JPH0770228B2 - Semiconductor memory write operation control method - Google Patents
Semiconductor memory write operation control methodInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は超集積回路として製造される半導体メモリ、特
に絶縁ゲート型電界効果半導体メモリの書き込み動作制
御方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a write operation control method for a semiconductor memory manufactured as a super integrated circuit, particularly an insulated gate field effect semiconductor memory.
(従来の技術) 現在、揮発性メモリとしてDRAMおよびSRAMがあり、不揮
発性メモリとしてEEPROMおよびFLASH EEPROM等がある。(Prior Art) Currently, there are DRAM and SRAM as volatile memories, and EEPROM and FLASH EEPROM as nonvolatile memories.
DRAMおよびSRAM等の揮発性メモリは高速で書込み、読出
しができるが、DRAMではリフレッシュ・サイクルを必要
とし、またスタンドバイ電流が多い等の欠点がある。Although volatile memories such as DRAM and SRAM can be written and read at high speed, DRAM has drawbacks such as requiring a refresh cycle and a large standby current.
これを補完するのがSRAMであり、DRAMより高速の読出し
ができて低消費電力であという利点を有するが、集積度
が低下する等の欠点を有する。Complementing this is the SRAM, which has the advantage that it can read data faster than the DRAM and consumes less power, but has the drawback that the degree of integration is reduced.
また、両RAM共にスタンドバイ時のバッテリーバックア
ップが必要であり、瞬時の停電等の場合にもデータが消
滅し、さらに高低温雰囲気でのバッテリーバックアップ
は電源消耗が激しく多くの問題をかかえている。In addition, both RAMs require battery backup during standby, data is lost even in the event of a momentary power failure, etc. Furthermore, battery backup in high and low temperature environments consumes a lot of power and has many problems.
そこで、これらの欠点を補完するデバイスとしてEEPROM
等の不揮発性メモリがある。しかし、この素子は書込
み、消去が読出し時間内にできず、したがってCPUから
の直接書込み、消去が困難でデバイス応用上使用範囲が
制限されている。Therefore, EEPROM is a device that complements these drawbacks.
There is a non-volatile memory such as. However, this element cannot be written and erased within the read time, and therefore direct writing and erasing from the CPU is difficult and its application range is limited in device applications.
このため、米国ラムトロン社は、1988年 ISSCC (inter
national sonid state circuit conference)で第1図
に示すメモリ素子を発表した。For this reason, Ramtron Inc. of the United States
At the national sonid state circuit conference, the memory device shown in Fig. 1 was announced.
この強誘電体メモリセルはトランジスタ9,10,11,12から
なる2個のインバータ回路の互いの出力端A,Bが一方の
インバータ回路の入力に接続され、また出力端A,Bはワ
ード線5によって制御されたトランスファトランジスタ
7,8を介して に結線された通常のSRAMセルの構成を有し、さらに出力
端A,Bはコントロール線3によって制御されたコントロ
ールトランジスタ4,4′を介して強誘電体コンデンサ2,
2′の一方の電極に、他の電極はドライブ線1と結線し
て、2個のトランジスタ4,4′と、2個の強誘電体コン
デンサ2,2′の付加により、データを不揮発性的に記憶
させることを提案している。In this ferroelectric memory cell, the output terminals A and B of two inverter circuits composed of transistors 9, 10, 11, and 12 are connected to the input of one inverter circuit, and the output terminals A and B are word lines. Transfer transistor controlled by 5
Through 7,8 It has the structure of a normal SRAM cell connected to the ferroelectric capacitor 2, and the output terminals A and B are connected via the control transistors 4 and 4'controlled by the control line 3 to the ferroelectric capacitor 2 and
The other electrode is connected to the drive line 1 at one electrode of 2 ', and the data is made nonvolatile by adding two transistors 4, 4'and two ferroelectric capacitors 2, 2'. I suggest you to remember.
今ここで、上記強誘電体コンデンサ自体の特性について
みると、第2図に示すように電圧に対する電荷量がヒス
テリシス曲線を有している。即ち、電圧を上げると急激
な電荷量の増加が見られ、ある電圧を越えると一定の増
加量にとどまる。この電圧を0Vに戻しても電荷量は元の
状態に戻らず一定の残存電荷を保持する。Now, looking at the characteristics of the ferroelectric capacitor itself, the charge amount with respect to the voltage has a hysteresis curve as shown in FIG. That is, when the voltage is increased, a rapid increase in the amount of electric charge is observed, and when the voltage exceeds a certain voltage, the amount of increase is constant. Even if this voltage is returned to 0V, the amount of charge does not return to the original state and a certain amount of residual charge is retained.
