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JPH0771665B2 - Evaporative concentration processing equipment for photographic processing waste liquid - Google Patents
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JPH0771665B2 - Evaporative concentration processing equipment for photographic processing waste liquid - Google Patents

Evaporative concentration processing equipment for photographic processing waste liquid

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Publication number
JPH0771665B2
JPH0771665B2 JP19461587A JP19461587A JPH0771665B2 JP H0771665 B2 JPH0771665 B2 JP H0771665B2 JP 19461587 A JP19461587 A JP 19461587A JP 19461587 A JP19461587 A JP 19461587A JP H0771665 B2 JPH0771665 B2 JP H0771665B2
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waste liquid
photographic processing
processing waste
conductive material
tank
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雅行 榑松
重治 小星
伸隆 五嶋
直樹 高林
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は写真処理廃液の蒸発濃縮処理装置に係り、特
に自動現像機による写真感光材料の現像処理に伴い発生
する廃液を業者の回収によらず自動現像機内もしくはそ
の近傍にて処理するのに適した写真処理廃液の蒸発濃縮
処理装置に関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for evaporative concentration of a photographic processing waste liquid, and more particularly, to a waste liquid generated by development processing of a photographic light-sensitive material by an automatic processor, which is collected by a trader. The present invention relates to an apparatus for evaporative concentration of photographic processing waste liquid suitable for processing in or near an automatic processor.

(発明の背景) 一般に、ハロゲン化銀写真感光材料の写真処理は、黒白
感光材料の場合には、現像、定着、水洗等、カラー感光
材料の場合には発色現像、漂白定着(又は漂白、定
着)、水洗、安定化等の工程にて行なわれている。
(Background of the Invention) Generally, photographic processing of a silver halide photographic light-sensitive material is performed by developing, fixing, washing with water in the case of a black-and-white light-sensitive material, and color development, bleach-fixing (or bleach-fixing) in the case of a color light-sensitive material. ), Washing with water, stabilization, etc.

そして、多量の感光材料を処理する写真処理において
は、処理によって消費された成分を補充し一方、処理に
よって処理液中に溶出あるいは蒸発によって濃厚化する
成分(例えば現像液における臭化物イオン、定着液にお
ける銀錯塩等)を除去して処理液成分を一定に保つこと
によって処理液の性能を一定に維持する手段が採られて
おり、補充のために補充液が処理液に補充され、写真処
理における濃厚化成分の除去のために、処理液の一部が
廃棄されている。
In a photographic process for processing a large amount of a light-sensitive material, while a component consumed by the process is replenished, a component that is concentrated by elution or evaporation in the process solution by the process (for example, a bromide ion in a developing solution, a fixing solution in a fixing solution). By removing the silver complex salt etc.) and keeping the components of the processing solution constant, a means to keep the performance of the processing solution constant is adopted. A part of the processing liquid is discarded to remove the chemical components.

近年、現像処理液は水洗水を含めて公害上や経済的理由
から補充の量を大幅に減少させたシステムに変わりつつ
あるが、写真処理廃液は自動現像機の処理槽から廃液管
によって導かれ、水洗水の廃液や自動現像機の冷却水等
で稀釈されて下水道等に廃棄されている。
In recent years, the development processing solution is changing to a system in which the amount of replenishment including washing water is greatly reduced due to pollution and economical reasons, but the photographic processing waste solution is led from the processing tank of the automatic processor by a waste solution pipe. It is diluted with waste water of washing water, cooling water of automatic developing machines, etc. and then disposed of in sewers.

しかしながら、近年、公害規制の強化により、水洗水や
冷却水の下水道や河川への廃棄は可能であるが、これら
以外の写真処理液[例えば、現像液、定着液、発色現像
液、漂白定着液(又は漂白液、定着液)、安定液等]の
廃棄は、実質的に不可能となっている。写真処理廃液の
公害負荷を低減させる公害処理方法としては、例えば、
活性汚泥法(特公昭51−7952号、同51−12943号等)、
蒸発法(特開昭49−89437号、特公昭56−33996号等)、
電解酸化法(特開昭48−84462号、同49−119457号、同4
9−119458号、特公昭53−43478号等)、イオン交換法
(特公昭51−37704号、同53−43271号、特開昭53−383
号等)、逆浸透法(特開昭50−22463号等)、化学的処
理法(特開昭49−64257号、同53−12152号、同49−5883
3号、同53−63763号、特公昭57−37395号、同57−37396
号等)等が知られているが未だ十分ではない。従って、
一般には廃液回収業者によって回収され、二次及び三次
処理され無害化されているが、回収費の高騰により廃液
の引き取り価格は年々高くなるばかりでなく、ミニラボ
等では回収効率は悪いため、なかなか回収に来てもらう
ことができず、廃液が店に充満する等の問題を生じてい
る。
However, in recent years, due to stricter pollution regulations, it is possible to dispose of wash water and cooling water in sewers and rivers, but other photographic processing solutions [eg, developing solution, fixing solution, color developing solution, bleach-fixing solution] (Or bleaching solution, fixing solution), stabilizing solution, etc.] is practically impossible. As a pollution processing method for reducing the pollution load of the photographic processing waste liquid, for example,
Activated sludge method (Japanese Patent Publication No. 51-7952, No. 51-12943, etc.),
Evaporation method (JP-A-49-89437, JP-B-56-33996, etc.),
Electrolytic oxidation method (JP-A Nos. 48-84462, 49-119457 and 4
9-119458, JP-B-53-43478, etc.), ion exchange method (JP-B-51-37704, JP-B-53-43271, JP-A-53-383)
Etc.), reverse osmosis method (JP-A-50-22463 etc.), chemical treatment method (JP-A-49-64257, JP-A-53-12152, JP-A-49-5883).
No. 3, No. 53-63763, No. 57-37395, No. 57-37396
No.) etc. are known, but they are not enough. Therefore,
Generally, waste liquid is collected by a waste liquid collection company, and is secondarily and thirdarily treated to be harmless, but the collection cost of waste liquid not only increases year by year due to soaring collection costs, but collection efficiency is poor at minilabs, etc. There is a problem that the waste liquid fills the store.

一方、これらの問題を解決するために写真処理廃液の処
理をミニラボ等でも容易に行なえることを目的として、
写真処理廃液を加熱して水分を蒸発乾固ないし固化する
ことが研究されており、例えば、実開昭60−70841号等
に示されている。発明者等の研究では写真処理廃液を蒸
発濃縮処理した場合、亜硫酸ガス、硫化水素、アンモニ
アガス等の有害ないし極めて悪臭性のガスが発生し、こ
れは写真処理液の定着液や漂白定着液としてよく用いら
れるチオ硫酸アンモニウムや亜硫酸塩(アンモニウム
塩、ナトリウム塩又はカリウム塩)が高温のため分解す
ることによって発生することがわかった。更に蒸発処理
時には写真処理廃液中の水分等が蒸気となって気体化す
ることにより体積が膨張し、蒸発釜中の圧力が増大す
る。このため、この圧力によって蒸発処理装置から前記
有害ないし悪臭性のガスが装置外部へもれ出してしま
い、作業環境上極めて好ましくないことが起る。更に、
写真処理廃液を蒸発濃縮したときに発生する沈殿物が粘
性を有しており、また処理装置や取り出し手段に付着し
たりして、取り出しに手数を要する等の問題がある。
On the other hand, in order to solve these problems, it is possible to easily process the photographic waste liquid in a minilab, etc.
Studies have been conducted to heat the photographic processing waste liquid to evaporate the water content to dryness or solidification, and for example, it is shown in Japanese Utility Model Publication No. 60-70841. In the research of the inventors, when the photographic processing waste liquid is concentrated by evaporation, harmful or extremely malodorous gas such as sulfurous acid gas, hydrogen sulfide and ammonia gas is generated, which is used as a fixing solution or a bleach-fixing solution for the photographic processing solution. It was found that ammonium thiosulfate and sulfites (ammonium salt, sodium salt or potassium salt), which are often used, are generated by decomposition due to high temperature. Further, during evaporation processing, the water content in the photographic processing waste liquid becomes vapor and is gasified, so that the volume expands and the pressure in the evaporation tank increases. Therefore, this pressure causes the harmful or malodorous gas to leak out of the apparatus from the evaporation processing apparatus, which is extremely unfavorable in the working environment. Furthermore,
There is a problem in that a precipitate generated when the photographic processing waste liquid is evaporated and concentrated has a viscosity and is attached to a processing device or a taking-out means, so that it takes time to take it out.

