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JPH0772181B2 - Benzimidazole derivative - Google Patents
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JPH0772181B2 - Benzimidazole derivative - Google Patents

Benzimidazole derivative

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JPH0772181B2
JPH0772181B2 JP16508489A JP16508489A JPH0772181B2 JP H0772181 B2 JPH0772181 B2 JP H0772181B2 JP 16508489 A JP16508489 A JP 16508489A JP 16508489 A JP16508489 A JP 16508489A JP H0772181 B2 JPH0772181 B2 JP H0772181B2
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reaction
alkyl group
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清人 後藤
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はベンズイミダゾール誘導体及びその塩に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to benzimidazole derivatives and salts thereof.

従来の技術 本発明のベンズイミダゾール誘導体及びその塩は文献未
載の新規化合物である。
2. Description of the Related Art The benzimidazole derivatives and salts thereof of the present invention are novel compounds that have not been published in the literature.

発明が解決しようとする課題 本発明は、後記するように医薬品として有用な化合物を
提供することを目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention The present invention aims to provide a compound useful as a pharmaceutical as described below.

課題を解決するための手段 本発明によれば、下記一般式(1)で表わされるベンズ
イミダゾール誘導体が提供される。
Means for Solving the Problems According to the present invention, a benzimidazole derivative represented by the following general formula (1) is provided.

〔式中R1及びR2は同一又は異なって水素原子、低級アル
キル基又はハロゲン原子を、R3は低級アルキル基、置換
基として低級アルキル基を有することのあるフェニル
基、ハロゲン置換低級アルキル基、アミノ基、低級アル
キルアミノ基又は低級アルカノイルアミノ基を、R4は水
素原子、低級アルキル基、ニトロ基又はアミノ基を、R5
は水素原子、ヒドロキシル基又はベンジルオキシ基を、
R6は水素原子又は低級アルキル基をそれぞれ示し、nは
0又は1である。但し、以下の1)〜3)の場合を除
く。
[Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represent a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogen atom, and R 3 is a lower alkyl group, a phenyl group which may have a lower alkyl group as a substituent, or a halogen-substituted lower alkyl group. , An amino group, a lower alkylamino group or a lower alkanoylamino group, R 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a nitro group or an amino group, R 5
Is a hydrogen atom, a hydroxyl group or a benzyloxy group,
R 6 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, respectively, and n is 0 or 1. However, the following cases 1) to 3) are excluded.

1) R3が低級アルキル基、置換基として低級アルキル
基を有することのあるフェニル基、アミノ基又は低級ア
ルキルアミノ基で、R1及びR2が水素原子、R4及びR6が低
級アルキル基、R5がヒドロキシル基及びnが0の場合。
1) R 3 is a lower alkyl group, a phenyl group which may have a lower alkyl group as a substituent, an amino group or a lower alkylamino group, R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 4 and R 6 are lower alkyl groups. , R 5 is a hydroxyl group and n is 0.

2) R1、R2、R4及びR6が共に水素原子で、R3が低級ア
ルキル基又はフェニル基、R5がヒドロキシル基及びnが
0の場合。
2) When R 1 , R 2 , R 4 and R 6 are all hydrogen atoms, R 3 is a lower alkyl group or a phenyl group, R 5 is a hydroxyl group and n is 0.

3) R3がアミノ基又は水素原子で、R4、R5及びR6が共
に水素原子、R1及びR2が共に水素原子又は共に低級アル
キル基及びnが1の場合。〕 上記一般式(1)で表わされる本発明の化合物及びその
塩は、抗菌、抗ウイルス、抗炎症、抗リウマチ等の薬理
作用を示し、従つて抗菌剤、抗ウイルス剤、抗炎症剤、
抗リウマチ剤等の医薬品として有用である。
3) When R 3 is an amino group or a hydrogen atom, R 4 , R 5 and R 6 are both hydrogen atoms, R 1 and R 2 are both hydrogen atoms or both lower alkyl groups and n is 1. The compound of the present invention represented by the above general formula (1) and a salt thereof exhibit pharmacological actions such as antibacterial, antiviral, antiinflammatory, antirheumatic and the like, and accordingly, antibacterial agents, antiviral agents, antiinflammatory agents,
It is useful as a drug such as an antirheumatic drug.

本明細書において、低級アルキル基としては、例えばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖
又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。
In the present specification, examples of the lower alkyl group include linear or branched lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl and hexyl groups.

置換基として低級アルキル基を有することのあるフェニ
ル基としては、例えばフェニル、2−メチルフェニル、
3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、2−エチル
フェニル、4−エチルフェニル、4−プロピルフェニ
ル、3−(1−メチルエチル)フェニル、4−tert−ブ
チルフェニル、3−ブチルフェニル、4−ペンチルフェ
ニル、4−ヘキシルフェニル基等を例示できる。
Examples of the phenyl group which may have a lower alkyl group as a substituent include phenyl, 2-methylphenyl,
3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 2-ethylphenyl, 4-ethylphenyl, 4-propylphenyl, 3- (1-methylethyl) phenyl, 4-tert-butylphenyl, 3-butylphenyl, 4-pentyl Examples thereof include phenyl and 4-hexylphenyl groups.

ハロゲン置換低級アルキル基としては、例えばトリフル
オロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプ
ロピル、ノナフルオロブチル、ウンデカフルオロペンチ
ル、トリデカフルオロヘキシル基等を例示できる。
Examples of halogen-substituted lower alkyl groups include trifluoromethyl, pentafluoroethyl, heptafluoropropyl, nonafluorobutyl, undecafluoropentyl, tridecafluorohexyl groups, and the like.