そして、更に電圧を下げると急激に電荷量が減少し、負
の電荷量が増加する。また電圧を元に戻す(0V)と、一
定の負の電荷量を保持する特性を有する。Then, when the voltage is further lowered, the amount of electric charge is rapidly reduced and the amount of negative electric charge is increased. Further, it has a characteristic of holding a constant negative charge amount when the voltage is returned to 0V.
現状では、この強誘電体の薄膜PZT(Lead Zirconate Ti
tanate)は、その膜形成をスパッタリング等で行う方法
が採用されているが、配向性の問題を有し、ヒステリシ
スの劣化現象を生じるという欠点がある。At present, this ferroelectric thin film PZT (Lead Zirconate Ti
Although a method of performing film formation by sputtering or the like is adopted for tanate), it has a problem that it has a problem of orientation and causes a phenomenon of deterioration of hysteresis.
そこで、米国ラムトロン社では前述したようにコントロ
ールゲート有するトランジスタ4,4′を付加することに
よって電源電圧の切断時に強誘電体コンデンサに記憶さ
せることを提案している。Therefore, Ramtron, Inc. of the United States has proposed to add the transistors 4 and 4'having control gates to store in the ferroelectric capacitor when the power supply voltage is cut off as described above.
第3図は電源電圧Vcc(図中符号)が切断され、電位がH
igh(Vcc)からLow(GND)へ変化するとき、強誘電体メ
モリへの書込みタイミングについてコントロール線3と
ドライブ線1のタイミングチャートを示したものであ
る。In Fig. 3, the power supply voltage Vcc (reference numeral in the figure) is cut off and the potential is H
FIG. 6 is a timing chart of the control line 3 and the drive line 1 regarding the write timing to the ferroelectric memory when changing from igh (Vcc) to Low (GND).
電源電圧Vccが切断され、HighからLowに過渡的変化する
とき、ビット線6の「0」,ビット線6′の「1」を書
込む場合、先ずコントロール線3の信号は一定の電源電
圧降下により動作し、Low(GND)よりHighにしてコント
ロールトランジスタ4,4′をON状態にする。このコント
ロール線3の信号がHighのとき、ドライブ線1をLow(G
ND)からHighにすれば強誘電体2にQ(0)の電荷が保
持される。そして、コントロール線3の信号がHighでド
ライブ線1をHighからLow(GND)に変化することによっ
て強誘電電体2′にQ(1)の電荷が保持されることに
なる。When the power supply voltage Vcc is cut off and transiently changes from High to Low, when writing "0" of the bit line 6 and "1" of the bit line 6 ', the signal of the control line 3 first has a constant power supply voltage drop. The control transistors 4 and 4'are turned on by switching the control transistors 4 and 4'to High from Low (GND). When the signal on this control line 3 is high, drive line 1 is low (G
When ND) is changed to High, the electric charge of Q (0) is retained in the ferroelectric 2. Then, when the signal of the control line 3 is High and the drive line 1 is changed from High to Low (GND), the electric charge of Q (1) is held in the ferroelectric electric body 2 '.
したがって、電源電圧Vcc切断時には、強誘電体コンデ
ンサ2,2′にそれぞれQ(0),Q(1)の電荷が保持さ
れるので、ノードA,Bのデータ「0」,「1」が上記の
ような方法でメモリに書込まれることになる。Therefore, when the power supply voltage Vcc is cut off, the electric charges of Q (0) and Q (1) are held in the ferroelectric capacitors 2 and 2 ', respectively, so that the data "0" and "1" of the nodes A and B are the above-mentioned. It will be written to the memory in the following manner.
一方、電源投入時には、ノードA,BがLow(GND)レベル
に保持され、その後電源電圧が一定のレベルになった場
合、コントロール線3をHighレベルに保持し、ついでド
ライブ線1をHighに保持すれば、強誘電体コンデンサ2
にQ(0)の電荷が保持され電源電圧の電位差では電荷
の移動が生じず、Low(GND)レベルが確保される。On the other hand, when the power is turned on, the nodes A and B are held at Low (GND) level, and then the control line 3 is held at High level and then the drive line 1 is held at High when the power supply voltage becomes a constant level. If so, the ferroelectric capacitor 2
Since the electric charge of Q (0) is held at, the electric charge does not move due to the potential difference of the power supply voltage, and the Low (GND) level is secured.