そこで、これら問題点を解決するために、この発明者等
は種々の研究、実験を行なったところ、写真処理廃液に
導電材料を直接接触させ、この導電材料に電流を流し
て、写真処理廃液を加熱すると、触媒作用や電流の影響
等で蒸発濃縮の際に生じる臭気の発生を抑えることがで
き、しかも蒸発濃縮で沈殿物が粘性のないものに組成が
変化することを見い出した。
Therefore, in order to solve these problems, the inventors of the present invention have conducted various researches and experiments and found that the electrophotographic material is brought into direct contact with a conductive material and an electric current is passed through the electroconductive material to remove the photoprocessing waste solution. It was found that when heated, it is possible to suppress the generation of odors that occur during evaporative concentration due to the effect of catalytic action or electric current, and moreover, the composition changes to a non-viscous precipitate by evaporative concentration.

(発明の目的) この発明は上記従来の問題点に鑑みなされたものであ
り、この発明の第1の目的は写真処理廃液の蒸発濃縮に
よって発生する有害ないし悪臭成分を減少させる写真処
理廃液の蒸発濃縮処理装置を提供することである。この
発明の第2の目的は沈殿の組成を変化させ粘性を軽減
し、処理装置からの取り出しを容易にする写真処理廃液
の蒸発濃縮処理装置を提供することである。
(Object of the Invention) The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and a first object of the present invention is to evaporate a photographic processing waste liquid for reducing harmful or malodorous components generated by evaporative concentration of the photographic processing waste liquid. An object is to provide a concentration processing device. A second object of the present invention is to provide an evaporative concentration processing apparatus for photographic processing waste liquid which changes the composition of the precipitate to reduce the viscosity and facilitates removal from the processing apparatus.

(問題点を解決するための手段) 上記の問題点を解決するために、写真処理廃液を加熱す
ることによって、蒸発濃縮させ、写真処理廃液中の溶質
物を沈殿させる写真処理廃液の蒸発濃縮処理において、
前記写真処理廃液に導電材料を直接接触させ、この導電
材料を電流を流して、前記写真処理廃液を加熱するよう
になしたことを特徴としている。
(Means for Solving Problems) In order to solve the above-mentioned problems, the photographic processing waste liquid is heated to evaporate and condense to precipitate solutes in the photographic processing waste liquid. At
A conductive material is brought into direct contact with the photographic processing waste liquid, and a current is passed through the conductive material to heat the photographic processing waste liquid.

この発明の効果は写真処理廃液中に存在するチオ硫酸ア
ンモニウム及び亜硫酸アンモニウムあるいはそれぞれの
ナトリウム塩、カリウム塩を加熱、蒸発することに起因
して生じるアンモニアガス、亜硫酸ガスを防止しながら
沈殿させると共に、沈殿物の組成を変化させ容易に取り
出せるものにすることである。
The effect of the present invention is to prevent precipitation of ammonia gas and sulfurous acid gas caused by heating and evaporating ammonium thiosulfate and ammonium sulfite or their respective sodium salts and potassium salts present in the photographic processing waste liquid, and to prevent precipitation. It is to change the composition of the product so that it can be taken out easily.

この発明者等は先に写真処理廃液を加熱して蒸発濃縮さ
せ、濃縮された比重の重い液は下部に下がり、上部は稀
薄な廃液となって熱分解による臭気やガス発生が著しく
抑えられることを提案したが、その後上記方式をさらに
検討した結果、写真処理廃液に導電材料を直接接触させ
ると、導電材料の表面が部分的に高温となって触媒作用
が生じ、或いは導電材料から写真処理廃液中に電流が流
れて、この部分に特殊なイオンが集まって反応し、熱分
解による臭気やガスの発生が抑えられ、かつ沈殿物が粘
性のないものに組成が変化することを見い出した。これ
は、例えばアンモニアガスが窒素と水に分解し、或いは
チオ硫酸が硫酸まで分解して亜硫酸ガスが生じなくな
り、また蒸発濃縮で沈殿が生じる際に、今まではチオ硫
酸がそのまま濃縮され沈殿していたが、硫酸にまで分解
して沈殿するためと考えられる。これにより、蒸発濃縮
時の臭気を軽減でき、かつ沈殿が処理装置に付着しなく
なって、取り出しが容易になる。
The inventors of the present invention firstly heat and evaporate and concentrate the photographic processing waste liquid, the concentrated heavy liquid falls to the lower part, and the upper part becomes a dilute waste liquid, and odor and gas generation due to thermal decomposition are significantly suppressed. However, as a result of further studying the above method, when the conductive material was brought into direct contact with the photographic processing waste liquid, the surface of the conductive material was partially heated to cause a catalytic action, or the photographic processing waste liquid was discharged from the conductive material. It was found that when an electric current flows through it, special ions gather and react in this area, the generation of odor and gas due to thermal decomposition is suppressed, and the composition of the precipitate changes to a non-viscous one. This is because, for example, when ammonia gas decomposes into nitrogen and water, or thiosulfuric acid decomposes to sulfuric acid and sulfurous acid gas does not occur, and when precipitation occurs by evaporative concentration, thiosulfuric acid has been concentrated and precipitated until now. However, it is thought that it is decomposed into sulfuric acid and precipitates. As a result, the odor at the time of evaporative concentration can be reduced, and the precipitate does not adhere to the processing device, which facilitates removal.

この発明の導電材料としては、例えば次のものが用いら
れる。
As the conductive material of the present invention, for example, the following materials are used.

(1)ニッケルクロム 例えば、ニッケル50〜80%、クロム10〜30%、マンガン
3%以下、炭素1%以下、シリコン0.5%以下、残りが
鉄で構成される。
(1) Nickel chrome For example, nickel 50 to 80%, chromium 10 to 30%, manganese 3% or less, carbon 1% or less, silicon 0.5% or less, and the balance iron.

(2)鉄クロム 例えば、クロム15〜30%、アルミニウム2〜6%、マン
ガン2%以下、炭素0.5%以下、残りが鉄で構成され
る。
(2) Iron Chromium For example, chromium is 15 to 30%, aluminum is 2 to 6%, manganese is 2% or less, carbon is 0.5% or less, and the rest is iron.

この発明の導電材料として、さらに好ましく次のものが
用いられる。
The following are more preferably used as the conductive material of the present invention.

(1)単結晶シリコン(Si) (2)多結晶シリコン(Si) (3)チッ化タンタル(Ta2N) (4)タンタル−シリカ(Ta−SiO2) (5)チッ化ジルコニウム(ZrN) (6)チッ化チタン(TiN) (7)クロム−ケイ素−酸素(Cr−Si−O) (8)SiC単独でもよいし、SiC−Zr、SiC−Cr、SiC−H
f、SiC−Ti、SiC−W、SiC−Nb、SiC−Ta、SiC−Laでも
よい。
(1) Single crystal silicon (Si) (2) Polycrystalline silicon (Si) (3) Tantalum nitride (Ta 2 N) (4) Tantalum-silica (Ta-SiO 2 ) (5) Zirconium nitride (ZrN) (6) Titanium nitride (TiN) (7) Chromium-silicon-oxygen (Cr-Si-O) (8) SiC may be used alone, or SiC-Zr, SiC-Cr, SiC-H.
It may be f, SiC-Ti, SiC-W, SiC-Nb, SiC-Ta, or SiC-La.

(9)ボロン(B)とLa、Cr、Ti、Na、Ta、W、Vとの
化合物 (10)カーボン単独でもよいし、カーボンとハロゲン、
Si、Ge、Hとの化合物でもよい。
(9) Compound of boron (B) and La, Cr, Ti, Na, Ta, W, V (10) Carbon may be used alone, carbon and halogen,
A compound with Si, Ge or H may be used.

