測値: 65.99%C, 9.79%H, 6.42%N 実施例9 9−アセチル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキ
サ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカル
ボン酸の1−アセチル−1,2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジノールとのジエステル 50mlのクロロホルム中の実施例3の化合物(16.43g、28
ミリモル)及び無水酢酸(34.68g、340ミリモル)の混
合物を21時間還流下で加熱した。溶液を冷却し、クロロ
ホルムで希釈し、飽和炭酸ナトリウムで洗い(3×200m
l)次いで水洗(3×200ml)した。硫酸ナトリウムで乾
燥し、濃縮した。得られた黄色油状物をエーテルで粉末
化し、白色粉末を得た。酢酸エチルから再結晶し、融点
161.5〜163℃の白色固体(12.33g、収率62%)を得た。
サ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカル
ボン酸の1−アセチル−1,2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジノールとのジエステル 50mlのクロロホルム中の実施例3の化合物(16.43g、28
ミリモル)及び無水酢酸(34.68g、340ミリモル)の混
合物を21時間還流下で加熱した。溶液を冷却し、クロロ
ホルムで希釈し、飽和炭酸ナトリウムで洗い(3×200m
l)次いで水洗(3×200ml)した。硫酸ナトリウムで乾
燥し、濃縮した。得られた黄色油状物をエーテルで粉末
化し、白色粉末を得た。酢酸エチルから再結晶し、融点
161.5〜163℃の白色固体(12.33g、収率62%)を得た。
元素分析 C38H63N3O9 計算値: 64.65%C, 9.00%H, 5.95%N 実測値: 64.51%C, 8.84%H, 5.84%N 実施例10 8,8,9,10,10−ペンタメチル−1,5−ジオキサ−9−アザ
スピロ−〔5,5〕−ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1,
2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールとのジエ
ステル 還流下で100mlのリグロイン(90〜110℃)中の、実施例
3と類似の方法で1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペ
リドンとビス(ヒドロキシメチル)マロン酸ジエチルか
ら製した 8,8,9,10,10−ペンタメチル−1,5−ジオキサ−9−アザ
スピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸ジエチ
ルエステル(8.96g、24ミリモル)及び1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジノール(8.22g、48ミリモル)
の混合物にリチウムアミド触媒(27mg、1.2ミリモル)
を添加した。穏やかな窒素流を24時間続けた。混合物を
リグロインで希釈し、氷酢酸で触媒を破壊した。溶液を
過し、冷却し結晶化させた。リグロインから再結晶
し、融点111〜113℃の白色粉末(7.93g、収率53%)を
得た。
スピロ−〔5,5〕−ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1,
2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールとのジエ
ステル 還流下で100mlのリグロイン(90〜110℃)中の、実施例
3と類似の方法で1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペ
リドンとビス(ヒドロキシメチル)マロン酸ジエチルか
ら製した 8,8,9,10,10−ペンタメチル−1,5−ジオキサ−9−アザ
スピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸ジエチ
ルエステル(8.96g、24ミリモル)及び1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジノール(8.22g、48ミリモル)
の混合物にリチウムアミド触媒(27mg、1.2ミリモル)
を添加した。穏やかな窒素流を24時間続けた。混合物を
リグロインで希釈し、氷酢酸で触媒を破壊した。溶液を
過し、冷却し結晶化させた。リグロインから再結晶
し、融点111〜113℃の白色粉末(7.93g、収率53%)を
得た。
元素分析 C35H63N3O6 計算値: 67.60%C, 10.21%H, 6.76%N 実測値: 67.49%C, 10.24%H, 6.53%N 本化合物は、ホルムアルデヒド及び蟻酸を使用して実施
例3の化合物のメチル化によつても製することができ
る。
例3の化合物のメチル化によつても製することができ
る。
実施例11 9−アクリロイル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジ
オキサ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−カ
ルボン酸の1−アクリロイル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−オールとのジエステル 40mlのテトラヒドロフランの実施例3の生成物(5.80
g、10ミリモル)の溶液に、20分間かけて25mlのテトラ
ヒドロフランのアクリロイルクロリド(3.0g、33ミリモ
ル)の溶液を滴加した。混合物の滴加の完了後、24時間
室温で攪拌させた。混合物をエーテルで希釈し、水酸化
ナトリウム溶液で中和し、水で分配させた。有機溶液を
乾燥(硫酸マグネシウム)し濃縮すると粗生成物が得ら
れた。エーテル/石油エーテル(35〜60℃)で粉末化し
白色固形物として生成物を得た。この物質をNMR及び質
量分析によつて決定した。
オキサ−9−アザスピロ−〔5,5〕ウンデカン−3,3−カ
ルボン酸の1−アクリロイル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−オールとのジエステル 40mlのテトラヒドロフランの実施例3の生成物(5.80
g、10ミリモル)の溶液に、20分間かけて25mlのテトラ
ヒドロフランのアクリロイルクロリド(3.0g、33ミリモ
ル)の溶液を滴加した。混合物の滴加の完了後、24時間
室温で攪拌させた。混合物をエーテルで希釈し、水酸化
ナトリウム溶液で中和し、水で分配させた。有機溶液を
乾燥(硫酸マグネシウム)し濃縮すると粗生成物が得ら
れた。エーテル/石油エーテル(35〜60℃)で粉末化し
白色固形物として生成物を得た。この物質をNMR及び質
