JPH0780285B2 - 液体転写用物品及びその製造方法 - Google Patents
液体転写用物品及びその製造方法Info
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- JPH0780285B2 JPH0780285B2 JP2111863A JP11186390A JPH0780285B2 JP H0780285 B2 JPH0780285 B2 JP H0780285B2 JP 2111863 A JP2111863 A JP 2111863A JP 11186390 A JP11186390 A JP 11186390A JP H0780285 B2 JPH0780285 B2 JP H0780285B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、例えばグラビア印刷において使用のためのロ
ールのような正確に計量された量の液体の別の表面への
転写に使用される液体転写用物品を製造する方法に関す
るものである。本発明はまた、そうした方法おいて製造
された物品にも関係する。液体転写物品は、基材を理論
密度の95％を超える密度を有するセラミック或いは金属
炭化物、金属或いはその混合物でコーティングし、続い
てコーティング表面にレーザ放射ビームを差し向けて、
コーティング表面上に液体を受容する凹部或いはくぼみ
パターンを生成しそして後前記レーザ刻印コーティング
表面を６ミクロインチ未満のRa、好ましくは４ミクロイ
ンチ未満のRaの表面粗さまで仕上処理することにより製
造される。
ールのような正確に計量された量の液体の別の表面への
転写に使用される液体転写用物品を製造する方法に関す
るものである。本発明はまた、そうした方法おいて製造
された物品にも関係する。液体転写物品は、基材を理論
密度の95％を超える密度を有するセラミック或いは金属
炭化物、金属或いはその混合物でコーティングし、続い
てコーティング表面にレーザ放射ビームを差し向けて、
コーティング表面上に液体を受容する凹部或いはくぼみ
パターンを生成しそして後前記レーザ刻印コーティング
表面を６ミクロインチ未満のRa、好ましくは４ミクロイ
ンチ未満のRaの表面粗さまで仕上処理することにより製
造される。
（従来技術） 印刷ロールのような液体転写物品は、指定された量の液
体、例えばインキ或いは他の物質をその表面から別の表
面へと移すのに印刷業界で使用される。液体転写物品は
一般に、液体を受容するに適した凹部或いはくぼみパタ
ーンを有する表面を具備し、このパターンが、別の表面
が液体転写用物品により接触されるときその表面に移さ
れる。液体がインキでありそしてインキが液体転写用物
品に塗布されるとき、凹部はインキで充填され、同時に
液体転写用物品の残りの表面即ちランド域における僅か
のインキは拭いとられる。インキは凹部により定義され
るそのパターンにおいてのみ含有されるから、このパタ
ーンが別の表面に転写される。
体、例えばインキ或いは他の物質をその表面から別の表
面へと移すのに印刷業界で使用される。液体転写物品は
一般に、液体を受容するに適した凹部或いはくぼみパタ
ーンを有する表面を具備し、このパターンが、別の表面
が液体転写用物品により接触されるときその表面に移さ
れる。液体がインキでありそしてインキが液体転写用物
品に塗布されるとき、凹部はインキで充填され、同時に
液体転写用物品の残りの表面即ちランド域における僅か
のインキは拭いとられる。インキは凹部により定義され
るそのパターンにおいてのみ含有されるから、このパタ
ーンが別の表面に転写される。
工業的実施において、液体転写用物品のランド域から僅
かの過剰の液体を除去するのにワイパ或いはドクターブ
レードが使用される。コーティング物品の表面が粗すぎ
ると、インキのような余剰の液体は物品の粗いラウウド
域から完全に除去されず、受取り表面上に過剰のインキ
の転写及び／或いは受取り表面の間違った場所へのイン
キの転写をもたらす。従って、浮体転写物品表面は、平
滑でそして液体を受容するに充分明確に画定された凹部
を具備せねばならない。
かの過剰の液体を除去するのにワイパ或いはドクターブ
レードが使用される。コーティング物品の表面が粗すぎ
ると、インキのような余剰の液体は物品の粗いラウウド
域から完全に除去されず、受取り表面上に過剰のインキ
の転写及び／或いは受取り表面の間違った場所へのイン
キの転写をもたらす。従って、浮体転写物品表面は、平
滑でそして液体を受容するに充分明確に画定された凹部
を具備せねばならない。
グラビア型ロールは一般に液体転写ロールとして使用さ
れる。グラビア型ロールはまた、アプリケーションロー
ル或いはパターンロールとも呼ばれる。グラビアロール
は、ロール表面の然るべき部分に様々の寸法の凹部を切
削或いは刻印することにより生成される。これら凹部に
液体が充填されそして後液体が受取り表面に転写され
る。凹部の直径及び深さは、液体転写容積を制御するよ
う変更されうる。受取り表面に転写されるべき液体のパ
ターンを提供するのは凹部の位置であり、他方凹部を定
義するランド域は僅かでも液体を転写してはならない。
ランド域は、液体が表面に適用されそして液体が凹部を
充満するとき、余剰の液体がロール表面を横切ってドク
ターブレードで払拭することにより除去しうるような共
通表面水準である。
れる。グラビア型ロールはまた、アプリケーションロー
ル或いはパターンロールとも呼ばれる。グラビアロール
は、ロール表面の然るべき部分に様々の寸法の凹部を切
削或いは刻印することにより生成される。これら凹部に
液体が充填されそして後液体が受取り表面に転写され
る。凹部の直径及び深さは、液体転写容積を制御するよ
う変更されうる。受取り表面に転写されるべき液体のパ
ターンを提供するのは凹部の位置であり、他方凹部を定
義するランド域は僅かでも液体を転写してはならない。
ランド域は、液体が表面に適用されそして液体が凹部を
充満するとき、余剰の液体がロール表面を横切ってドク
ターブレードで払拭することにより除去しうるような共
通表面水準である。
凹部の深さ及び寸法が、受取り表面に転写される液体の
量を決定する。凹部の深さ及び寸法並びに表面上での凹
部の位置（パターン）を制御することにより、転写され
るべき液体の容積及び受取り表面に転写される液体の位
置の精密な制御が実現される。加えて、液体は、凹部深
さ及び／寸法を変更することにより異なった印刷密度を
有する予備決定された高精密パターンにおいて受取り表
面に転写されうる。
量を決定する。凹部の深さ及び寸法並びに表面上での凹
部の位置（パターン）を制御することにより、転写され
るべき液体の容積及び受取り表面に転写される液体の位
置の精密な制御が実現される。加えて、液体は、凹部深
さ及び／寸法を変更することにより異なった印刷密度を
有する予備決定された高精密パターンにおいて受取り表
面に転写されうる。
代表的に、グラビアロールは、銅の外側層を有する金属
