JPH0768464B2 - Si―OH基を有する粒子状固形物の疎水性化法およびエラストマーに硬化可能な材料の製造法 - Google Patents
Si―OH基を有する粒子状固形物の疎水性化法およびエラストマーに硬化可能な材料の製造法Info
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Description
る方法および得られた疎水性粒子状固形物を使用するこ
とにより、ジオルガノポリシロキサンと基礎とする、エ
ラストマーに硬化可能な材料を製造する方法に関する。
相応する米国特許第3953487号明細書には、二酸化ケイ
素の疎水性化を、不活性の有機溶剤中で、2000rpmを上
廻つて運転される高速の均質化装置および分散装置を用
いて実施できることが、記載されている。しかし、記載
した高い回転数の場合には、材料の摩滅および摩耗が高
くなる。更に、この疎水性化の場合には、固形物に対し
て3〜25重量%の疎水性化剤が使用され、このことは長
い反応時間を条件とし、それによりエネルギー消費を高
くし、空時収量を悪くする結果になる。
ンを基礎とする、エラストマーに硬化可能な材料を製造
する場合には、公知技術の水準により大抵は、疎水性化
を充填剤とジオルガノポリシロキサンとの混合の際に疎
水性化剤の添加によつて、すなわち原位置で(in−sit
u)惹起するように行なわれる。例えば西ドイツ国特許
出願公開第22 11 377号明細書もしくは相応する米国特
許第3868345号明細書に開示されているように流動層、
エツジランナー、撹拌型ボールミル等中で疎水性化され
た疎水性充填剤を、エラストマーに硬化可能な材料中で
使用することは、多くの場合不可能なことである。それ
というのも、これにより製造される製品の性質は、原位
置で(in−situ)の方法で製造された製品の場合とは異
なるからである。しかし、この原位置で(in−situ)の
方法は回分操作の運転時間が長く、放出が著しいという
欠点を示し、この放出は多数の個所で起こり、それによ
つてコントロールが難かしくなる。更に、疎水性化を意
図的に制御することはほとんど不可能であり、また、ジ
オルガノポリシロキサンを基礎とする、エラストマーに
硬化可能な材料の充填剤含量の補正はもはや不可能であ
る。それというのも、適当な充填剤を欠いているからで
ある。
化剤と、Si−OH基を有する粒子状固形物とを、同時に反
応混合物の機械的応力下に反応させることにより、Si−
OH基を有する粒子状固形物を疎水性化する方法であり、
この方法は、Si−OH基を有する粒子状固形物を、粒子状
固形物、ならびにヘキサメチルジシロキサンおよび/ま
たはトリメチルシラノール70〜89重量%、ヘキサメチル
ジシラザンおよび/またはジビニルテトラメチルジシラ
ザン10〜30重量%および水1〜5重量%からなる疎水性
化剤(この場合、重量%での記載は疎水性化剤の全重量
に対するものである)からなる反応混合物の全重量に対
して5〜50重量%使用することを特徴とする。
ノポリシロキサンを基礎とする、エラストマーに硬化可
能な材料を製造する方法であり、この方法は、使用され
る充填剤の少なくとも一部を、有機ケイ素化合物を基礎
とする疎水性化剤と、Si−OH基を有する粒子状固形物と
を、同時に反応混合物の機械的応力下に反応させること
により得、その際Si−OH基を有する粒子状固形物を、粒
子状固形物、ならびにヘキサメチルジシロキサンおよび
/またはトリメチルシラノール70〜89重量%、ヘキサメ
チルジシラザンおよび/またはジビニルテトラメチルジ
シラザン10〜30重量%および水1〜5重量%からなる疎
水性化剤(この場合、重量%での記載は疎水性化剤の全
重量に対するものである)からなる反応混合物の全重量
に対して5〜50重量%使用することを特徴とする。
化度を意図的に制御しかつ広い範囲内で変動させること
ができ、この場合高いかつ/または均等な疎水性化度が
