JPH077116B2 - Method for manufacturing radiation image conversion panel having vitreous protective layer - Google Patents
Method for manufacturing radiation image conversion panel having vitreous protective layerInfo
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- JPH077116B2 JPH077116B2 JP14424287A JP14424287A JPH077116B2 JP H077116 B2 JPH077116 B2 JP H077116B2 JP 14424287 A JP14424287 A JP 14424287A JP 14424287 A JP14424287 A JP 14424287A JP H077116 B2 JPH077116 B2 JP H077116B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルに
関するものであり、さらに詳しくは長期間の使用に耐え
うる放射線画像変換パネルに関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor, and more particularly to a radiation image conversion panel that can withstand long-term use. Is.
X線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く用
いられている。Radiation images such as X-ray images are often used for disease diagnosis.
このX線画像を得るために、ハロゲン化銀感光材料に代
って蛍光体層から直接画像を取出すX線画像変換方法が
工夫されている。In order to obtain this X-ray image, an X-ray image conversion method has been devised, which takes out an image directly from the phosphor layer instead of the silver halide photosensitive material.
この方法は、被写体を透過した放射線(一般にX線)を
蛍光体に吸収せしめ、しかる後、この蛍光体を例えば光
または熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体が
上記吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍光と
して放射せしめ、この蛍光を検出して画像化する方法で
ある。According to this method, the radiation (generally X-rays) transmitted through the subject is absorbed by the phosphor, and thereafter, the phosphor is excited by, for example, light or thermal energy, and the radiation accumulated by the phosphor is absorbed. In this method, energy is emitted as fluorescence, and this fluorescence is detected and imaged.
具体的には、例えば、米国特許3,859,527号及び特開昭5
5−12144号には輝尽性蛍光体を用い可視光線又は赤外線
を輝尽励起光とした放射線画像変換方法が示されてい
る。Specifically, for example, U.S. Pat.
No. 5-12144 discloses a radiation image conversion method using a stimulable phosphor and using visible light or infrared light as stimulated excitation light.
この方法は、支持体上に輝尽性蛍光体層(以後輝尽層と
略称)を形成した放射線画像変換パネル(以後変換パネ
ルと略称)を使用するもので、この変換パネルの輝尽層
に被写体を透過した放射線を当てて被写体各部の放射線
透過度に対応する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を
形成し、しかる後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査する
ことによって各部の蓄積された放射線エネルギーを放射
させてこれを光に変換し、この光の強弱による光信号に
より画像を得るものである。This method uses a radiation image conversion panel (hereinafter abbreviated as a conversion panel) having a stimulable phosphor layer (hereinafter abbreviated as abbreviated layer) formed on a support. The latent energy is formed by irradiating the radiation that has passed through the subject and accumulating the radiation energy corresponding to the radiation transmittance of each part of the subject, and then the photostimulable layer is scanned with the stimulated excitation light to accumulate the respective parts. Radiation energy is emitted and converted into light, and an image is obtained by an optical signal depending on the intensity of the light.
この最終的な画像はハードコピィとして再生してもよい
し、CRT上に再生してもよい。This final image may be played back as a hard copy or on a CRT.
この放射線画像変換方法において使用される変換パネル
は、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査によ
って蓄積エネルギーを放出するので、走査後再度放射線
画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能であ
る。The conversion panel used in this radiation image conversion method releases the stored energy by scanning the stimulated excitation light after storing the radiation image information, so that the radiation image can be stored again after the scanning and repeated use is possible. It is possible.
そこで、前記変換パネルは、得られる放射線画像の画質
を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰返しの使
用の耐える性能を有することが望ましい。そのためには
前記変換パネル中の輝尽層が外部からの物理的あるいは
化学的刺激から十分に保護される必要がある。Therefore, it is desirable that the conversion panel has a performance that can be used for a long time or repeated many times without deteriorating the image quality of the obtained radiation image. For that purpose, the photostimulable layer in the conversion panel must be sufficiently protected from external physical or chemical irritation.
従来の変換パネルにおいては、上記の問題の解決を図る
ため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保護
層を設ける方法がとられてきた。In the conventional conversion panel, in order to solve the above problems, a method of providing a protective layer for covering the photostimulable layer surface on the support of the conversion panel has been adopted.
この保護層は、たとえば特開昭59−42500号に記述され
ているように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接塗布し
て形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成した保護
層を輝尽層上に接着する方法により形成されている。This protective layer is formed, for example, as described in JP-A-59-42500, by directly coating a protective layer coating solution on the photostimulable layer, or by forming a protective layer separately formed in advance. It is formed by a method of adhering on the exhaust layer.