製である。一般に、銅を刻印するのに使用される刻印技
術は、凹部パターンを掘るのに例えばダイアモンドスチ
ルを使用する機械的方法或いは凹部パターンを化学的に
エッチングする光化学的方法である。刻印の完了後、銅
表面は通常クロムめっきされる。この最後の段階は、ロ
ールの刻印された銅表面の摩耗寿命を改善するのに必要
とされる。クロムめっき無しでは、ロールは急速に摩耗
し、そして印刷業界で使用されるインキにより容易に腐
食される。この理由の為、クロムめっき無しでは、銅ロ
ールは許容水準以下の低い寿命しか持たない。
製である。一般に、銅を刻印するのに使用される刻印技
術は、凹部パターンを掘るのに例えばダイアモンドスチ
ルを使用する機械的方法或いは凹部パターンを化学的に
エッチングする光化学的方法である。刻印の完了後、銅
表面は通常クロムめっきされる。この最後の段階は、ロ
ールの刻印された銅表面の摩耗寿命を改善するのに必要
とされる。クロムめっき無しでは、ロールは急速に摩耗
し、そして印刷業界で使用されるインキにより容易に腐
食される。この理由の為、クロムめっき無しでは、銅ロ
ールは許容水準以下の低い寿命しか持たない。
しかしながら、クロムめっきを行なった場合でも、ロー
ルの寿命は許容しえない程に短いことが多い。これは、
流体の研磨作用とドクターブレードによる払拭（擦過）
作用とによるものである。多くの用途において、ロール
の急速な摩耗は、大きめの寸法の深さを有する凹部を有
する大きめの寸法のロールを用意することにより対処さ
れてきた。しかし、これらロールは、ロールが新しいう
ちは液体転写が過剰であるという欠点を有した。加え
て、ロールが摩耗するにつれ、受取り表面に転写される
液体量は急激に減少し、それにより品質制御問題を生ぜ
しめた。クロムめっき銅ロールの急速な摩耗はまたかな
りの休止時間及び保守コストをもたらす。
ルの寿命は許容しえない程に短いことが多い。これは、
流体の研磨作用とドクターブレードによる払拭（擦過）
作用とによるものである。多くの用途において、ロール
の急速な摩耗は、大きめの寸法の深さを有する凹部を有
する大きめの寸法のロールを用意することにより対処さ
れてきた。しかし、これらロールは、ロールが新しいう
ちは液体転写が過剰であるという欠点を有した。加え
て、ロールが摩耗するにつれ、受取り表面に転写される
液体量は急激に減少し、それにより品質制御問題を生ぜ
しめた。クロムめっき銅ロールの急速な摩耗はまたかな
りの休止時間及び保守コストをもたらす。
極めて長い寿命を与えるようにアニロックスロールとし
てセラミックロールが長年使用されてきた。アニロック
スロールはロールの作用表面全体にわたって一様な容積
の液体を転写する液体転写ロールである。セラミックコ
ーティングロールの刻印は、銅ロールを刻印するために
従来使用されてきた刻印技術では有効にはなしえない。
その結果、セラミックコーティングロールは一般に、レ
ーザ或いは電子ビームのような高エネルギービームを使
用して刻印（穴あけ）されてきた。しかしながら、レー
ザ刻印技術は、元のロール表面の上に火山のクレータの
外観を呈する、再溶融・凝固表面の形成をもたらした。
これは、高エネルギービームにより衝突させるに際して
表面から飛ばされた溶融材料の凝固によりもたらされ
る。即ち、再凝固材料は、エネルギービームにより蒸発
せしめられなかったレーザ刻印凹部を取り巻くコーティ
ング材料が再凝固したものである（以下、凝着物と云
う）。
てセラミックロールが長年使用されてきた。アニロック
スロールはロールの作用表面全体にわたって一様な容積
の液体を転写する液体転写ロールである。セラミックコ
ーティングロールの刻印は、銅ロールを刻印するために
従来使用されてきた刻印技術では有効にはなしえない。
その結果、セラミックコーティングロールは一般に、レ
ーザ或いは電子ビームのような高エネルギービームを使
用して刻印（穴あけ）されてきた。しかしながら、レー
ザ刻印技術は、元のロール表面の上に火山のクレータの
外観を呈する、再溶融・凝固表面の形成をもたらした。
これは、高エネルギービームにより衝突させるに際して
表面から飛ばされた溶融材料の凝固によりもたらされ
る。即ち、再凝固材料は、エネルギービームにより蒸発
せしめられなかったレーザ刻印凹部を取り巻くコーティ
ング材料が再凝固したものである（以下、凝着物と云
う）。
（発明が解決しようとする課題） 凝着物付着表面は、アニロックスロールは全体が刻印さ
れそしてパターンを持たないため、アニロックスロール
の機能に顕著には影響を及ぼさない。しかし、液体転写
パターンが必要とされるグラビア印刷プロセスでは、凝
着物付着表面は顕著な問題をもたらす。グラビアロール
とアニロックスロールとの主たる差は、アニロックスロ
ールは表面全体が刻印されるのに対して、グラビアロー
ルではロールの一部が所定のパターンを形成するよう刻
印されることである。グラビアロールがパターンにより
決定される制御された態様で液体を転写するためには、
液体はドクターブレードにより刻印されていないランド
域から完全に拭い取らねばならない。レーザ刻印セラミ
ックロールの場合には、液体のを僅かに保持するランド
域の小孔の存在や凝着物表面部により、ドクターブレー
ドはランド域から液体を完全には除去しえない。凝着物
表面部は大半の印刷用途に対して排除されねばならない
が、ランド域の小孔の存在も液体をランド域に捕捉しそ
して受取り表面に転写するから重要な問題である。この
問題は特に隣り合う凹部及びパターン間の遷移帯域で顕
著である。そこでは、液体が本来汚してはならないラン
ド域上に付着する傾向がある。
れそしてパターンを持たないため、アニロックスロール
の機能に顕著には影響を及ぼさない。しかし、液体転写
パターンが必要とされるグラビア印刷プロセスでは、凝
着物付着表面は顕著な問題をもたらす。グラビアロール
とアニロックスロールとの主たる差は、アニロックスロ
ールは表面全体が刻印されるのに対して、グラビアロー
ルではロールの一部が所定のパターンを形成するよう刻
印されることである。グラビアロールがパターンにより
決定される制御された態様で液体を転写するためには、
液体はドクターブレードにより刻印されていないランド
域から完全に拭い取らねばならない。レーザ刻印セラミ
ックロールの場合には、液体のを僅かに保持するランド
域の小孔の存在や凝着物表面部により、ドクターブレー
ドはランド域から液体を完全には除去しえない。凝着物
表面部は大半の印刷用途に対して排除されねばならない
が、ランド域の小孔の存在も液体をランド域に捕捉しそ
して受取り表面に転写するから重要な問題である。この
問題は特に隣り合う凹部及びパターン間の遷移帯域で顕
著である。そこでは、液体が本来汚してはならないラン
ド域上に付着する傾向がある。
本発明の課題は、液体を容易に且つ効率的に拭い取るこ
との出来るランド域と適当な受取り表面に転写すること
の出来る調量された量の液体を保持するための複数の凹