可能であり、このことは多くの使用にとつて前提とな
る。これは殊に、酸性もしくはアルカリ性の残留物を残
存させることなく、達成するべきである。また、中性
塩、または有機ケイ素化合物に関連しない別の添加物
も、固形物中に残存させるべきではない。
り原位置で(in−situ)の方法によつてのみ製造可能で
あるジオルガノポリシロキサンを基礎とする、粒子状固
形物によりエラストマーに硬化可能な材料を、疎水性化
した粒子状固形物とジオルガノポリシロキサンとを1回
混合することにより製造できるように粒子状固形物を疎
水性化することを可能にする。特に疎水性化した粒子状
固形物を使用することは、混合装置の明白な能力上昇に
役立つている。放出は中央の装置だけに限定され、その
ためより容易に制御できる。疎水性化剤の消費は原位置
で(in−situ)の方法に対して、明らかに減少させるこ
とができる。材料の固形物含量は、事後に本発明による
他の固形物の添加によつて容易に補正できる。液体弾性
ゴム、ノツチ衝撃抵抗を有する、付加重合および重縮合
一成分系および二成分系のシリコーン弾性ゴム材料の製
造には、本発明により製造された固形物だけが適してい
る。この本発明により製造された固形物を使用する場合
にだけ、製品に応じて良好な流れ挙動、良好な透明度お
よび少ない揮発性を得ることができる。
けながら、有利に混合装置中で、特に300〜2,000rpm、
特に300〜1,500rpmの回転数で実施される。
ー(Dissolver)、ヘンシエルミキサー(Henschelmisch
er)、ミツクスタービン(Mischturbine)である。
有利であり、この場合酸素含量は少くとも3容量%に減
少されている。有利には、窒素雰囲気またはアルゴン雰
囲気中で作業される。
には次のバツチの際に改めて使用される。反応した疏水
性化剤並びに損失分は、補充される。
て、得られた疎水性の粒子状固形物の疎水性化度は容易
に変化させることができる。好ましい滞留時間は10〜18
00秒である。
疎水性化剤からなる反応混合物の全重量に対して5〜50
重量%、有利に20〜30重量%使用される。しかし、量比
は、本発明による方法の場合には、常に、粒子状固形物
および疏水性化剤からなる反応混合物がペースト状の稠
度を示すくらいに、形成されている。
回転数が低い場合でも高い剪断力に晒すことができる。
き、それにより粒子状の固形物の凝集体は粉砕され、こ
のことは新たに疎水性化を向上させる原因となる。
積5m2/g〜600m2/g、殊に150m2/g〜300m2/gを示す。粒子
状固形物の例は、石英粉、ケイソウ土および粘土鉱物で
ある。
ケイ素が使用される。
発明の範囲内で、これまでSi−OH基を有する粒子状固形
物を疎水性化するために使用されたものと同じものを使
用できる。
て水1〜5重量%を含有する。もつと高い含水量(20重
量%まで)は可能である。
には、自体公知の、Si−OH基を有する粒子状固形物と、
有機ケイ素化合物との反応を促進する触媒、例えば塩化
水素、アミン、例えばn−ブチルアミンおよび/または
金属化合物、例えば四塩化チタンもしくはジブチル錫ジ
ラウレートを併用できる。
式: (R3Si)aZ 〔式中、Rは同一または異なり、1価の、置換または非
置換の炭化水素基を表わし、Zはハロゲン、水素または
式:−OH、−OR′、−NR′X、−ONR′2、−OOCR′、
−O−または−N(X)−(但し、R′は多くの場合に
1〜4個の炭素原子を有するアルキル基であり、Xは水
素またはR′と同じものを表わすものとする)の基を表
わし、aは1または2である〕で示されるものである。
炭化水素基Rの格段に最重要な例は、メチル基である。
炭化水素基Rの他の例は、オクタデシル基、フエニル基
ならびにビニル基である。
化水素基、例えば3,3,3−トリフルオロプロピル基であ
る。
ある。
ザン、トリメチルシラノール、トリメチルクロルシラ