しかしながら、一般的に用いられる有機高分子から成る
保護層はある程度の水分及び/または湿気に対し透過性
であり、輝尽層が水分を吸収し、その結果変換パネルの
放射線感度の低下あるいは輝尽励起光照射を受けるまで
の蓄積エネルギーの減衰が大きく、得られる放射線画像
の画質のばらつき及び/または劣化をもたらしていた。However, a protective layer made of a commonly used organic polymer is permeable to a certain amount of moisture and / or moisture, and the stimulating layer absorbs moisture, resulting in a decrease in the radiation sensitivity of the conversion panel or the stimulating effect. Accumulation of accumulated energy until receiving the irradiation of excitation light is large, resulting in variation and / or deterioration of image quality of the obtained radiation image.
また、前述のような保護層を有する従来の変換パネルに
おいては、保護層の表面硬度が小さいため搬送時におけ
る搬送ローラ等の機械部分との接触により保護層表面に
傷を生じたり、緩衝性が不充分なため輝尽層中に亀裂、
折れを生じ易く、得られる放射線画像の画質が繰返し使
用回数の増大とともに劣化する欠点を有しており、透明
性を損うことなく防湿性、強度、緩衝性の面からの改良
が望まれていた。Further, in the conventional conversion panel having the protective layer as described above, since the surface hardness of the protective layer is small, the protective layer surface may be scratched or buffered due to contact with a mechanical part such as a transport roller during transportation. Cracks in the stimulating layer due to insufficientness,
Folding is likely to occur, and the image quality of the obtained radiation image deteriorates with the increase in the number of times of repeated use, and improvement in moisture resistance, strength, and cushioning properties without impairing transparency is desired. It was
輝尽性蛍光体を用いた変換パネルにおける前記要求に沿
い、本発明の目的は、輝尽層を外部からの化学的刺激、
特に水分に対して十分保護することができ、高感度、高
鮮鋭性及び高粒状性を長期間にわたり維持し、良好な状
態で使用することが可能である耐久性及び耐用性の高い
変換パネルを提供することにある。In line with the above requirements in a conversion panel using a stimulable phosphor, the object of the present invention is to provide a stimulable layer with a chemical stimulus from the outside,
Particularly, a conversion panel with high durability and durability that can be sufficiently protected against moisture, maintains high sensitivity, high sharpness and high graininess for a long period of time and can be used in good condition. To provide.
また本発明の他の目的は、前記輝尽層を外部からの物理
的刺激に対して保護することにより長期及び繰返し使用
に対する耐久性及び耐用性を向上させた変換パネルを提
供することにある。Another object of the present invention is to provide a conversion panel in which the photostimulable layer is protected from external physical stimuli to improve durability and durability for long-term and repeated use.
前記本発明の目的は、支持体上に輝尽層と少くとも一層
の保護層とを構成層として有する変換パネルに於て、前
記少くとも一層の保護層をガラス粉末を層状に施設し焼
成してガラス質層とすることを特徴とするガラス質保護
層を有する変換パネルの製造方法によって達成される。The object of the present invention is a conversion panel having a photostimulable layer and at least one protective layer as a constituent layer on a support, wherein the at least one protective layer is a glass powder layered and fired. It is achieved by a method for producing a conversion panel having a glassy protective layer, which is characterized in that it is a glassy layer.
次に本発明を詳しく説明する。Next, the present invention will be described in detail.
本発明に係る保護層に用いられるガラス質としては、輝
尽層の水分吸収による特性の低下を防ぐために耐湿性の
優れた物質が好ましい。As the glassy material used for the protective layer according to the present invention, a substance having excellent moisture resistance is preferable in order to prevent deterioration of properties due to water absorption of the photostimulable layer.
また変換パネルは搬送時における搬送ローラ等の機械部
分との接触により保護層表面に傷を生じ易く、繰返し使
用回数の増大とともに放射線画像の画質が劣化する。こ
れを防ぐために保護層の強度は硬いことが望まれる。Further, the conversion panel is liable to be scratched on the surface of the protective layer due to contact with a mechanical part such as a conveying roller during conveyance, and the image quality of a radiation image deteriorates as the number of times of repeated use increases. In order to prevent this, the strength of the protective layer is desired to be hard.
また輝尽起光、輝尽発光のいずれに対しても高い透過率
を有することが好ましい。これは輝尽励起光のエネルギ
ーをできるだけ有効に輝尽性蛍光体の輝尽発光発生に用
い、さらにその輝尽発光をできる限り高感度で検出する
ためである。Further, it is preferable to have high transmittance for both stimulated emission light and stimulated emission light. This is because the energy of the stimulated excitation light is used as effectively as possible to generate the stimulated emission of the stimulable phosphor, and the stimulated emission is detected with the highest possible sensitivity.
以上述べた保護層に対する要求に添いうるガラス質とし
ては、酸化物ガラス系素材があげられる。As a glass material that can meet the requirements for the protective layer described above, an oxide glass material can be used.