量分析によつて決定した。
実施例14と同様な方法で次に示す化合物を製造すること
ができる。
ができる。
* 9−ヘキサノイル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5
−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−3,3−
ジカルボン酸の1−ヘキサノイル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−オールとのジエステル * 9−ステアロイル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5
−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−3,3−
ジカルボン酸の1−ステアロイル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−オールとのジエステル * 9−ジメチルカルバミル−8,8,10,10−テトラメチ
ル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン
−3,3−ジカルボン酸、1−ジメチルカルバミル−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−オールとのジエス
テル *9−ジエチルカルバミル−8,8,10,10−テトラメチル
−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−
3,3−ジカルボン酸の1−ジエチルカルバミル−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−4−オールとのジエステル 実施例12 9−ブチルカルバミル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5
−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−3,3−
ジカルボン酸の1−ブチルカルバミル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−オールとのジエステル 40mlのテトラヒドロフラン中の実施例3の生成物(5.80
部)の溶液に、20部のテトラヒドロフラン中のブチルイ
ソシアネート(3.12部)の溶液を添加した。24時間室温
で混合物を攪拌し、濃縮し、粗反応混合物を精製すると
目的生成物が得られ、NMR及び質量分析で実証された。
−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−3,3−
ジカルボン酸の1−ヘキサノイル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−オールとのジエステル * 9−ステアロイル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5
−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−3,3−
ジカルボン酸の1−ステアロイル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−オールとのジエステル * 9−ジメチルカルバミル−8,8,10,10−テトラメチ
ル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン
−3,3−ジカルボン酸、1−ジメチルカルバミル−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−オールとのジエス
テル *9−ジエチルカルバミル−8,8,10,10−テトラメチル
−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−
3,3−ジカルボン酸の1−ジエチルカルバミル−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−4−オールとのジエステル 実施例12 9−ブチルカルバミル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5
−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−3,3−
ジカルボン酸の1−ブチルカルバミル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−オールとのジエステル 40mlのテトラヒドロフラン中の実施例3の生成物(5.80
部)の溶液に、20部のテトラヒドロフラン中のブチルイ
ソシアネート(3.12部)の溶液を添加した。24時間室温
で混合物を攪拌し、濃縮し、粗反応混合物を精製すると
目的生成物が得られ、NMR及び質量分析で実証された。
同様にして次の化合物が製造される。
* 9−シクロヘキシルカルバミル−8,8,10,10−テト
ラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウン
デカン−3,3−ジカルボン酸の1−シクロヘキシルカル
バミル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オー
ルとのジエステル * 9−アリルカルバミル−8,8,10,10−テトラメチル
−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−
3,3−ジカルボン酸の1−アリルカルバミル−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−4−オールとのジエステル 実施例13 9−〔2−ヒドロキシエチル〕−8,8,10,10−テトラメ
チル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカ
ン−3,3−ジカルボン酸の1−〔2−ヒドロキシエチ
ル〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール
とのジエステル イソプロパノール中の実施例3の生成物(5.80g、10ミ
リモル)の混合物にエチレンオキシド(66g、150ミリモ
ル)を加えた。混合物をオートクレーブ中に入れ、加熱
した。反応完了後、混合物を濃縮し、精製して目的物を
得、NMR及び質量分析により示された。
ラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウン
デカン−3,3−ジカルボン酸の1−シクロヘキシルカル
バミル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オー
ルとのジエステル * 9−アリルカルバミル−8,8,10,10−テトラメチル
