JPH0770557B2 - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor deviceInfo
- Publication number
- JPH0770557B2 JPH0770557B2 JP61041042A JP4104286A JPH0770557B2 JP H0770557 B2 JPH0770557 B2 JP H0770557B2 JP 61041042 A JP61041042 A JP 61041042A JP 4104286 A JP4104286 A JP 4104286A JP H0770557 B2 JPH0770557 B2 JP H0770557B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bonding
- semiconductor chip
- bonding pad
- bonding pads
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/5449—Dispositions of bond wires not being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. fan-out arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/931—Shapes of bond pads
- H10W72/932—Plan-view shape, i.e. in top view
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は半導体装置に関し、特にウエハ状態での半導
体チップの性能テストの効率化が図れるボンディングパ
ッド構成法に関するものである。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a bonding pad configuration method capable of improving the efficiency of a performance test of a semiconductor chip in a wafer state.
[従来の技術] 従来、大規模集積回路(LSI)などのパッケージとして
プラスチックモールドパッケージが用いられている。半
導体チップ上には同一信号用のボンディングパッドは1
個しかなく、半導体チップをパッケージに封入できるよ
うに、各信号用の複数個のボンディングパッドが半導体
チップ上の長手あるいは短手方向の周辺部に設けられて
いるのが普通であった。[Prior Art] Conventionally, a plastic mold package has been used as a package of a large scale integrated circuit (LSI) or the like. There is only one bonding pad for the same signal on the semiconductor chip.
Since there is only one semiconductor chip, a plurality of bonding pads for each signal are usually provided on the periphery of the semiconductor chip in the longitudinal or lateral direction so that the semiconductor chip can be enclosed in a package.
第3図は、従来の、ボンディングパッドが配置された半
導体チップをプラスチックモールドパッケージに封入し
た場合の構造を示す平面図である。この装置の構成につ
いて説明すると、256KビットダイナミックRAM用の集積
回路が組込まれた半導体チップ1がプラスチックモール
ドパッケージ4に封入されている。半導体チップ1上の
長手方向の周辺部にAO信号用ボンディングパッド110aが
配置されており、半導体チップ1上の短手方向の周辺部
にA2信号用ボンディングパッド11b,A1信号用ボンディン
グパッド11cが互いに間隔を隔てて配置されている。ま
た、プラスチックモールドパッケージ4に半導体チップ
1を取囲むようにA0信号用端子5a,A2信号用端子5b、A1
信号用端子5cが互いに間隔を隔てて設けられている。A0
信号用ボンディングパッド110aとA0信号用端子5aとはボ
ンディングワイヤ60aにより、A2信号用ボンディングパ
ッド11bとA2信号用端子5bとはボンディングワイヤ6bに
より、A1信号用ボンディングパッド11cとA1信号用端子5
cとはボンディングワイヤ6cによりボンディングされて
いる。また、A0信号用端子5a,A2信号用端子5b,A1信号用
端子5cはそれぞれこのパッケージの外表面に露出する信
号入出力用の第5ピン,第6ピン,第7ピン(図示せ
ず)に接続されている。ここで、図中の,,はピ
ンン番号を表わしている。FIG. 3 is a plan view showing a conventional structure in which a semiconductor chip having bonding pads arranged therein is enclosed in a plastic mold package. Explaining the structure of this device, a semiconductor chip 1 incorporating an integrated circuit for a 256 Kbit dynamic RAM is enclosed in a plastic mold package 4. AO signal bonding pads 110a are arranged on the semiconductor chip 1 in the longitudinal direction, and A2 signal bonding pads 11b and A1 signal bonding pads 11c are arranged on the semiconductor chip 1 in the lateral direction. It is arranged at intervals. In addition, the plastic mold package 4 encloses the semiconductor chip 1 so that the A0 signal terminals 5a, A2 signal terminals 5b, A1.
Signal terminals 5c are provided at intervals. A0
The signal bonding pad 110a and the A0 signal terminal 5a are bonded by a bonding wire 60a, the A2 signal bonding pad 11b and the A2 signal terminal 5b are bonded by a bonding wire 6b, and the A1 signal bonding pad 11c and the A1 signal terminal 5 are bonded.