次に、強誘電体コンデンサ2′にはQ(1)の電荷が保
持され電源電圧の電位下が発生すると電荷が増加する方
向に移動し、Highレベルが確保されることになる。Next, the electric charge of Q (1) is held in the ferroelectric capacitor 2 ', and when the potential of the power supply voltage is lowered, the electric charge moves in the direction of increasing the electric charge, and the high level is secured.
したがって、ノードA,Bにデータ「0」,「1」が読出
され、電源を切る前のデータが保持されることになる。Therefore, the data "0" and "1" are read to the nodes A and B, and the data before the power is turned off is retained.
(発明が解決しようとする課題) 以上、従来の強誘電体不揮発性メモリの動作原理を説明
したが、PZT等の強誘電体の比誘電率は100〜150と高
く、SiO2膜に比べ20倍程度大きい。(Problems to be Solved by the Invention) The operation principle of the conventional ferroelectric non-volatile memory has been described above. However, the relative dielectric constant of a ferroelectric substance such as PZT is as high as 100 to 150, which is 20% higher than that of a SiO 2 film. About twice as large.
したがって、ドライブ線1に連なる容量はかなり値とな
り、電源切断時の過渡状態でドライブするのはかなり困
難であり、強誘電体メモリへの記憶が有効に行なわれな
い等の問題点があった。Therefore, the capacitance connected to the drive line 1 becomes a considerable value, it is quite difficult to drive in the transient state when the power is turned off, and there is a problem that storage in the ferroelectric memory is not performed effectively.
このような事情に鑑みて、本発明は通常動作時はSRAMと
して動作し、高速化および低消費電力を実現するととも
に、電源電圧が一定の電圧以下になると、強誘電体コン
デンサに書込み動作を行うことによってデータ消滅を防
止する半導体メモリの書込み動作制御方法を提供するこ
とを目的としている。In view of such circumstances, the present invention operates as an SRAM during normal operation, realizes high speed and low power consumption, and performs a write operation to a ferroelectric capacitor when the power supply voltage becomes a certain voltage or less. It is therefore an object of the present invention to provide a write operation control method for a semiconductor memory that prevents data loss.
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するために、本発明は、複数のトランジ
スタでなる一対のインバータ回路と、この回路に対応し
コントロール線とドライブ線との間に配置される強誘電
体コンデンサとを設け、前記インバータ回路は双方の入
力端と出力端とを互いに接続しており、この出力端の各
々が、トランスファトランジスタを介してビット線と のいずれか一方に接続するとともにコントロール線に制
御されるコントロールトランジスタを介して前記コンデ
ンサの一方の電極に接続している、複数個のメモリセル
を含む半導体メモリにおける書込み動作制御方法であっ
て、 電源切断後、電源電圧が通常使用電圧よりも低い所定の
電圧になったとき、この電源電圧の電圧降下によりコン
トロール線をハイレベルして前記コントロールトランジ
スタをON状態にし、かつこのトランジスタのON状態前に
ドライブ線が電源電圧の抵抗分割手段によって電源電圧
の中間電位に印加されており、 さらに、電源電圧が前記所定の電圧より低いローレベル
に至ると、前記コンデンサにバイナリーデータを書込む
動作を実行させるようにしたことを特徴としている。(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention provides a pair of inverter circuits each including a plurality of transistors, and a strong circuit arranged between the control line and the drive line corresponding to the circuit. A dielectric capacitor is provided, and both input terminals and output terminals of the inverter circuit are connected to each other, and each of the output terminals is connected to a bit line via a transfer transistor. A write operation control method in a semiconductor memory including a plurality of memory cells, which is connected to one of the electrodes of the capacitor via a control transistor controlled by a control line. After the disconnection, when the power supply voltage becomes a predetermined voltage lower than the normal operating voltage, the voltage drop of this power supply voltage turns the control line to the high level to turn on the control transistor, and before this transistor turns on. The drive line is applied to the intermediate potential of the power supply voltage by the resistance dividing means of the power supply voltage, and when the power supply voltage reaches a low level lower than the predetermined voltage, the operation of writing binary data in the capacitor is executed. It is characterized by doing so.