−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−
3,3−ジカルボン酸の1−アリルカルバミル−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−4−オールとのジエステル 実施例13 9−〔2−ヒドロキシエチル〕−8,8,10,10−テトラメ
チル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカ
ン−3,3−ジカルボン酸の1−〔2−ヒドロキシエチ
ル〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール
とのジエステル イソプロパノール中の実施例3の生成物(5.80g、10ミ
リモル)の混合物にエチレンオキシド(66g、150ミリモ
ル)を加えた。混合物をオートクレーブ中に入れ、加熱
した。反応完了後、混合物を濃縮し、精製して目的物を
得、NMR及び質量分析により示された。
同様にして、プロピレンオキシド及びスチレンオキシド
から誘導される生成物を製造できる。
から誘導される生成物を製造できる。
実施例14 9−〔2−ステアロイルオキシエチル〕−8,8,10,10−
テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕
ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−〔2−ステアロ
イルオキシエチル〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−4−オールとのジエステル 実施例13の生成物(7.12部)を、テトラヒドロフラン中
でステアロイルクロリド(9.55部)及びトリエチルアミ
ン(3.33部)に合わせた。混合物を、ジクロロメタンと
水との間で分配する前に、室温で18時間攪拌させた。有
機溶液を乾燥、濃縮させてNMR及び質量分析で実証され
た生成物を得た。
テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ〔5,5〕
ウンデカン−3,3−ジカルボン酸の1−〔2−ステアロ
イルオキシエチル〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−4−オールとのジエステル 実施例13の生成物(7.12部)を、テトラヒドロフラン中
でステアロイルクロリド(9.55部)及びトリエチルアミ
ン(3.33部)に合わせた。混合物を、ジクロロメタンと
水との間で分配する前に、室温で18時間攪拌させた。有
機溶液を乾燥、濃縮させてNMR及び質量分析で実証され
た生成物を得た。
実施例15 9−シアノメチル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジ
オキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカ
ルボン酸の1−シアノメチル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−オールとのジエステル 実施例3の生成物(5.80部)及びアセトンシアノヒドリ
ン(2.81部)及び過剰のホルムアルデヒド(37%水溶
液)を還流下で18時間加熱した。混合物を冷却し、塩基
性化し、そしてエーテルで抽出した。有機溶液を乾燥
(硫酸マグネシウム)し、濃縮して粗生成物を得た。精
製して目的物を得、NMR及び質量分析で実証された。
オキサ−9−アザスピロ〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカ
ルボン酸の1−シアノメチル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−オールとのジエステル 実施例3の生成物(5.80部)及びアセトンシアノヒドリ
ン(2.81部)及び過剰のホルムアルデヒド(37%水溶
液)を還流下で18時間加熱した。混合物を冷却し、塩基
性化し、そしてエーテルで抽出した。有機溶液を乾燥
(硫酸マグネシウム)し、濃縮して粗生成物を得た。精
製して目的物を得、NMR及び質量分析で実証された。
実施例16 8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ−9−アザス
ピロ〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸、4−アミ
ノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンとのジアミド 30mlのDMSO中の実施例1の化合物(3.57部)及び3.43部
の4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの混
合物に水素化ナトリウム(0.5部)を添加した。混合物
を100℃に加熱し、12時間維持させた。冷却後、粗反応
混合物を酢酸エチルと水との間で分配させた。有機液を
乾燥(硫酸ナトリウム)し、濃縮した。続いて精製後、
生成物をNMR及び質量分析によつて、特徴づけた。
ピロ〔5,5〕ウンデカン−3,3−ジカルボン酸、4−アミ
ノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンとのジアミド 30mlのDMSO中の実施例1の化合物(3.57部)及び3.43部
の4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの混
合物に水素化ナトリウム(0.5部)を添加した。混合物
を100℃に加熱し、12時間維持させた。冷却後、粗反応
混合物を酢酸エチルと水との間で分配させた。有機液を
乾燥(硫酸ナトリウム)し、濃縮した。続いて精製後、
生成物をNMR及び質量分析によつて、特徴づけた。
本発明のスピロアセタール誘導体は、特に、空気及び化
学線放射の存在下で劣化を受ける合成ポリマー用の光安
定剤として有用である。ここで使用されるポリマーに
は、次のものがある:低密度ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン
等のオレフインのホモポリマー;及びエチレン−プロピ
レンコポリマー、エチレン−ブチレンコポリマー、エチ
レン−酢酸ビニルコポリマー、スチレン−ブタジエンコ
ポリマー、アクリロニトリル−スチレン−ブタジエンコ
ポリマー等のその他のエチレン不飽和モノマーとオレフ
インとのコポリマーを包含するポリオレフイン;塩化ビ
ニル及び塩化ビニリデン各々のホモポリマー、塩化ビニ
ル−ビニリデンコポリマー及び塩化ビニル及び塩化ビニ
リデンの各々と酢酸ビニルもしくはその他のエチレン不
飽和モノマーとのコポリマーを包含する塩化ポリビニル
及び塩化ポリビニリデン;ポリオキシメチレン及びポリ