低級アルキルアミノ基としては、例えばN−メチルアミ
ノ、N−エチルアミノ、N−プロピルアミノ、N−(1
−メチルエチル)アミノ、N−ブチルアミノ、N−(te
rt−ブチル)アミノ、N−ペンチルアミノ、N−ヘキシ
ルアミノ、N,N−ジメチルアミノ、(N−メチル,N−エ
チル)アミノ、N,N−ジエチルアミノ、N,N−ジプロピル
アミノ、N,N−ジブチルアミノ、N,N−ジペンチルアミ
ノ、N,N−ジヘキシルアミノ基等を例示できる。
Examples of the lower alkylamino group include N-methylamino, N-ethylamino, N-propylamino, N- (1
-Methylethyl) amino, N-butylamino, N- (te
rt-Butyl) amino, N-pentylamino, N-hexylamino, N, N-dimethylamino, (N-methyl, N-ethyl) amino, N, N-diethylamino, N, N-dipropylamino, N, Examples thereof include N-dibutylamino, N, N-dipentylamino and N, N-dihexylamino groups.

低級アルカノイルアミノ基としては、例えばアセチルア
ミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、バレリル
アミノ、カプロイルアミノ、ヘプタノイルアミノ基等を
例示できる。
Examples of the lower alkanoylamino group include acetylamino, propionylamino, butyrylamino, valerylamino, caproylamino and heptanoylamino groups.

ハロゲン原子には、弗素原子、塩素原子、臭素原子及び
沃素原子が包含される。
The halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

本発明のベンズイミダゾール誘導体は、各種の方法によ
り製造することができる。その具体例を下記各反応工程
式に示す。
The benzimidazole derivative of the present invention can be produced by various methods. Specific examples thereof are shown in the following reaction process formulas.

〔式中R1、R2、R4及びR6は前記に同じ。R3aは低級アル
キル基又はハロゲン置換低級アルキル基を示す。但しR
3aが低級アルキル基のとき、R1及びR2が水素原子で且つ
R4及びR6が共に水素原子又は共に低級アルキル基であっ
てはならない。〕 上記反応工程式−1に示す縮合反応は、公知の方法、例
えばライカーら(A.Reiker et al.)によるテトラヘド
ロン[Tetrahedron,23,3723(1967)]に記載の方法
や、フイグエラスら(J.Figueras et al.)によるジヤ
ーナル オブ オーガニツク ケミストリー[J.Org.Ch
em.,36,3497(1971)]に記載の方法に準じて実施する
ことができる。より詳細には、上記縮合反応は、例えば
酢酸、三弗化硼素・エチルエーテル錯体(BF3・Et2O)
等を触媒として用い、化合物(2)に対して化合物
(3)を約1〜5倍モル量程度使用して、無溶媒でもし
くはテトラヒドロフラン(THF)、ジエチルエーテル、
ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム、1,2−ジク
ロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類等の適当な溶媒中
で、約30〜200℃の温度範囲で実施できる。
[Wherein R 1 , R 2 , R 4 and R 6 are the same as defined above. R 3a represents a lower alkyl group or a halogen-substituted lower alkyl group. However, R
When 3a is a lower alkyl group, R 1 and R 2 are hydrogen atoms and
R 4 and R 6 must not both be hydrogen atoms or both lower alkyl groups. The condensation reaction represented by the above reaction process formula-1 is a known method, for example, the method described in Tetrahedron [Tetrahedron, 23 , 3723 (1967)] by Riker et al. (A. Reiker et al.), Or Hugueras et al. J. Figueras et al.) Journal of Organic Chemistry [J.Org.Ch
em., 36 , 3497 (1971)]. More specifically, the condensation reaction may be carried out, for example, with acetic acid, boron trifluoride / ethyl ether complex (BF 3 · Et 2 O).
Etc. as a catalyst, using about 1 to 5 times the molar amount of compound (3) with respect to compound (2), without solvent or with tetrahydrofuran (THF), diethyl ether,
In a suitable solvent such as ethers such as dioxane, halogenated hydrocarbons such as chloroform and 1,2-dichloroethane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene in a temperature range of about 30 to 200 ° C. Can be implemented.

上記により得られる化合物(4)は、これを反応系内よ
り単離することなく、引続く還元反応に供することがで
きるが、勿論単離してもよい。
The compound (4) obtained above can be subjected to the subsequent reduction reaction without isolation from the reaction system, but may be isolated, of course.

上記化合物(4)の還元反応は、通常の方法に従い、例
えば上記反応生成物を水中に移し、約2〜50倍モル量の
ハイドロサルフアイトナトリウム(Na2S2O4)水溶液を
添加することにより実施できる。また上記還元反応は、
酢酸中で亜鉛末を用いる方法や、酢酸エチル、アルコー
ル、THF、水等の適当な溶媒中で、パラジウム−炭素や
白金(PtO2)等を触媒として接触水添する方法等によっ
ても実施することができ、かくして化合物(5)を収得
できる。
For the reduction reaction of the compound (4), for example, the reaction product is transferred into water and a sodium hydrosulfite (Na 2 S 2 O 4 ) aqueous solution in an amount of about 2 to 50 times is added according to a conventional method. Can be implemented by Further, the reduction reaction is
It can also be carried out by using zinc dust in acetic acid, or by catalytic hydrogenation using palladium-carbon, platinum (PtO 2 ) or the like as a catalyst in a suitable solvent such as ethyl acetate, alcohol, THF or water. Thus, the compound (5) can be obtained.

引き続く化合物(5)の環化反応は、該化合物(5)を
化合物R3a−COOHと反応させることにより実施できる。
上記化合物R3a−COOHの使用割合は、化合物(5)に対
して通常約10〜50倍モル量程度とされるのがよく、反応
は室温〜100℃程度の温度範囲で、約1〜10時間攪拌す
ることにより進行し、かくして目的化合物(1a)を収得
できる。
The subsequent cyclization reaction of the compound (5) can be carried out by reacting the compound (5) with the compound R 3a —COOH.
The ratio of the compound R 3a —COOH to be used is usually about 10 to 50 times the molar amount of the compound (5), and the reaction is performed at room temperature to about 100 ° C. for about 1 to 10 times. It proceeds by stirring for a time, and thus the target compound (1a) can be obtained.