即ち珪酸塩ガラス、燐酸塩ガラス更に硼酸塩ガラス等が
挙げられ、特に珪酸塩系ガラスが好しい。具合的には石
英ガラス(SiO2)、鉛珪酸ガラス(PbO・SiO2)、鉛硼
珪酸ガラス(PbO・B2O3・SiO2)、亜鉛硼珪酸ガラス(Z
nO・B2O3・SiO2)、アルミノ珪酸ガラス(Al2O3・Si
O2)、アルミノ石灰珪酸ガラス(CaO・Al2O3・SiO2)、
カルシウム硼珪酸ガラス(CaO・B2O3・SiO2)等が挙げ
られる。That is, silicate glass, phosphate glass, borate glass and the like can be mentioned, and silicate glass is particularly preferable. Quartz glass (SiO 2 ), lead silicate glass (PbO ・ SiO 2 ), lead borosilicate glass (PbO ・ B 2 O 3・ SiO 2 ), zinc borosilicate glass (Z
nO ・ B 2 O 3・ SiO 2 ), aluminosilicate glass (Al 2 O 3・ Si
O 2 ), alumino-lime silicate glass (CaO ・ Al 2 O 3・ SiO 2 ),
Examples thereof include calcium borosilicate glass (CaO.B 2 O 3 .SiO 2 ).
またガラス質保護層の防湿性、耐酸性等の化学耐久性或
は透明安定性を損わない範囲でCaO組成の増量、Na2Oの
添加を行って鎔融点を下げてもよい。In addition, the melting point of the glass may be lowered by increasing the CaO composition and adding Na 2 O within a range that does not impair the moisture resistance of the glassy protective layer, chemical durability such as acid resistance, or transparency stability.
またガラス粉末粒径は1〜100μmが好しい。第1図に
本発明に係る変換パネルの態様例を断面図で示す。The glass powder particle size is preferably 1 to 100 μm. FIG. 1 is a sectional view showing an example of the aspect of the conversion panel according to the present invention.
第1図(1)において11は支持体、12は輝尽層、13aは
本発明の方法により設けられたガラス質の保護層であ
る。In FIG. 1 (1), 11 is a support, 12 is a photostimulating layer, and 13a is a vitreous protective layer provided by the method of the present invention.
第1図(1)はガラス質保護層が一層の場合であるが、
第1図(2)のように二層構造あるいはそれ以上の多層
保護層構造としてもよい。Although FIG. 1 (1) shows the case where the glassy protective layer is one layer,
As shown in FIG. 1 (2), a two-layer structure or a multilayer protective layer structure of more than two layers may be used.
また第1図(3)のごとくガラス質保護層の上に特開昭
59−42500号に提案されている保護層用塗布液を直接塗
布した多層保護層を形成してもよいし、保護層の材質と
しては、特開昭61−176900号で提案されている、放射線
および/または熱によって硬化される樹脂を用いてもよ
い。Further, as shown in FIG.
A multilayer protective layer may be formed by directly coating the protective layer coating solution proposed in JP-A-59-42500, and as a material for the protective layer, a radiation layer proposed in JP-A-61-176900 may be used. Resins that are cured by heat and / or heat may be used.
また、これら有機高分子物から成る保護層と本発明に係
るガラス質保護層はその組成及び層の上下順のいかなる
組合わせで用いられてもよい。The protective layer made of these organic polymers and the vitreous protective layer according to the present invention may be used in any combination of the composition and the order of the layers.
前記有機高分子物の保護層用材料としては、たとえば酢
酸セルロース、ニトロセルロース、エチルセルロースな
どのセルロース誘導体、あるいはポリメチルメタクリレ
ート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニト
リロニトリル、ポリメチルアリルアルコール、ポリメチ
ルビニルケトン、セルロースジアセテート、セルロース
トリアセテート、ポリビニルアルコール、ポリアクリル
酸、ポリメタクリル酸、ポリグリシン、ポリアクリルア
ミド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアミン、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポイ塩化ビニ
リデン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド(ナイロン)、ポ
リ四弗化エチレン、ポリ三弗化−塩化エチレン、ポリプ
ロピレン、四弗化エチレン−六弗化プロピレン共重合
体、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリスチレンなど
があげられる。Examples of the material for the protective layer of the organic polymer include cellulose acetate, nitrocellulose, cellulose derivatives such as ethyl cellulose, or polymethylmethacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal,
Polycarbonate, polyvinyl acetate, polyacrylonitrilonitrile, polymethylallyl alcohol, polymethyl vinyl ketone, cellulose diacetate, cellulose triacetate, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyglycine, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyvinylamine , Polyethylene terephthalate, polyethylene, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, polyamide (nylon), polytetrafluoroethylene, polytrifluoro-ethylene chloride, polypropylene, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, polyvinyl isobutyl Examples include ether and polystyrene.
また前記放射線硬化型樹脂としては、不飽和二重結合を
有する化合物またはこれを含む組成物であればよく、こ
のような化合物は好ましくは不飽和二重結合を2個以上
有するプレポリマおよび/またはオリゴマであり、さら
に、これらに不飽和二重結合を有する単量体(ビニルモ
ノマ)を反応性希釈剤として含有させることができる。The radiation curable resin may be a compound having an unsaturated double bond or a composition containing the same, and such a compound is preferably a prepolymer and / or an oligomer having two or more unsaturated double bonds. Further, a monomer having an unsaturated double bond (vinyl monomer) can be contained therein as a reactive diluent.