(11)白金(Pt) (12)モリブデン単独でもよいし、モリブデンとSiとの
化合物でもよい。
(11) Platinum (Pt) (12) Molybdenum alone or a compound of molybdenum and Si may be used.

さらに、(1)〜(12)はそれぞれ単独で用いてもよ
く、またこれらの中で任意なものを選択して併用、或い
は混合しても用いてもよい。
Furthermore, each of (1) to (12) may be used alone, or any one of them may be selected and used in combination or mixed.

この発明の導電材料は前記のような抵抗材料又は半導体
材料で構成され、少なくとも一部が被覆されていないも
のが用いられる。また、その形状は導電材料の抵抗率、
物性等に応じて種々のものが採用され、例えば線状のも
のを用いてもよく、この場合はコイル状に1重或いは複
数回巻き、その他の種々の形状に巻かれる。
The conductive material of the present invention is composed of the above-mentioned resistance material or semiconductor material, and at least a part thereof is not coated. In addition, the shape is the resistivity of the conductive material,
Various types are adopted depending on the physical properties and the like, and for example, a linear type may be used. In this case, the coil may be wound in a single or multiple turns, or in various other shapes.

また、導電材料は棒状のものを1本或いは多数本並べて
用いてもよく、さらに板状のものを1枚或いは複数枚で
構成するようにし、或いは板状のものをロール巻にして
用いてもよい。
In addition, one or a large number of rod-shaped conductive materials may be arranged and used, or one or a plurality of plate-shaped conductive materials may be used, or the plate-shaped material may be used by rolling. Good.

これらの導電材料は、写真処理廃液中に縦にして、或い
は横にして浸漬する。
These conductive materials are dipped vertically or horizontally in the photoprocessing waste liquid.

さらに、網状容器の電極の中に、例えば半導体材料から
なる導電材料を入れて、この導電材料の中に棒状に電極
を入れて電流を流すようにしてもよい。また、複数のロ
ール状の電極を用い、この電極の間に導電材料を入れて
電流を流すようにしてもよく、さらに板状の電極を複数
所定間隔で配置し、この電極の間に導電材料を配置して
もよく、また導電材料の両端に電極を設けて電流を流す
ようにしてもよい。
Further, a conductive material made of, for example, a semiconductor material may be put in the electrode of the net-like container, and the electrode may be put in a rod shape in the conductive material so that an electric current may flow. Alternatively, a plurality of roll-shaped electrodes may be used, and a conductive material may be inserted between the electrodes to flow an electric current. Further, a plurality of plate-shaped electrodes may be arranged at predetermined intervals, and the conductive material may be interposed between the electrodes. May be disposed, or electrodes may be provided at both ends of the conductive material so that a current may flow.

そして、これらの導電材料は写真処理廃液に、全部浸漬
しても、略半分程度或いは少量部分を浸漬してもよく、
導電材料の形状や物性によって任意に選択される。
Then, these conductive materials may be entirely immersed in the photographic processing waste liquid, or approximately half or a small amount thereof may be immersed.
It is arbitrarily selected depending on the shape and physical properties of the conductive material.

この発明の導電材料の抵抗は好ましくは0.01Ωから1000
Ωの範囲に、より好ましくは0.01Ωから100Ωの範囲、
さらに好ましくは0.1Ωから100Ωの範囲で設定される。
この導電材料には所定の発熱量を得るように電流量が、
前記のように導電材料の物性や形態によって決定され
る。この電源としては整流器を備えることにより、AC電
源またはDC電源が用いられる。また、電流電圧調整器に
よって、用いられる導電材料に応じて、印加される電流
電圧値が調整される。
The resistance of the conductive material of this invention is preferably 0.01 Ω to 1000
In the range of Ω, more preferably in the range of 0.01Ω to 100Ω,
More preferably, it is set in the range of 0.1Ω to 100Ω.
This conductive material has a current amount of
As described above, it is determined by the physical properties and morphology of the conductive material. As the power source, an AC power source or a DC power source is used by providing a rectifier. Further, the current-voltage regulator adjusts the applied current-voltage value according to the conductive material used.

この導電材料から写真処理廃液中に流れる電流量は、好
ましは1mA/から100A/の範囲、より好ましくは10mA/
から10A/の範囲に設定される。また、この導電材料
で加熱される温度は写真処理廃液の種類、減圧状態等に
よって異なり、いちがいには決められないが、一般的に
は30℃〜120℃がよく、エネルギーコスト、廃液の処理
スピード等を考慮すると40℃〜80℃が好ましく、より好
ましくは50℃〜70℃である。
The amount of current flowing from this conductive material into the photographic processing waste liquid is preferably in the range of 1 mA / to 100 A /, more preferably 10 mA /
It is set in the range of 10A /. Also, the temperature to be heated by this conductive material depends on the type of photographic processing waste liquid, the reduced pressure state, etc. and cannot be determined in any way, but generally 30 ° C to 120 ° C is good, energy cost, waste liquid processing speed, etc. Considering the above, 40 ° C to 80 ° C is preferable, and 50 ° C to 70 ° C is more preferable.

さらに、この発明は蒸発釜の下部に自然に沈殿するた
め、好ましい例としては蒸発釜の下部から連続的に沈殿
物を取り出すことにより、上部から写真処理廃液を自動
的に供給することができ、半永久的に連続蒸発処理を行
なうことができる。
Further, since the present invention spontaneously precipitates in the lower part of the evaporation tank, as a preferred example, by continuously taking out the precipitate from the lower part of the evaporation tank, the photographic processing waste liquid can be automatically supplied from the upper part, A continuous evaporation process can be performed semipermanently.

連続的に沈殿物を取り出す方法はエンドレスベルトによ
っても良く、回転するスパイラル筒で取り出しても良
く、いかなる方法を用いることもできる。
As a method for continuously taking out the precipitate, an endless belt may be used, or a rotating spiral tube may be used, and any method may be used.

一般には一定量の写真処理廃液を処理した後にバッチ方
式により蒸発釜底部の沈殿物を取り出すことが望まし
い。また、蒸発釜の下部は温度が低いため、沈殿物を運
転中に取り出しても危険がなく、かつ異臭や有害ガスの
発生がなく、極めて安全に運転することができる。
In general, it is desirable to remove the precipitate at the bottom of the evaporator by a batch method after processing a certain amount of photographic processing waste liquid. Further, since the temperature of the lower part of the evaporator is low, even if the precipitate is taken out during operation, there is no danger, and there is no offensive odor or harmful gas, and it is possible to operate extremely safely.

この発明の好ましい適用例としては、自動現像機による
写真感光材料の現像処理に伴い発生する写真処理廃液を
自動現像機内もしくはその近傍にて処理を行なうのに適
している。ここで自動現像機、蒸発濃縮処理装置及び写
真処理廃液について説明する。
As a preferred application example of the present invention, it is suitable for processing a photographic processing waste liquid generated during the development processing of a photographic light-sensitive material by an automatic processor in or near the automatic processor. Here, the automatic processor, the evaporative concentration processing device, and the photographic processing waste liquid will be described.

(1)自動現像機及び蒸発濃縮処理装置 第1図において自動現像機は符号100で示され、蒸発濃
縮処理装置は符号1で示される。図示の自動現像機100
はロール状の写真感光材料Fを、発色現像槽CD、漂白定
着槽BF、安定化処理槽SDに連続的に案内して写真処理
し、乾燥D後、巻き取る方式のものである。101は補充
液タンクであり、センサ102により写真感光材料Fの写
真処理量を検知し、その検出情報に従い制御装置103に
より各処理槽に補充液の補充が行なわれる。
(1) Automatic Developing Machine and Evaporative Concentration Processing Apparatus In FIG. 1, an automatic developing machine is indicated by reference numeral 100, and an evaporative concentration processing apparatus is indicated by reference numeral 1. The illustrated automatic processor 100
Is a system in which a roll-shaped photographic light-sensitive material F is continuously guided to a color developing tank CD, a bleach-fixing tank BF, and a stabilization processing tank SD for photographic processing, dried D, and then wound up. Reference numeral 101 is a replenisher tank, in which the sensor 102 detects the amount of photographic processing of the photographic photosensitive material F, and the replenisher is replenished in each processing tank by the control device 103 according to the detection information.