オキシエチレンのようなポリアセタール;ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル;6−ナイロン、6,6−
ナイロン及び6,10−ナイロン等のポリアミド;ポリウレ
タン及びα,β−不飽和酸及びその誘導体から誘導され
るポリマー;ポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト;ポリアクリル酸アミド及びポリアクリロニトリル;
更にアクリル酸とメラミン−ホルムアルデヒド樹脂をも
つ1種又はそれ以上のアクリル酸誘導体とのコポリマ
ー。
学線放射の存在下で劣化を受ける合成ポリマー用の光安
定剤として有用である。ここで使用されるポリマーに
は、次のものがある:低密度ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン
等のオレフインのホモポリマー;及びエチレン−プロピ
レンコポリマー、エチレン−ブチレンコポリマー、エチ
レン−酢酸ビニルコポリマー、スチレン−ブタジエンコ
ポリマー、アクリロニトリル−スチレン−ブタジエンコ
ポリマー等のその他のエチレン不飽和モノマーとオレフ
インとのコポリマーを包含するポリオレフイン;塩化ビ
ニル及び塩化ビニリデン各々のホモポリマー、塩化ビニ
ル−ビニリデンコポリマー及び塩化ビニル及び塩化ビニ
リデンの各々と酢酸ビニルもしくはその他のエチレン不
飽和モノマーとのコポリマーを包含する塩化ポリビニル
及び塩化ポリビニリデン;ポリオキシメチレン及びポリ
オキシエチレンのようなポリアセタール;ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル;6−ナイロン、6,6−
ナイロン及び6,10−ナイロン等のポリアミド;ポリウレ
タン及びα,β−不飽和酸及びその誘導体から誘導され
るポリマー;ポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト;ポリアクリル酸アミド及びポリアクリロニトリル;
更にアクリル酸とメラミン−ホルムアルデヒド樹脂をも
つ1種又はそれ以上のアクリル酸誘導体とのコポリマ
ー。
合成ポリマーは、種々の成形品又は形物、例えば、フイ
ラメント、繊維、糸、フイラメントシート、その他の成
型品及びラテツクス及びホームから製されたその他の成
型品等においてその優れた特性のゆえに広く利用されて
いる。しかし、これらのポリマーは数ある中で例えば貧
弱な光安定性及び熱安定等の欠点を有している。実例を
挙げれば、ポリオレフイン及びポリウレタンエラストマ
ーは、太陽光や紫外光等に曝露されるとしばしば非常に
劣化する傾向にあり、ポリビニルクロリド及びポリビニ
リデンクロリドは、太陽光や紫外光に曝露されるとしば
しば劣化する傾向にあり、そしてポリビニルクロリド及
びポリビニリデンクロリドは、しばしば劣化し、光と熱
の作用によつて塩化水素の脱離を伴つて着色する傾向に
ある。ポリアミドもしばしば光劣化を受ける。このよう
な劣化に対してこれらの合成ポリマーを安定化させる目
的で、多くの安定剤が提案されている。例えば、ポリオ
レフイン用の場合ベンゾトリアゾール及びベンゾフエノ
ン化合物;ポリウレタン用として、フエノール化合物及
びベンゾフエノン化合物、並びにポリビニルクロリド及
びポリビニリデンクロリド用として、塩基性ケイ酸鉛、
三ケイ酸鉛及びマレイン酸鉛等の鉛塩並びに例えばラウ
リン酸ジブチル錫及びマレイン酸ジブチル錫等のマレイ
ン酸エステル及び有機錫化合物等である。
ラメント、繊維、糸、フイラメントシート、その他の成
型品及びラテツクス及びホームから製されたその他の成
型品等においてその優れた特性のゆえに広く利用されて
いる。しかし、これらのポリマーは数ある中で例えば貧
弱な光安定性及び熱安定等の欠点を有している。実例を
挙げれば、ポリオレフイン及びポリウレタンエラストマ
ーは、太陽光や紫外光等に曝露されるとしばしば非常に
劣化する傾向にあり、ポリビニルクロリド及びポリビニ
リデンクロリドは、太陽光や紫外光に曝露されるとしば
しば劣化する傾向にあり、そしてポリビニルクロリド及
びポリビニリデンクロリドは、しばしば劣化し、光と熱
の作用によつて塩化水素の脱離を伴つて着色する傾向に
ある。ポリアミドもしばしば光劣化を受ける。このよう
な劣化に対してこれらの合成ポリマーを安定化させる目
的で、多くの安定剤が提案されている。例えば、ポリオ
レフイン用の場合ベンゾトリアゾール及びベンゾフエノ
ン化合物;ポリウレタン用として、フエノール化合物及
びベンゾフエノン化合物、並びにポリビニルクロリド及
びポリビニリデンクロリド用として、塩基性ケイ酸鉛、
三ケイ酸鉛及びマレイン酸鉛等の鉛塩並びに例えばラウ
リン酸ジブチル錫及びマレイン酸ジブチル錫等のマレイ
ン酸エステル及び有機錫化合物等である。
樹脂には、安定化させるのに有効な量の式I (式中、R1,R2及びR3は前述の通りである。)の化合物
を配合できる。この量は、プラスチツクの性質及びプラ
スチツクが晒される放射の量に依存する。一般にポリマ
ーの約0.01重量%〜5.0重量%が有効である。
を配合できる。この量は、プラスチツクの性質及びプラ
スチツクが晒される放射の量に依存する。一般にポリマ
ーの約0.01重量%〜5.0重量%が有効である。
更に、式Iの光安定剤は、抗酸化剤、難燃安定剤、滑り
止め剤及び帯電防止剤、補助的光安定剤、顔料、染料、
滑剤等を包含する充填剤及び別の安定剤と共に使用でき
る。
止め剤及び帯電防止剤、補助的光安定剤、顔料、染料、
滑剤等を包含する充填剤及び別の安定剤と共に使用でき
る。
適当な抗酸化剤には、次のものが包含される:2,6−ジ−
t−ブチル−p−クレゾール;4,4′−ビス(2,6−ジ−
t−ブチルフエノール);4,4′−ビス(2,6−ジイソプ
ロピルフエノール);2,4,6−トリ−t−ブチルフエノー
ル;2,2′−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフエ
ノール);オクタデシル−2(3′,5′−ジ−t−ブチ
ル−4′−ヒドロキシフエニル)プロピオネート;ペン
タエリトリチルテトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフエニル−プロピオネート;1,3,5−トリス
(8′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)イソシアヌレート;1,3,5−トリス((3′,5′−ジ
−t−ブチル−4′−ヒドロキシフエニル)プロピオネ
ート)イソシアヌレート;1,3,5−トリス(3′,5′−ジ
−t−ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−
ジメチルベンジル)−s−トリアジン−2,4,6−(1H,3
H,5H)−トリオン等のヒンダードフエノール型のもの、
ジラウリルチオジプロピオネート及びジステアリルチオ
ジプロピオネート等のチオジプロピオン酸のエステル;
亜燐酸トリフエニル、亜燐酸トリノニル、ジドデシルペ