次に、本発明に係るガラス質保護層の形成法について述
べる。Next, a method for forming the vitreous protective layer according to the present invention will be described.
前述したガラス粉末を輝尽層上に散布し、焼成すればガ
ラス質層が得られる。あるいは、該ガラス粉末を適当な
ビヒクルと十分に混練してペーストとし、表−1に示し
た方法により輝尽層上に塗布し、乾燥後焼成することに
より、ガラス質層としてもよい。A glassy layer is obtained by sprinkling the above-mentioned glass powder on the stimulable layer and firing. Alternatively, the glass powder may be sufficiently kneaded with a suitable vehicle to form a paste, which is applied onto the stimulable layer by the method shown in Table 1, dried and baked to form a glassy layer.
前記ガラス質層の層厚は1〜100μm程度が好ましい。The glassy layer preferably has a thickness of about 1 to 100 μm.
また高分子物を用いた保護層は特開昭59−42500号に述
べられた方法、また硬化型樹脂を用いる場合は特開昭61
−176900号に述べられた方法を用いて設けることができ
る。 Further, the protective layer using a polymer is the method described in JP-A-59-42500, and when a curable resin is used, it is JP-A-61.
It can be provided using the method described in -176900.
また高分子物を用い形成される保護層の一層の層厚は1
μm〜1000μm程度、さらに好ましくは2μm〜50μm
程度の範囲にあることが好ましい。Moreover, the layer thickness of the protective layer formed using a polymer is 1
μm to 1000 μm, more preferably 2 μm to 50 μm
It is preferably in the range of a degree.
本発明において用いる輝尽性蛍光体は、最初の光もしく
は高エネルギー放射線が照射された後に、光的、熱的、
機械的、化学的または電気的等の刺激(輝尽励起)によ
り、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照射量に対
応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面から
好ましくは500nm以上の輝尽励起光によって輝尽発光を
示す蛍光体である。該輝尽性蛍光体としては、例えば特
開昭48−80487号に記載されているBaSO4:AX、特開昭48
−80489号に記載されているSrSO4:AX、特開昭53−39277
号のLi2B4O7Cu,:Ag等、特開昭54−47883号のLi2O・(B2
O2)x:Cu及びLi2O・(B2O2)x:Cu,Ag等、米国特許3,85
9,527号のSrS:Ce,Sm,SrS:Eu,Sm,La2O2S:Eu,Sm及び(Zn,
Cd)S:Mn,Xで表される蛍光体が挙げられる。The stimulable phosphor used in the present invention is, after being irradiated with the first light or high-energy radiation, optical, thermal,
It is a phosphor that shows stimulated emission corresponding to the dose of initial light or high-energy radiation by mechanical, chemical, or electrical stimulation (stimulated excitation), but it is preferably 500 nm from a practical viewpoint. It is a phosphor that exhibits stimulated emission by the above stimulated excitation light. The stimulable phosphor, for example, described in JP-A-48-80487 BaSO 4: AX, JP 48
SrSO 4 : AX described in JP-80489, JP-A-53-39277
No. of Li 2 B 4 O 7 Cu, : Ag or the like, Li 2 O · of JP 54-47883 (B 2
O 2 ) x: Cu and Li 2 O. (B 2 O 2 ) x: Cu, Ag, etc., U.S. Pat.
No.9,527 SrS: Ce, Sm, SrS: Eu, Sm, La 2 O 2 S: Eu, Sm and (Zn,
Cd) The fluorescent substance represented by S: Mn, X is mentioned.