各写真処理槽に対し補充液の補充が行なわれるとオーバ
ーフロー廃液として処理槽から排出され、ストックタン
ク104に集められる。オーバーフローした写真処理廃液
をストックタンク104に移す手段としては、案内管を通
して自然落下させるのが簡易の方法である。ポンプ等よ
り強制移送する場合もあり得る。
When the replenisher is replenished in each photographic processing tank, it is discharged from the processing tank as overflow waste liquid and collected in the stock tank 104. As a means for transferring the overflowed photographic processing waste liquid to the stock tank 104, a simple method is to drop it naturally through a guide tube. In some cases, forced transfer may be performed using a pump or the like.

蒸発濃縮処理装置1は写真処理廃液を溜める蒸発釜2、
写真処理廃液を加熱すると共に電流を流す導電材料3、
写真処理廃液の蒸発濃縮が進むにつれて発生する沈殿物
4を排出する排出手段5、蒸気の冷却手段6及び減圧手
段7等から構成されている。この排出手段5から排出さ
れる沈殿物4は沈殿貯溜容器8に溜められ、また減圧手
段7で減圧された凝縮液は凝縮液貯槽9に溜められる。
この凝集液貯槽9には例えばフィルター、吸着剤等によ
るガス吸着手段10を付加することができる。導電材料3
として前記した抵抗材料及び半導体材料が用いられ、蒸
発釜2の写真処理廃液の上部に、その全部が浸漬するよ
うにして配置されている。この導電材料3は配線を介し
て電圧電流調整器90に接続され、この電圧電流調整器90
は商用電源91に接続され、制御装置103によって導電材
料3に応じて所定の熱量を得るように制御される。導電
材料3は写真処理廃液を加熱すると共に、この導電材料
3が直接写真処理廃液と接触しているため液中に電流が
流れる。これにより、触媒作用及び特殊な反応が起こ
り、蒸発濃縮時の臭気を軽減する。また、沈殿物4の組
成が変化して、粘性が小さくなるため、沈殿物4が蒸発
釜2内に付着することが軽減され、取り出しが容易にな
る。なお、電材料3の電源として商用電源を用いると、
特別の電源を用意する必要がないので好ましい。
The evaporative concentration processing apparatus 1 includes an evaporating pot 2 for storing a photographic processing waste liquid,
Conductive material 3 which heats the photographic processing waste liquid and sends an electric current therethrough,
It is composed of a discharging means 5 for discharging a precipitate 4 generated as the photographic processing waste liquid evaporates and concentrates, a vapor cooling means 6, a pressure reducing means 7 and the like. The precipitate 4 discharged from the discharging means 5 is stored in the precipitation storage container 8, and the condensate depressurized by the depressurizing means 7 is stored in the condensate storage tank 9.
A gas adsorbing means 10 such as a filter or an adsorbent can be added to the aggregate liquid storage tank 9. Conductive material 3
The above-mentioned resistance material and semiconductor material are used as the above, and they are arranged so as to be entirely immersed in the upper portion of the photographic processing waste liquid in the evaporation tank 2. The conductive material 3 is connected to the voltage / current regulator 90 via wiring, and the voltage / current regulator 90 is connected to the voltage / current regulator 90.
Is connected to a commercial power source 91, and is controlled by the control device 103 so as to obtain a predetermined amount of heat according to the conductive material 3. The conductive material 3 heats the photographic processing waste liquid, and an electric current flows in the liquid because the conductive material 3 is in direct contact with the photographic processing waste liquid. As a result, a catalytic action and a special reaction occur to reduce the odor during evaporative concentration. Moreover, since the composition of the precipitate 4 changes and the viscosity becomes smaller, the adhesion of the precipitate 4 in the evaporation pot 2 is reduced, and the precipitate 4 is easily taken out. If a commercial power source is used as the power source for the electric material 3,
It is preferable because there is no need to prepare a special power source.

排出手段5としては回転スクリューポンプを利用した公
知の排出装置や蒸発釜2の底部からバルブを介して写真
処理廃液の濃縮液を吸液性樹脂、固化剤の1又は2以上
を有する容器中に自然落下させ、固形化させるもの等様
々に設計することができる。
As the discharging means 5, a known discharging device using a rotary screw pump or a concentrated solution of the photographic processing waste liquid is introduced into a container having one or more of a liquid absorbing resin and a solidifying agent from the bottom of the evaporator 2 through a valve. It can be designed in various ways such as being naturally dropped and solidified.

ストックタンク104内の写真処理廃液の量並びに温度は
センサ105により検出され、その情報は制御装置103に記
憶され、ストックタンク104内の写真処理廃液が満杯状
態にあることが検出されると、新たに写真処理廃液が排
出されないように補充液の補充が禁止されるか、或いは
ポンプ106を駆動してストックタンク104から写真処理廃
液を蒸発釜2に供給する。誤動作を防止するにはストッ
クタンク104の容量に余裕を持たせたり、或いは複数の
ストックタンクないし予備タンクを配備しておくのが好
ましい。また、写真処理液を一括処理せず、写真処理廃
液の種別に従って別々に処理する方式のものにおいては
ストックタンク104毎に液量温度等の検出が行なわれ
る。
The amount and temperature of the photoprocessing waste liquid in the stock tank 104 is detected by the sensor 105, the information is stored in the control device 103, and when it is detected that the photoprocessing waste liquid in the stock tank 104 is full, Replenishment of the replenisher is prohibited so that the photoprocessing waste liquid is not discharged, or the pump 106 is driven to supply the photoprocessing waste liquid from the stock tank 104 to the evaporation tank 2. In order to prevent malfunction, it is preferable that the stock tank 104 has a sufficient capacity, or a plurality of stock tanks or spare tanks are provided. Further, in a system in which the photographic processing liquid is not collectively processed but is separately processed according to the type of the photographic processing waste liquid, the liquid temperature and the like are detected for each stock tank 104.

なお、ストックタンク104内の写真処理廃液の温度検出
は、後記する蒸発濃縮処理装置1の作動制御、特に加熱
温度の制御のための写真処理廃液の情報として重要であ
る。
The temperature detection of the photographic processing waste liquid in the stock tank 104 is important as information of the photographic processing waste liquid for the operation control of the evaporative concentration processing apparatus 1 described later, particularly for controlling the heating temperature.

ストックタンク104から蒸発濃縮処理装置1への写真処
理廃液の供給は、定量ずつ1度に供給する方式と、定量
ずつないし可変量を連続的に供給する方式とがある。前
者の場合、センサ105によりストックタンク104内の写真
処理廃液の減少量及び又はセンサ11による蒸発釜2内の
写真処理廃液の検出情報に従ってストックタンク104か
ら蒸発濃縮処理装置1への供給を制御する。なお、この
場合ストックタンク104から蒸発濃縮処理装置1への廃
液供給管に設けられた流量計による検出情報に従って制
御するようにしてもよい。
The supply of the photographic processing waste liquid from the stock tank 104 to the evaporative concentration processing apparatus 1 includes a method in which a fixed amount is supplied once and a method in which a fixed amount or a variable amount is continuously supplied. In the former case, the supply from the stock tank 104 to the evaporative concentration processing apparatus 1 is controlled according to the reduction amount of the photographic processing waste liquid in the stock tank 104 by the sensor 105 and / or the detection information of the photographic processing waste liquid in the evaporation tank 2 by the sensor 11. . In this case, the control may be performed according to the detection information by the flow meter provided in the waste liquid supply pipe from the stock tank 104 to the evaporative concentration processing apparatus 1.