It is bonded to c by a bonding wire 6c. The A0 signal terminal 5a, the A2 signal terminal 5b, and the A1 signal terminal 5c are the 5th, 6th, and 7th pins (not shown) for signal input / output exposed on the outer surface of the package, respectively. It is connected to the. Here, and in the figure represent pin numbers.
このように、A0信号用ボンディングパッド110aを半導体
チップ1上の長手方向の周辺部に配置しているのは、A0
信号用ボンディングパッド110aを半導体チップ1上の短
手方向の周辺部の左端に配置し、このボンディングパッ
ド(図中の点線の四角形)とA0信号用端子5aとをボンデ
ィングワイヤ6aでボンディングすると、このボンディン
グワイヤ6aが半導体チップ1上のエッジ部分を長い範囲
にわたって横断してしまい、モールド時にボンディング
ワイヤ6aが半導体チップ1上のエッジ部分に接触するか
らである。As described above, the A0 signal bonding pad 110a is arranged in the peripheral portion of the semiconductor chip 1 in the longitudinal direction.
The signal bonding pad 110a is arranged at the left end of the peripheral portion in the lateral direction on the semiconductor chip 1, and this bonding pad (dotted rectangle in the figure) and the A0 signal terminal 5a are bonded by the bonding wire 6a. This is because the bonding wire 6a traverses the edge portion on the semiconductor chip 1 over a long range, and the bonding wire 6a contacts the edge portion on the semiconductor chip 1 during molding.
[発明が解決しようとする問題点] ところで、従来の半導体チップの性能テストにおいて
は、ウエハ状態(ダイシングにより半導体チップに分割
する前の状態)で複数個の半導体チップが並列にテスト
されている。[Problems to be Solved by the Invention] In a performance test of a conventional semiconductor chip, a plurality of semiconductor chips are tested in parallel in a wafer state (a state before being divided into semiconductor chips by dicing).
第4A図は、半導体チップ上の短手方向の周辺部にのみボ
ンディングパッドが配置されている場合のウエハ状態で
の半導体チップの性能テストの様子を示す図である。図
において、ウエハ10は半導体チップ1,2,3などを含み、3
1,32,33などはダイシングラインを表わしている。たと
えば、半導体チップ1上の短手方向の周辺部にボンディ
ングパッド11a,11b,11c…11nおよび12a,12b,12c…12nが
互いに間隔を隔てて整列して配置されている。他の半導
体チップについても同様に複数個のボンディングパッド
が配置されている。プローブカード7は窓71を有し、窓
71上の周辺部にテスト針13a,13b,13c…13nおよび14a,14
b,14c…14nなどが互いに間隔を隔てて整列して設けられ
ている。半導体チップ1,2,3などの性能テスト時にはウ
エハ10上部にプローブカード7を配置し、ボンディング
パッド11a,11b,11c…11nおよび12a,12b,12c…12nなどに
それぞれ同時にテスト針13a,13b,13c…13nおよび14a,14
b,14c…14nなどを当てて性能テストする。FIG. 4A is a diagram showing a state of a performance test of a semiconductor chip in a wafer state in which bonding pads are arranged only on the peripheral portion in the lateral direction on the semiconductor chip. In the figure, the wafer 10 includes semiconductor chips 1, 2, 3, etc.
1, 32, 33, etc. represent dicing lines. For example, bonding pads 11a, 11b, 11c ... 11n and 12a, 12b, 12c ... 12n are arranged at intervals in the lateral direction on the semiconductor chip 1 so as to be aligned with each other. Similarly, for other semiconductor chips, a plurality of bonding pads are arranged. The probe card 7 has a window 71,
Test needles 13a, 13b, 13c… 13n and 14a, 14 on the periphery of 71
b, 14c ... 14n and the like are provided at intervals from each other. At the time of performance test of the semiconductor chips 1, 2, 3, etc., the probe card 7 is arranged on the upper part of the wafer 10, and the bonding pads 11a, 11b, 11c ... 11n and 12a, 12b, 12c ... 13c ... 13n and 14a, 14
b, 14c ... 14n, etc. are applied to perform performance test.