ン、トリメチルエトキシシラン、トリオルガノシリルオ
キシアシレート、例えばビニルジメチルアセトキシシラ
ン、トリオルガノシリルアミン、例えばトリメチルシリ
ルイソプロピルアミン、トリメチルシリルエチルアミ
ン、ジメチルフエニルシリルプロピルアミンおよびビニ
ルジメチルシリルブチルアミン、トリオルガノシリルア
ミノオキシ化合物、例えばジエチルアミノオキシトリメ
チルシランおよびジエチルアミノオキシジメチルフエニ
ルシラン、さらにヘキサメチルジシロキサン、1,3−ジ
ビニルテトラメチルジシロキサン、1,3−ジフエニルテ
トラメチルジシロキサンおよび1,3−ジフエニルテトラ
メチルジシラザンである。
ン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ジフエニルジエトキシシラン、ビニルメチルジメ
トキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサンおよび/または1分子あたり
2〜12個のシロキサン単位を有する。末端単位にそれぞ
れSi結合ヒドロキシル基を有するジメチルポリシロキサ
ンである。
有する粒子状固形物と反応させてもよい。
またはトリメチルシラノール70〜89重量%、 ヘキサメチルジシラザンおよび/またはジビニルテトラ
メチルジシラザン10〜30重量%および 水1〜5重量%からなる疎水性化剤を使用した場合に得
られる。この場合、重量%での記載は、疎水性化剤の全
重量に対するものである。
囲気と異なる圧力を調節するための装置も備えていな
い。従つて、疎水性化は有利に、付加的に加熱すること
なしに周囲雰囲気の圧力下、つまり1080hPa(絶対)ま
たは約1080hPa(絶対)で実施される。しかし、可能な
場合および所望の場合には、疎水性化剤の沸点に到達す
るまでの他の温度および/または有利には1000〜10000h
Pa(絶対)の範囲内の他の圧力を疎水性化の際に適用す
ることもできる。
縮工程を付加することなしに、高い嵩密度をもつて沈殿
し、このことは後加工にとつて有利である。出発物質に
比して嵩密度が高いことは、嵩の大きい凝集体を破壊す
ることから生ずる。
法を連続的に実施する場合、図面に記載した実施態様は
殊に有効であることが判明した。
ジオルガノポリシロキサンを基礎とする、エラストマー
に硬化可能な材料を製造するための本発明による方法の
場合には、これまで室温または高めた温度で硬化できる
かもしくは硬化する材料の基礎として使用されたかもし
くは使用することができる、全てのジオルガノポリシロ
キサンを使用することができる。このジオルガノポリシ
ロキサンは、例えば一般式: Z1 nSi(R1)O3-n〔Si(R1 2)O〕xSi(R1)3-nZ1 n 〔式中、R1は同一かまたは異り、1価の置換または非置
換および/または高分子量炭化水素基を表わし、Z1はヒ
ドロキシル基、加水分解可能な基および/または加水分
解可能な原子を表わすか、或いは高めた温度で過酸化物
により硬化を開始する材料の場合には、Z1はアルキル基
であつてもよく、nは1、2または3の価を取ることが
でき、xは少なくとも1の整数を表わす〕によつて示す
ことができる。
記の式中のシロキサン鎖内にまたはシロキサン鎖に沿つ
て、多くの場合には不純物としてのみ存在する別のシロ
キサン単位は、ジオルガノシロキサン単位、例えば式: R1SiO3/2,R1 3SiO1/2およびSiO4/2 〔式中、R1はそれぞれ上記したものをあらわす〕で示さ
れるものとして存在していてもよい。この場合の例のシ
ロキサン単位の量は10モル%を越えるべきでない。
ン分子の他に、式: (R1 2Si−O)x 〔式中R1およびxはそれぞれ上記したものを表わす〕で
示される環状に構成されたシロキサン単位を20%まで含
有することもできる。
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基およびオク