定量ずつないし可変量を連続的に供給する方式の場合、
供給する写真処理廃液の温度蒸発濃縮処理装置1の導電
材料3ないし蒸発釜2の温度に従い供給する写真処理廃
液の量を調整する。また供給する写真処理廃液量を常に
一定とし、蒸発濃縮処理装置1内の写真処理廃液量をセ
ンサ11によって検出し、その量により導電材料3による
加熱温度を上昇ないし下降すべく制御するか、又は加熱
時間を増減制御するようにしてもよい。
In the case of a system that supplies a fixed amount or a variable amount continuously,
Temperature of supplied photographic processing waste liquid The amount of supplied photographic processing waste liquid is adjusted according to the temperature of the conductive material 3 or the evaporator 2 of the evaporative concentration processing apparatus 1. Further, the amount of the photoprocessing waste liquid to be supplied is always kept constant, and the amount of the photoprocessing waste liquid in the evaporative concentration processing apparatus 1 is detected by the sensor 11, and the heating temperature of the conductive material 3 is controlled to increase or decrease by the amount, or The heating time may be controlled to increase or decrease.

蒸発濃縮処理装置1の制御は供給する写真処理廃液の量
と処理された写真処理廃液の量の差、或いは残留してい
る写真処理廃液の量ないし処理され濃縮された写真処理
廃液の量に従って行なわれる。
The evaporative concentration processing apparatus 1 is controlled according to the difference between the amount of the supplied photographic processing waste liquid and the amount of the processed photographic processing waste liquid, or the amount of the remaining photographic processing waste liquid or the amount of the processed concentrated photographic processing waste liquid. Be done.

なお、写真処理廃液を一定量ずつ1度に蒸発濃度処理装
置1に供給する方式のものにおいては、供給される写真
処理廃液の温度と導電材料3ないし蒸発釜2の温度とが
検出されていれば処理時間を制御することにより蒸発濃
縮処理装置1の作動を制御することができる。
In the system of supplying a fixed amount of photographic processing waste liquid to the evaporation concentration processing device 1 at a time, the temperature of the supplied photographic processing waste liquid and the temperature of the conductive material 3 or the evaporation pot 2 are detected. For example, the operation of the evaporative concentration treatment apparatus 1 can be controlled by controlling the treatment time.

また、以上のごとく多様な事項によって写真処理廃液の
供給、処理(蒸発、濃縮)、排出が制御されるが、これ
に対応して時間、粘度、圧力、液面レベル、濃度、電気
抵抗、重量等を検出する様々なセンサ11等が用いられ、
かつセンサ11等の取付け位置も多様である。
In addition, the supply, processing (evaporation, concentration), and discharge of the photographic processing waste liquid are controlled by various items as described above, and correspondingly, time, viscosity, pressure, liquid level, concentration, electric resistance, weight Various sensors 11 etc. that detect etc. are used,
Moreover, the mounting positions of the sensor 11 and the like are various.

写真処理廃液 この発明により処理を行なうことができる写真処理廃液
は、その代表例として、ハロゲン化銀カラー写真材料を
処理する際に出る廃液があげられるが、本発明により処
理を行なうことができる写真処理廃液はこれに限定され
るものではなく、他のハロゲン化銀カラー写真材料を処
理する際に出る廃液も包含される。
Photographic processing waste liquid The photographic processing waste liquid which can be processed according to the present invention includes, as a representative example thereof, the waste liquid which appears during processing of a silver halide color photographic material. The processing effluent is not limited to this, and includes the effluent discharged when processing other silver halide color photographic materials.

(実施例) 第2図はこの発明をさらに具体的に示す実施例の概略図
である。蒸発濃縮処理装置の蒸発釜2の内部には導電材
料3が設けられ、電圧電流調整器90を介して商用電源91
と接続している。この導電材料3の上方には上限液面レ
ベルセンサ12と下限液面レベルセンサ13が設けられ、蒸
発釜2の空たきを防止している。また蒸発釜2の上部に
は電磁弁14を有する廃液供給管15が設けられ、電磁弁14
の作動によって廃液貯槽16から写真処理廃液が蒸発釜2
に供給される。この廃液貯槽16には写真処理廃液の残量
を検出する液面レベルセンサ17が設けられ、液量情報を
制御装置103に入力する。
(Embodiment) FIG. 2 is a schematic view of an embodiment showing the present invention more specifically. A conductive material 3 is provided inside the evaporation pot 2 of the evaporation concentration processing apparatus, and a commercial power source 91 is provided via a voltage / current regulator 90.
Connected with. An upper limit liquid level sensor 12 and a lower limit liquid level sensor 13 are provided above the conductive material 3 to prevent the evaporation tank 2 from emptying. Further, a waste liquid supply pipe 15 having a solenoid valve 14 is provided above the evaporation tank 2, and the solenoid valve 14
The photoprocessing waste liquid from the waste liquid storage tank 16 is evaporated by the operation of
Is supplied to. The waste liquid storage tank 16 is provided with a liquid level sensor 17 for detecting the remaining amount of the photographic processing waste liquid, and inputs the liquid amount information to the control device 103.

また、蒸発釜2の上部には減圧解除のための電磁弁18が
設けられ、さらに蒸発釜2の上部には蒸気排出管19が接
続され、この蒸気排出管19に凝縮器20が設けられ、冷凍
機21によって冷却された水が循環するようになってい
る。凝縮器20からは凝縮液導入管22によって、凝縮液が
蒸気の一部と共にエジェクター23に導入され、その後凝
縮液補助貯槽24に貯溜される。この凝縮液補助貯槽24の
凝縮液はポンプ25の作動で循環パイプ26を介して循環す
る。この凝縮液補助貯槽24からオーバーフローする凝縮
液は凝縮液貯槽27に貯溜される。また、前記蒸発釜2の
下部には電磁弁28を有する排出管29が接続され、この電
磁弁28の作動で写真処理廃液の濃縮による沈殿物4の沈
殿受け槽30に排出するようになっている。
Further, a solenoid valve 18 for releasing the reduced pressure is provided on the upper portion of the evaporation tank 2, a steam discharge pipe 19 is connected to the upper portion of the evaporation tank 2, and a condenser 20 is provided on the steam discharge pipe 19. The water cooled by the refrigerator 21 is circulated. The condensate is introduced from the condenser 20 through the condensate introduction pipe 22 into the ejector 23 together with a part of the vapor, and then stored in the condensate auxiliary storage tank 24. The condensate in the condensate auxiliary storage tank 24 is circulated through the circulation pipe 26 by the operation of the pump 25. The condensed liquid overflowing from the condensed liquid auxiliary storage tank 24 is stored in the condensed liquid storage tank 27. Further, a discharge pipe 29 having an electromagnetic valve 28 is connected to the lower portion of the evaporation tank 2, and the operation of the electromagnetic valve 28 discharges the sediment 4 of the photographic processing waste liquid to a precipitation receiving tank 30 by concentration. There is.

この装置を用いて加熱・蒸発処理するプロセスの概略を
説明すると、廃液貯槽16に溜められた写真処理廃液は廃
液供給管15を介して蒸発釜2に上限液面レベルセンサ12
で検出されるまで供給される。蒸発釜2中の写真処理廃
液は導電材料3によって加熱され蒸発濃縮するが、下限
液面レベルセンサ13で検出されるまで液面が低下したと
ころで、再び上限液面レベルセンサ12の位置まで廃液が
供給される。蒸発した蒸気は蒸気排出管19を介して凝縮
器20に送られて冷却され、その後凝縮液と蒸気とが凝縮
液導入管22からエジェクター23に導入され、凝縮液補助
貯槽24に一旦貯溜される。この貯溜された凝縮液はさら
にポンプ25の駆動によって循環パイプ26を介してエジェ
クター23に送られ、これにより蒸発釜2中を減圧状態に
する。
An outline of the process of heating / evaporating using this device will be described. The photographic processing waste liquid stored in the waste liquid storage tank 16 is transferred to the evaporation tank 2 via the waste liquid supply pipe 15 and the upper limit liquid level sensor 12
Supplied until detected at. The photographic processing waste liquid in the evaporator 2 is heated and evaporated and concentrated by the conductive material 3, but when the liquid level is lowered until it is detected by the lower limit liquid level sensor 13, the waste liquid is again returned to the position of the upper limit liquid level sensor 12. Supplied. The vaporized vapor is sent to the condenser 20 via the vapor discharge pipe 19 and cooled, and then the condensate and the vapor are introduced from the condensate introduction pipe 22 to the ejector 23 and temporarily stored in the condensate auxiliary storage tank 24. . The stored condensate is further sent to the ejector 23 via the circulation pipe 26 by the drive of the pump 25, whereby the inside of the evaporation tank 2 is depressurized.