第4B図は、半導体チップ上の長手および短手方向の周辺
部にボンディングパッドが配置されている場合のウエハ
状態での半導体チップの性能テストの様子を示す図であ
る。図において、たとえばボンディングパッド110a,120
nおよび210a,220nなどは、ボンディングワイヤ時のボン
ディングパッド配置を最適化するために各半導体チップ
1,2,3などの長手方向の周辺部に配置されている。この
ため、半導体チップ1,2,3等の性能テスト時に、これら
ボンディングパッドに当てるテスト針130a,140nおよび2
30a,240nなどの長さが異常に長くなって針先の位置ずれ
などが起こり、半導体チップ上の長手方向の周辺部に配
置されたボンディングパッドに対しては事実上性能テス
トが不可能であった。このため、ワイヤボンディング時
の最適なボンディングパッド配置は、必ずしもウエハ状
態での半導体チップの性能テスト時に最適なボンディン
グパッド配置にならないという問題点があった。FIG. 4B is a diagram showing a state of a performance test of a semiconductor chip in a wafer state when bonding pads are arranged on peripheral portions in the longitudinal and lateral directions on the semiconductor chip. In the figure, for example, the bonding pads 110a, 120
n and 210a, 220n, etc. are each semiconductor chip in order to optimize the layout of bonding pads when bonding wires.
It is arranged at the peripheral portion in the longitudinal direction such as 1, 2, and 3. For this reason, the test needles 130a, 140n and 2 applied to these bonding pads during the performance test of the semiconductor chips 1, 2, 3 etc.
The length of 30a, 240n, etc. becomes abnormally long and the needle tip position shifts.As a result, it is practically impossible to perform performance tests on the bonding pads arranged in the peripheral portion of the semiconductor chip in the longitudinal direction. It was Therefore, there is a problem that the optimum bonding pad arrangement at the time of wire bonding does not always become the optimum bonding pad arrangement at the time of the performance test of the semiconductor chip in the wafer state.
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、ウエハ状態での半導体チップの性能テスト時
とワイヤボンディング時において、それぞれ最適なボン
ディングパッド配置を実現けいる半導体装置を得ること
を目的とする。The present invention has been made in order to solve the above problems, and obtains a semiconductor device that realizes optimum bonding pad arrangements during a performance test of a semiconductor chip in a wafer state and during wire bonding. With the goal.
[問題点を解決するための手段] この発明に係る半導体装置は、半導体チップ上の周辺部
に沿って整列して設けられるボンディングと、この整列
から離れて設けられるボンディングパッドとを有する半
導体装置において、以下のことを特徴とする。すなわ
ち、上記離れて設けられるボンディングパッドに対応し
て上記周辺部に上記整列して設けられるボンディングパ
ッドと整列して設けられ、この離れて設けられるボンデ
ィングパッドが電気的に接続される内部回路に電気的に
接続される冗長なボンディングパッドを備える。[Means for Solving the Problems] A semiconductor device according to the present invention is a semiconductor device having bonding provided in alignment along a peripheral portion on a semiconductor chip and bonding pads provided apart from this alignment. , Is characterized by the following. That is, the bonding pads provided in alignment with the bonding pads provided in alignment with the bonding pads provided in the periphery are electrically connected to the internal pads electrically connected to the bonding pads provided in the periphery. Redundant bonding pads that are electrically connected.
[作用] この発明においては、上記離れて設けられるボンディン
グパッドに対応して半導体チップ上の周辺部に上記整列
して設けられるボンディングパッドと整列して冗長なボ
ンディングパッドを設け、この冗長なボンディングパッ
ドを上記離れて設けられるボンディングパッドが電気的
に接続される内部回路に電気的に接続するようにしたの
で、ウエハ状態での半導体チップの性能テストは上記冗
長なボンディングパッドを用いて行なうことができる。[Operation] In the present invention, a redundant bonding pad is provided in alignment with the bonding pad provided in the peripheral portion on the semiconductor chip corresponding to the bonding pad provided separately, and the redundant bonding pad is provided. Is electrically connected to the internal circuit to which the bonding pad provided separately is electrically connected, so that the performance test of the semiconductor chip in a wafer state can be performed using the redundant bonding pad. .
[実施例] 以下、この発明の実施例を図について説明する。なお、
この実施例の説明において、従来の技術の説明と重複す
る部分については適宜その説明を省略する。Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In addition,
In the description of this embodiment, the description overlapping with the description of the conventional technique will be appropriately omitted.