部を具備する、印刷ロールのような、低気孔度でそして
高密度のセラミック金属炭化物、金属或いはその混合物
のコーティングを有するレーザ刻印液体転写物品を開発
することである。
との出来るランド域と適当な受取り表面に転写すること
の出来る調量された量の液体を保持するための複数の凹
部を具備する、印刷ロールのような、低気孔度でそして
高密度のセラミック金属炭化物、金属或いはその混合物
のコーティングを有するレーザ刻印液体転写物品を開発
することである。
本発明の別の課題は、低気孔度でそして高密度のセラミ
ック、金属炭化物、金属或いはその混合物のコーティン
グレーザ刻印液体転写物品を製造する有利な方法開発す
ることである。
ック、金属炭化物、金属或いはその混合物のコーティン
グレーザ刻印液体転写物品を製造する有利な方法開発す
ることである。
（問題点を解決するための手段） 本発明は、セラミック、金属炭化物、金属或いはその混
合物から成る群から選択される材料でコーティングされ
た液体転写物品に関係する。液体転写物品のコーティン
グ表面は、液体を受容するに適しそしてパターンを定義
する複数のレーザ刻印凹部を含む第１部分と、少なくと
も800HV0.3、好ましくは1000HV0.3の表面硬さと、95％
理論密度を超える、好ましくは97％理論密度を超える密
度と、約６ミクロインチ未満のRa、好ましくは約４ミク
ロインチ未満のRaの表面粗さとを有するランド域を構成
する第２部分とを具備する。ここで、「理論密度」とは
全体が気孔の無い100％中実体である場合の理論計算密
度を云い、従って95％理論密度とは全体が気孔の無い中
実体である場合を理論密度100％として、中実部分が95
％そして気孔部分が５％の場合を云う。同じく、97％理
論密度とは中実部分が97％そして気孔部分が３％の場合
を云う。本明細書で使用するものとしての「Ra」とは、
ANSI方法B46.1（1978）によりミクロインチ単位で測定
した平均表面粗さである。この測定システムでは数が大
きい程表面は粗くなる。
合物から成る群から選択される材料でコーティングされ
た液体転写物品に関係する。液体転写物品のコーティン
グ表面は、液体を受容するに適しそしてパターンを定義
する複数のレーザ刻印凹部を含む第１部分と、少なくと
も800HV0.3、好ましくは1000HV0.3の表面硬さと、95％
理論密度を超える、好ましくは97％理論密度を超える密
度と、約６ミクロインチ未満のRa、好ましくは約４ミク
ロインチ未満のRaの表面粗さとを有するランド域を構成
する第２部分とを具備する。ここで、「理論密度」とは
全体が気孔の無い100％中実体である場合の理論計算密
度を云い、従って95％理論密度とは全体が気孔の無い中
実体である場合を理論密度100％として、中実部分が95
％そして気孔部分が５％の場合を云う。同じく、97％理
論密度とは中実部分が97％そして気孔部分が３％の場合
を云う。本明細書で使用するものとしての「Ra」とは、
ANSI方法B46.1（1978）によりミクロインチ単位で測定
した平均表面粗さである。この測定システムでは数が大
きい程表面は粗くなる。
これら特性を有するランド域は表面気孔をほとんど乃至
全然示さずそして表面に接触した液体が従来型式のドク
ターブレードを使用して容易に且つ効率的に拭い取られ
ることを可能ならしめる。従って、インキのような液体
が液体転写物品の表面に付着されるとき、液体は凹部に
流しそしてそこに留まり、同時に僅かの過剰の液体はラ
ンド域の表面から拭い取ることが出来る。これは、液体
転写物品がグラビアロールであるとき、凹部内のインキ
は適当な表面に転写され、同時にロールのランド域に接
触した表面部はインキ汚れを完全に含まなくなる。
全然示さずそして表面に接触した液体が従来型式のドク
ターブレードを使用して容易に且つ効率的に拭い取られ
ることを可能ならしめる。従って、インキのような液体
が液体転写物品の表面に付着されるとき、液体は凹部に
流しそしてそこに留まり、同時に僅かの過剰の液体はラ
ンド域の表面から拭い取ることが出来る。これは、液体
転写物品がグラビアロールであるとき、凹部内のインキ
は適当な表面に転写され、同時にロールのランド域に接
触した表面部はインキ汚れを完全に含まなくなる。
本発明の別の様相は、液体を転写するのに使用される液
体転写物品を製造する方法に関係し、この方法は、 （ａ）物品をセラミック、金属炭化物、金属或いはその
混合物から成る群から選択される材料の少なくとも一つ
の層でコーティングして、該コーティング層の表面が少
なくとも95％理論密度の密度を有するものとなす段階
と、 （ｂ）該コーティング表面をエネルギービームで刻印し
て、表面の第１部分に凹部のパターンをそしてエネルギ
ービームにより接触されなかった第２表面部分にランド
域を創成する段階と、 （ｃ）前記エネルギービームにより凹部の周囲に形成さ
れた僅かの凝着材料を除去しそして６ミクロインチ未満
のRa、好ましくは４ミクロインチ未満のRaを有するラン
ド域表面を与えるよう、前記レーザ刻印コーティング表
面を処理する段階と を包含する。
体転写物品を製造する方法に関係し、この方法は、 （ａ）物品をセラミック、金属炭化物、金属或いはその
混合物から成る群から選択される材料の少なくとも一つ
の層でコーティングして、該コーティング層の表面が少
なくとも95％理論密度の密度を有するものとなす段階
と、 （ｂ）該コーティング表面をエネルギービームで刻印し
て、表面の第１部分に凹部のパターンをそしてエネルギ
ービームにより接触されなかった第２表面部分にランド
域を創成する段階と、 （ｃ）前記エネルギービームにより凹部の周囲に形成さ
れた僅かの凝着材料を除去しそして６ミクロインチ未満
のRa、好ましくは４ミクロインチ未満のRaを有するラン
ド域表面を与えるよう、前記レーザ刻印コーティング表
面を処理する段階と を包含する。
一般に、コーティングそしてシーラント（使用されるの
なら）の被覆適用後、表面は、従来からの研磨技術によ
り、ロール表面としての所望の寸法及び誤差にまでそし
てレーザ処理に対して一様な表面を提供するために20ミ
クロインチ以下のRa、好ましくは10ミクロインチRaの粗
さまで仕上げられる。レーザ刻印後、凝着域はレーザ刻
印前のコーティング物品の元の表面高さまで或いはそれ
以下に仕上げられそしてランド域は６ミクロインチRa、
好ましくは４ミクロインチRa以下の粗さを与えるように
仕上げられる。厳密さの少ない用途では、僅かの凝着物
付着領域は容認されうる。
なら）の被覆適用後、表面は、従来からの研磨技術によ
り、ロール表面としての所望の寸法及び誤差にまでそし
てレーザ処理に対して一様な表面を提供するために20ミ
クロインチ以下のRa、好ましくは10ミクロインチRaの粗
さまで仕上げられる。レーザ刻印後、凝着域はレーザ刻
印前のコーティング物品の元の表面高さまで或いはそれ
以下に仕上げられそしてランド域は６ミクロインチRa、