ンタエリトリチルジホスフアイト、ジフエニルデシルホ
スフアイト、トリス−(2,4−ジ−t−ブチルフエニ
ル)ホスフアイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフエニ
ル)ペンタエリトリト−ルジホスフアイト等のヒドロカ
ルビルホスフアイト及びそれらの組合せ等。
t−ブチル−p−クレゾール;4,4′−ビス(2,6−ジ−
t−ブチルフエノール);4,4′−ビス(2,6−ジイソプ
ロピルフエノール);2,4,6−トリ−t−ブチルフエノー
ル;2,2′−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフエ
ノール);オクタデシル−2(3′,5′−ジ−t−ブチ
ル−4′−ヒドロキシフエニル)プロピオネート;ペン
タエリトリチルテトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフエニル−プロピオネート;1,3,5−トリス
(8′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)イソシアヌレート;1,3,5−トリス((3′,5′−ジ
−t−ブチル−4′−ヒドロキシフエニル)プロピオネ
ート)イソシアヌレート;1,3,5−トリス(3′,5′−ジ
−t−ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−
ジメチルベンジル)−s−トリアジン−2,4,6−(1H,3
H,5H)−トリオン等のヒンダードフエノール型のもの、
ジラウリルチオジプロピオネート及びジステアリルチオ
ジプロピオネート等のチオジプロピオン酸のエステル;
亜燐酸トリフエニル、亜燐酸トリノニル、ジドデシルペ
ンタエリトリチルジホスフアイト、ジフエニルデシルホ
スフアイト、トリス−(2,4−ジ−t−ブチルフエニ
ル)ホスフアイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフエニ
ル)ペンタエリトリト−ルジホスフアイト等のヒドロカ
ルビルホスフアイト及びそれらの組合せ等。
適当な補助的光安定剤には、次のものが包含される:2−
(2′−ヒドロキシ−5−t−オクチルフエニル)ベン
ゾトリアゾール;2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ
−t−ブチル−フエニル)−5−クロロベンゾトリアゾ
ール;2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエニル)
ベンゾトリアゾール;2−(2′−ヒドロキシ−3′−t
−ブチル−5′−メチルフエニル)−5−クロロベンゾ
トリアゾール;2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−
t−アミルフエニル)−ベンゾトリアゾール等のベンゾ
トリアゾールクラスのもの;2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフエノン;2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシ
ベンゾフエノン;2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジ−メ
トキシベンゾフエノン等のヒドロキシベンゾフエノン型
のもの;n−ヘキサデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシベンゾエート;2′,4′−ジ−t−ブチルフエ
ノール−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾ
エート等のヒンダードフエノールエステル;2,2′−チオ
ビス(4,6−オクチルフエノール)のニツケル錯体;2,
2′−チオビス(4−t−オクチルフエノール)のニツ
ケルブチルアミン錯体;ニツケルジブチルチオカルバメ
ート;4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルホ
スホン酸モノアルキルエステルのニツケル塩(ここでア
ルキルはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等);2−ヒドロキシ−4−メチルフエニルウンデシルケ
トンオキシムのニツケル錯体等の金属錯体。別の適当な
抗酸化剤及び補助的光安定剤の例は、米国特許第3,488,
290号明細書の第3欄及び4欄並びに米国特許第3,496,1
34号明細書に見出すことができる。
(2′−ヒドロキシ−5−t−オクチルフエニル)ベン
ゾトリアゾール;2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ
−t−ブチル−フエニル)−5−クロロベンゾトリアゾ
ール;2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエニル)
ベンゾトリアゾール;2−(2′−ヒドロキシ−3′−t
−ブチル−5′−メチルフエニル)−5−クロロベンゾ
トリアゾール;2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−
t−アミルフエニル)−ベンゾトリアゾール等のベンゾ
トリアゾールクラスのもの;2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフエノン;2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシ
ベンゾフエノン;2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジ−メ
トキシベンゾフエノン等のヒドロキシベンゾフエノン型
のもの;n−ヘキサデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシベンゾエート;2′,4′−ジ−t−ブチルフエ
ノール−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾ
エート等のヒンダードフエノールエステル;2,2′−チオ
ビス(4,6−オクチルフエノール)のニツケル錯体;2,
2′−チオビス(4−t−オクチルフエノール)のニツ
ケルブチルアミン錯体;ニツケルジブチルチオカルバメ
ート;4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルホ
スホン酸モノアルキルエステルのニツケル塩(ここでア
ルキルはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等);2−ヒドロキシ−4−メチルフエニルウンデシルケ
トンオキシムのニツケル錯体等の金属錯体。別の適当な
抗酸化剤及び補助的光安定剤の例は、米国特許第3,488,
290号明細書の第3欄及び4欄並びに米国特許第3,496,1