〔式中、R1、R2、R4及びR6は前記に同じ。R3bは低級ア
ルキル基、ハロゲン置換低級アルキル基又は置換基とし
て低級アルキル基を有することのあるフェニル基を示
す。但しR3bが低級アルキル基又は置換基として低級ア
ルキル基を有することのあるフェニル基のとき、R1及び
R2が水素原子で且つR4及びR6が共に水素原子又は共に低
級アルキル基であってはならない。〕 上記反応工程式−2に示す化合物(4)のアシル化反応
は、適当なアシル化剤を用いて、不活性溶媒中で実施で
きる。該アシル化剤としては、例えばアセチルクロライ
ド、アセチルブロマイド、プロピオニルクロライド、ブ
チリルクロライド、イソブチリルクロライド、バレリル
クロライド、イソバレリルクロライド、ビバロイルクロ
ライド、ヘプタノイルクロライド等の低級アルキルカル
ボニルハライド類、トリフルオロアセチルクロライド、
ペンタフルオロプロピオニルクロライド、ヘプタフルオ
ロブチリルクロライド、ノナフルオロバレリルクロライ
ド、ウンデカフルオロカプロイルクロライド、トリデカ
フルオロヘプタノイルクロライド等のハロゲン置換低級
アルキルカルボニルハライド類、ベンゾイルクロライド
等を使用できる。また不活性溶媒としては、例えばTH
F、エーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、ジメ
チルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド
(DMA)等を使用できる。上記アシル化反応は、また適
当な塩基性化合物、例えばトリエチルアミン、ピリジ
ン、コリジン等の存在下に良好に進行する。アシル化剤
及び塩基性化合物の使用量は、原料化合物(4)に対し
て通常それぞれ約1〜3倍モル量程度、好ましくは約1
〜1.1倍モル量程度とするのがよく、反応は一般に約−2
0℃〜30℃の温度範囲で、約30分〜3時間程度で完結す
る。
[In the formula, R 1 , R 2 , R 4 and R 6 are the same as defined above. R 3b represents a lower alkyl group, a halogen-substituted lower alkyl group or a phenyl group which may have a lower alkyl group as a substituent. However, when R 3b is a lower alkyl group or a phenyl group which may have a lower alkyl group as a substituent, R 1 and
R 2 may not be a hydrogen atom and R 4 and R 6 may not both be a hydrogen atom or a lower alkyl group. The acylation reaction of the compound (4) represented by the above reaction scheme-2 can be carried out in an inert solvent using a suitable acylating agent. Examples of the acylating agent include lower alkylcarbonyl halides such as acetyl chloride, acetyl bromide, propionyl chloride, butyryl chloride, isobutyryl chloride, valeryl chloride, isovaleryl chloride, vivaloyl chloride and heptanoyl chloride, Trifluoroacetyl chloride,
Halogen-substituted lower alkylcarbonyl halides such as pentafluoropropionyl chloride, heptafluorobutyryl chloride, nonafluorovaleryl chloride, undecafluorocaproyl chloride, tridecafluoroheptanoyl chloride, benzoyl chloride and the like can be used. Examples of the inert solvent include TH
F, ethers, chloroform, dichloromethane, dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMA) and the like can be used. The above acylation reaction also proceeds well in the presence of a suitable basic compound such as triethylamine, pyridine, collidine and the like. The amount of the acylating agent and the basic compound to be used is usually about 1 to 3 times the molar amount of the starting compound (4), preferably about 1
~ 1.1 times the molar amount is good, the reaction is generally about -2
It takes about 30 minutes to 3 hours to complete in a temperature range of 0 ° C to 30 ° C.

また化合物(5)の還元反応は、前記反応工程式−1に
示したそれと同様にして実施できる。
Further, the reduction reaction of the compound (5) can be carried out in the same manner as that shown in the above reaction process formula-1.

更に化合物(6)の環化反応は、通常の方法に従い、適
当な酸溶媒中、約0℃〜溶媒の沸点温度、好ましくは室
温〜100℃程度の条件下において、約10分〜1時間程度
を要して行われる。尚、上記酸溶媒としては、通常酢
酸、ポリリン酸等が用いられる。
Further, the cyclization reaction of the compound (6) is carried out according to a conventional method in a suitable acid solvent at about 0 ° C to the boiling point of the solvent, preferably at room temperature to 100 ° C for about 10 minutes to 1 hour. Will be done. As the acid solvent, acetic acid, polyphosphoric acid, etc. are usually used.

〔式中R1、R2、R4及びR6は前記に同じ。R7は低級アルキ
ル基を示す。但しR1及びR2が水素原子で且つR4及びR6
共に低級アルキル基の場合を除く。〕 反応工程式−3に示す化合物(7)と化合物(8)との
反応は、適当な溶媒中にて、化合物(8)に対して化合
物(7)を1〜2倍モル量程度用いて行われる。溶媒と
しては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール
類を使用できる。反応は、通常室温〜溶媒の沸点付近の
温度にて、約5〜25時間で進行し、かくして目的化合物
(1c)を収得できる。
[Wherein R 1 , R 2 , R 4 and R 6 are the same as defined above. R 7 represents a lower alkyl group. However, the case where R 1 and R 2 are hydrogen atoms and R 4 and R 6 are both lower alkyl groups is excluded. The reaction of the compound (7) shown in the reaction process formula-3 with the compound (8) is carried out by using the compound (7) in an appropriate solvent in an amount of 1 to 2 times the molar amount of the compound (7). Done. As the solvent, alcohols such as methanol and ethanol can be used. The reaction usually proceeds at room temperature to a temperature near the boiling point of the solvent in about 5 to 25 hours, and thus the target compound (1c) can be obtained.

上記で得られる化合物(1c)の脱炭酸反応は、適当な酸
溶媒中で行ない得る。酸溶媒としては、例えば塩酸水溶
液、硫酸水溶液等を利用できる。反応は通常室温〜溶媒
の沸点温度付近にて、約10〜25時間で進行し、この反応
により目的化合物(1d)を収得できる。
The decarboxylation reaction of the compound (1c) obtained above can be carried out in a suitable acid solvent. As the acid solvent, for example, hydrochloric acid aqueous solution, sulfuric acid aqueous solution or the like can be used. The reaction usually proceeds from room temperature to around the boiling point of the solvent in about 10 to 25 hours, and the target compound (1d) can be obtained by this reaction.