一方、濃縮が進むにつれて、発生した沈殿物4は蒸発釜
2に沈積し、蒸発釜2中の写真処理廃液と交換するが、
廃液貯槽16中の液面レベルセンサ17によって廃液がなく
なったことが検知され、警告ブザーや警告ランプ等の手
段によって報知されると同時に導電材料3の電源が切れ
る。また同時に電磁弁28が開き、これにより沈殿物4が
沈殿受け槽30に落下する。
On the other hand, as the concentration proceeds, the generated precipitate 4 is deposited in the evaporation tank 2 and replaced with the photographic processing waste liquid in the evaporation tank 2,
The liquid level sensor 17 in the waste liquid storage tank 16 detects that the waste liquid is exhausted, and the power of the conductive material 3 is turned off at the same time when a warning buzzer, a warning lamp or the like is notified. At the same time, the solenoid valve 28 is opened, whereby the precipitate 4 falls into the precipitation receiving tank 30.

この発明の処理装置の蒸発釜2の種々の形状はこの出願
人が先に出願した特願昭61−288328号の明細書及び図面
の第2図乃至第8図に、また種々の沈殿を取り出す方法
は同じく第9図乃至第12図に、さらに連続して写真処理
廃液を供給する方法は同じく第13図に示されている。
Various shapes of the evaporator 2 of the processing apparatus of the present invention are shown in the specification of Japanese Patent Application No. 61-288328 previously filed by the applicant and FIGS. 2 to 8 of the drawings, and various precipitates are taken out. The method is also shown in FIGS. 9 to 12, and the method for continuously supplying the photographic processing waste liquid is also shown in FIG.

また、この発明の他の実施例を第3図乃至第5図に示
す。
Another embodiment of the present invention is shown in FIGS.

第3図は蒸発釜2をエジェクター23で減圧した後、凝縮
液補助貯槽24に導入するものであり、さらに空気送りポ
ンプ31とガスパージャー32とを備え、凝縮液をエアレー
ションして凝縮液の還元成分を酸化する。また、凝縮液
補助貯槽24には安全性の観点から臭気ガスの排出を防止
するガス吸着剤33が備えられ、さらに蒸発釜2内の写真
処理廃液には薬液供給タンク35から薬液が供給される。
In FIG. 3, the evaporating vessel 2 is decompressed by the ejector 23 and then introduced into the condensate auxiliary storage tank 24. Further, an air feed pump 31 and a gas purger 32 are provided, and the condensate is aerated to reduce the condensate. Oxidizes the ingredients. Further, the condensate liquid auxiliary storage tank 24 is provided with a gas adsorbent 33 for preventing the discharge of odorous gas from the viewpoint of safety, and further, the chemical liquid is supplied from the chemical liquid supply tank 35 to the photographic processing waste liquid in the evaporation tank 2. .

この実施例では導電材料3はニッケルクロム線をコイル
状にして用いられ、電圧電流調整器90を介して図示しな
い電源に接続されている。
In this embodiment, the conductive material 3 is made of a nickel chrome wire in a coil shape and is connected to a power source (not shown) via a voltage / current regulator 90.

第4図は蒸発釜2内に取り付けたバック36に写真処理廃
液がダイヤフラムポンプ37の作動で供給され、この蒸発
釜2内は凝縮液貯槽27に設けた真空ポンプ38の作動で減
圧される。蒸発釜2から凝縮液貯槽27に導かれる凝縮液
は蒸気排出管19の冷却部に配置された冷却ファン39で冷
却される。
In FIG. 4, the photographic processing waste liquid is supplied to the bag 36 installed in the evaporation tank 2 by the operation of the diaphragm pump 37, and the inside of the evaporation tank 2 is depressurized by the operation of the vacuum pump 38 provided in the condensate storage tank 27. The condensate introduced from the evaporation tank 2 to the condensate storage tank 27 is cooled by the cooling fan 39 arranged in the cooling section of the steam discharge pipe 19.

第5図は凝縮液補助貯槽24と凝縮液貯槽27とをポンプ40
を介して連結したもので、ポンプ40の駆動で凝縮液補助
貯槽24の凝縮液を微小量高圧で凝縮液貯槽27に送る。
FIG. 5 shows a pump 40 for the condensate auxiliary storage tank 24 and the condensate storage tank 27.
Driven by the pump 40, the condensate in the condensate supplementary storage tank 24 is sent to the condensate storage tank 27 with a small amount of high pressure.

この発明の導電材料3は導電材料の抵抗率、物性等に応
じて種々のものが採用され、この一例を第6図から第14
図に示す。
As the conductive material 3 of the present invention, various materials are adopted according to the resistivity, physical properties, etc. of the conductive material. One example of this is shown in FIGS.
Shown in the figure.

第6図から第8図は、例えば線状のニッケルクロムを用
い、第6図及び第7図ははコイル状に巻いたもので、第
6図は写真処理廃液中に横にし、第7図は縦にして配置
されている。第8図は同様に線状のニッケルクロムを2
重にして巻いたものを縦にして配置されている。
FIGS. 6 to 8 use, for example, linear nickel chrome, FIGS. 6 and 7 are wound in a coil shape, and FIG. Are arranged vertically. Similarly, FIG. 8 shows the linear nickel chrome
It is arranged vertically with the layers rolled up.

第9図は網状容器の電極3aの中に半導体材料の導電材料
3を入れ、この導電材料3の中に配置された棒状の電極
3bとの間に電流を流すようにしている。
FIG. 9 shows a rod-shaped electrode in which a conductive material 3 which is a semiconductor material is put in the electrode 3a of a net-like container and which is placed in the conductive material 3.
I am trying to send an electric current between 3b.

第10図は導電材料3が棒状に形成され、これを水平方向
へ多数所定の間隔を隔てて配置したものであり、第11図
は板状のものを支持枠3cで複数枚接続するようにして、
垂直方向へ配置したものである。
FIG. 10 shows the conductive material 3 formed in the shape of a bar and arranged in the horizontal direction at a large number with a predetermined interval. In FIG. 11, a plurality of plate-shaped materials are connected by a support frame 3c. hand,
It is arranged vertically.

第12図は板状のものをロール巻にして用いたもので、第
13図は複数のロール状の電極を用い、この電極の間に導
電材料3を入れて電流を流すようにしたものであり、第
14図は板状の電極を複数所定間隔で配置し、この電極の
間に導電材料3を配置したものである。
Fig. 12 shows a plate-shaped material that is rolled and used.
FIG. 13 shows a structure in which a plurality of roll-shaped electrodes are used, and a conductive material 3 is inserted between the electrodes so that an electric current flows.
In FIG. 14, a plurality of plate electrodes are arranged at a predetermined interval, and the conductive material 3 is arranged between the electrodes.

そして、これらの導電材料は第15図から第17図に示すよ
うに写真処理廃液に、全部浸漬しても(第16図)、略半
分程度(第15図)或いは少量部分(第17図)を浸漬して
もよく、これらは導電材料3の形状や物性によって任意
に選択される。
Then, as shown in FIGS. 15 to 17, even if the conductive materials are completely immersed in the photographic processing waste liquid (FIG. 16), about half (FIG. 15) or a small amount of the conductive material (FIG. 17). May be dipped, and these are arbitrarily selected depending on the shape and physical properties of the conductive material 3.

[実施例] MPS処理システムペーパー用自動現像機RP−800(小西六
写真工業株式会社製)を使用し、市販のカラー写真用ペ
ーパー(小西六写真工業株式会社製)を絵焼き後、次の
処理工程と処理液を使用して連続処理を行なった。
[Example] MPS processing system Using an automatic processor for paper RP-800 (manufactured by Konishi Roku Photo Industry Co., Ltd.), after printing commercially available color photo paper (manufactured by Konishi Roku Photo Industry Co., Ltd.), Continuous processing was performed using the processing steps and processing solutions.