好ましくは４ミクロインチRa以下の粗さを与えるように
仕上げられる。厳密さの少ない用途では、僅かの凝着物
付着領域は容認されうる。
上述したように、凝着領域は、エネルギービームにより
蒸発されず、再凝固した、コーティング材料がレーザ刻
印凹部を取り巻いて融着したものである。凝着材料は元
のコーティングとはかなり異なりうることが見出され
た。一般に、凝着材料は元の材料より高密度でありそし
て低気孔質である。多相コーティングにおいて、凝着材
料は代表的に、単一相であるように思われる。ランド域
の表面上方の凝着材料の除去は、ドクターブレードがラ
ンド域に残存する僅かの液体を除去することを可能なら
しめるために必要とされる。これは、誤った場所におい
て受取り表面に所望されざる液体が転写されるのを防止
する。
蒸発されず、再凝固した、コーティング材料がレーザ刻
印凹部を取り巻いて融着したものである。凝着材料は元
のコーティングとはかなり異なりうることが見出され
た。一般に、凝着材料は元の材料より高密度でありそし
て低気孔質である。多相コーティングにおいて、凝着材
料は代表的に、単一相であるように思われる。ランド域
の表面上方の凝着材料の除去は、ドクターブレードがラ
ンド域に残存する僅かの液体を除去することを可能なら
しめるために必要とされる。これは、誤った場所におい
て受取り表面に所望されざる液体が転写されるのを防止
する。
好ましくは、前述した段階（ａ）の後、次の段階が追加
される： （ａ′）コーティング物品をシーラントで目止め、即ち
シールする段階。
される： （ａ′）コーティング物品をシーラントで目止め、即ち
シールする段階。
適当なシーラントは、本件出願人から販売されているUC
AR100シーラントのようなエポキシシーラントである。U
CAR100は、DGEBRを含有する熱硬化性エポキシ樹脂に対
するユニオンカーバイド社の商品名である。シーラント
はコーティングプロセス中発現しうる微小な孔を有効に
塞ぎ、従ってコーティング部品の使用中遭遇する水及び
アルカリ溶液に対する耐性を与えそして同時にコーティ
ング物品の取扱い中遭遇する恐れのある汚染に対する防
止作用を提供する。
AR100シーラントのようなエポキシシーラントである。U
CAR100は、DGEBRを含有する熱硬化性エポキシ樹脂に対
するユニオンカーバイド社の商品名である。シーラント
はコーティングプロセス中発現しうる微小な孔を有効に
塞ぎ、従ってコーティング部品の使用中遭遇する水及び
アルカリ溶液に対する耐性を与えそして同時にコーティ
ング物品の取扱い中遭遇する恐れのある汚染に対する防
止作用を提供する。
（発明の具体的説明） 耐火酸化物或いは金属炭化物コーティングのような任意
の適当なセラミック或いは金属或いはその混合物コーテ
ィングがロールの表面に被覆されうる。例えば、炭化タ
ングステン−コバルト、炭化タングステン−ニッケル、
炭化タングステン−コバルト・クロム、炭化タングステ
ン−クロム、炭化タングステン−ニッケル・クロム、ク
ロム−ニッケル、酸化アルミニウム、炭化クロム−ニッ
ケル・クロム、炭化クロム−コバルト・クロム、タング
ステン−炭化チタン−ニッケル、コバルト合金、酸化物
分散コバルト合金、アルミナ−チタニア、銅基合金、ク
ロム基合金、酸化クロム、酸化クロム＋酸化アルミニウ
ム、酸化チタン、チタン＋酸化アルミニウム、鉄基合
金、酸化物分散鉄基合金、ニッケル及びニッケル基合金
その他が使用されうる。好ましくは、酸化クロム（Cr2O
3）、酸化アルミニウム（Al2O3）及び酸化珪素並びにそ
の混合物がコーティング材料として使用され、酸化クロ
ムが最も好ましい。
の適当なセラミック或いは金属或いはその混合物コーテ
ィングがロールの表面に被覆されうる。例えば、炭化タ
ングステン−コバルト、炭化タングステン−ニッケル、
炭化タングステン−コバルト・クロム、炭化タングステ
ン−クロム、炭化タングステン−ニッケル・クロム、ク
ロム−ニッケル、酸化アルミニウム、炭化クロム−ニッ
ケル・クロム、炭化クロム−コバルト・クロム、タング
ステン−炭化チタン−ニッケル、コバルト合金、酸化物
分散コバルト合金、アルミナ−チタニア、銅基合金、ク
ロム基合金、酸化クロム、酸化クロム＋酸化アルミニウ
ム、酸化チタン、チタン＋酸化アルミニウム、鉄基合
金、酸化物分散鉄基合金、ニッケル及びニッケル基合金
その他が使用されうる。好ましくは、酸化クロム（Cr2O
3）、酸化アルミニウム（Al2O3）及び酸化珪素並びにそ
の混合物がコーティング材料として使用され、酸化クロ
ムが最も好ましい。
これら金属、セラミックス（酸化物）、金属炭化物及び
その混合物は、２つの周知の方法、即ち爆発銃（detona
tion gun）法（Ｄ−銃法とも呼ばれる）及びプラズマコ
ーティング法のいずれかによりロールの金属表面に被覆
される。爆発銃法は、周知でありそして米国特許第2,71
4,563;4,173,685;及び4,519,840号に詳しく記載され
る。基材をコーティングするための従来からのプラズマ
技術は、米国特許第3,016,447;3,914,573;3,958,097;4,
173,685;及び4,519,840号に記載される。プラズマ法或
いは爆発銃法いずれかにより被覆されるコーティングの
厚さは、0.5〜100ミルの範囲をとりそして粗さはプロセ
ス、即ちＤ−銃或いはプラズマ、コーティング材料の種
類、コーティング厚さに依存して約50〜1000ミクロイン
チRaの範囲にある。
その混合物は、２つの周知の方法、即ち爆発銃（detona
tion gun）法（Ｄ−銃法とも呼ばれる）及びプラズマコ
ーティング法のいずれかによりロールの金属表面に被覆
される。爆発銃法は、周知でありそして米国特許第2,71
4,563;4,173,685;及び4,519,840号に詳しく記載され
る。基材をコーティングするための従来からのプラズマ
技術は、米国特許第3,016,447;3,914,573;3,958,097;4,
173,685;及び4,519,840号に記載される。プラズマ法或
いは爆発銃法いずれかにより被覆されるコーティングの
厚さは、0.5〜100ミルの範囲をとりそして粗さはプロセ
ス、即ちＤ−銃或いはプラズマ、コーティング材料の種
類、コーティング厚さに依存して約50〜1000ミクロイン
チRaの範囲にある。
上述したように、ロール上のコーティングは好ましく
は、例えばユニオンカーバイド社から市販入手されるUC
AR100エポキシのようなエポキシシーラントに代表され
る適当な孔目止め材で処理されうる。この処理は、水分
或いは他の種腐食性物質がコーティングを通して浸透す
るのを防止して、ロールの下側構造部に付着しそして劣
化するのを防止するべく孔を塞ぐ。
は、例えばユニオンカーバイド社から市販入手されるUC
AR100エポキシのようなエポキシシーラントに代表され
る適当な孔目止め材で処理されうる。この処理は、水分
或いは他の種腐食性物質がコーティングを通して浸透す