チル基;アルケニル基、例えばビニル基、アリル基、エ
チルアリル基およびブタジエニル基;ならびにアリール
基、例えばフエニル基およびトリル基である。
素基、例えば3,3,3−トリフルオロプロピル基、クロル
フエニル基およびブロムトリル基;ならびにシアン化ア
ルキル基、例えばβ−シアン化エチル基である。
換の炭化水素基R1の例は、炭素を介してケイ素に結合し
たポリスチル基、ポリ酢酸ビニル基、ポリアクリレート
基、ポリメタクリレート基およびポリアクリロニトリル
基である。
特にメチル基から成る。場合により存在する残りの基R1
は、殊にビニル基および/またはフエニル基である。
エラストマーに硬化する材料が存在する場合には、Z1は
たいてい加水分解可能な基である。このような基の例
は、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、オキシム
基、アルコキシ基、アルコキシ・アルコキシ基(例え
ば、CH3OCH2CH2O−)、アルケニルオキシ基(例えば、H
2C=(CH3)CO−)、アシルオキシ基およびホスフエー
ト基である。特に容易に入手できることから、Z1として
はアシルオキシ基、殊にアセトキシ基が有利である。な
お、オキシム基を有するもの、例えば式:ON=C(CH3)
(C2H5)のものも、Z1として卓越した成果を達成する。
子である。
の粘度は、最終製品に応じて、有利に20mPas〜50 000 0
00mPas(25℃)の間にある。それに応じてxの値は有利
に15〜5000である。
することも可能である。
またはほんの少し高めた温度でジオルガノポリシロキサ
ンおよび場合により他の物質と混合することにより、場
合により架橋剤の添加後にエラストマーに硬化可能な物
質が製造される。この混合は、任意の公知方法、例えば
機械的混合装置中で行うことができる。
は、使用した充填剤の全重量に対して少くとも10重量
%、特に30〜100重量%使用される。
全重量に対して少くとも5重量%、殊に5〜50重量%の
量で使用される。
中に、唯一の反応可能な末端単位として、Si結合ヒドロ
キシル基を有するものが存在する場合には、このジオル
ガノポリシロキサンは、自体公知の方法で硬化するた
め、ないしは空気中に含有されている水により、場合に
よつては更に水の添加下に、エラストマーに硬化する化
合物に変えるために、架橋剤を用いて、場合により縮合
触媒の存在下に、公知方法で反応させねばならない。
な基および/または加水分解可能な原子を表わし、tは
3または4である〕で示されるシランである。Z1につい
て上記した基および原子は、加水分解可能な基Z1′およ
び加水分解可能な原子Z1′についても完全に当てはま
る。
イソプロピルトリアセトキシシラン、イソプロポキシト
リアセトキシシラン、イソプロポキシトリアセトキシシ
ラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリスジエ
チルアミノキシシラン、メチルトリス−(シクロヘキシ
ルアミノ)−シラン、メチルトリス(−ジエチルフオス
フエート)−シランおよびメチルトリス(−メチル−エ
チルケトオキシモ)−シランである。
で例えば1分子あたり少くとも3個のZ1′基もしくは
Z1′原子を有するポリシロキサンを使用することもで
き、この場合Z1′基もしくはZ1′原子によつて飽和され
ないケイ素原子価は、シロキサン酸素原子および場合に
よりR1基によつて飽和されている。この場合の架橋剤の
最もよく知られている例は、SiO2の含量約40重量%のポ
リエチルシリケート、ヘキサメトキシジシロキサンおよ
びメチル水素ポリシロキサンである。
例えばジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテー
トおよびオクタン酸錫(II)である。
ン中に、唯一の反応可能な末端単位として、アルケニル
基を有するものが存在する場合には、エラストマーへの