また、特開昭55−12142号に記載されているZnS:Cu,Pb蛍
光体、一般式BaO・xAl2O3:Euで表されるアルミン酸バリ
ウム蛍光体、及び一般式M で表されるアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられ
る。また、特開昭55−12143号に記載されている一般式 (Ba1−x−yMgxCay)FX:eEu2+ で表されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭55−12144号に記載されている一般式 LnOX:xA で表され蛍光体、特開昭55−12145号に記載されている
一般式 (Ba1−xMII)FX:yA で表される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されてい
る一般式 BaFX:xCe,yA で表される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されてい
る一般式 MIIFX・xA:yLn で表される希土類元素付活2価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式ZnS:A,CdS:A,(Zn,Cd)S:A,ZnS:A,X及CdS:
A,Xで表される蛍光体、特開昭59−38278号に記載されて
いる下記いづれかの一般式 xM3(PO4)2・NX2:yA M3(PO4)2:yA で表される蛍光体、下記いづれかの一般式 nReX3・mAX′2:xEu nReX3・mAX′2:xEu,ySm 收 で表される蛍光体、及び下記一般式 MIX・aMIIX′2・bMIIIX′′3:cA で表されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着・スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成させやすく好ましい。Further, the ZnS: Cu, Pb phosphor described in JP-A-55-12142, the barium aluminate phosphor represented by the general formula BaO.xAl 2 O 3 : Eu, and the general formula M An alkaline earth metal silicate-based phosphor represented by Further, the general formulas described in JP-A-55-12143 (Ba 1 -x-yMgxCay) FX: eEu alkaline earth fluoride halide phosphor represented by 2+, JP 55-12144 The phosphor represented by the general formula LnOX: xA described in JP-A-55-12145, the phosphor represented by the general formula (Ba 1 -xMII) FX: yA described in JP-A-55-12145, JP-A-55 -84389, a phosphor represented by the general formula BaFX: xCe, yA, and a rare earth element represented by the general formula M II FXxA: yLn described in JP-A-55-160078. Active divalent metal fluorohalide phosphor, general formula ZnS: A, CdS: A, (Zn, Cd) S: A, ZnS: A, X and CdS:
Phosphors represented by A and X, represented by the general formula xM 3 (PO 4 ) 2 · NX 2 : yA M 3 (PO 4 ) 2 : yA described in JP-A-59-38278. phosphors, the following Izure one of formulas nReX 3 · mAX '2: xEu nReX 3 · mAX' 2: xEu, phosphor represented by ySm Osamu, the following general formula M I X · aM II X ' 2 · Examples thereof include alkali halide phosphors represented by bM III X ″ 3 : cA. Alkali halide phosphors are particularly preferred because they facilitate the formation of a stimulating layer by a method such as vapor deposition and sputtering.
しかし、本発明に係る変換パネルに用いられる輝尽性蛍
光体は、前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線
を照射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示
す蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよい。However, the stimulable phosphor used in the conversion panel according to the present invention is not limited to the above-mentioned phosphor, and a phosphor that exhibits stimulated emission when irradiated with stimulated excitation light after being irradiated with radiation. Any phosphor may be used as long as it is a phosphor.
本発明に係る変換パネルは前記の輝尽性蛍光体の少なく
とも一種類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽層から成
る輝尽層群であってもよい。また、それぞれの輝尽層に
含まれる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異なって
いてもよい。The conversion panel according to the present invention may be a stimulating layer group composed of one or more stimulating layers containing at least one kind of the stimulable phosphor described above. The stimulable phosphors contained in the respective stimulable layers may be the same or different.
本発明の輝尽層は塗布方法、気相成長方法のいづれによ
ってもよいが、気相成長型の輝尽層を有するパネルの方
が塗布型よりも鮮鋭性に優れ好ましい。The photostimulable layer of the present invention may be applied by either a coating method or a vapor phase growth method, but a panel having a vapor phase growth type photostimulable layer is more excellent in sharpness than the coating type and is preferable.
前記輝尽性蛍光体を気相成長させる第1の方法としては
蒸着法がある。第2図に蒸着装置の概要図を示した。A vapor deposition method is a first method for vapor-phase growing the stimulable phosphor. FIG. 2 shows a schematic diagram of the vapor deposition device.
該方法に於ては、まず支持体を蒸着装置内に設置した後
装置内を排気して10-6Torr程度の真空度とする。次い
で、前記輝尽層の少なくとも一つを抵抗加熱法、エレク
トロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて前記支持体表
面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに堆積させる。In this method, first, the support is placed in the vapor deposition apparatus and then the apparatus is evacuated to a vacuum degree of about 10 -6 Torr. Then, at least one of the stimulable layers is heated and evaporated by a method such as a resistance heating method or an electron beam method to deposit a stimulable phosphor on the surface of the support to a desired thickness.
この結果、結着剤を含有しない輝尽層が形成されるが、
前記蒸着工程では複数回に分けて輝尽層を形成すること
も可能である。また、前記蒸着工程では複数の抵抗加熱
器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着を行うこ
とも可能である。また、前記蒸着法においては、輝尽性
蛍光体原料を複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビ
ームを用いて共蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍
光体を合成すると同時に輝尽層を形成することも可能で
ある。As a result, a stimulable layer containing no binder is formed,
In the vapor deposition process, the photostimulable layer can be formed in multiple times. Further, in the vapor deposition step, co-evaporation can be performed using a plurality of resistance heaters or electron beams. In the vapor deposition method, the stimulable phosphor raw material is co-evaporated using a plurality of resistance heaters or electron beams to synthesize a target stimulable phosphor on a support and simultaneously form a stimulable layer. It is also possible to form.
さらに前記蒸着法においては、蒸着時、必要に応じて被
蒸着物を冷却あるいは加熱してもよい。また、蒸着終了
後輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。Further, in the vapor deposition method, the vapor deposition target may be cooled or heated during vapor deposition, if necessary. In addition, the stimulable phosphor layer may be heat-treated after completion of vapor deposition.
更に第2の方法としてスパッタ法、第3の方法としてCV
D法が前記蒸着法同様有用である。The second method is the sputtering method, and the third method is the CV method.