34号明細書に見出すことができる。
実施例17-24 光安定剤として上記の化合物の有効性を更に説明するた
めに、実施例1,3,4,7,8,9及び10の前記の物質を、PRO-F
AX(登録商標)6301ポリプロピレン樹脂としてハークル
ズ社(Hercules Corporation)によつて製造され市販さ
れているポリプロピレン樹脂に配合した。総樹脂組成物
の0.25重量%の濃度で、溶剤混合(塩化メチレン)によ
りポリプロピレンに光安定剤を配合し、主要抗酸化剤と
してベーター3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
エニルプロピオン酸ステアリルを0.2%の濃度で使用し
た。次いで樹脂を200℃で押出し、180℃で6000psiにお
いて圧縮成形し、5ミルの厚さのフイルムを製した。対
照フイルムを安定剤を入れないで同一の方法で製した。
各フイルムを赤外線吸収が(破壊点と考えられる)0.5
程増加するまでアトラス ウエザーメーター(Atlas We
ather-O-meter)のキセノンアークで曝露した。
めに、実施例1,3,4,7,8,9及び10の前記の物質を、PRO-F
AX(登録商標)6301ポリプロピレン樹脂としてハークル
ズ社(Hercules Corporation)によつて製造され市販さ
れているポリプロピレン樹脂に配合した。総樹脂組成物
の0.25重量%の濃度で、溶剤混合(塩化メチレン)によ
りポリプロピレンに光安定剤を配合し、主要抗酸化剤と
してベーター3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
エニルプロピオン酸ステアリルを0.2%の濃度で使用し
た。次いで樹脂を200℃で押出し、180℃で6000psiにお
いて圧縮成形し、5ミルの厚さのフイルムを製した。対
照フイルムを安定剤を入れないで同一の方法で製した。
各フイルムを赤外線吸収が(破壊点と考えられる)0.5
程増加するまでアトラス ウエザーメーター(Atlas We
ather-O-meter)のキセノンアークで曝露した。
表1 実施例 安定剤 破壊時間 17 対照 300 18 実施例1 1860 19 実施例3 4400 20 実施例4 3750 21 実施例7 1150 22 実施例8 >4000 23 実施例9 3020 24 実施例10 >4000
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭52−63183(JP,A) 特開 昭57−136567(JP,A) 特開 昭59−62651(JP,A) 特開 昭59−161448(JP,A) 特開 昭54−59287(JP,A)
Claims (13)
- 【請求項1】式I [式中、R1は水素及び1〜5個の炭素原子からなるアル
キル基であり、 R2は水素、オキシル基、水酸基、1〜18個の炭素原子を
有するメチレン連鎖のアルキル基、2〜18個の炭素原子
を有するアルカノイル基、3〜4個の炭素原子のアルケ
ニル基、3〜6個の炭素原子を有するアルケノイル基、
3〜6個の炭素原子を有するアルキニル基、シアノメチ
ル基、2,3−エポキシプロピル基、7〜15個の炭素原子
のアラルキル基、−CH2CH(OR4)−R5基、及び式 (式中mは0又は1であり、Zは−OR6; −N(R7)(R8)又は であり、 mが0のとき、Zは−C(O)−OR10基であってもよ
い。) から選択され、 R3は1〜18個のアルキル基及び式II (式中R1及びR2は前記したと同様である。) の基から選択され、 R4は水素、1〜18個の炭素原子の脂肪族基、芳香脂肪族
基及び2〜18個の炭素原子の脂肪族アシル基から選択さ
れ、 R5は水素、1〜16個の炭素原子のアルキル基及びフェニ
ル基から選択され、 R6は1〜18個の炭素原子のアルキル基、5〜21個の炭素
原子のシクロアルキル基、及び式IIの基から選択され、 R7及びR8は水素、1〜8個の炭素原子を有するアルキル
基、5〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル基、6
〜10個の炭素原子を有するアリール基、及び7〜15個の
炭素原子を有するアラルキル基から選択されるか、R7及
びR8は、それらに結合する窒素原子と共に5〜7員環を
形成することができ、 Aは1〜12個の炭素原子のアルキレン基、フェニレン
基、及び−NH−R11−NH−基(式中R11は2〜18個の炭素
原子のアルキレン基、5〜18個の炭素原子を有するシク
ロアルキレン基、6〜18個の炭素原子を有するアリーレ
ン基、及び7〜18個の炭素原子を有するアラルキレン基
から選択される。)から選択され、 そしてR9は式III (式中、R1及びR3は前記したと同様である。) の基であり、 R10は1〜18個の炭素原子の脂肪族基、フェニル基及び
ベンジル基から選択され、そして Xは−O−又は−NR12−(式中、R12は水素又は1〜8
個の炭素原子のアルキル基である)である。] の化合物。 - 【請求項2】R1が水素であり、Xが−O−である特許請
求の範囲第1項記載の化合物。 - 【請求項3】8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ
−9−アザスピロ[5,5]ウンデカン−3,3−ジカルボン
酸のジエチルエステルである特許請求の範囲第2項記載
の化合物。 - 【請求項4】8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ
−9−アザスピロ[5,5]ウンデカン−3,3−ジカルボン
酸の2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールとの
ジエステルである特許請求の範囲第2項記載の化合物。 - 【請求項5】8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオキサ
−9−アザスピロ[5,5]ウンデカン−3,3−ジカルボン
酸の1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールと
のジエステルである特許請求の範囲第2項記載の化合
物。 - 【請求項6】9−アセチル8,8,10,10−テトラメチル−
1,5−ジオキサ−9−アザスピロ[5,5]ウンデカン−3,
3−ジカルボン酸のジエステルである特許請求の範囲第
2項記載の化合物。 - 【請求項7】9−アセチル−8,8,10,10−テトラメチル
−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ[5,5]ウンデカン−
3,3−ジカルボン酸の1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピ
ペリジノールとのジエステルである特許請求の範囲第2
項記載の化合物。 - 【請求項8】9−アセチル−8,8,10,10−テトラメチル
−1,5−ジオキサ−9−アザスピロ[5,5]ウンデカン−