硬化は、公知方法で、1分子あたり平均で少なくとも3
個のSi結合した水素原子を有する有機ポリシロキサン、
例えばメチル水素ポリシロキサを用いて、Si結合した水
素へのアルケニル基の付加を促進する触媒、例えばヘキ
サクロロ白金酸またはPt鎖体の存在下に行うことができ
る。
過酸化物を用いるものが挙げられる。この場合、過酸化
物は、高めた温度で開始されるアルキル基およびアルケ
ニル基のラジカル重合を惹き起こす。
ルペルオキシド、m−Cl−ベンゾイルペルオキシドまた
は2,4−ジクロルベンゾイルペルオキシドが使用され
る。
リシロキサン以外に本発明により使用される充填剤、架
橋剤および架橋触媒、場合により従来法で使用される他
の物質を含有することができる。このような物質の例
は、表面積50m2/g以下の疎水性化されていない充填剤、
例えば石英粉、珪藻土、所謂モレキユラーシーブ、例え
ばナトリウムカルシウムアルミニウムシリケート、さら
にケイ酸ジルコニウルおよび炭酸カルシウム、さらに疎
水性化されていない熱分解法により製造した二酸化ケイ
素、有機樹脂、例えばポリ塩化ビニル粉末、オルガノポ
リシロキサン樹脂、繊維状充填剤、例えばアスベスト、
ガラス繊維、炭素繊維および有機繊維、顔料、可溶性染
料、加香剤、腐食防止剤、水の影響に対して物質を安定
化する薬剤、例えば無水酢酸、硬化を遅延する薬剤、例
えばエチニルシクロヘキサノール、および可塑剤、例え
ばトリメチルシロキシ基により末端で封鎖されたジメチ
ルポリシロキサンである。
ヘキサメチルジシロキサン40重量%からなる混合物1.3
を装入し、撹拌装置をチツ素を用いて不活性化し、次
に300rpmで、表面積300m2/gを有する熱分解法による二
酸化ケイ素450gを撹拌混入した。引続き、ヘキサメチル
ジシラザン64gおよび水7gを加えた。軽くチツ素洗浄し
ながら、このペースト状物をデイソルバーを用いて100r
pmで1時間混合した。その際、温度は70℃に上昇した。
引続き揮発性成分をまず常圧で留去し、次に真空下で留
去し、二酸化ケイ素を一定重量になるまで200℃で乾燥
させた。引続く分析で炭素含量4.7重量%が得られた。
表面積300m2/gの高分散性珪酸5kgならびにトリメチルシ
ラノール60重量%およびヘキサメチルジシロキサン40重
量%からなる混合物30kgを封入した。装置をちつ素で不
活性化した後、撹拌(200rpm)しながらヘキサメチルジ
シラザン2.3kgおよび水0.8kgを添加した。ダイヤフラム
ポンプを用いて、更に上記の珪酸7kgを添加した。その
際得られたペースト状物を次に800rpmで10分間混合し
た。引続き、過剰の疎水性化剤を留去した。こうして得
られた固形物はC−含有4.8%を示した。
/hならびにトリメチルシラノール60重量%、ヘキサメチ
ルジシロキサン40重量%からなる混合物154kgならびに
ヘキサメチルジシラザン12kgおよび水4.0kgからなる疎
水性化剤混合物170kg/hを装入した。その際、混合容器
1をちつ素で不活性化した。混合容器中で形成するペー
スト状物を、ポンプ2を用いて、ペースト状物を800rpm
で駆動する混合装置により強力に剪断する混合槽3を通
してポンプ輸送した。その際、混合槽は下方から上方へ
貫流された。溢流管は乾燥装置4に開口し、この乾燥装
置中で過剰の疎水性化剤は蒸発により固形物から分離さ
れた。乾燥装置も同様にちつ素で不活性化した。過剰の
蒸発させた疎水性化剤を、加熱したダストフイルター装
置7および冷却器5を通して、中間貯蔵のために緩衝剤
容器6中へと運んだ。
粉(サイクロン(Sicron)3000、クヴアルツヴエルケ・
フレツヒエン社(Quarzwerke Frechen))20kg、ならび
にトリメチルシラノール60重量%およびヘキサメチルジ
シロキサン40重量%からなる混合物30kgを装入し、装置
をちつ素で不活性化し、次にヘキサメチルジシラザン2.