Method D is as useful as the vapor deposition method described above.
本発明に係るパネルの輝尽層の層厚は、目的とする交換
パネルの放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等に
よって異なるが、結着剤を含有しない場合1μm〜1000
μmの範囲、さらに好ましくは20μm〜800μmの範囲
から選ばれるのが好ましく、結着剤を有する場合で10μ
m〜1000μmの範囲、さらに好ましくは20μm〜500μ
mの範囲から選ばれるのが好ましい。The layer thickness of the stimulable layer of the panel according to the present invention varies depending on the sensitivity of the intended exchange panel to radiation, the type of stimulable phosphor, etc., but when the binder is not contained, it is 1 μm to 1000 μm.
It is preferably selected from the range of μm, more preferably from 20 μm to 800 μm, and 10 μm when a binder is included.
m-1000 μm range, more preferably 20 μm-500 μm
It is preferably selected from the range of m.
本発明に係る変換パネルにおいて用いられる支持体とし
ては例えばアルミナ等のセラミックス板、化学的強化ガ
ラス等のガラス板、アルミニウム、鉄、銅、クロム等の
金属板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属板が好ま
しい。As the support used in the conversion panel according to the present invention, for example, a ceramic plate such as alumina, a glass plate such as chemically strengthened glass, a metal plate such as aluminum, iron, copper or chromium, or a coating layer of the metal oxide is used. A metal plate having is preferable.
また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によ
って異なるが、一般的には80μm〜3000μmであり、取
り扱いの上の点から、さらに好ましくは80μm〜1000μ
mである。The layer thickness of these supports varies depending on the material of the support used and the like, but is generally 80 μm to 3000 μm, and from the viewpoint of handling, more preferably 80 μm to 1000 μm.
m.
これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽層と
の接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。ま
た、支持体の表面は第3図(a)に示すような凹凸面31
としてもよいし、(b)に示すように隔絶されたタイル
状板33を敷きつめた構造でもよい。The surface of these supports may be a smooth surface or may be a matte surface for the purpose of improving the adhesiveness with the photostimulable layer. The surface of the support is an uneven surface 31 as shown in FIG.
Alternatively, as shown in (b), a structure in which tile-shaped plates 33 separated from each other are spread may be used.
第3図(a)の場合には輝尽層が第3図(c)の断面図
に示すように凹凸面31によって細分化されるので画像の
鮮鋭性が一段と向上する。In the case of FIG. 3 (a), the photostimulable layer is subdivided by the uneven surface 31 as shown in the sectional view of FIG. 3 (c), so that the sharpness of the image is further improved.
第3図(b)の場合には輝尽層が支持体のタイル状板33
の輪郭を維持しながら堆積するので、結果的には輝尽層
は第3図(d)の断面図に示すように亀裂36によって隔
絶された輝尽性蛍光体の柱状ブロック35から成るため、
画像の鮮鋭性が一段と向上する。In the case of FIG. 3 (b), the stimulating layer is the tile-shaped plate 33 of the support.
As a result, the photostimulable layer is composed of columnar blocks 35 of photostimulable phosphors separated by cracks 36 as shown in the sectional view of FIG. 3 (d).
The sharpness of the image is further improved.
また、変換パネルの端部の輝尽層を保護する目的で第3
図(e)に示すように、支持体32の周囲の縁に折立枠37
を設け、その中央部の凹部に輝尽層38を形成し、該輝尽
層上に蓋をするように保護層39を設けることもできる。Also, in order to protect the photostimulable layer at the edge of the conversion panel, a third
As shown in FIG. (E), the folding frame 37 is provided at the peripheral edge of the support 32.
Alternatively, the photostimulable layer 38 may be formed in the central recess, and the protective layer 39 may be provided so as to cover the photostimulable layer.
さらに、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向上
させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けても
よいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けても
よい。Further, on these supports, an undercoat layer may be provided on the surface on which the photostimulable layer is provided for the purpose of improving the adhesion with the photostimulable layer, and if necessary, a light reflecting layer, a light absorbing layer. Etc. may be provided.
本発明による変換パネルは第4図に概略的に示される放
射線画像変換方法に用いられる。The conversion panel according to the present invention is used in the radiation image conversion method schematically shown in FIG.
すなわち、第4図において、41は放射線発生装置、42は
被写体、43は本発明に係る変換パネル、44は輝尽励起光
源、45は該変換パネルより放射された輝尽蛍光を検出す
る光電変換装置、46は45で検出された信号を画像として
再生する装置、47は再生された画像を表示する装置、48
は輝尽励起光と輝尽蛍光とを分離し、輝尽蛍光のみを透
過させるフィルタである。尚45以降は43からの光情報を
何らかの形で画像として再生できるものであればよく、
上記に限定されるものではない。That is, in FIG. 4, 41 is a radiation generator, 42 is a subject, 43 is a conversion panel according to the present invention, 44 is a stimulated excitation light source, and 45 is photoelectric conversion for detecting stimulated fluorescence emitted from the conversion panel. A device, 46 is a device for reproducing the signal detected by 45 as an image, 47 is a device for displaying the reproduced image, 48
Is a filter that separates stimulated excitation light and stimulated fluorescence and transmits only stimulated fluorescence. It should be noted that after 45, any light information from 43 can be reproduced as an image in some form,
It is not limited to the above.