3,3−ジカルボン酸の1−アセチル−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジノールとのジエステルである特許請
求の範囲第2項記載の化合物。 - 【請求項9】8,8,9,10,10−ペンタメチル−1,5−ジオキ
サ−9−アザスピロ[5,5]ウンデカン−3,3−ジカルボ
ン酸の1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノール
とのジエステルである特許請求の範囲第2項記載の化合
物。 - 【請求項10】一般式I [式中、R1は水素及び1〜5個の炭素原子からなるアル
キル基であり、 R2は水素、オキシル基、水酸基、1〜18個の炭素原子を
有するメチレン連鎖のアルキル基、2〜18個の炭素原子
を有するアルカノイル基、3〜4個の炭素原子のアルケ
ニル基、3〜6個の炭素原子を有するアルケノイル基、
3〜6個の炭素原子を有するアルキニル基、シアノメチ
ル基、2,3−エポキシプロピル基、7〜15個の炭素原子
のアラルキル基、−CH2CH(OR4)−R5基、及び式 (式中mは0又は1であり、Zは−OR6; −N(R7)(R8)又は であり、 mが0のとき、Zは−C(O)−OR10基であってもよ
い。) から選択され、 R3は1〜18個のアルキル基及び式II (式中R1及びR2は前記したと同様である。) の基から選択され、 R4は水素、1〜18個の炭素原子の脂肪族基、芳香脂肪族
基及び2〜18個の炭素原子の脂肪族アシル基から選択さ
れ、 R5は水素、1〜16個の炭素原子のアルキル基及びフェニ
ル基から選択され、 R6は1〜18個の炭素原子のアルキル基、5〜21個の炭素
原子のシクロアルキル基、及び式IIの基から選択され、 R7及びR8は水素、1〜8個の炭素原子を有するアルキル
基、5〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル基、6
〜10個の炭素原子を有するアリール基、及び7〜15個の
炭素原子を有するアラルキル基から選択されるか、R7及
びR8は、それらに結合する窒素原子と共に5〜7員環を
形成することができ、 Aは1〜12個の炭素原子のアルキレン基、フェニレン
基、及び−NH−R11−NH−基(式中R11は2〜18個の炭素
原子のアルキレン基、5〜18個の炭素原子を有するシク
ロアルキレン基、6〜18個の炭素原子を有するアリーレ
ン基、及び7〜18個の炭素原子を有するアラルキレン基
から選択される。)から選択され、 そしてR9は式III (式中、R1及びR3は前記したと同様である。) の基であり、 R10は1〜18個の炭素原子の脂肪族基、フェニル基及び
ベンジル基から選択され、そして Xは−O−又は−NR12−(式中、R12は水素又は1〜8
個の炭素原子のアルキル基である)である。] の化合物からなる、有機ポリマー用光安定剤。 - 【請求項11】有機ポリマーがポリオレフィンホモポリ
マー又はコポリマーである特許請求の範囲第10項記載の
光安定剤。 - 【請求項12】該有機ポリマーがポリプロピレンのホモ
又はコポリマーである特許請求の範囲第11項記載の光安
定剤。 - 【請求項13】酸触媒の存在下、約100℃未満の温度
で、還流溶媒中でビス(ヒドロキシメチル)マロン酸ジ
エチルと2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリドンを加
熱することからなる8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジ
オキサ−9−アザスピロ[5,5]ウンデカン−3,3−ジカ
ルボン酸ジエチルエステル化合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US78679885A | 1985-10-11 | 1985-10-11 | |
| US786798 | 1985-10-11 | ||
| US06/901,624 US4710527A (en) | 1985-10-11 | 1986-08-29 | Malonate-based light stabilizers for plastics |
| US901624 | 1986-08-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62116584A JPS62116584A (ja) | 1987-05-28 |
| JPH0764850B2 true JPH0764850B2 (ja) | 1995-07-12 |
Family
ID=27120590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61241178A Expired - Lifetime JPH0764850B2 (ja) | 1985-10-11 | 1986-10-09 | マロン酸エステルを基礎にしたプラスチツク用光安定剤 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4710527A (ja) |
| EP (1) | EP0222512B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0764850B2 (ja) |
| AT (1) | ATE140921T1 (ja) |
| AU (1) | AU593026B2 (ja) |
| CA (1) | CA1287057C (ja) |
| DE (1) | DE3650549T2 (ja) |
| ES (1) | ES2090005T3 (ja) |
| GR (1) | GR3020778T3 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US4851461A (en) * | 1987-05-15 | 1989-07-25 | Ici Americas Inc. | Tetraalkyl piperidylated stabilizers for plastics |
| US4804699A (en) * | 1987-05-15 | 1989-02-14 | Ici Americas Inc. | Monomeric and oligomeric glutarate-based light stabilizers for plastics |
| US5310771A (en) * | 1992-04-23 | 1994-05-10 | Phillips Petroleum Company | Polyolefin stabilization |
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|---|---|---|---|---|