るのを防止して、ロールの下側構造部に付着しそして劣
化するのを防止するべく孔を塞ぐ。
コーティングされたロールは、20ミクロインチ以下の粗
さまで表面仕上された後、コーティング材料表面にレー
ザ形成凹部により定義される適当なパターンを創出する
ためにCO2レーザを使用してレーザ刻印される。
さまで表面仕上された後、コーティング材料表面にレー
ザ形成凹部により定義される適当なパターンを創出する
ためにCO2レーザを使用してレーザ刻印される。
転写されるべき液体の容積は、各凹部の容積（深さ及び
直径）並びに単位面積当りの凹部の数により制御され
る。レーザ形成凹部の深さは、数ミクロン以下から120
〜140ミクロン或いはもっと大きい範囲までとりうる。
もちろん、各凹部の平均直径は、単位長さ当りのレーザ
形成凹部のパターンと数により制御される。好ましく
は、物品の表面の帯域は、２つの部分に分割される。第
１の部分は、方形パターン、30度パターン或いは45度パ
ターンのような一様なパターンにおける凹部を含み、単
位インチ長さ当りのレーザ刻印凹部の数は代表的に80〜
550の範囲でありそして残りの第２部分は凹部を含まな
い（ランド域）。ランド域上での凝着物の存在は、ドク
ターブレードがランド域上の僅かの液体を除去するべく
表面を横切って移動されるに際してランド域の凹部のな
い部分へのインキ汚染をもたらす。凹部間で平滑なラン
ド域を生成するべく凝着物質を除去することにより、こ
の問題は回避される。
直径）並びに単位面積当りの凹部の数により制御され
る。レーザ形成凹部の深さは、数ミクロン以下から120
〜140ミクロン或いはもっと大きい範囲までとりうる。
もちろん、各凹部の平均直径は、単位長さ当りのレーザ
形成凹部のパターンと数により制御される。好ましく
は、物品の表面の帯域は、２つの部分に分割される。第
１の部分は、方形パターン、30度パターン或いは45度パ
ターンのような一様なパターンにおける凹部を含み、単
位インチ長さ当りのレーザ刻印凹部の数は代表的に80〜
550の範囲でありそして残りの第２部分は凹部を含まな
い（ランド域）。ランド域上での凝着物の存在は、ドク
ターブレードがランド域上の僅かの液体を除去するべく
表面を横切って移動されるに際してランド域の凹部のな
い部分へのインキ汚染をもたらす。凹部間で平滑なラン
ド域を生成するべく凝着物質を除去することにより、こ
の問題は回避される。
広く様々のレーザ機械が、コーティングに凹部を形成す
るのに使用されうる。一般に、10〜300ミクロ秒の期間
に0.0001〜0.4ジュール／レーザパルスのビーム或いは
パルス放射を発生することの出来るレーザが使用されう
る。レーザパルスは所望される特定の凹部パターンに依
存して30〜2000ミクロ秒の間隔とされうる。もっと高い
或いは低いエネルギー及び期間の値が使用出来そして斯
界で容易に得られる他のレーザ刻印技術が本発明におい
て使用されうる。レーザ刻印後、表面粗さは代表的に、
20〜1000ミクロインチRaの範囲であり、そして凹部は10
〜300ミクロン直径及び５〜250ミクロン深さ範囲であ
る。
るのに使用されうる。一般に、10〜300ミクロ秒の期間
に0.0001〜0.4ジュール／レーザパルスのビーム或いは
パルス放射を発生することの出来るレーザが使用されう
る。レーザパルスは所望される特定の凹部パターンに依
存して30〜2000ミクロ秒の間隔とされうる。もっと高い
或いは低いエネルギー及び期間の値が使用出来そして斯
界で容易に得られる他のレーザ刻印技術が本発明におい
て使用されうる。レーザ刻印後、表面粗さは代表的に、
20〜1000ミクロインチRaの範囲であり、そして凹部は10
〜300ミクロン直径及び５〜250ミクロン深さ範囲であ
る。
ロールのような液体転写物質のレーザ処理後、コーティ
ングされた表面は、例えば「Carbide and Tool Journa
l」３月/4月（1988）において掲載された「Roll Superf
inishing with Coated Abrasives」に記載されるような
ミクロ仕上げ（超仕上げとも呼ばれる）を使用して約６
ミクロインチ未満に仕上げられる。ミクロ仕上げ技術
は、刻印されたロールの全長にわたって予想可能な一貫
した表面仕上げを与えそしてドクターブレードによって
すべての所望されざる液体がランド域から有効に除去さ
れうるよう凝着物の存在しない表面を提供する。
ングされた表面は、例えば「Carbide and Tool Journa
l」３月/4月（1988）において掲載された「Roll Superf
inishing with Coated Abrasives」に記載されるような
ミクロ仕上げ（超仕上げとも呼ばれる）を使用して約６
ミクロインチ未満に仕上げられる。ミクロ仕上げ技術
は、刻印されたロールの全長にわたって予想可能な一貫
した表面仕上げを与えそしてドクターブレードによって
すべての所望されざる液体がランド域から有効に除去さ
れうるよう凝着物の存在しない表面を提供する。
第１及び２図は、鋼製基材４とセラミックス製表面コー
ティング６を有する従来からのシリンダロール２を示
す。コーティングされた表面の一部は従来からのレーザ
刻印処理による場合に見出される複数の凹部８を備える
ものとして示される。詳しくは、コーティングされた表
面はそこに適当なパターンの凹部８を生成するべくレー
ザを使用してレーザ刻印され、その場合各凹部は受取り
表面に転写されるべき液体量を受容するよう予備選択さ
れた容積を有する。実際上は、凹部の数は図示したより
も著しく多くそして人間の目では識別出来ない程群集し
ている。レーザ刻印凹部の深さは、数ミクロン乃至それ
以下から200ミクロン乃至それ以上にも及んで変化しう
る。第１及び２図に示されるように、レーザ刻印は凹部
８の形成と同時に各凹部８の周囲に形成される新たな凝
着域10をもたらす。凝着部は小さな火山クレータの様相
を有しそしてコーティング表面がレーザからの高エネル
ギービームにより衝突されるときコーティング層表面か
ら放出された溶融コーティング材料の凝固により生じ
る。
ティング６を有する従来からのシリンダロール２を示
す。コーティングされた表面の一部は従来からのレーザ
刻印処理による場合に見出される複数の凹部８を備える
ものとして示される。詳しくは、コーティングされた表
面はそこに適当なパターンの凹部８を生成するべくレー
ザを使用してレーザ刻印され、その場合各凹部は受取り
表面に転写されるべき液体量を受容するよう予備選択さ
れた容積を有する。実際上は、凹部の数は図示したより
も著しく多くそして人間の目では識別出来ない程群集し
ている。レーザ刻印凹部の深さは、数ミクロン乃至それ
以下から200ミクロン乃至それ以上にも及んで変化しう
る。第１及び２図に示されるように、レーザ刻印は凹部
８の形成と同時に各凹部８の周囲に形成される新たな凝
着域10をもたらす。凝着部は小さな火山クレータの様相
を有しそしてコーティング表面がレーザからの高エネル