第4図に示されるように、放射線発生装置41からの放射
線は被写体42を通して変換パネル43に入射する。この入
射した放射線はパネル43の輝尽層に吸収され、そのエネ
ルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形成され
る。As shown in FIG. 4, the radiation from the radiation generator 41 enters the conversion panel 43 through the subject 42. The incident radiation is absorbed by the photostimulable layer of the panel 43, its energy is accumulated, and an accumulated image of a radiation transmission image is formed.
次にこの蓄積像を輝尽励起光源44からの輝尽励起光で励
起して輝尽発光として放出せしめる。Next, this accumulated image is excited by stimulated excitation light from the stimulated excitation light source 44 and emitted as stimulated emission.
放射される輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギ
ー量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管
等の光電変換装置45で光電変換し、画像再生装置46によ
って画像として再生し画像表示装置47によって表示する
ことにより、被写体の放射線透過像を観察することがで
きる。Since the intensity of the stimulated emission emitted is proportional to the amount of accumulated radiation energy, this optical signal is photoelectrically converted by the photoelectric conversion device 45 such as a photomultiplier tube and reproduced as an image by the image reproduction device 46. By displaying with the display device 47, a radiation transmission image of the subject can be observed.
次に実施例によって本発明を説明する。 Next, the present invention will be described with reference to examples.
実施例 1 500μm厚の石英ガラス支持体に、第2図に示した蒸着
装置でアルカリハライド蛍光体(RbBr;0.0006Tl)を300
μm蒸着した(パネルP)。Example 1 An alkali halide phosphor (RbBr; 0.0006Tl) was added to a quartz glass support having a thickness of 500 μm in an amount of 300 by using the vapor deposition apparatus shown in FIG.
μm vapor-deposited (panel P).
次に下記組成のペーストをスリーロールミルで十分混練
して調整し、上記パネルPにステンレス製のスクリーン
(150メッシュ,40μm厚)で印刷した。Next, a paste having the following composition was sufficiently kneaded with a three-roll mill to be prepared, and printed on the panel P with a stainless screen (150 mesh, 40 μm thickness).
鉛硼珪酸ガラス粉末(GA−1 日本電気硝子製) :75
重量部 エチルセルロース :2.5重量部 ブチルカルビトール :22.5重量部 その後、120℃で10分間乾燥し、600℃で60分間焼成し
て、ガラス質保護層厚20μmのパネルAを得た。Lead borosilicate glass powder (GA-1 made by Nippon Electric Glass): 75
Parts by weight Ethyl cellulose: 2.5 parts by weight Butyl carbitol: 22.5 parts by weight After that, it was dried at 120 ° C. for 10 minutes and baked at 600 ° C. for 60 minutes to obtain a panel A having a glassy protective layer thickness of 20 μm.
実施例 2 ガラス粉末として亜鉛硼珪酸ガラス(GA−12 日本電気
硝子製)を使用し、焼成を600℃,10分間とした以外は、
実施例1と同様にしてパネルBを得た。Example 2 Zinc borosilicate glass (GA-12 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) was used as the glass powder, and firing was carried out at 600 ° C. for 10 minutes, except that
A panel B was obtained in the same manner as in Example 1.
実施例 3 実施例1で得られた変換パネルAに厚さ5μmのポリエ
チレンフィルムにポリエステル系接着剤を付与したもの
を接着して第2の保護層を形成し、変換パネルCを得
た。Example 3 The conversion panel A obtained in Example 1 was adhered with a polyethylene film having a thickness of 5 μm and a polyester adhesive applied thereto to form a second protective layer to obtain a conversion panel C.
比較例 1 実施例1で用いた変換パネルPの輝尽層面に実施例3同
様、厚さ5μmのポリエチレンフィルムにポリエステル
系接着剤を付与したものを接着して保護層を形成し、比
較の変換パネルEを得た。Comparative Example 1 A protective film was formed by adhering a polyethylene film having a thickness of 5 μm with a polyester adhesive to the protective layer of the conversion panel P used in Example 1 as in Example 3 to form a protective layer. Panel E was obtained.
比較例 2 実施例1で用いた変換パネルPの輝尽層面に厚さ10μm
の塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体フィルムの片面
にエポキシ変性ポリオレフィン系接着剤を付与したもの
を接着して保護層を作成し、比較の交換パネルFを得
た。Comparative Example 2 The conversion panel P used in Example 1 had a thickness of 10 μm on the stimulating layer surface.
The vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer film (1) was adhered with an epoxy-modified polyolefin adhesive on one side to form a protective layer, and a comparative exchange panel F was obtained.