更に化合物(1c)の還元反応は、例えばエーテル類やTH
F等の適当な不活性溶媒中で、水素化アルミニウムリチ
ウム(LiAlH4)等の通常の還元剤を用いて行ない得る。
上記還元剤の使用量は、化合物(1c)に対して通常約1
〜10倍モル量程度の範囲から選択できる。反応は0℃付
近〜溶媒の沸点温度付近の温度下に進行する。上記還元
反応により、目的化合物(1e)を収得できる。
Further, the reduction reaction of the compound (1c) can be carried out by, for example, ethers or TH
It can be carried out using a conventional reducing agent such as lithium aluminum hydride (LiAlH 4 ) in a suitable inert solvent such as F 2.
The amount of the reducing agent used is usually about 1 with respect to the compound (1c).
It can be selected from a range of about 10 times the molar amount. The reaction proceeds at a temperature in the vicinity of 0 ° C. to the boiling point of the solvent. The target compound (1e) can be obtained by the above reduction reaction.

〔式中R1、R2、R6及びnは前記に同じ。R3cは低級アル
キル基、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アルキル基
を有することのあるフェニル基、アミノ基又は低級アル
キルアミノ基を示す。但しR3cが低級アルキル基又はフ
ェニル基で、R1、R2及びR6が共に水素原子で且つnが0
の場合を除く。〕 反応工程式−4に示す化合物(1f)の脱t−Bu化反応
は、適当な溶媒中、酸の存在下に加熱処理することによ
り実施され、該反応により化合物(1g)を得ることがで
きる。ここで用いられる酸としては、例えば濃塩酸、硫
酸、リン酸、トリフルオロ酢酸等を例示できる。また溶
媒としては水又はTHF、ジオキサン、エタノール等の水
とよく混ざりあう不活性溶媒を例示できる。加熱処理
は、通常約25℃〜150℃程度の温度下に実施できる。
[In the formula, R 1 , R 2 , R 6 and n are the same as defined above. R 3c represents a lower alkyl group, a halogen-substituted lower alkyl group, a phenyl group which may have a lower alkyl group, an amino group or a lower alkylamino group. Provided that R 3c is a lower alkyl group or a phenyl group, R 1 , R 2 and R 6 are all hydrogen atoms and n is 0.
Except for. The reaction for removing t-Bu from the compound (1f) represented by the reaction formula-4 is carried out by heat treatment in the presence of an acid in a suitable solvent, and the compound (1g) may be obtained by the reaction. it can. Examples of the acid used here include concentrated hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, trifluoroacetic acid and the like. Examples of the solvent include water or an inert solvent such as THF, dioxane, and ethanol that is well mixed with water. The heat treatment can be usually performed at a temperature of about 25 ° C to 150 ° C.

〔式中R1、R2、R5、R6及びnは前記に同じ。R3dは低級
アルカノイルアミノ基を、R4aは水素原子、低級アルキ
ル基又はニトロ基を示す。但しR4aが水素原子のとき、R
5はヒドロキシル基であってはならない。〕 〔式中R1、R2、R3d、R6及びnは前記に同じ。〕 上記反応工程式−5及び−5′に示す化合物(1h)及び
化合物(1h′)のアシル化反応は、いずれも塩基性溶媒
中で又は塩基触媒の存在下不活性溶媒中で、原料化合物
と酸無水物とを反応させることにより行ない得る。
[In the formula, R 1 , R 2 , R 5 , R 6 and n are the same as defined above. R 3d represents a lower alkanoylamino group, and R 4a represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a nitro group. However, when R 4a is a hydrogen atom, R 4a
5 must not be a hydroxyl group. ] [In the formula, R 1 , R 2 , R 3d , R 6 and n are the same as defined above. The acylation reaction of compound (1h) and compound (1h ′) shown in the above reaction process formulas -5 and -5 ′ is carried out in a basic solvent or in an inert solvent in the presence of a base catalyst, the starting compound It can be carried out by reacting with an acid anhydride.

上記塩基性化合物としては、例えばピリジン、コリジ
ン、ルチジン、トリエチルアミン等を使用できる。不活
性溶媒としては、例えばTHF、エーテル、クロロホル
ム、ジクロロメタン、DMF等を使用でき、この場合上記
塩基性溶媒を塩基触媒として約1〜3倍モル量程度併用
する。また酸無水物としては、例えば無水酢酸、無水プ
ロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、無水カプロン酸、
無水ヘプタン酸等を使用できる。
As the basic compound, for example, pyridine, collidine, lutidine, triethylamine and the like can be used. As the inert solvent, for example, THF, ether, chloroform, dichloromethane, DMF and the like can be used. In this case, the basic solvent is used as a base catalyst in an amount of about 1 to 3 times the molar amount. As the acid anhydride, for example, acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, valeric anhydride, caproic anhydride,
Heptanoic anhydride or the like can be used.

更に、上記反応工程式−5′に示す化合物(1h′)の部
分加水分解反応は、例えば水酸化アルカリを用いたアル
カリ加水分解法に従って実施できる。ここで水酸化アル
カリとしては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を使
用でき、これは通常化合物(1h′)に対して等モル〜20
倍モル量程度の範囲で利用できる。反応は一般にアルコ
ール、水、之等の混合溶媒中で、約20℃〜溶媒の沸点範
囲の温度下に実施され得る。
Further, the partial hydrolysis reaction of the compound (1h ′) shown in the above reaction process formula-5 ′ can be carried out according to an alkaline hydrolysis method using, for example, an alkali hydroxide. Here, sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like can be used as the alkali hydroxide, and this is usually equimolar to 20 relative to the compound (1h ′).
It can be used in a range of about double molar amount. The reaction can be generally carried out in a mixed solvent of alcohol, water, etc. at a temperature in the range of about 20 ° C. to the boiling point of the solvent.