ギービームにより衝突されるときコーティング層表面か
ら放出された溶融コーティング材料の凝固により生じ
る。
液体転写物品のコーティング表面のレーザ処理後、コー
ティング表面は先に述べたようなミクロ仕上技術を使用
して約６ミクロインチ未満のRaの粗さまで仕上げられ
る。ミクロ仕上技術はコーティング表面全長にわたって
予想可能な、一貫した表面仕上を提供しそして各凹部周
囲の凝着域を有効に排除する。第３及び４図は、仕上処
理が完了した後の第１図のロールを示し、ここでは凝着
域10が除去されて平滑な表面が提供されている。ロール
２の長手軸線14に平行なロール表面の平面に含まれる帯
域として定義される表面域12はランド域と呼ばれる。先
に述べたように、隣り合う凹部間の帯域を含むランド域
が適正な密度を持たず、表面が所望されざる小孔を持つ
と、ドクターブレードはランド域から液体をうまく完全
に除去しえない。ランド域に残存する僅かの液体が所望
されない汚れとして受取り表面に転写されまた受取り表
面の誤った場所に転写される。
ティング表面は先に述べたようなミクロ仕上技術を使用
して約６ミクロインチ未満のRaの粗さまで仕上げられ
る。ミクロ仕上技術はコーティング表面全長にわたって
予想可能な、一貫した表面仕上を提供しそして各凹部周
囲の凝着域を有効に排除する。第３及び４図は、仕上処
理が完了した後の第１図のロールを示し、ここでは凝着
域10が除去されて平滑な表面が提供されている。ロール
２の長手軸線14に平行なロール表面の平面に含まれる帯
域として定義される表面域12はランド域と呼ばれる。先
に述べたように、隣り合う凹部間の帯域を含むランド域
が適正な密度を持たず、表面が所望されざる小孔を持つ
と、ドクターブレードはランド域から液体をうまく完全
に除去しえない。ランド域に残存する僅かの液体が所望
されない汚れとして受取り表面に転写されまた受取り表
面の誤った場所に転写される。
本発明に従えば、ランド域は理論値の95％を超える密度
と、約６ミクロインチ未満のRa、好ましくは約４ミクロ
インチ未満のRaの表面粗さを有する。これら特性を有す
るランド域を使用すると、ランド域に含まれる僅かの液
体はドクターブレードにより容易に且つ有効に除去され
うるので、受取り表面に転写される液体は凹部８内に含
まれる液体のみとなる。これは液体が受取り表面の誤っ
た場所に転写されないことを保証しまた受取り表面上の
インキ汚れを防止する。
と、約６ミクロインチ未満のRa、好ましくは約４ミクロ
インチ未満のRaの表面粗さを有する。これら特性を有す
るランド域を使用すると、ランド域に含まれる僅かの液
体はドクターブレードにより容易に且つ有効に除去され
うるので、受取り表面に転写される液体は凹部８内に含
まれる液体のみとなる。これは液体が受取り表面の誤っ
た場所に転写されないことを保証しまた受取り表面上の
インキ汚れを防止する。
レーザ刻印コーティングロールをミクロ仕上するための
代表的手段は、ロール表面を横切ってフィルム裏打ちダ
イアモンドテープを連続的に移動することである。テー
プ速度及び粒度は望まれる凝着物除去速度に対して設定
され、そして代表的にテープ移動速度は３〜４インチ／
分（８〜10cm/分）の範囲である。研磨テープがロール
に沿って移動されるに際して、ロールもまた50〜100rpm
の回転速度で回転せしめられる。研磨テープは、ロール
の表面に特定の粗さ水準が得られるように従来手段によ
りロールに押し付けそして制御するようにすることも出
来る。ロールにおけるRa粗さは所望の値に達するまで連
続的に測定されうる。
代表的手段は、ロール表面を横切ってフィルム裏打ちダ
イアモンドテープを連続的に移動することである。テー
プ速度及び粒度は望まれる凝着物除去速度に対して設定
され、そして代表的にテープ移動速度は３〜４インチ／
分（８〜10cm/分）の範囲である。研磨テープがロール
に沿って移動されるに際して、ロールもまた50〜100rpm
の回転速度で回転せしめられる。研磨テープは、ロール
の表面に特定の粗さ水準が得られるように従来手段によ
りロールに押し付けそして制御するようにすることも出
来る。ロールにおけるRa粗さは所望の値に達するまで連
続的に測定されうる。
転写される代表的液体はインキであるが、液体接着剤の
ような他の適当な液体も使用出来る。
ような他の適当な液体も使用出来る。
仕上プロセス全体中、コーティングロール表面における
凹部の所望の液体転写容積が達成されるように刻印域の
凹部の容積を絶えず測定することを可能とする精密な技
術を使用することが推奨される。液体転写容積を測定す
るための好ましい方法は、表面に既知容積のインキを塗
布しそしてなるだけ多くの凹部を完全に充填するように
表面全体にインキを広げることである。インキ刷り（印
刷）がロールのインキ付き部分においてためされそして
受取り表面上での像即ちインキプロットの表面が正確に
測定される。ロールに付着したインキの既知容積を転写
像の測定面積で割り、その商がロールの容積容量であ
る。インキの１ミクロリットルは109（ミクロン）３で
あるから、インキ容積がミクロリットル単位でそして面
積がインチ２単位であるなら、単位は109ミクロン3/イ
ンチ２（BCM/in2）である。
凹部の所望の液体転写容積が達成されるように刻印域の
凹部の容積を絶えず測定することを可能とする精密な技
術を使用することが推奨される。液体転写容積を測定す
るための好ましい方法は、表面に既知容積のインキを塗
布しそしてなるだけ多くの凹部を完全に充填するように
表面全体にインキを広げることである。インキ刷り（印
刷）がロールのインキ付き部分においてためされそして
受取り表面上での像即ちインキプロットの表面が正確に
測定される。ロールに付着したインキの既知容積を転写
像の測定面積で割り、その商がロールの容積容量であ
る。インキの１ミクロリットルは109（ミクロン）３で
あるから、インキ容積がミクロリットル単位でそして面
積がインチ２単位であるなら、単位は109ミクロン3/イ
ンチ２（BCM/in2）である。
（実施例及び比較例） 以下の例において、転写容積を次のようにして測定し
た。
た。
1.ピペットを使用して水溶性インキの25ミクロリットル
のサンプルを吸い上げる。
のサンプルを吸い上げる。
2.ロールの表面にインキを徐々に押し出すことによりロ
ールの表面上にインキを落す。ロールは測定される表面
を上にむけてロール軸線を水平にして整列する。約3/4
インチの距離にわたってインキを左右に振り分けながら
ピペットを約45度の角度に保持しつつロールの周囲にそ
れを進行する。
ールの表面上にインキを落す。ロールは測定される表面
を上にむけてロール軸線を水平にして整列する。約3/4
インチの距離にわたってインキを左右に振り分けながら
ピペットを約45度の角度に保持しつつロールの周囲にそ
れを進行する。
3.ドクターブレードをロール軸線に直交する方向におい
てロール周囲表面を横切ってゆっくりとそして安定して