第1図は、この発明の一実施例である半導体装置の構造
を示す平面図である。第1図の構成が第4B図のボンディ
ングパッドが配置された半導体チップ1からなる半導体
装置の構成と異なる点は以下の点である。すなわち、ワ
イヤボンディング時にボンディングパッド配置を最適化
するために半導体チップ1上の長手方向の周辺部に配置
されたボンディングパッド110aに対応して、半導体チッ
プ1上の短手方向の周辺部に新たに冗長なボンディング
パッド11aが配置されており、この冗長なボンディング
パッド11aはボンディングパッド11b,11c…11nと整列さ
れている。そして、ボンディングパッド110aとボンディ
ングパッド11aとは内部配線80により接続されており、
この内部配線80は半導体チップ1の所定の内部回路に接
続されている。また同様に、ワイヤボンディング時にボ
ンディングパッド配置を最適化するために半導体チップ
1上の長手方向の周辺部に配置されたボンディングパッ
ド120aに対応して、半導体チップ1上の短手方向の周辺
部に新たに冗長なボンディングパッド12nが配置されて
おり、この冗長なボンディングパッド12nはボンディン
グパッド12a,12b,12c…と整列されている。そして、ボ
ンディングパッド120nとボンディングパッド12nとは内
部配線81により接続されており、この内部配線81は半導
体チップ1の所定の内部回路に接続されている。FIG. 1 is a plan view showing the structure of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. The structure of FIG. 1 differs from the structure of the semiconductor device including the semiconductor chip 1 on which the bonding pads are arranged of FIG. 4B in the following points. That is, in order to optimize the arrangement of the bonding pads at the time of wire bonding, the bonding pads 110a arranged in the peripheral portion in the longitudinal direction on the semiconductor chip 1 are newly provided in the peripheral portion in the lateral direction on the semiconductor chip 1. A redundant bonding pad 11a is arranged, and the redundant bonding pad 11a is aligned with the bonding pads 11b, 11c ... 11n. The bonding pad 110a and the bonding pad 11a are connected by the internal wiring 80,
The internal wiring 80 is connected to a predetermined internal circuit of the semiconductor chip 1. Similarly, in order to optimize the arrangement of the bonding pads at the time of wire bonding, the bonding pads 120a are arranged on the peripheral portion of the semiconductor chip 1 in the longitudinal direction. A redundant bonding pad 12n is newly arranged, and the redundant bonding pad 12n is aligned with the bonding pads 12a, 12b, 12c ... The bonding pad 120n and the bonding pad 12n are connected by an internal wiring 81, and the internal wiring 81 is connected to a predetermined internal circuit of the semiconductor chip 1.
ウエハ状態で半導体チップ1の性能テスト時には、ボン
ディングパッド110a,120nの代わりに冗長なボンディン
グパッド11a,12nを用いることによって半導体チップ1
上の短手方向の周辺部に配置された複数個のボンディン
グパッドのみですべての信号の入出力が可能となり、第
4A図のような状態で複数個の半導体チップを並列に性能
テストすることができる。このように、ワイヤボンディ
ング時で使用するボンディングパッドの組合わせとウエ
ハ状態での半導体チップの性能テスト時で使用するボン
ディングパッドの組合わせとを変えることにより、ワイ
ヤボンディング時のみならずウエハ状態での半導体チッ
プの性能テスト時に最適なボンディング配置を実現する
ことができる。During the performance test of the semiconductor chip 1 in the wafer state, the redundant bonding pads 11a and 12n are used in place of the bonding pads 110a and 120n to replace the semiconductor chip 1
All signals can be input / output only with a plurality of bonding pads arranged in the peripheral portion in the upper lateral direction.
It is possible to test the performance of multiple semiconductor chips in parallel in the state shown in Fig. 4A. In this way, by changing the combination of the bonding pads used during wire bonding and the combination of the bonding pads used during the performance test of the semiconductor chip in the wafer state, not only during the wire bonding but also in the wafer state. The optimum bonding arrangement can be realized during the performance test of the semiconductor chip.