基準処理工程 (1)発色現象 40℃ 3分 (2)漂白定着 38℃ 1分30秒 (3)安定化処理 25℃〜35℃ 3分 (4)乾燥 75℃〜100℃ 約2分 処理液組成 [発色現像タンク液] エチレングリコール 15ml 亜硫酸カリウム 2.0g 臭化カリウム 1.3g 塩化ナトリウム 0.2g 炭酸カリウム 24.0g 3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N−(β−メタ
ンスルホンアミドエチル)アニリン硫酸塩 5.5g 蛍光増白剤(4,4′−ジアミノスチルベンジルスルホン
酸誘導体) 1.0g ヒドロキシアミン硫酸塩 3.0g 1−ヒドロキシエチリンデン−1,1−二ホスホン酸 0.4g ヒドロキシエチルイミノジ酢酸 5.0g 塩化マグネシウム・6水塩 0.7g 1,2−ジヒドロキシベンゼン−3,5−ジスルホン酸−二ナ
トリウム塩 0.2g 水を加えて1とし、水酸化カリウムと硫酸でpH10.20
とする。
Standard treatment process (1) Color development phenomenon 40 ℃ 3 minutes (2) Bleach fixing 38 ℃ 1 minute 30 seconds (3) Stabilization treatment 25 ℃ to 35 ℃ 3 minutes (4) Dry 75 ℃ to 100 ℃ 2 minutes Treatment liquid Composition [Color developer tank liquid] Ethylene glycol 15 ml Potassium sulfite 2.0 g Potassium bromide 1.3 g Sodium chloride 0.2 g Potassium carbonate 24.0 g 3-Methyl-4-amino-N-ethyl-N- (β-methanesulfonamidoethyl) aniline Sulfate 5.5g Optical brightener (4,4'-diaminostilbenzyl sulfonic acid derivative) 1.0g Hydroxyamine sulfate 3.0g 1-Hydroxyethylindene-1,1-diphosphonic acid 0.4g Hydroxyethyliminodiacetic acid 5.0 g Magnesium chloride hexahydrate 0.7g 1,2-dihydroxybenzene-3,5-disulfonic acid disodium salt 0.2g Add water to make 1 and adjust pH to 10.20 with potassium hydroxide and sulfuric acid.
And

[発色現像補充液] エチレングリコール 20ml 亜硫酸カリウム 3.0g 炭酸カリウム 24.0g ヒドロキシアミン硫酸塩 4.0g 3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N−(β−メタ
ンスルホナミドエチル)アニリン硫酸塩 6.0g 蛍光増白剤(4,4′−ジアミノスチルベンジスルホン酸
誘導体) 2.5g 1−ヒドロキシエチリンデン−1,1−二ホスホン酸 0.5g ヒドロキシエチルイミノジ酢酸 5.0g 塩化マグネシウム・6水塩 0.8g 1,2−ジヒドロキシベンゼン−3,5−ジスルホン酸−二ナ
トリウム塩 0.3g 水を加えて1とし、水酸化カリウムと硫酸でpH10.70
とする。
[Color development replenisher] Ethylene glycol 20 ml Potassium sulfite 3.0 g Potassium carbonate 24.0 g Hydroxyamine sulfate 4.0 g 3-Methyl-4-amino-N-ethyl-N- (β-methanesulfonamidoethyl) aniline sulfate 6.0 g Optical brightener (4,4'-diaminostilbenedisulfonic acid derivative) 2.5g 1-Hydroxyethylindene-1,1-diphosphonic acid 0.5g Hydroxyethyliminodiacetic acid 5.0g Magnesium chloride hexahydrate 0.8g 1 2,2-Dihydroxybenzene-3,5-disulfonic acid disodium salt 0.3g Add water to make 1 and adjust pH to 10.70 with potassium hydroxide and sulfuric acid.
And

[漂白定着タンク液] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄アンモニウム2水塩
60.0g エチレンジアミンテトラ酢酸 3.0g チオ硫酸アンモニウム(70%溶液) 100.ml 亜硫酸アンモニウム(40%溶液) 27.5ml 水を加えて全量を1とし、炭酸カリウムまたは氷酢酸
でpH7.1に調整する。
[Bleaching and fixing tank liquid] Ethylenediaminetetraacetic acid ferric ammonium dihydrate
60.0g Ethylenediaminetetraacetic acid 3.0g Ammonium thiosulfate (70% solution) 100.ml Ammonium sulfite (40% solution) 27.5ml Add water to bring the total volume to 1 and adjust to pH 7.1 with potassium carbonate or glacial acetic acid.

[漂白定着補充液A] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄アンモニウム2水塩
260.0g 炭酸カリウム 42.0g 水を加えて全量1とする。
[Bleach-fix replenisher A] ethylenediaminetetraacetic acid ferric ammonium dihydrate
260.0g Potassium carbonate 42.0g Add water to bring the total volume to 1.

この溶液のpHは酢酸又はアンモニア水を用いて6.7±0.1
とする。
The pH of this solution is 6.7 ± 0.1 with acetic acid or aqueous ammonia.
And

[漂白定着補充液B] チオ硫酸アンモニウム 250.0ml (70%溶液) 亜硫酸アンモニウム 25.0ml (40%溶液) エチレンジアミンテトラ酢酸 17.0g 氷酢酸 85.0ml 水を加えて全量1とする。[Bleach-fixing replenisher B] Ammonium thiosulfate 250.0 ml (70% solution) Ammonium sulfite 25.0 ml (40% solution) Ethylenediaminetetraacetic acid 17.0 g Glacial acetic acid 85.0 ml Add water to bring the total volume to 1.

この溶液はpHは酢酸又はアンモニア水を用いて5.3±0.1
である。
The pH of this solution is 5.3 ± 0.1 with acetic acid or aqueous ammonia.
Is.

[水洗代替安定タンク液及び補充液] エチレングリコール 1.0g 2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.20g 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−二ホスホン酸(60%
水溶液) 1.0g アンモニア水(水酸化アンモニウム25%水溶液) 2.0g 水で1とし、50%硫酸でpH7.0とする。
[Stabilizing tank replacement solution and replenisher] Ethylene glycol 1.0g 2-Methyl-4-isothiazolin-3-one 0.20g 1-Hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid (60%
Aqueous solution) 1.0 g Ammonia water (25% ammonium hydroxide in water) 2.0 g Water to 1 and 50% sulfuric acid to pH 7.0.

自動現像機に上記の発色現象タンク液、漂白定着タンク
液及び安定タンク液を満たし、前記市販のカラー写真ペ
ーパー試料を処理しながら上記した発色現像補充液と漂
白定着補充液A、Bと安定補充液をベローズポンプを通
じて補充しながらランニングテストを行なった。補充量
はカラーペーパー1m2当りそれぞれ発色現像タンクへの
補充量として190ml、漂白定着タンクへの補充量として
漂白定着補充液A,B各々50ml、安定化槽への補充量とし
て水洗代替安定補充液を250ml補充した。なお、自動現
像機の安定化槽は試料の流れの方向に第1槽〜第3槽と
なる安定槽とし、最終槽から補充を行ない、最終槽から
のオーバーフロー液をその前段の槽へ流入させ、さらに
このオーバーフロー液をまたその前段の槽に流入させる
多槽向流方式とした。
An automatic processor is filled with the above-mentioned color development tank solution, bleach-fixing tank solution and stability tank solution, and while processing the commercially available color photographic paper sample, the above-mentioned color development replenishing solution and bleach-fixing replenishing solutions A and B and stable replenishment are carried out. A running test was performed while replenishing the liquid through a bellows pump. The replenishing amount is 190 ml per 1 m 2 of color paper as the replenishing amount to the color developing tank, 50 ml of each of the bleach-fixing replenishing liquids A and B as the replenishing amount to the bleach-fixing tank, and the washing replacement stable replenisher as the replenishing amount to the stabilizing tank Was replenished with 250 ml. The stabilizing tank of the automatic processor is a stabilizing tank that is the first to third tanks in the direction of sample flow, replenishment is performed from the final tank, and the overflow liquid from the final tank is allowed to flow into the preceding tank. In addition, a multi-tank countercurrent system in which this overflow liquid is allowed to flow into the previous tank is also adopted.