| US3790525A (en) * | 1972-01-21 | 1974-02-05 | Sankyo Co | 4-piperidone ketal derivatives,their preparation and their use as stabilizers |
| JPS5420977B2 (ja) * | 1972-10-26 | 1979-07-26 | ||
| JPS5082146A (ja) * | 1973-07-20 | 1975-07-03 | ||
| GB1478261A (en) * | 1975-05-28 | 1977-06-29 | Ciba Geigy Ag | Derivatives of 4-oxopiperidines |
| JPS5263183A (en) * | 1975-11-19 | 1977-05-25 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilizer for organic materials |
| JPS5266551A (en) * | 1975-12-01 | 1977-06-02 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilizer for plastics |
| JPS5379935A (en) * | 1976-12-24 | 1978-07-14 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilized synthetic resin composition |
| BE861335A (nl) * | 1977-11-30 | 1978-05-30 | Bekaert Sa Nv | Staalkoordweefsel ter versterking van rubber en aldus versterkte voorwerpen |
| JPS5459287A (en) * | 1978-06-20 | 1979-05-12 | Sankyo Co Ltd | Preparation of 2,2,6,6-tetramethylpiperidne derivative |
| JPS5611932A (en) * | 1979-07-12 | 1981-02-05 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilized polymer composition |
| JPS5616534A (en) * | 1979-07-23 | 1981-02-17 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilized polymer composition |
| JPS56167736A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-23 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilizer for synthetic resin |
| JPS57136567A (en) * | 1981-02-17 | 1982-08-23 | Adeka Argus Chem Co Ltd | N-2-hydroxy-3-substituted piperidine compound |
| JPS58152053A (ja) * | 1982-03-08 | 1983-09-09 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 安定化された合成樹脂組成物 |
| JPS5962651A (ja) * | 1982-10-02 | 1984-04-10 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 高分子材料用光安定剤 |
| JPS59161443A (ja) * | 1984-01-26 | 1984-09-12 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 発泡性ポリスチレン系重合体粒子の製造方法 |
-
1986
- 1986-08-29 US US06/901,624 patent/US4710527A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-09 JP JP61241178A patent/JPH0764850B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-09 AU AU63698/86A patent/AU593026B2/en not_active Ceased
- 1986-10-10 ES ES86307878T patent/ES2090005T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-10 EP EP86307878A patent/EP0222512B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-10 AT AT86307878T patent/ATE140921T1/de not_active IP Right Cessation
- 1986-10-10 CA CA000520346A patent/CA1287057C/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-10-10 DE DE3650549T patent/DE3650549T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-08-14 GR GR960400472T patent/GR3020778T3/el unknown
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|---|---|
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| GR3020778T3 (en) | 1996-11-30 |
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| EP0222512A3 (en) | 1988-12-07 |
| ATE140921T1 (de) | 1996-08-15 |
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| US4710527A (en) | 1987-12-01 |
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| AU593026B2 (en) | 1990-02-01 |
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