以上のように得られた本発明の変換パネルA,B,Cおよび
比較の変換パネルE,Fについて、それらの保護層の耐湿
性を次のようにして評価した。With respect to the conversion panels A, B, C of the present invention and the conversion panels E, F of the comparison thus obtained, the moisture resistance of their protective layers was evaluated as follows.
前記パネルA,B,CおよびE,Fを気温50℃、相対湿度50%の
恒温恒湿槽内に350時間放置し、その処置前後での放射
線に対する感度を測定して放置後の放射線感度の、放置
前の放射線感度に対する比を求め、その比の値により耐
湿性を評価した。The panels A, B, C and E, F are left for 350 hours in a thermo-hygrostat at a temperature of 50 ° C. and a relative humidity of 50%, and the sensitivity to radiation before and after the treatment is measured to determine the radiation sensitivity after the exposure. Then, the ratio to the radiation sensitivity before standing was obtained, and the moisture resistance was evaluated by the value of the ratio.
その結果を表−2に示す。The results are shown in Table-2.
表より明らかなように、本発明のパネルA,B,Cはいずれ
も比較のパネルE,Fに対し、2倍近い放射線角度比を得
た。このことは本パネル中に設けられたガラス質保護層
が耐湿性に対して著しく効果をもつことを示している。 As is clear from the table, each of the panels A, B, and C of the present invention obtained a radiation angle ratio almost twice that of the comparative panels E and F. This indicates that the vitreous protective layer provided in this panel has a significant effect on moisture resistance.
更に前記のパネルの防傷性についてサンドブラストでチ
ェックした所ガラス質層を表面にもつパネルA,Bに何ら
の“曇”を生ずることはなかった。Furthermore, when the above-mentioned panel was checked for scratch resistance by sandblasting, no "fogging" occurred on Panels A and B having a glassy layer on the surface.
また透明性については何らの支障はなかった。There was no problem with transparency.
本発明の変換パネルは、その保護層の少なくとも一部が
ガラス質で形成されていることから、強度に優れ、また
保護層を設けたことによる感度、鮮鋭性の低下を防ぎ、
なおかつ耐湿性が特に優れているため輝尽層の吸湿によ
る劣化を防ぐことができ、長期間にわたり良好な状態で
使用することができる。The conversion panel of the present invention, since at least a part of the protective layer is formed of glass, it has excellent strength, and also prevents the sensitivity and the sharpness from decreasing due to the provision of the protective layer,
In addition, since the moisture resistance is particularly excellent, it is possible to prevent deterioration of the photostimulable layer due to moisture absorption, and it can be used in a good state for a long period of time.
第1図は、本発明に係る変換パネルの基本的構造を示す
断面図である。 第2図は本発明の実施例に用いられる気相堆積法の中の
一例である電子ビーム加熱蒸着装置の断面概要図であ
る。 第3図は支持体の蒸着素地表面の形状を例示した図であ
る。 第4図は放射線画像変換方法を説明する図である。 11……支持体 12……輝尽性蛍光体層 13a,13b及び14……保護層FIG. 1 is a sectional view showing a basic structure of a conversion panel according to the present invention. FIG. 2 is a schematic sectional view of an electron beam heating vapor deposition apparatus which is an example of the vapor deposition method used in the embodiment of the present invention. FIG. 3 is a diagram illustrating the shape of the surface of the vapor deposition substrate of the support. FIG. 4 is a diagram illustrating a radiation image conversion method. 11 ... Support 12 ... Photostimulable phosphor layer 13a, 13b and 14 ... Protective layer
Claims (1)
の保護層とを構成層として有する放射線画像変換パネル
に於て、前記少くとも一層の保護層を、ガラス粉末を層
状に敷設し焼成してガラス質層とすることを特徴とする
ガラス質保護層を有する放射線画像変換パネルの製造方
法。1. A radiation image conversion panel comprising a stimulable phosphor layer and at least one protective layer as a constituent layer on a support, wherein the at least one protective layer is formed by layering glass powder. A method for producing a radiation image conversion panel having a vitreous protective layer, which comprises laying and firing to form a vitreous layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14424287A JPH077116B2 (en) | 1987-06-09 | 1987-06-09 | Method for manufacturing radiation image conversion panel having vitreous protective layer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14424287A JPH077116B2 (en) | 1987-06-09 | 1987-06-09 | Method for manufacturing radiation image conversion panel having vitreous protective layer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63307399A JPS63307399A (en) | 1988-12-15 |
| JPH077116B2 true JPH077116B2 (en) | 1995-01-30 |
Family
ID=15357548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14424287A Expired - Lifetime JPH077116B2 (en) | 1987-06-09 | 1987-06-09 | Method for manufacturing radiation image conversion panel having vitreous protective layer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH077116B2 (en) |
-
1987
- 1987-06-09 JP JP14424287A patent/JPH077116B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63307399A (en) | 1988-12-15 |
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