なお、上記実施例では、半導体チップ上の長手方向の周
辺部に配置される各ボンディングパッドに対して、1個
ずつ冗長なボンディングパッドを配置する場合について
示したが、この場合、パッケージピンから見た入力容量
の増大が問題となることがある。第2図は、この問題を
解消した他の実施例である半導体装置の構造を示す平面
図である。図において、半導体チップ1上のボンディン
グパッド110aとボンディングパッド11a間にスイッチ9
が設けられている。ウエハ状態での半導体チップの性能
テスト時には接点9bと接点9cとを接続する。そして、ワ
イヤボンディング時には接点9aと接点9cとを接続して冗
長なボンディングパッド11aを切離し、パッケージピン
から見た入力容量の増大を防止する。In the above embodiment, the case where one redundant bonding pad is arranged for each bonding pad arranged in the peripheral portion of the semiconductor chip in the longitudinal direction is shown. The increase in input capacitance may cause a problem. FIG. 2 is a plan view showing the structure of a semiconductor device according to another embodiment which solves this problem. In the figure, a switch 9 is provided between the bonding pad 110a on the semiconductor chip 1 and the bonding pad 11a.
Is provided. The contact 9b and the contact 9c are connected during the performance test of the semiconductor chip in the wafer state. Then, at the time of wire bonding, the contact points 9a and 9c are connected to separate the redundant bonding pad 11a to prevent an increase in the input capacitance viewed from the package pin.
[発明の効果] 以上のようにこの発明によれば、半導体チップ上の周辺
部に整列して設けられるボンディングパッドと、この整
列から離れて設けられるボンディングパッドとを有する
半導体装置において、上記離れて設けられるボンディン
グパッドに対応して上記周辺部に上記整列して設けられ
るボンディングパッドと整列して冗長なボンディングパ
ッドを設け、この冗長なボンディングパッドを上記離れ
て設けられるボンディングパッドが電気的に接続される
内部回路に電気的に接続するようにしたので、ウエハ状
態での半導体チップの性能テスト時とワイヤボンディン
グ時とにおいて、それぞれ最適なボンディングパッド配
置を実現できる半導体装置を得ることができる。As described above, according to the present invention, in the semiconductor device having the bonding pads aligned in the peripheral portion of the semiconductor chip and the bonding pads spaced apart from the alignment, Corresponding bonding pads are provided, redundant bonding pads are provided in alignment with the bonding pads that are aligned in the peripheral portion, and the redundant bonding pads are electrically connected to the bonding pads that are provided separately. Since it is electrically connected to the internal circuit according to the present invention, it is possible to obtain a semiconductor device capable of realizing optimum bonding pad arrangements during a performance test of a semiconductor chip in a wafer state and during wire bonding.
第1図は、この発明の一実施例である半導体装置の構造
を示す平面図である。 第2図は、この発明の他の実施例である半導体装置の構
造を示す平面図である。 第3図は、従来の、ボンディングパッドが配置された半
導体チップをプラスチックモールドパッケージに封入し
た場合の構造を示す平面図である。 第4A図は、半導体チップ上の短手方向の周辺部にのみボ
ンディングパッドが配置されている場合のウエハ状態で
の半導体チップの性能テストの様子を示す図である。 第4B図は、半導体チップ上の長手および短手方向の周辺
部にボンディングパッドが配置されている場合のウエハ
状態での半導体チップの性能テストの様子を示す図であ
る。 図において、1,2,3は半導体チップ、4はプラスチック
モールドパッケージ、5aはA0信号用端子、5bはA2信号用
端子、5cはA1信号用端子、6a,60a,6b,6cはボンディング
ワイヤ、7はプローブカード、9はスイッチ、10はウエ
ハ、10a,110aはA0信号用ボンディングパッド、11bはA2
信号用ボンディングパッド、11cはA1信号用ボンディン
グパッド、11n,12a,12b,12c,12n,120nはボンディングパ
ッド、13a,130a,13b,13c,13n,14a,14b,14c,14n,140nは
テスト針、80,81は内部配線である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。FIG. 1 is a plan view showing the structure of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing the structure of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. FIG. 3 is a plan view showing a conventional structure in which a semiconductor chip having bonding pads arranged therein is enclosed in a plastic mold package. FIG. 4A is a diagram showing a state of a performance test of a semiconductor chip in a wafer state in which bonding pads are arranged only on the peripheral portion in the lateral direction on the semiconductor chip. FIG. 4B is a diagram showing a state of a performance test of a semiconductor chip in a wafer state when bonding pads are arranged on peripheral portions in the longitudinal and lateral directions on the semiconductor chip. In the figure, 1, 2 and 3 are semiconductor chips, 4 is a plastic mold package, 5a is an A0 signal terminal, 5b is an A2 signal terminal, 5c is an A1 signal terminal, 6a, 60a, 6b and 6c are bonding wires, 7 is a probe card, 9 is a switch, 10 is a wafer, 10a and 110a are A0 signal bonding pads, and 11b is A2.