(作 用) このような構成により、比誘電率が大きい強電体コンデ
ンサによるメモリセルにおいても通常動作時はSRAMとし
て動作させることができ、 に「0」,「1」のデータを書込む場合、電源電圧が所
定の電圧以下になると、コントロールトランジスタをON
状態にし、コントロール線はHighレベルになる。一方ド
ライブ線は電源投入時より電源電圧の中間電位となって
いるので強誘電体2は1/2Vccによる電荷を得て残留分極
Q(0)を生じ、一方、強誘電体2′は−1/2Vccによる
電荷を得て、残留分極Q(1)を生じることになる。(Operation) With such a configuration, even a memory cell with a strong dielectric capacitor having a large relative permittivity can be operated as SRAM during normal operation. When writing data of "0" and "1" to the control transistor, turn on the control transistor when the power supply voltage becomes lower than the specified voltage.
The control line goes high. On the other hand, since the drive line is at the intermediate potential of the power supply voltage after the power is turned on, the ferroelectric 2 obtains the electric charge by 1/2 Vcc and produces the remanent polarization Q (0), while the ferroelectric 2'is The charge due to / 2Vcc is obtained and the remanent polarization Q (1) is generated.
したがって、強誘電体にQ(0),Q(1)の電荷が確保
されて「0」,「1」のデータが書込まれる。Therefore, the charges of Q (0) and Q (1) are secured in the ferroelectric and data of "0" and "1" are written.
(実施例) 本発明における半導体メモリの書込み動作制御方法を図
面に基づいて説明する。(Embodiment) A semiconductor memory write operation control method according to the present invention will be described with reference to the drawings.
第4図は本発明の方法に関するタイミングチャートを示
したものである。このタイミングチャートは、電源が切
断されて電源電圧Vcc13がHigh(Vcc)からLow(GND)へ
変化するとき、強誘電体メモリへの書込みタイミングに
ついてコントロール線3とドライブ線1の関連を示して
いる。FIG. 4 shows a timing chart relating to the method of the present invention. This timing chart shows the relationship between the control line 3 and the drive line 1 regarding the write timing to the ferroelectric memory when the power supply voltage Vcc13 changes from High (Vcc) to Low (GND) after the power is cut off. .
電源切断後、電源電圧が通常使用電圧よりも低い所定の
電圧になったとき、つまり、電源電圧Vcc13がHigh(Vc
c)よりLow(GND)に過渡的に変化するとき、 の「0」,「1」のデータを書込む場合、Vccが一定の
所定電圧以下になると、コントロールランジスタ4,4′
がON状態になるようにコントロール線を制御する。この
場合コントロール線をHigh(Vcc)レベルにする。After the power is turned off, when the power supply voltage becomes a predetermined voltage lower than the normal operating voltage, that is, the power supply voltage Vcc13 is high (Vc
c) When changing to Low (GND) transiently, When writing the data of "0" and "1", the control transistors 4, 4'when Vcc falls below a certain predetermined voltage.
Control the control line so that turns on. In this case, set the control line to High (Vcc) level.
この一定の電源電圧以下になるとコントロールトランジ
スタ4,4′がONする回路としては、たとえば第5図に示
す回路がある。As a circuit for turning on the control transistors 4 and 4'when the power supply voltage is lower than a certain level, there is a circuit shown in FIG.
コントロールトランジスタ4,4′がON状態になる前に、
ドライブ線は抵抗分割手段の方法により電源電圧Vccの
中間電圧になっている。Before the control transistors 4 and 4'are turned on,
The drive line has an intermediate voltage of the power supply voltage Vcc by the method of resistance dividing means.
この抵抗分割による方法は、たとえば第6図に示す回路
でなり、電源電圧Vccと接地電圧GNDとの中間電位は、半
導体基板上に形成されるP−ウエル,N−ウエル等のGΩ
単位での抵抗分割によって定められる。This resistance division method is, for example, the circuit shown in FIG. 6, and the intermediate potential between the power supply voltage Vcc and the ground voltage GND is GΩ such as P-well or N-well formed on the semiconductor substrate.
It is defined by the resistance division in units.
こうして中間電位が確保されると、強誘電体2,2′にQ
(0),Q(1)の電荷が保持されることになり、
「0」,「1」のデータが書込まれる。When the intermediate potential is secured in this way, Q
The charges of (0) and Q (1) are retained,
Data of "0" and "1" is written.
即ち、強誘電体2はVcc−1/2Vcc=1/2Vccの電位にな
り、第2図に示すように1/2Vccの電荷を得て残留分極Q
(0)を得ることになる。That is, the ferroelectric substance 2 has a potential of Vcc-1 / 2Vcc = 1 / 2Vcc, and as shown in FIG.
You will get (0).
また、反対に強誘電体2′は、GND−1/2Vcc=−1/2Vcc
の電位になり第2図に示すように−1/2Vccに電荷を得て
残留分極Q(1)を得る。On the contrary, the ferroelectric 2'is GND-1 / 2Vcc = -1 / 2Vcc
Then, the electric potential becomes equal to, and as shown in FIG.
(発明の効果) 本発明における半導体メモリの書込み動作制御方法によ
れば、ドライブ線は抵抗分割手段によりコントロールト
ランジスタのON状態前に電源電圧の中間電位に印加さ
れ、コンデンサに電荷が保持されるので、、電源切断時
の短い時間内にパルスを作るためにドライブする必要が
なく、確実にデータを強誘電体コンデンサ内に書込むこ
とができる。(Effect of the Invention) According to the write operation control method of the semiconductor memory of the present invention, the drive line is applied to the intermediate potential of the power supply voltage by the resistance dividing means before the ON state of the control transistor, and the electric charge is held in the capacitor. , It is not necessary to drive in order to make a pulse within a short time when the power is turned off, and data can be surely written in the ferroelectric capacitor.
第1図はSRAMセルに強誘電体メモリを付加した回路図、 第2図は強誘電体の電圧−電荷ヒステリシス曲線図、 第3図は従来のコントロール線とドライブ線のタイミン
グチャート図、 第4図は本発明に係る第3図と同様のタイミングチャー
ト図、 第5図は半導体メモリの動作時に電源電圧が所定電圧以
下になったときコントロールトランジスタをON状態にす
る実施例を示す回路図、 第6図はドライブ線に中間電位を印加するための抵抗分
割方法を示す回路図である。 1……ドライブ線、2,2′……コンデンサ 3……コントロール線 4,4′……コントロールトランジスタ 5……ワード線、6……ビット線 7,8……トランスファトランジスタ 9,10,11,12……トランジスタFIG. 1 is a circuit diagram in which a ferroelectric memory is added to an SRAM cell, FIG. 2 is a voltage-charge hysteresis curve diagram of a ferroelectric substance, FIG. 3 is a timing chart diagram of a conventional control line and a drive line, and FIG. FIG. 5 is a timing chart similar to FIG. 3 according to the present invention, and FIG. 5 is a circuit diagram showing an embodiment in which the control transistor is turned on when the power supply voltage becomes lower than a predetermined voltage during operation of the semiconductor memory. FIG. 6 is a circuit diagram showing a resistance division method for applying an intermediate potential to the drive line. 1 ... Drive line, 2,2 '... Capacitor 3 ... Control line 4,4' ... Control transistor 5 ... Word line, 6 ... Bit line 7,8 …… Transfer transistor 9,10,11,12 …… Transistor
Claims (1)
タ回路と、この回路に対応しコントロール線とドライブ
線との間に配置される強誘電体コンデンサとを設け、 前記インバータ回路は双方の入力端と出力端とを互いに
接続しており、この出力端の各々が、トランスファトラ
ンジスタを介してビット線と のいずれか一方に接続するとともにコントロール線に制
御されるコントロールトランジスタを介して前記コンデ
ンサの一方の電極に接続している、複数個のメモリセル
を含む半導体メモリにおける書込み動作制御方法であっ
て、 電源切断後、電源電圧が通常使用電圧よりも低い所定の
電圧になったとき、この電源電圧の電圧降下によりコン
トロール線をハイレベルにして前記コントロールトラン
ジスタをON状態にし、かつこのトランジスタのON状態前
にドライブ線が電源電圧の抵抗分割手段によって電源電
圧の中間電位に印加されており、 さらに、電源電圧が前記所定の電圧より低いローレベル
に至ると、前記コンデンサにバイナリーデータを書込む
動作を実行させるようにしたことを特徴とする方法。1. A pair of inverter circuits composed of a plurality of transistors and a ferroelectric capacitor corresponding to the circuit and arranged between a control line and a drive line are provided, and the inverter circuit has both input terminals. The output terminals are connected to each other, and each of the output terminals is connected to the bit line through the transfer transistor. A write operation control method in a semiconductor memory including a plurality of memory cells, which is connected to one of the electrodes of the capacitor via a control transistor controlled by a control line. After the disconnection, when the power supply voltage becomes a predetermined voltage lower than the normal use voltage, the control line is set to the high level by the voltage drop of this power supply voltage to turn on the control transistor, and before the ON state of this transistor. The drive line is applied to the intermediate potential of the power supply voltage by the resistance dividing means of the power supply voltage, and when the power supply voltage reaches a low level lower than the predetermined voltage, the operation of writing binary data in the capacitor is executed. A method characterized by doing so.
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