水洗代替安定液の総補充量が安定タンク容量の3倍とな
るまで連続処理を行なった。
Continuous treatment was carried out until the total replenishment amount of the washing substitute stabilizer became three times the capacity of the stable tank.

ただし、写真処理廃液中には予め炭酸カリウム400gと消
泡剤FSアンチフォーム025(ダウコーニング社製)を4g
添加して、写真処理廃液の表面張力を19dyne/cmから26d
yne/cmに低下させた。
However, 400 g of potassium carbonate and 4 g of antifoaming agent FS Antifoam 025 (manufactured by Dow Corning) were previously added to the photographic processing waste liquid.
The surface tension of the photographic processing waste liquid is added from 19 dyne / cm to 26 d.
yne / cm.

[実験例1] 前記カラーペーパーの写真処理廃液を用いて、第2図に
示す写真処理廃液蒸発濃縮処理装置により、蒸発釜2の
容量2の12倍量の廃液を処理し、1/12に濃縮した。1/
12濃縮の終了直前の凝縮液貯槽27上部の空間の硫化水素
濃度を検知管で測定した。導電材料3はニッケルクロム
20Ωとし、石英管の中に入れ、完全被覆し、廃液中には
電流が全く流れないようにして全部浸漬した。
[Experimental Example 1] Using the photographic processing waste liquid of the color paper, the photographic processing waste liquid evaporative concentration treatment apparatus shown in FIG. Concentrated. 1 /
12 The hydrogen sulfide concentration in the space above the condensate storage tank 27 immediately before the end of concentration was measured with a detector tube. Conductive material 3 is nickel chrome
It was set to 20Ω, placed in a quartz tube, completely covered, and immersed in the waste liquid so that no current would flow.

また、蒸発釜2の下の電磁弁28を開け、蒸発釜2内に残
留している沈殿物4を測定し、蒸発釜2の容量に対する
残量%を表に記載した。
Further, the electromagnetic valve 28 under the evaporation tank 2 was opened, the precipitate 4 remaining in the evaporation tank 2 was measured, and the remaining amount% with respect to the capacity of the evaporation tank 2 is shown in the table.

[実験例2] 実験例1において、第15図のように半浸漬とした。[Experimental Example 2] In Experimental Example 1, semi-immersion was performed as shown in FIG.

[実験例3] 実験例1において、導電材料3をシリコン単結晶で、第
9図のように構成して、第16図のように全部浸漬とし
た。
[Experimental Example 3] In Experimental Example 1, the conductive material 3 was made of silicon single crystal as shown in FIG. 9 and was entirely immersed as shown in FIG.

[実験例4] 実験例3において、第15図のように半浸漬とした。[Experimental Example 4] In Experimental Example 3, semi-immersion was performed as shown in FIG.

[実験例5] 実験例1において、導電材料3のグラファイトで渦状に
削り、抵抗を20Ωとして、第16図のように全部浸漬とし
た。
[Experimental Example 5] In Experimental Example 1, graphite was used as the conductive material 3 to form a spiral shape, and the resistance was set to 20Ω.

[実験例6] 実験例5において、第15図のように半浸漬とした。[Experimental Example 6] In Experimental Example 5, semi-immersion was performed as shown in FIG.

[実験例7] 実験例1において、導電材料3の両端にチタン電極を設
け、0.1Aの電流を流した。
Experimental Example 7 In Experimental Example 1, titanium electrodes were provided on both ends of the conductive material 3, and a current of 0.1 A was passed.

[実験例8] 実験例1において、導電材料3の白金線で、20オームと
して、第16図のように全部浸漬とした。
[Experimental Example 8] In Experimental Example 1, the platinum wire of the conductive material 3 was set to 20 ohms, and the whole was immersed as shown in FIG.

[実験例9] 実験例1において、導電材料3のチッ化タンタルで20オ
ームとして、第16図のように全部浸漬とした。
[Experimental Example 9] In Experimental Example 1, tantalum nitride as the conductive material 3 was set to 20 ohms, and the whole was immersed as shown in FIG.

[実験例10] 実験例1において、導電材料3の鉄、クロムで、全部浸
漬とした。
[Experimental Example 10] In Experimental Example 1, the conductive material 3 was entirely immersed in iron and chromium.

表により明らかなように、この発明によれば、硫化水素
濃度が著しく低下すると共に、沈殿物の取り出の際に、
蒸発釜内に残る沈殿物の残量が少なくなる。
As is clear from the table, according to the present invention, the concentration of hydrogen sulfide is significantly reduced, and at the time of removing the precipitate,
The amount of sediment remaining in the evaporator is small.

更に、前記実験例1のシリコン単結晶20オームに代え
て、前記(1)から(12)記載した導電材料を用いて同
様な実験を行なった。この結果、前記表に示すと同様な
好ましい結果を得た。
Further, the same experiment was conducted using the conductive material described in (1) to (12) above instead of the silicon single crystal of 20 ohms in Experimental Example 1. As a result, the same preferable result as shown in the above table was obtained.

(発明の効果) この発明は前記のように、写真処理廃液に導電材料を直
接接触させ、この導電材料によって写真処理廃液中に電
流を流すと共に、加熱するようになしたから、写真処理
廃液が触媒作用や電流の影響等で、蒸発濃縮する際に生
じる臭気を抑えることができる。また、この濃縮によっ
て得られる沈殿物の組成が変化して粘性が低下し、処理
装置に沈殿物が付着することが軽減され、沈殿物の取り
出しが容易になる。
(Effect of the Invention) As described above, according to the present invention, the conductive material is brought into direct contact with the photographic processing waste liquid, and the conductive material causes the electric current to flow in the photographic processing waste liquid while heating the photographic processing waste liquid. It is possible to suppress the odor generated during evaporative concentration due to the effect of the catalytic action or the electric current. In addition, the composition of the precipitate obtained by this concentration changes, the viscosity is reduced, adhesion of the precipitate to the processing apparatus is reduced, and the precipitate is easily taken out.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は自動現像機にこの発明の蒸発濃縮処理装置を備
えた状態を示す概略図、第2図はこの発明のさらに具体
的な実施施例を示す概略図、第3図から第5図は他の実
施例を示す概略図、第6図から第14図は導電材料の他の
実施例の概略図、第15図から第17図は導電材料の浸漬状
態を示す図である。 図面中符号2は蒸発釜、3は導電材料、5は排出手段、
6は冷却手段、7は減圧手段である。
FIG. 1 is a schematic view showing a state in which an evaporative concentration processing apparatus of the present invention is provided in an automatic developing machine, FIG. 2 is a schematic view showing a more concrete embodiment of the present invention, and FIGS. 3 to 5 Is a schematic view showing another embodiment, FIGS. 6 to 14 are schematic views of another embodiment of the conductive material, and FIGS. 15 to 17 are views showing the immersion state of the conductive material. In the drawings, reference numeral 2 is an evaporation pot, 3 is a conductive material, 5 is a discharging means
6 is a cooling means, and 7 is a decompression means.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】写真処理廃液を加熱することによって、蒸
発濃縮させ、写真処理廃液中の溶質物を沈殿させる写真
処理廃液の蒸発濃縮処理において、前記写真処理廃液に
導電材料を直接接触させ、この導電材料によって前記写
真処理廃液中に電流を流すと共に、加熱するようになし
たことを特徴とする写真処理廃液の蒸発濃縮装置。
1. A method for evaporating and concentrating a photographic processing waste liquid by heating to evaporate and concentrate the solute in the photographic processing waste liquid, to directly contact a conductive material with the photographic processing waste liquid, An apparatus for evaporating and concentrating a photographic processing waste liquid, wherein an electric current is caused to flow through the photographic processing waste liquid by a conductive material and the photographic processing waste liquid is heated.
【請求項2】前記写真処理廃液に導電材料の少なくとも
一部を浸漬して直接接触させるようになしたことを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の写真処理廃液の蒸発
濃縮装置。
2. An evaporative concentration apparatus for photographic processing waste liquid according to claim 1, wherein at least a part of the conductive material is immersed in the photographic processing waste liquid and brought into direct contact therewith.
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