3kgおよび水0.8を加えた。混合物を800rpmで5分間撹
拌した。過剰の疎水性化剤の留去後、疎水性化した石英
粉が得られた。
20000mPa・s(25℃)のジメチルポリシロキサン500gを
装入し、150℃に加熱し、かつ充填剤390gを加えた。極
めて固練りの物質が生じ、引続き、これを上記のジメチ
ルポリシロキサン410gで希釈した。150℃の真空下(10m
bar)で混練することにより、1時間で揮発性成分を除
去した。
びにB成分を製造した。室温および常圧下で30分混合し
たA成分は基礎材料ならびにヘキサクロロ白金酸100ppm
を含有していた。
重量%、ならびにSi−H0.18モル%およびジビニルテト
ラメチルジシロキサン1重量%を含有する架橋剤4重量
%より成り立つていた。
で加硫した。下記の性質を有する加硫ゴムが得られた: 例6 重縮合物質のための基礎材料の製造 10の実験室混練器中に、末端にOH基を有する粘度6000
mPa・s(25℃)のジメチルポリシロキサン2400gを装入
し、例1に従つて充填剤2400gを添加した。充填剤の添
加の終了後、1時間混練した。引続き材料を150℃で真
空下で3時間加熱し、次に上記のジメチルポリシロキサ
ン600gならびに末端をトリメチルシリル基で封鎖した粘
度100mPa・s(25℃)のジメチルポリシロキサン1200g
を用いて希釈した。
000mPa・s(25℃)のジメチルポリシロキサン490gを装
入し、充填剤合計920gを例4に従つて添加した。1時間
混練の後、材料を上記のジメチルポリシロキサン125gで
希釈した。この基礎材料から良好な貯蔵安定性を有する
歯科用材料を製造できた。
るための本発明による方法を連続的に実施する装置の1
実施例を示す系統図である。 1……混合容器、2……ポンプ、3……混合装置を有す
る混合槽、4……乾燥装置、5……冷却器、6……緩衝
剤容器、7……加熱ダストフイルター装置。
Claims (5)
- 【請求項1】有機ケイ素化合物を基礎とする疎水性化剤
と、Si−OH基を有する粒子状固形物とを、同時に反応混
合物に機械的応力をかけながら反応させることにより、
Si−OH基を有する粒子状固形物を疎水性化する方法にお
いて、Si−OH基を有する粒子状固形物を、粒子状固形
物、ならびにヘキサメチルジシロキサンおよび/または
トリメチルシラノール70〜89重量%、ヘキサメチルジシ
ラザンおよび/またはジビニルテトラメチルジシラザン
10〜30重量%および水1〜5重量%からなる疎水性化剤
(この場合、重量%での記載は疎水性化剤の全重量に対
するものである)からなる反応混合物の全重量に対して
5〜50重量%使用することを特徴とする、Si−OH基を有
する粒子状固形物の疎水性化法。 - 【請求項2】不活性の雰囲気中で実施し、この場合酸素
含量は少なくとも3容量%に減少されている、請求項1
記載の方法。 - 【請求項3】Si−OH基を有する粒子状固形物を粒子状固
形物および疎水性化剤からなる反応混合物の全重量に対
して20〜30重量%使用する、請求項1または2に記載の
方法。 - 【請求項4】疎水性化剤が疎水性化剤の全重量に対して
見ず5〜5重量%を含有する、請求項1から3までのい
ずれか1項に記載の方法。 - 【請求項5】固形物を含有するジオルガノポリシロキサ
ンを基礎とする、エラストマーに硬化可能な材料の製造
法において、使用される充填剤の少なくとも一部分を請
求項1から4までのいずれか1項に記載の方法により得
ることを特徴とするエラストマーに硬化可能な材料の製
造法。
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