〔式中R1、R2、R6及びnは前記に同じ。R3eは低級アル
キル基、ハロゲン置換低級アルキル基又は低級アルカノ
イルアミノ基を示す。〕 上記反応工程式−6に示す化合物(1j)のニトロ化反応
は、常法に従って、例えばニトロ化剤として硝酸、硝酸
−硫酸、硝酸−酢酸、硝酸塩−硫酸等を用い、無溶媒又
は適当な溶媒中で実施できる。上記ニトロ化剤は、通常
原料化合物に対して大過剰量使用される。溶媒としては
酢酸、硫酸等を使用するのが好ましい。反応温度として
は一般に約25〜100℃程度の範囲を採用するのがよい。
[In the formula, R 1 , R 2 , R 6 and n are the same as defined above. R 3e represents a lower alkyl group, a halogen-substituted lower alkyl group or a lower alkanoylamino group. The nitration reaction of the compound (1j) shown in the above reaction process formula-6 is carried out according to a conventional method, for example, using nitric acid, nitric acid-sulfuric acid, nitric acid-acetic acid, nitrate-sulfuric acid or the like without a solvent or a suitable solvent. It can be carried out in a solvent. The above nitrating agent is usually used in a large excess amount with respect to the raw material compound. It is preferable to use acetic acid, sulfuric acid or the like as the solvent. As the reaction temperature, it is generally preferable to adopt a range of about 25 to 100 ° C.

また、上記で得られる化合物(1k)は、そのニトロ基を
還元することにより、化合物(1)に導くことができ
る。該還元反応は、一般によく知られた方法、例えば酸
と金属又は金属塩を用いる還元方法、硫化物による還元
方法、接触水素添加方法等により行なうことができる。
之等の内でも特に酸と金属又は金属塩を用いる方法は好
ましく、この方法において酸としては代表的には塩酸
が、金属又は金属塩としては錫、鉄、ニッケル、塩化第
一錫等がそれぞれ好適に用いられる。また硫化物による
還元方法において用いられる硫化物としては、例えばハ
イドロサルファイトナトリウム(Na2S2O4)等が好適で
ある。
The compound (1k) obtained above can be converted to the compound (1) by reducing the nitro group. The reduction reaction can be carried out by a generally well-known method, for example, a reduction method using an acid and a metal or a metal salt, a reduction method with a sulfide, a catalytic hydrogenation method and the like.
Among them, the method using an acid and a metal or a metal salt is particularly preferable. In this method, hydrochloric acid is typically used as the acid, and tin, iron, nickel, stannous chloride and the like are used as the metal or metal salt, respectively. It is preferably used. Further, as the sulfide used in the reduction method with sulfide, for example, sodium hydrosulfite (Na 2 S 2 O 4 ) or the like is suitable.

〔式中R1、R2、R4及びR6は前記に同じ。R3fは低級アル
キル基、ハロゲン置換低級アルキル基、アミノ基又は低
級アルカノイルアミノ基を、R5aは水素原子又はベンジ
ルオキシ基を、Xはハロゲン原子をそれぞれ示す。但し
R3fがアミノ基で、R1及びR2が共に水素原子又は共に低
級アルキル基で且つR4、R5a及びR6が水素原子である場
合を除く。〕 上記反応工程式−7に示す化合物(9)と化合物(10)
との反応(ベンジル化反応)は、通常塩基の存在下に不
活性溶媒中で行われる。ここで塩基としては、例えば水
素化ナトリウム、水素化リチウム等の金属水素化物を、
不活性溶媒としては、例えばDMF、THF等をそれぞれ好適
に利用できる。上記ベンジル化反応は、通常0〜80℃の
温度範囲にて約30分〜3時間程度を要して行われ、かく
して目的化合物(1m)を収得できる。
[Wherein R 1 , R 2 , R 4 and R 6 are the same as defined above. R 3f represents a lower alkyl group, a halogen-substituted lower alkyl group, an amino group or a lower alkanoylamino group, R 5a represents a hydrogen atom or a benzyloxy group, and X represents a halogen atom. However
Except when R 3f is an amino group, R 1 and R 2 are both hydrogen atoms or both are lower alkyl groups, and R 4 , R 5a and R 6 are hydrogen atoms. ] The compound (9) and the compound (10) shown in the above reaction process formula-7
The reaction with (benzylation reaction) is usually carried out in the presence of a base in an inert solvent. Examples of the base here include metal hydrides such as sodium hydride and lithium hydride,
As the inert solvent, for example, DMF, THF and the like can be preferably used. The benzylation reaction is usually carried out in the temperature range of 0 to 80 ° C. for about 30 minutes to 3 hours, and thus the target compound (1m) can be obtained.

尚、上記反応工程式−7で得られる化合物(1m)の内、
R5aがベンジルオキシ基である化合物は、次の反応工程
式−8に示す方法によって、対応する化合物(1p)に変
換することができる。
In addition, among the compounds (1 m) obtained by the above reaction process formula-7,
The compound in which R 5a is a benzyloxy group can be converted to the corresponding compound (1p) by the method shown in the following reaction scheme-8.

〔式中R1、R2、R3f、R4及びR6は前記に同じ。〕 上記反応工程式−8に示す化合物(1m)の脱ベンジル化
反応は、通常の方法に従い実施できる。この方法として
は、例えば酢酸エチル、アルコール、THF等の適当な溶
媒中で、パラジウム−炭素や二酸化白金等の触媒を用い
て、接触水添する方法を例示できる。
[Wherein R 1 , R 2 , R 3f , R 4 and R 6 are the same as defined above. The debenzylation reaction of the compound (1m) shown in the above reaction process formula-8 can be carried out according to a usual method. Examples of this method include a method of catalytic hydrogenation using a catalyst such as palladium-carbon or platinum dioxide in a suitable solvent such as ethyl acetate, alcohol, or THF.

上記各反応工程式に示す方法により得られる目的化合物
は、慣用の分離手段により容易に単離精製できる。該手
段としては例えば溶媒抽出、再結晶、カラムクロマトグ
ラフイー等を例示できる。
The target compound obtained by the method shown in each of the above reaction schemes can be easily isolated and purified by a conventional separation means. Examples of the means include solvent extraction, recrystallization, column chromatography and the like.

また、本発明化合物(1)は、これに常法に従い適当な
酸性化合物を付加反応させることにより、容易に医薬的
に許容される酸付加塩とすることができ、該酸付加塩は
遊離形態の本発明化合物と同様の薬理活性を有してお
り、本発明はかかる酸付加塩をも包含する。上記酸付加
塩を形成し得る酸性化合物としては、例えば塩酸、硫
酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸及びシュウ酸、マレ
イン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安
息香酸、ベンゼンスルホン酸等の有機酸を例示できる。
更に本発明化合物中、遊離のカルボキシル基を有するも
のは、これを常法に従いアルカリ金属塩、例えばナトリ
ウム塩、カリウム塩等、アルカリ土類金属塩、例えばカ
ルシウム塩、マグネシウム塩等、その他銅塩等とするこ
とができ、之等も遊離形態の本発明化合物と同様の薬理
活性を有しており、本発明範囲内に包含される。
Further, the compound (1) of the present invention can be easily converted into a pharmaceutically acceptable acid addition salt by subjecting it to an appropriate acidic compound by an addition reaction according to a conventional method, and the acid addition salt is in a free form. It has the same pharmacological activity as the compound of the present invention, and the present invention also includes such an acid addition salt. As the acidic compound capable of forming the acid addition salt, for example, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, inorganic acids such as hydrobromic acid and oxalic acid, maleic acid, fumaric acid, malic acid, tartaric acid, citric acid, benzoic acid, An organic acid such as benzenesulfonic acid can be exemplified.
Further, among the compounds of the present invention, those having a free carboxyl group can be prepared according to a conventional method by using alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt, alkaline earth metal salts such as calcium salt and magnesium salt, and other copper salts. And the like, which have the same pharmacological activity as the compound of the present invention in the free form, are included in the scope of the present invention.

実施例 以下、本発明を更に詳しく説明するため、本発明化合物
の製造例を実施例として挙げる。
Examples Hereinafter, in order to explain the present invention in more detail, production examples of the compound of the present invention will be given as Examples.

実施例1 1−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−2−トリフルオロメチルベンズイミダゾールの製
造 2,6−ジ−tert−ブチル−1,4−ベンゾキノン2.1g及びo
−フェニレンジアミン1.7gをTHF100mlに溶解し、この溶
液に三弗化硼素・エーテル錯体[BF3・Et2O]0.3mlを加
え、15時間還流させた。濃縮して得られる粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー(展開溶媒;ジエチ
ルエーテル:n−ヘキサン=1:10)により精製して、赤紫
色結晶を得た。
Example 1 Preparation of 1- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -2-trifluoromethylbenzimidazole 2,6-di-tert-butyl-1,4-benzoquinone 2.1 g and o
- dissolving phenylenediamine 1.7g in 100 ml of THF, the solution was added a boron trifluoride-ether complex [BF 3 · Et 2 O] 0.3ml, was refluxed for 15 hours. The crude product obtained by concentration was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; diethyl ether: n-hexane = 1: 10) to obtain reddish purple crystals.

得られた結晶7.5gをピリジン50mlに溶かし、無水トリフ
ルオロ酢酸5mlを加え、室温にて1時間攪拌した。反応
混合物を水中に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。抽出
層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、
濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(展開溶媒;ジエチルエーテル:n−ヘキサ
ン=1:10)により精製して、赤色化合物8.36gを得た。
The obtained crystals (7.5 g) were dissolved in pyridine (50 ml), trifluoroacetic anhydride (5 ml) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hr. The reaction mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate. The extract layer was washed with saturated brine and dried over magnesium sulfate,
Concentrated. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; diethyl ether: n-hexane = 1: 10) to obtain 8.36 g of a red compound.

上記で得られた化合物をTHF70mlに溶解し、10%Na2S2O4
水溶液370mlを加え、室温にて10分間攪拌した。反応液
に水を加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、濃縮した。得られた粗生成物を酢酸160mlに溶
解し、95〜100℃で10分間攪拌した。反応終了後、濃縮
し、飽和重曹水を加えてアルカリ性とし、クロロホルム
で抽出した。抽出層を硫酸マグネシウムで乾燥し濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフイー(展開溶媒;
クロロホルム:酢酸エチル=50:1)により精製して、目
的化合物の白色結晶4.3gを得た。
The compound obtained above was dissolved in 70 ml of THF, and 10% Na 2 S 2 O 4 was added.
An aqueous solution (370 ml) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes. Water was added to the reaction solution, extracted with ethyl acetate, dried over magnesium sulfate, and concentrated. The resulting crude product was dissolved in 160 ml of acetic acid and stirred at 95-100 ° C for 10 minutes. After completion of the reaction, the mixture was concentrated, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added to make the mixture alkaline, and the mixture was extracted with chloroform. The extraction layer is dried over magnesium sulfate, concentrated, and then subjected to silica gel column chromatography (developing solvent;
Purification with chloroform: ethyl acetate = 50: 1) gave 4.3 g of white crystals of the desired compound.

得られた化合物の構造及び物性(融点及び1H−NMR値)
を第1表に化合物No.1として示す。
Structure and physical properties of the obtained compound (melting point and 1 H-NMR value)
Is shown in Table 1 as Compound No. 1.

実施例2〜5 実施例1と同様にして、第1表に示す各化合物(化合物
No.2〜化合物No.5)を製造した。
Examples 2 to 5 In the same manner as in Example 1, each compound shown in Table 1 (compound
No. 2 to compound No. 5) were produced.

得られた各化合物の構造及び物性を第1表に併記する。Table 1 also shows the structure and physical properties of each of the obtained compounds.

実施例6 1−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−2−アミノ−5,6−ジクロロベンズイミダゾール
の製造 2,6−ジ−tert−ブチル−4−(2−アミノ−4,5−ジク
ロロフェニルアミノ)−フェノール6.8g及び1,3−ジカ
ルボエトキシ−S−メチルイソ尿素4.18gをエタノール1
05mlに溶解し、5.5時間還流した。反応終了後、濃縮に
より得られた粗結晶をエーテルで洗浄し、白色結晶6.8g
を得た。これをDMF80mlに溶かし、110℃で24時間攪拌し
た。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸
エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮により得
られた粗結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
(展開溶媒;クロロホルム:メタノール=30:1)にて精
製して、目的化合物810mgを得た。
Example 6 Preparation of 1- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -2-amino-5,6-dichlorobenzimidazole 2,6-di-tert-butyl-4- (2- Amino-4,5-dichlorophenylamino) -phenol 6.8 g and 1,3-dicarboethoxy-S-methylisourea 4.18 g were added to ethanol 1
It was dissolved in 05 ml and refluxed for 5.5 hours. After completion of the reaction, the crude crystals obtained by concentration were washed with ether to give white crystals 6.8 g
Got This was dissolved in 80 ml of DMF and stirred at 110 ° C. for 24 hours. Water was added to the reaction mixture, extraction was performed with ethyl acetate, and the ethyl acetate layer was dried over magnesium sulfate. The crude crystal obtained by concentration was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; chloroform: methanol = 30: 1) to obtain 810 mg of the target compound.

得られた化合物の構造及び物性を第1表に化合物No.6と
して示す。
The structure and physical properties of the obtained compound are shown in Table 1 as compound No. 6.

実施例7 1−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−
2−トリフルオロメチルベンズイミダゾールの製造 実施例1で得られた化合物4.3gに、リン酸13.8mlと水2.
5mlとを加え、150℃で3時間攪拌した。放冷後、飽和重
曹水を加えてアルカリ性とし、クロロホルムで抽出し
た。抽出層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;クロロホ
ルム:酢酸エチル=30:1)にて精製して、目的化合物1.
3gを得た。
Example 7 1- (3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)-
Preparation of 2-trifluoromethylbenzimidazole 4.3 g of the compound obtained in Example 1 was added with 13.8 ml of phosphoric acid and 2.
5 ml was added and the mixture was stirred at 150 ° C. for 3 hours. After allowing to cool, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added to make the mixture alkaline, and the mixture was extracted with chloroform. The extract layer is dried over magnesium sulfate, concentrated, and then purified by silica gel column chromatography (developing solvent; chloroform: ethyl acetate = 30: 1) to obtain the target compound 1.
3g was obtained.

得られた化合物の構造及び物性を第1表に化合物No.7と
して示す。
The structure and physical properties of the obtained compound are shown in Table 1 as compound No. 7.

実施例8〜17 実施例7と同様にして第1表に示す化合物No.8〜17を製
造した。
Examples 8 to 17 Compound Nos. 8 to 17 shown in Table 1 were produced in the same manner as in Example 7.

各化合物の構造及び物性を第1表に示す。Table 1 shows the structure and physical properties of each compound.

実施例18 1−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−
2−アセチルアミノベンズイミダゾールの製造 実施例15で得られた化合物500mgを、無水酢酸0.5mlとピ
リジン5mlに溶かし、室温にて15時間攪拌した。反応混
合物に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を
硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮して得られた結晶35
0mgをメタノール30mlに溶かし、これに3.5%水酸化ナト
リウム水溶液10mlを加え、室温にて30分間攪拌した。塩
酸を加えて中性とした後、酢酸エチルで抽出し、酢酸エ
チル層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、得られた
結晶をエーテルで洗浄して、目的化合物150mgを得た。
Example 18 1- (3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)-
Preparation of 2-acetylaminobenzimidazole 500 mg of the compound obtained in Example 15 was dissolved in 0.5 ml of acetic anhydride and 5 ml of pyridine, and the mixture was stirred at room temperature for 15 hours. Water was added to the reaction mixture, extraction was performed with ethyl acetate, and the ethyl acetate layer was dried over magnesium sulfate. Crystals obtained by concentration 35
0 mg was dissolved in methanol 30 ml, 3.5% sodium hydroxide aqueous solution 10 ml was added to this, and it stirred at room temperature for 30 minutes. After adding hydrochloric acid to neutralize, the mixture was extracted with ethyl acetate, the ethyl acetate layer was dried over magnesium sulfate and concentrated, and the obtained crystals were washed with ether to obtain 150 mg of the target compound.

得られた化合物の構造及び物性を第1表にNo.18として
示す。
The structure and physical properties of the obtained compound are shown as No. 18 in Table 1.

実施例19 1−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−ニトロ
フェニル)−2−トリフルオロメチルベンズイミダゾー
ルの製造 実施例7で得られた化合物300mgを、酢酸6mlに溶解し、
これに酢酸0.21mlに溶かした濃硝酸280mlを加え、85〜9
0℃で15分間攪拌した。放冷後、飽和重曹水を加えてア
ルカリ性とし、クロロホルムで抽出した。抽出層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒;クロロホルム:n−ヘキサン
=2:1)にて精製して、目的化合物130mgを得た。
Example 19 Preparation of 1- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-nitrophenyl) -2-trifluoromethylbenzimidazole 300 mg of the compound obtained in Example 7 was dissolved in 6 ml of acetic acid,
To this, add 280 ml of concentrated nitric acid dissolved in 0.21 ml of acetic acid,
The mixture was stirred at 0 ° C for 15 minutes. After allowing to cool, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added to make the mixture alkaline, and the mixture was extracted with chloroform. The extract layer was dried over magnesium sulfate, concentrated, and then purified by silica gel column chromatography (developing solvent; chloroform: n-hexane = 2: 1) to obtain 130 mg of the target compound.

得られた化合物の構造及び物性を第1表に化合物No.19
として示す。
The structure and physical properties of the obtained compound are shown in Table 1 as compound No. 19
Show as.

実施例20 1−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−アミノ
フェニル)−2−トリフルオロメチルベンズイミダゾー
ルの製造 実施例19で得られた化合物80mgを、THF3mlに溶解し、こ
れに水5mlに溶かしたNa2S2O4 360mgを加え、室温にて30
分間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(展開溶媒;クロロホルム:n−ヘキサン=5:1)に精
製して、目的化合物63mgを得た。
Example 20 Preparation of 1- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-aminophenyl) -2-trifluoromethylbenzimidazole 80 mg of the compound obtained in Example 19 was dissolved in 3 ml of THF, and water was added thereto. Add 360 mg of Na 2 S 2 O 4 dissolved in 5 ml and stir at room temperature for 30
Stir for minutes. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer is dried over magnesium sulfate, concentrated,
The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; chloroform: n-hexane = 5: 1) to obtain 63 mg of the target compound.

得られた化合物の構造及び物性を第1表に化合物No.20
として示す。
The structure and physical properties of the obtained compound are shown in Table 1 as compound No. 20.
Show as.

実施例21 1−ベンジル−2−トリフルオロメチルベンズイミダゾ
ールの製造 水素化ナトリウム105mgをDMF5mlに懸濁させ、これにDMF
5mlに溶解した2−トリフルオロベンズイミダゾール500
mgを加え、室温にて15分間攪拌した。反応混合物に臭化
ベンジル460mgのDMF3ml溶液を加えた後、室温で2.1時間
攪拌した。
Example 21 Preparation of 1-benzyl-2-trifluoromethylbenzimidazole 105 mg of sodium hydride was suspended in 5 ml of DMF, and DMF was added thereto.
2-trifluorobenzimidazole 500 dissolved in 5 ml
mg was added, and the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes. A solution of 460 mg of benzyl bromide in 3 ml of DMF was added to the reaction mixture, followed by stirring at room temperature for 2.1 hours.

反応終了後、反応混合物中に水を加え、酢酸エチルで抽
出し、酢酸エチル抽出層より得た粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ジエチルエーテ
ル:n−ヘキサン=5:1)にて精製して、目的化合物630mg
を得た。
After completion of the reaction, water was added to the reaction mixture and the mixture was extracted with ethyl acetate, and the crude product obtained from the ethyl acetate extraction layer was subjected to silica gel column chromatography (developing solvent; diethyl ether: n-hexane = 5: 1). 630 mg of the target compound after purification
Got

得られた化合物の構造及び物性を第1表に化合物No.21
として示す。
The structure and physical properties of the obtained compound are shown in Table 1 as Compound No. 21.
Show as.

実施例22 実施例21と同様にして、第1表に示す化合物No.22を製
造した。
Example 22 Compound No. 22 shown in Table 1 was produced in the same manner as in Example 21.

得られた化合物の構造及び物性を第1表に示す。Table 1 shows the structure and physical properties of the obtained compound.

実施例23 1−[(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
メチル]−2−トリフルオロメチルベンズイミダゾール
の製造 実施例22で得られた化合物1.3gを酢酸エチル80mlに溶解
し、これに触媒として10%パラジウム−炭素130mgを加
えた。容器内を水素ガスで置換し、室温にて3日間攪拌
した。触媒を去し、液を濃縮して得られた粗生成物
を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;
ジエチルエーテル:n−ヘキサン=1:5)にて精製して、
目的化合物880mgを得た。
Example 23 1-[(3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)
Production of Methyl] -2-trifluoromethylbenzimidazole 1.3 g of the compound obtained in Example 22 was dissolved in 80 ml of ethyl acetate, and 10 mg of 10% palladium-carbon as a catalyst was added thereto. The inside of the container was replaced with hydrogen gas, and the mixture was stirred at room temperature for 3 days. The crude product obtained by removing the catalyst and concentrating the liquid was subjected to silica gel column chromatography (developing solvent;
Purify with diethyl ether: n-hexane = 1: 5),
880 mg of the target compound was obtained.

得られた化合物の構造及び物性を第1表に化合物No.23
として示す。
The structure and physical properties of the obtained compound are shown in Table 1 as Compound No. 23.
Show as.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/415 ABG ADY ADZ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location A61K 31/415 ABG ADY ADZ

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式 〔式中R1及びR2は同一又は異なって水素原子、低級アル
キル基又はハロゲン原子を、R3は低級アルキル基、置換
基として低級アルキル基を有することのあるフェニル
基、ハロゲン置換低級アルキル基、アミノ基、低級アル
キルアミノ基又は低級アルカノイルアミノ基を、R4は水
素原子、低級アルキル基、ニトロ基又はアミノ基を、R5
は水素原子、ヒドロキシル基又はベンジルオキシ基を、
R6は水素原子又は低級アルキル基をそれぞれ示し、nは
0又は1である。但し、以下の1)〜3)の場合を除
く。 1) R3が低級アルキル基、置換基として低級アルキル
基を有することのあるフェニル基、アミノ基又は低級ア
ルキルアミノ基で、R1及びR2が水素原子、R4及びR6が低
級アルキル基、R5がヒドロキシル基及びnが0の場合。 2) R1、R2、R4及びR6が共に水素原子で、R3が低級ア
ルキル基又はフェニル基、R5がヒドロキシル基及びnが
0の場合。 3) R3がアミノ基又は水素原子で、R4、R5及びR6が共
に水素原子、R1及びR2が共に水素原子又は共に低級アル
キル基及びnが1の場合。〕 で表わされるベンズイミダゾール誘導体及びその塩。
1. A general formula [Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represent a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogen atom, and R 3 is a lower alkyl group, a phenyl group which may have a lower alkyl group as a substituent, or a halogen-substituted lower alkyl group. , An amino group, a lower alkylamino group or a lower alkanoylamino group, R 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a nitro group or an amino group, R 5
Is a hydrogen atom, a hydroxyl group or a benzyloxy group,
R 6 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, respectively, and n is 0 or 1. However, the following cases 1) to 3) are excluded. 1) R 3 is a lower alkyl group, a phenyl group which may have a lower alkyl group as a substituent, an amino group or a lower alkylamino group, R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 4 and R 6 are lower alkyl groups. , R 5 is a hydroxyl group and n is 0. 2) When R 1 , R 2 , R 4 and R 6 are all hydrogen atoms, R 3 is a lower alkyl group or a phenyl group, R 5 is a hydroxyl group and n is 0. 3) When R 3 is an amino group or a hydrogen atom, R 4 , R 5 and R 6 are both hydrogen atoms, R 1 and R 2 are both hydrogen atoms or both lower alkyl groups and n is 1. ] The benzimidazole derivative represented by these, and its salt.
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