通過させることによりインキを広げる。ドクターブレー
ドはそれがインキ付着物の大部分と接触するようにイン
キ付着と同じ方向に通される。
てロール周囲表面を横切ってゆっくりとそして安定して
通過させることによりインキを広げる。ドクターブレー
ドはそれがインキ付着物の大部分と接触するようにイン
キ付着と同じ方向に通される。
4.ロール表面におけるインキ像が転写紙をインキ付き領
域上に載せることにより紙に転写される。ずりを防止す
るよう紙を密着状態に保持しながら、紙の裏面をこすっ
てインキをロールの凹部から受取り表面に転写する。目
標は既知インキ量により充填された刻印部のの像をうる
ことであるから、凹部内のインキのすべてを転写するこ
とは必要でない。紙が取り除かれそしてロール表面はス
テンレス鋼製清掃ブラシを使用して蒸留水で速やかに浄
化される。像の縁辺がフェザーエッジ状を有しているな
ら、乾燥時にフェルトチップブラックペンで、輪郭線の
外縁が最大像密度点と像が消失する点との中間になるよ
うにして、像を輪郭どる。
域上に載せることにより紙に転写される。ずりを防止す
るよう紙を密着状態に保持しながら、紙の裏面をこすっ
てインキをロールの凹部から受取り表面に転写する。目
標は既知インキ量により充填された刻印部のの像をうる
ことであるから、凹部内のインキのすべてを転写するこ
とは必要でない。紙が取り除かれそしてロール表面はス
テンレス鋼製清掃ブラシを使用して蒸留水で速やかに浄
化される。像の縁辺がフェザーエッジ状を有しているな
ら、乾燥時にフェルトチップブラックペンで、輪郭線の
外縁が最大像密度点と像が消失する点との中間になるよ
うにして、像を輪郭どる。
5.像の面積を標準的技術を使用してプラニメータで像の
輪郭をトレースすることにより測定する。別様には、約
0.2インチのますめを有する転写紙を使用して手作業で
面積を計算するか或いはコンピュータスキャニング技術
を使用することも出来る。
輪郭をトレースすることにより測定する。別様には、約
0.2インチのますめを有する転写紙を使用して手作業で
面積を計算するか或いはコンピュータスキャニング技術
を使用することも出来る。
例Ｉ 6.5インチ直径×24インチ長さのシリンダ作用表面を有
するロールをプラズマ溶射プロセスにより酸化クロム
（Cr2O3）でコーティングした。コーティングの表面は1
8Raの仕上げ粗さまで研磨した。作用表面をCO2パルスレ
ーザでレーザ刻印した。表面を一様なレーザ凹部パター
ンを有する第１部分とレーザ凹部を有しない第２部分
（ランド域）の２つの部分にわけて、表面全体にわたっ
てレーザ凹部パターンを形成した。レーザ凹部パターン
は凹部パターン形成部分のみレーザが作動するようにレ
ーザ設備をプログラム化することにより形成した。
するロールをプラズマ溶射プロセスにより酸化クロム
（Cr2O3）でコーティングした。コーティングの表面は1
8Raの仕上げ粗さまで研磨した。作用表面をCO2パルスレ
ーザでレーザ刻印した。表面を一様なレーザ凹部パター
ンを有する第１部分とレーザ凹部を有しない第２部分
（ランド域）の２つの部分にわけて、表面全体にわたっ
てレーザ凹部パターンを形成した。レーザ凹部パターン
は凹部パターン形成部分のみレーザが作動するようにレ
ーザ設備をプログラム化することにより形成した。
レーザにより凹部形成後、ロール表面を約４インチ巾の
テープにダイヤモンド粒子を付着した研磨テープを使用
してミクロ仕上した。研磨テープを圧力を適用しながら
ロール上を移動した。ロールは研磨テープをロール表面
を横切って９回の往復パスを行なうことにより仕上げ
た。表Ａには、粒度（研磨粒子のミクロン単位での平均
寸法）及びロールに台板を圧接する圧力（ロール表面に
テープを押し付けるのに使用した1.5インチ直径のシリ
ンダの空気圧力を測定）を示す。
テープにダイヤモンド粒子を付着した研磨テープを使用
してミクロ仕上した。研磨テープを圧力を適用しながら
ロール上を移動した。ロールは研磨テープをロール表面
を横切って９回の往復パスを行なうことにより仕上げ
た。表Ａには、粒度（研磨粒子のミクロン単位での平均
寸法）及びロールに台板を圧接する圧力（ロール表面に
テープを押し付けるのに使用した1.5インチ直径のシリ
ンダの空気圧力を測定）を示す。
第２番目のパス毎にRa及びインキ容積試験を行ないそし
て所望の粗さが得られるまで次の２段階を繰り返した。
その後、ロールをインキを受取り表面に転写するのに使
用した。転写されたインキは凹部内に受容されていたイ
ンキのみでありそしてランド域に相当する受取り表面上
の帯域はインキ汚れ或いは所望されざるインキ付着の兆
候を示さなかった。
て所望の粗さが得られるまで次の２段階を繰り返した。
その後、ロールをインキを受取り表面に転写するのに使
用した。転写されたインキは凹部内に受容されていたイ
ンキのみでありそしてランド域に相当する受取り表面上
の帯域はインキ汚れ或いは所望されざるインキ付着の兆
候を示さなかった。
表面を７ミクロインチRa或いはもっと高い粗さ（６回よ
り少ないパス）に仕上げたサンプルロールを、各ロール
の表面をドクターブレードがきれいに拭い取ることが出
来るかどうかを見るために試験した。各ロールの表面粗
さが７ミクロインチより高いサンプルのすべてにおい
て、ドクターブレードは誤った位置において受取り表面
に転写される所望されざるインキを残した。各ロールが
５ミクロインチRa以下（７回以上のパス）の粗さに表面
を仕上げられた他のサンプルロールにおいては、ドクタ
ーブレードは各ロールの表面をきれいに払拭出来たの
で、受取り表面に誤った位置においてインキは転写され
なかった。
り少ないパス）に仕上げたサンプルロールを、各ロール
の表面をドクターブレードがきれいに拭い取ることが出
来るかどうかを見るために試験した。各ロールの表面粗
さが７ミクロインチより高いサンプルのすべてにおい
て、ドクターブレードは誤った位置において受取り表面
に転写される所望されざるインキを残した。各ロールが
５ミクロインチRa以下（７回以上のパス）の粗さに表面
を仕上げられた他のサンプルロールにおいては、ドクタ
ーブレードは各ロールの表面をきれいに払拭出来たの
で、受取り表面に誤った位置においてインキは転写され
なかった。
液体媒体としてラテックス接着剤を使用する場合には、
表面粗さは、大半の用途において、表面がドクターブレ
ードにより拭われた後表面に所望されざる接着剤が残存
しないように４ミクロインチRa以下に仕上げられるべき
である。
表面粗さは、大半の用途において、表面がドクターブレ
ードにより拭われた後表面に所望されざる接着剤が残存
しないように４ミクロインチRa以下に仕上げられるべき
である。
（発明の効果） 液体を容易に且つ効率的に拭い取ることの出来るランド
域と適当な受取り表面に転写することの出来る調量され
た量の得体を保持するための複数の凹部を具備する、印
刷ロールのような、低気孔度でそして高密度のセラミッ
ク等コーティングレーザ刻印液体転写物品を提供し、液
体転写の信頼性を向上する。
域と適当な受取り表面に転写することの出来る調量され
た量の得体を保持するための複数の凹部を具備する、印
刷ロールのような、低気孔度でそして高密度のセラミッ
ク等コーティングレーザ刻印液体転写物品を提供し、液
体転写の信頼性を向上する。
本発明の好ましい具体例について説明したが、本発明の
範囲内で当業者は多くの変更をなしうることを銘記され
たい。
範囲内で当業者は多くの変更をなしうることを銘記され
たい。
第１図は、ロール表面のレーザ刻印パターンを示すロー
ルの側面図である。 第２図は、第１図の２−２線に沿うロールの断面図であ
る。 第３図は、凝着部を除去した後のロールの側面図であ
る。 第４図は、第３図の４−４線に沿うロールの断面図であ
る。 2:ロール 4:基材 6:表面コーティング 8:凹部 10:凝着物 12:ランド域
ルの側面図である。 第２図は、第１図の２−２線に沿うロールの断面図であ
る。 第３図は、凝着部を除去した後のロールの側面図であ
る。 第４図は、第３図の４−４線に沿うロールの断面図であ
る。 2:ロール 4:基材 6:表面コーティング 8:凹部 10:凝着物 12:ランド域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ３２Ｂ 15/08 Ｅ 18/00 Ｃ 9268−4Ｆ Ｂ４１Ｆ 13/11 Ｂ４１Ｎ 1/12 8808−2Ｈ Ｃ２３Ｃ 4/00 14/32 Ｚ 8414−4Ｋ
Claims (8)
- 【請求項１】セラミック、金属炭化物、金属及びその混
合物から成る群から選択される材料でコーティングされ
た液体転写物品であって、コーティング表面が液体を受
容するに適しそしてパターンを定義する複数のレーザ刻
印凹部を含む第１部分と、95％理論密度を超える密度
と、約６ミクロインチ未満のRaの表面粗さを有するラン
ド域を構成する第２部分とを具備することを特徴とする
液体転写物品。 - 【請求項２】物品が酸化クロムでコーティングされた鋼
製である特許請求の範囲第１項記載の液体転写物品。 - 【請求項３】物品がシリンダ状グラビアロールである特
許請求の範囲第１或いは２項記載の液体転写物品。 - 【請求項４】液体を転写するのに使用される液体転写物
品を製造する方法であって、 （ａ）物品をセラミック、金属炭化物、金属及びその混
合物から成る群から選択される材料の少なくとも一つの
層でコーティングして、該コーティング層の表面が少な
くとも95％理論密度の密度を有するものとなす段階と、 （ｂ）該コーティング表面をエネルギービームで刻印し
て、表面の第１部分に凹部のパターンをそしてエネルギ
ービームにより接触されなかった第２表面部分にランド
域を創成する段階と、 （ｃ）前記エネルギービームにより凹部の周囲に形成さ
れた僅かの凝着材料を除去しそして６ミクロインチ未満
のRaを有するランド域表面を与えるよう、前記レーザ刻
印コーティング表面を処理する段階と を包含する液体転写物品製造方法。 - 【請求項５】段階（ａ）の後、（ａ′）コーティング表
面を20ミクロインチRa未満の粗さを得るよう処理する段
階を含む特許請求の範囲第４項記載の方法。 - 【請求項６】段階（ａ）の後、（ａ′）コーティング表
面を10ミクロインチRa未満の粗さを得るよう処理する段
階を含む特許請求の範囲第４項記載の方法。 - 【請求項７】段階（ａ）の後、（ａ′）コーティング物
品をシーラントでシールする段階を含む特許請求の範囲
第４項記載の方法。 - 【請求項８】段階（ａ′）の後、（ａ″）コーティング
表面を20ミクロインチRa未満の粗さを得るよう処理する
段階を含む特許請求の範囲第７項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US346573 | 1989-05-02 | ||
| US07/346,573 US5093180A (en) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | Liquid transfer articles and method for producing them |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02305640A JPH02305640A (ja) | 1990-12-19 |
| JPH0780285B2 true JPH0780285B2 (ja) | 1995-08-30 |
Family
ID=23360047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2111863A Expired - Fee Related JPH0780285B2 (ja) | 1989-05-02 | 1990-05-01 | 液体転写用物品及びその製造方法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5093180A (ja) |
| EP (1) | EP0396114B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0780285B2 (ja) |
| KR (1) | KR940005642B1 (ja) |
| AU (1) | AU621745B2 (ja) |
| CA (1) | CA2015807C (ja) |
| DE (1) | DE69010562T2 (ja) |
| ES (1) | ES2056291T3 (ja) |
| FI (1) | FI902141A7 (ja) |
Families Citing this family (47)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5213742A (en) * | 1990-09-11 | 1993-05-25 | Vitaphore Corporation | Method of producing pores of controlled geometry on a thermoplastic polymer |
| JP2502852B2 (ja) * | 1991-09-02 | 1996-05-29 | 松下電器産業株式会社 | 凹版およびその製造方法 |
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| DE4137337A1 (de) * | 1991-11-13 | 1993-05-19 | Sengewald Karl H Gmbh | Hochdruckverfahren und auftragsvorrichtung zu seiner durchfuehrung |
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