Signal bonding pad, 11c A1 signal bonding pad, 11n, 12a, 12b, 12c, 12n, 120n bonding pad, 13a, 130a, 13b, 13c, 13n, 14a, 14b, 14c, 14n, 140n test needle , 80, 81 are internal wiring. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
Claims (3)
れるボンディングパッドと、該整列から離れて設けられ
るボンディングパッドとを有する半導体装置において、 前記離れて設けられるボンディングパッドに対応して前
記周辺部に前記整列して設けられるボンディングパッド
と整列して設けられ、該離れて設けられるボンディング
パッドが電気的に接続される内部回路に電気的に接続さ
れる冗長なボンディングパッドを備えたことを特徴とす
る半導体装置。1. A semiconductor device having a bonding pad provided in alignment with a peripheral portion of a semiconductor chip and a bonding pad provided away from the alignment, wherein the periphery is provided corresponding to the bonding pad provided separately. And a redundant bonding pad electrically connected to an internal circuit electrically connected to the bonding pad provided separately from the bonding pad. Semiconductor device.
と前記冗長なボンディングパッドとは電気的に接続され
る特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the bonding pads provided separately from each other and the redundant bonding pads are electrically connected.
るボンディングパッドと前記冗長なボンディングパッド
間に設けられ、前記離れて設けられるボンディングパッ
ドまたは前記冗長なボンディングパッドを前記内部回路
に電気的に接続するパッド切換手段を備えた特許請求の
範囲第1項記載の半導体装置。3. A bonding pad provided on the semiconductor chip between the remote bonding pad and the redundant bonding pad, and the remote bonding pad or the redundant bonding pad is electrically connected to the internal circuit. The semiconductor device according to claim 1, further comprising pad switching means for performing the switching.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61041042A JPH0770557B2 (en) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61041042A JPH0770557B2 (en) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | Semiconductor device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62198132A JPS62198132A (en) | 1987-09-01 |
| JPH0770557B2 true JPH0770557B2 (en) | 1995-07-31 |
Family
ID=12597344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61041042A Expired - Lifetime JPH0770557B2 (en) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | Semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0770557B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6509632B1 (en) * | 1998-01-30 | 2003-01-21 | Micron Technology, Inc. | Method of fabricating a redundant pinout configuration for signal enhancement in an IC package |
-
1986
- 1986-02-25 JP JP61041042A patent/JPH0770557B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62198132A (en) | 1987-09-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5646830A (en) | Semiconductor device having an interconnecting circuit board | |
| US5239191A (en) | Semiconductor wafer | |
| KR900007231B1 (en) | Semoconductor intergrated circuite device | |
| JPH06151685A (en) | MCP semiconductor device | |
| KR20040009866A (en) | Semiconductor device with test element groups | |
| US6351405B1 (en) | Pad for integrated circuit device which allows for multiple probing and reliable bonding and integrated circuit device including the pad | |
| JPH0773106B2 (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
| US6534847B2 (en) | Semiconductor device | |
| JPH0770557B2 (en) | Semiconductor device | |
| KR19990030082A (en) | Method for manufacturing emulation circuit device and device with two integrated circuits | |
| JPH0758725B2 (en) | Semiconductor wafer | |
| JP3130769B2 (en) | Semiconductor device | |
| JPH01276735A (en) | Integrated circuit element wafer | |
| JPH04129250A (en) | Thin type hybrid integrated circuit substrate | |
| KR100689218B1 (en) | Ball grid array type device and its packaging method | |
| JP2985423B2 (en) | Semiconductor device | |
| JPH11345847A (en) | Semiconductor wafer and semiconductor device manufacturing method | |
| JP2924847B2 (en) | Semiconductor package | |
| JPH05166894A (en) | Semic0nductor integrated circuit and inspecting, probe card | |
| JP2978883B1 (en) | Semiconductor device | |
| JP2659487B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
| JP2669337B2 (en) | Multi-chip type semiconductor device | |
| KR970077418A (en) | Manufacturing method of hardened dough using lead frame | |
| JPH04333251A (en) | Semiconductor wafer | |
| JPH0750326A (en) | Semiconductor integrated circuit device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |