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JPH0787254B2 - High pressure gas laser device and processing method using the laser - Google Patents
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JPH0787254B2 - High pressure gas laser device and processing method using the laser - Google Patents

High pressure gas laser device and processing method using the laser

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JPH0787254B2
JPH0787254B2 JP2012588A JP1258890A JPH0787254B2 JP H0787254 B2 JPH0787254 B2 JP H0787254B2 JP 2012588 A JP2012588 A JP 2012588A JP 1258890 A JP1258890 A JP 1258890A JP H0787254 B2 JPH0787254 B2 JP H0787254B2
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discharge
pressure gas
main
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善征 久保田
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高気圧ガスレーザ装置、及びそのレーザを用
いた加工方法に係り、特に、大口径,高出力のエキシマ
レーザに好適な高気圧ガスレーザ装置、及びそのレーザ
を用いた加工方法に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a high pressure gas laser device and a processing method using the laser, and particularly to a high pressure gas laser device suitable for a large diameter and high output excimer laser, And a processing method using the laser.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の放電励起型のエキシマレーザの大口径化に関する
技術としては、シー・エル・イー・オー'88予稿集第64
頁(CLEO'88,p.64)に述べられているように、コロナUV
予備電離による方法が知られている。これは、主電極間
に電圧を印加した後、ある時間遅れを設けて、主電極の
一方にコロナ放電を発生させ、これに含まれるUV光によ
り、主放電空間を予備電離するとともに、トリガ作用に
より主放電を開始させるものである。
As a technology for increasing the diameter of a conventional discharge-excited excimer laser, see RL 1988 Proceedings No. 64
Corona UV as described on page (CLEO'88, p.64)
A method using preionization is known. This is because after applying a voltage between the main electrodes, a corona discharge is generated in one of the main electrodes with a certain time delay, and the UV light contained in this causes preionization of the main discharge space and trigger action. The main discharge is started by.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

上記従来技術は、予備電離にコロナ放電に伴なうUV光を
利用するものであり、主放電空間の電極幅方向の放電の
大口径化は原理的に容易であるが、電極ギヤツプ方向の
放電の一様化には限界があり、大口径のレーザビームを
発生させることができないという問題があつた。
The above-mentioned prior art uses UV light accompanying corona discharge for preionization, and it is theoretically easy to increase the diameter of the discharge in the electrode width direction of the main discharge space, but the discharge in the electrode gap direction There is a limit to the uniformity of the laser beam, and there is a problem that a laser beam with a large diameter cannot be generated.

本発明は上述の点に鑑みなされたもので、その目的とす
るところは、電極幅方向のみならず電極ギヤツプ方向に
も放電の大口径化を実現し、したがつてその結果として
大口径レーザビームを発生する高気圧ガスレーザ装置を
提供するにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to realize a large discharge diameter not only in the electrode width direction but also in the electrode gear cup direction, and as a result, a large diameter laser beam. It is to provide a high pressure gas laser device for generating.

〔課題を解決するための手段〕[Means for Solving the Problems]

上記目的を達成するために、本発明では主放電電極の高
電圧側電極と低電圧側電極をレーザ光軸に対して平行
に、かつ、層状に少なくとも2組の放電部を形成するよ
うに交互に配置して形成したもの、又は、主放電電極間
の主放電に先だつて放電空間を予備電離する予備電離手
段を、前記主放電電極への電圧印加に対し時間遅れを有
する多重折返しレーザ光としたものである。
In order to achieve the above object, in the present invention, the high-voltage side electrode and the low-voltage side electrode of the main discharge electrode are alternated so as to be parallel to the laser optical axis and form at least two sets of discharge parts in layers. Or a pre-ionization means for pre-ionizing the discharge space prior to the main discharge between the main discharge electrodes, and a multi-folded laser beam having a time delay with respect to the voltage application to the main discharge electrodes. It was done.

〔作用〕[Action]

上記主放電電極は、高電圧側電極と低電圧側電極がレー
ザ光軸に対して平行に、かつ、層状に2組以上の放電部
を形成するように交互に配置されているので、各層状放
電部で電極幅方向に大口径の均一放電が形成されれば、
全体として大口径のレーザビームを得ることができる。
又、予備電離源がレーザ光であるので、任意にビーム断
面の整形が可能で、かつ、反射鏡を用いて多重折返しに
することにより、大体積の放電空間を一様に予備電離す
ることができ、大体積の均一放電が得られ、大口径のレ
ーザビームを発生することができる。
Since the high-voltage side electrode and the low-voltage side electrode are arranged alternately in parallel to the laser optical axis and form two or more sets of discharge parts in layers, the main discharge electrodes are arranged in layers. If a large diameter uniform discharge is formed in the electrode width direction at the discharge part,
A large-diameter laser beam can be obtained as a whole.
Further, since the preionization source is a laser beam, the beam cross section can be arbitrarily shaped, and a large volume discharge space can be preionized uniformly by making multiple turns using a reflecting mirror. As a result, a large-volume uniform discharge can be obtained, and a laser beam having a large diameter can be generated.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面の実施例に基づいて本発明の高気圧ガスレー
ザ装置を詳細に説明する。
Hereinafter, a high pressure gas laser device of the present invention will be described in detail based on embodiments of the drawings.

第1図,及び第2図に本発明の一実施例を示す。該図に
おいて、主レーザ装置1は、たとえばXeClエキシマレー
ザであり、その主放電部2は、高電圧側主電極3a,3b,3c
と低電圧側主電極4a,4bがレーザ光軸に対して平行に交
互に配置されることにより形成される層状の小放電部2
a,2b,2c,2dから成る。ピーキングコンデンサC2a,C2b
C2c,C2dは、対応する主放電電極対3a−4a,3b−4a,3b−
4b,3c−4cにそれぞれ接続されている。高電圧側主電極3
a,3b,3cは、インダクタンスL1,L2,L3を介して充電用
コンデンサC1,充電用インダクタンスLに接続されてい
る。さらに充電用コンデンサC1は、高電圧スイツチSW、
図示しない高電圧充電電源へ接続されている。主放電部
2は、ガス容器5内に配置され、全反射鏡6および出力
鏡7はガス容器5の一部を構成している。主レーザ装置
1の外部には、予備電離源として小型のレーザ装置8、
たとえば、KrFエキシマレーザ等のUVレーザが設置さ
れ、これより出射されるレーザ光9は、シリンドリカル
レンズ等で構成されるビーム整形光学系10を通り、折返
し反射鏡11,12により各層状主放電部を通過できる構成
となつている。
An embodiment of the present invention is shown in FIG. 1 and FIG. In the figure, the main laser device 1 is, for example, a XeCl excimer laser, and the main discharge part 2 thereof has high-voltage side main electrodes 3a, 3b, 3c.
Layered small discharge part 2 formed by alternately arranging the low-voltage side main electrodes 4a and 4b in parallel with the laser optical axis.
It consists of a, 2b, 2c and 2d. Peaking capacitors C 2a , C 2b ,
C 2c and C 2d are the corresponding main discharge electrode pairs 3a-4a, 3b-4a, 3b-
4b, 3c-4c, respectively. High voltage side main electrode 3
The a, 3b and 3c are connected to the charging capacitor C 1 and the charging inductance L via the inductances L 1 , L 2 and L 3 . Furthermore, the charging capacitor C 1 is a high voltage switch SW,
It is connected to a high-voltage charging power source (not shown). The main discharge part 2 is arranged in the gas container 5, and the total reflection mirror 6 and the output mirror 7 constitute a part of the gas container 5. Outside the main laser device 1, a small laser device 8 as a preliminary ionization source,
For example, a UV laser such as a KrF excimer laser is installed, and laser light 9 emitted from the laser passes through a beam shaping optical system 10 including a cylindrical lens and the like, and each of the layered main discharge portions is formed by folding reflecting mirrors 11 and 12. It is designed to pass through.

折返し反射鏡12は、主レーザ装置のレーザ波長に対して
は無反射となるようなコーテイングが施され全反射鏡6,
出力鏡7は、予備電離用のレーザ光9の波長に対して、
無反射となるようなコーテイングが施されている。
The reflection mirror 12 is a total reflection mirror 6, which is coated so as not to reflect the laser wavelength of the main laser device.
The output mirror 7 corresponds to the wavelength of the laser beam 9 for preionization,
It is coated to be non-reflective.

また、予備電離用レーザ9と主レーザ装置1のトリガ装
置13との間には、両者の指令信号間に時間差を設けるた
めの遅延装置14が設けられている。
A delay device 14 is provided between the preionization laser 9 and the trigger device 13 of the main laser device 1 to provide a time difference between the command signals of the two.

まず、外部の高電圧充電電源により、インダクタンスL0
を介して、充電用コンデンサC1に所定の高電圧Vsが充電
される。トリガ装置13の指令信号により、高電圧スイツ
チSWが閉じると、C1に充電された電荷は、C1→SW→C2a
→L1のループ、C1→SW→C2b→L2のループ、C1→SW→C2c
→L2のループ、C1→SW→C2d→L3のループの共振回路を
介して、ピーキングコンデンサC2a,C2b,C2c,C2dへ移
動する。インダクタンスL1,L2,L3の各値は、ピーキン
グコンデンサC2a,C2b,C2c,C2dへのパルス充電時間To
が、主放電の放電時間に比べて十分長い時間、たとえば
5μs〜50μsになるようにそれぞれ調整されている。
例えば、遅延装置14により、第3図に示す様に、ピーキ
ングコンデンサのパルス充電開始時刻より時間Td(Td
T0)だけ遅れて予備電離用レーザ装置8のレーザ光が出
射されるように設定されている。
First, the inductance L 0
The charging capacitor C 1 is charged with a predetermined high voltage V s via the. The command signal of the trigger device 13, a high voltage switch SW is closed, charges stored in the C 1 is, C 1 → SW → C 2a
→ L 1 loop, C 1 → SW → C 2b → L 2 loop, C 1 → SW → C 2c
It moves to the peaking capacitors C 2a , C 2b , C 2c , and C 2d via the resonance circuit of the loop of L 2 and the loop of C 1 → SW → C 2d → L 3 . The values of the inductances L 1 , L 2 and L 3 are the pulse charging time T o to the peaking capacitors C 2a , C 2b , C 2c and C 2d .
Are adjusted to be sufficiently longer than the discharge time of the main discharge, for example, 5 μs to 50 μs.
For example, as shown in FIG. 3, the delay device 14 causes a time T d (T d
It is set so that the laser light of the laser device 8 for preionization is emitted with a delay of T 0 ).

t<Tdまでの時間領域においては、主放電空間には何ら
の予備電離も生じないので、各層状の主電極間のインパ
ルス(5μs〜50μs程度)の放電開始電圧VB1は、対
応する直流放電開始電圧VB0に比べて十分高い(VB110
×VB0)ことが実験的にも確かめられている。
In the time region up to t <T d , no preionization occurs in the main discharge space, so the discharge start voltage V B1 of the impulse (about 5 μs to 50 μs) between the layered main electrodes is the corresponding DC Sufficiently higher than discharge start voltage V B0 (V B1 10
× V B0 ) has been confirmed experimentally.

ピーキングコンデンサのパルス充電電圧Vpを VB0≪Vp<VB1 …(1) となるように設定し、Tdの遅れ時間で予備電離レーザ光
9を入射し、折返し反射鏡11,12で次々に折返すと、多
層主放電空間は次々に予備電離される。主レーザ装置1
の共振器長をたとえば1mとし、予備電離用レーザ光のパ
ルスを主レーザ装置の光軸方向に2往復分とすると、そ
の走行距離は4mである。レーザ光のガス中伝搬にともな
う減衰率は、数%/m以下であり、上記走行距離を走つて
もほとんど減衰はなく、その予備電離効果が保たれるこ
とが実験的に確かめられている。参考までに、これを他
の予備電離源と比較すると、第4図のようになる。A1
A2を通常の主電極の位置、A1,A3は主電極間ギヤツプを
2倍に拡大した場合の主電極の位置として示す。予備電
離源が主電極A1の後方にあるとし、予備電離電子密度ne
は、A1A2の中間位置での値がみな等しい(ne106c
m-3)として規格化してある。コロナUVやスパークUVは
光源が基本的には点光源あるいはその並列配置であるた
めに、光源からの距離が離れるにしたがつて、予備電離
電子密度は極度に低下し、浸透距離方向への放電の一様
化が困難であることがわかる。予備電離レーザ光入射
後、τ50ns程度の時間遅れで、主電極間は放電を開始
するが、すでに予備電離によりne106cm-3の電子が種
電子として存在するので、主放電空間全体にわたつて一
様な放電が得られる。
The pulse charging voltage V p of the peaking capacitor is set so that V B0 << V p <V B1 (1), the pre-ionization laser beam 9 is incident with a delay time of T d , and the folding mirrors 11 and 12 are used. When turned back one after another, the multi-layer main discharge space is preionized one after another. Main laser device 1
Assuming that the resonator length is 1 m and the pulse of the laser beam for pre-ionization is two round trips in the optical axis direction of the main laser device, the traveling distance is 4 m. It has been experimentally confirmed that the attenuation rate due to the propagation of the laser light in the gas is several% / m or less, and there is almost no attenuation even when the vehicle travels the above traveling distance, and the preionization effect is maintained. For reference, comparing this with other preionization sources, it becomes as shown in FIG. A 1 ,
A 2 is the normal position of the main electrode, and A 1 and A 3 are the positions of the main electrode when the gear gap between the main electrodes is doubled. Assuming that the preionization source is behind the main electrode A 1 , the preionization electron density n e
Have the same value at the intermediate position of A 1 A 2 (n e 10 6 c
m -3 ). Since the light source of corona UV and spark UV is basically a point light source or a parallel arrangement of them, as the distance from the light source increases, the preionization electron density decreases extremely, and discharge in the penetration distance direction occurs. It can be seen that it is difficult to make uniform. After the preionization laser beam is incident, a discharge is started between the main electrodes with a time delay of about τ50ns, but since electrons of n e 10 6 cm -3 already exist as seed electrons due to preionization, the entire main discharge space is covered. A uniform discharge is obtained over the entire length.

本実施例によれば、予備電離源に伝搬減衰の小さなレー
ザ光を用い、これを多重折返しにして用いるので、大体
積の空間を一様に予備電離することができ、大口径の高
気圧ガスレーザ装置を提供できるという効果がある。ま
た、本実施例では、主電極空間を多層の小ギヤツプ放電
空間の集合として形成し、単一小主放電用の印加電圧Vs
をギヤツプに合わせて比較的低い電圧で実現できるの
で、レーザ装置の絶縁対策が容易になり、かつ充電電源
が小型になるという効果がある。
According to the present embodiment, a laser beam having a small propagation attenuation is used as the preionization source, and this is used by multiply folding, so that a large volume of space can be preionized uniformly, and a high-pressure high-pressure gas laser device can be obtained. Is effective. In addition, in this embodiment, the main electrode space is formed as a set of multi-layer small gap discharge spaces, and the applied voltage V s for a single small main discharge is formed.
Can be realized at a comparatively low voltage according to the gear, and therefore, the measures for insulating the laser device can be facilitated and the charging power source can be made compact.

第5図、および第6図は、本発明の第2の実施例であ
る。本実施例では、主放電電極は、1対の電極3,4から
成る。そして、予備電離用レーザ光9を折返し鏡11,12
により多数回折返し、これにより、主放電空間を一様に
予備電離するようにしたものである。
5 and 6 show a second embodiment of the present invention. In this embodiment, the main discharge electrode consists of a pair of electrodes 3,4. Then, the laser beam 9 for pre-ionization is reflected by the folding mirrors 11 and 12.
By this, a large number of diffractions are returned by this, and thereby the main discharge space is uniformly preionized.

本実施例では、簡単な構成で大口径の高気圧ガスレーザ
装置を提供できるという効果がある。
The present embodiment has an effect that a high-pressure gas laser device having a large diameter can be provided with a simple structure.

第7図、および第8図は、本発明の第3の実施例であ
る。本実施例では、予備電離レーザ光9を主レーザ装置
1の光軸に交わるように、折返し鏡11,12を主レーザ装
置1の両側面に配置している。本実施例によれば、大体
積の放電空間を一様に予備電離することができ、大口径
の高気圧ガスレーザ装置を提供できるという効果があ
る。また、主レーザ装置1の光軸と、予備電離用レーザ
光9の光軸が交わるので、折返し鏡11,12や全反射鏡6,
出力鏡7の反射膜は、単一波長に対してのみ考慮すれば
よいという効果もある。
7 and 8 show a third embodiment of the present invention. In this embodiment, the folding mirrors 11 and 12 are arranged on both side surfaces of the main laser device 1 so that the preliminary ionizing laser light 9 intersects the optical axis of the main laser device 1. According to this embodiment, there is an effect that a large-volume discharge space can be uniformly preionized, and a high-pressure high-pressure gas laser device can be provided. Further, since the optical axis of the main laser device 1 and the optical axis of the laser beam 9 for preliminary ionization intersect, the folding mirrors 11 and 12 and the total reflection mirror 6,
The reflective film of the output mirror 7 has an effect that it is sufficient to consider only a single wavelength.

第9図は本発明の第4の実施例である。該図に示す実施
例は、主放電電極4a,3a,4b,3b,4cを、いずれも多数の小
孔を備えた多孔開口電極としたものである。そして、最
上層の主電極の裏側には、セラミツク等の誘電体で包囲
されたコロナ電極15が配置され、遅延装置14を介して高
電圧部へ接続されている。高電圧側主放電電極3a,3bに
パルス電圧が印加された後、コロナ電極15に高電圧パル
スが印加され、その予備電離作用とトリガ作用により、
まず最上層部の主放電空間2aだけが主放電を開始し、レ
ーザ発振が始まる。各主電極には多数の小孔が設けられ
ているので、それらの開口部を通してのUV光のもれ光が
次段の主放電空間2bに対して予備電離源、及びトリガ源
となり、次段の主放電が開始する。このようにして、次
々に層状の主放電がひき起こされ、全体として大口径の
レーザビームが発生する。
FIG. 9 shows a fourth embodiment of the present invention. In the embodiment shown in the figure, the main discharge electrodes 4a, 3a, 4b, 3b, 4c are all porous aperture electrodes having a large number of small holes. A corona electrode 15 surrounded by a dielectric material such as ceramics is arranged on the back side of the uppermost main electrode, and is connected to a high voltage portion via a delay device 14. After a pulse voltage is applied to the high-voltage side main discharge electrodes 3a, 3b, a high-voltage pulse is applied to the corona electrode 15, and by its preionization action and trigger action,
First, only the main discharge space 2a in the uppermost layer starts main discharge, and laser oscillation starts. Since each main electrode is provided with a large number of small holes, the leakage light of UV light passing through these openings serves as a preliminary ionization source and a trigger source for the main discharge space 2b in the next stage, Main discharge begins. In this manner, layered main discharges are successively generated, and a laser beam having a large diameter is generated as a whole.

本実施例によれば、電極幅方向の放電の大型化は容易で
あり、かつ、多層放電にすることにより電極ギヤツプ方
向の放電の大口径化も可能になり、大口径の高気圧ガス
レーザ装置を提供できるという効果がある。
According to the present embodiment, it is easy to increase the discharge in the electrode width direction, and it is also possible to increase the diameter of the discharge in the direction of the electrode gear by providing a multi-layer discharge, and to provide a high-pressure high-pressure gas laser device. The effect is that you can do it.

第10図は本発明の第5の実施例である。該図に示す実施
例は、主放電電極4a,3a,4b,3b,4cをいずれもメツシユ状
の電極としたものである。そして、最上層の主電極4aの
裏側には、微小ギヤツプ16a,16b,…が設けられ、各ギヤ
ツプ電極の一端はバラスト用インダクタンス17a,17b,…
および遅延装置14を介して高電圧部へ接続され、各ギヤ
ツプ電極の他端はインダクタンス17a′17b′,…を介し
て接地電位へ接続されている。高電圧側主放電電極3a,3
bにパルス電圧が印加された後、ギヤツプ電極に高電圧
パルス電圧が印加され、スパークUV光の予備電離作用と
トリガ作用により、まず最上層部の主放電空間2aだけが
主放電を開始し、レーザ発振が始まる。各主電極はメツ
シユ状の電極なので、それらの開口部を通してのもれ光
が次段の主放電空間2bに対して、予備電離源およびトリ
ガ源となり、次段の主放電が開始する。このようにし
て、次々に層状の主放電がひき起こされ、全体として大
口径のレーザビームが発生する。本実施例では、電極幅
方向の放電の均一化を得るために、予備電離用ギヤツプ
電極を軸方向のみならず、幅方向に並列に多数配置して
いる。
FIG. 10 shows a fifth embodiment of the present invention. In the embodiment shown in the figure, the main discharge electrodes 4a, 3a, 4b, 3b, 4c are all mesh-shaped electrodes. Then, on the back side of the main electrode 4a of the uppermost layer, minute gears 16a, 16b, ... Are provided, and one end of each gearup electrode has ballast inductances 17a, 17b ,.
And the other end of each gear electrode is connected to the ground potential via the inductances 17a'17b ',. High-voltage side main discharge electrodes 3a, 3
After the pulse voltage is applied to b, a high voltage pulse voltage is applied to the gear electrode, and the main discharge space 2a of the uppermost layer starts the main discharge by the preionization action and the trigger action of the spark UV light. Laser oscillation starts. Since each main electrode is a mesh-shaped electrode, leakage light passing through the openings serves as a preliminary ionization source and a trigger source for the main discharge space 2b in the next stage, and the main discharge in the next stage starts. In this manner, layered main discharges are successively generated, and a laser beam having a large diameter is generated as a whole. In the present embodiment, in order to obtain uniform discharge in the electrode width direction, a large number of preionization gap electrodes are arranged in parallel not only in the axial direction but also in the width direction.

本実施例によれば、大口径の高気圧ガスレーザ装置を提
供できるという効果がある。
According to this embodiment, there is an effect that a high-pressure high-pressure gas laser device can be provided.

第11図は本発明の第6の実施例である。該図に示す実施
例は、ピーキングコンデンサC2a,C2b,C2cをいずれも
一体成形されたセラミツクコンデンサで構成したもので
ある。セラミツク主成分を、たとえばSrTiO3とれば、比
誘電率εs1500程度のものは容易に製作可能である。
パルス電圧の伝播方向距離をlとすればこのセラミツク
をパルス整形回路素子とみた場合、パルス幅Tpで与えられる。ここにCは光速である。大容量のパルス
整形回路用コンデンサとして従来水(εs80)が用い
られているが、本実施例によれば上記の一体成形された
セラミツクコンデンサを用いることにより、小型でパル
ス幅の長いパルス整形ができるという効果がある。
FIG. 11 shows a sixth embodiment of the present invention. In the embodiment shown in the figure, the peaking capacitors C 2a , C 2b , and C 2c are all integrally molded ceramic capacitors. If the main component of the ceramic is, for example, SrTiO 3 , it is possible to easily manufacture a ceramic having a relative dielectric constant of about εs 1500.
If this ceramic is regarded as a pulse shaping circuit element, if the distance in the propagation direction of the pulse voltage is l, then the pulse width T p is Given in. Where C is the speed of light. Conventionally, water (εs80) has been used as a large-capacity pulse shaping circuit capacitor, but according to the present embodiment, by using the integrally formed ceramic capacitor, it is possible to perform pulse shaping with a small size and a long pulse width. There is an effect.

第12図は本発明の応用例である。上述した各実施例の大
口径高気圧ガスレーザ装置1により発生する大口径レー
ザビーム、たとえばXeClエキシマレーザを、大面積の多
結晶Si18a,18b,18c,…に照射し、アニール作用により結
晶性の高品質化を図るものである。このようにすれば、
大口径のレーザビームを用いるので、単一照射で試料の
アニールが可能となり、従来のビームの重なり部で発生
していたアニール不良を取り除くことができるという効
果がある。
FIG. 12 is an application example of the present invention. The large-diameter laser beam generated by the large-diameter high-pressure gas laser device 1 of each of the above-described embodiments, for example, XeCl excimer laser, is irradiated to large-area polycrystalline Si 18a, 18b, 18c, ... It is intended to If you do this,
Since a large-diameter laser beam is used, it is possible to anneal a sample with a single irradiation, and it is possible to remove an annealing defect that has occurred in a conventional beam overlapping portion.

また、高気圧ガスレーザビームの1パルスあたりの継続
時間は、たとえばXeClエキシマレーザでは、通常30ns程
度と極端に短く、複数個の被照射材料18a,18b,18c,…を
停止させることなく次々に動かしていても、位置ずれを
おこすことなく高精度の連続加工が可能になり、高速加
工システムを提供できるという効果がある。
Further, the duration of one pulse of the high pressure gas laser beam is extremely short, usually about 30 ns in the case of XeCl excimer laser, and the plurality of irradiated materials 18a, 18b, 18c, ... Are continuously moved without stopping. Even in this case, it is possible to perform high-precision continuous machining without causing positional displacement, and it is possible to provide a high-speed machining system.

第13図は本発明の他の応用例である。該図に示す如く、
複数のレーザ装置1a,1b,1cを並列に動作させるシステム
とした場合、外部に備えた1台のレーザ8を予備電離
源、およびトリガ源として動作させるものである。本応
用例によれば、大容量の複数の大口径レーザシステムを
動作させることができるという効果がある。
FIG. 13 is another application example of the present invention. As shown in the figure,
In the case of a system in which a plurality of laser devices 1a, 1b, 1c are operated in parallel, one laser 8 provided outside is operated as a preionization source and a trigger source. According to this application example, there is an effect that a plurality of large-capacity large-diameter laser systems can be operated.

以上に述べた本発明の各実施例において、さらに封入ガ
ス圧を大気圧程度にすることにより、全反射鏡6や出力
鏡7を境界とする装置内外の差圧をなくすことができ、
上記全反射鏡6や出力鏡7の機械的応力を緩和すること
ができるという効果がある。
In each of the embodiments of the present invention described above, the pressure difference between the inside and outside of the apparatus with the total reflection mirror 6 and the output mirror 7 as boundaries can be eliminated by further setting the enclosed gas pressure to about atmospheric pressure.
There is an effect that the mechanical stress of the total reflection mirror 6 and the output mirror 7 can be relaxed.

また、上記本発明の各実施例においてさらに多層主電極
の厚みt0を主放電ギヤツプd(単層分)に比べ1/10以下
にすることにより、各層ごとの主放電によるレーザビー
ムの境界部が自立たなくなり、等価的に大口径のレーザ
ビームを得ることができるという効果がある。
Further, in each of the above-described embodiments of the present invention, the thickness t 0 of the multilayer main electrode is set to 1/10 or less of the thickness of the main discharge gear d (single layer) so that the boundary portion of the laser beam due to the main discharge of each layer. Is not self-sustaining, and there is an effect that a laser beam having a large diameter can be equivalently obtained.

また、上記本発明の各実施例においては、主電極への印
加パルス電圧の立上がりが、十分遅いことと組み合せ
て、高電圧スイツチ素子に固体素子を使うことにより、
レーザ装置の長寿命化が図れるという効果がある。
Further, in each of the above embodiments of the present invention, the rise of the pulse voltage applied to the main electrode, in combination with being sufficiently slow, by using a solid state element for the high voltage switch element,
There is an effect that the life of the laser device can be extended.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明した本発明によれば、高電圧側電極と低電圧側
電極が交互に配置されて、等価的に大体積の主放電部が
得られるので、大口径の高気圧ガスレーザ装置を提供す
ることができる。また、予備電離源に多重折返しのレー
ザ光を用いるので大体積の放電空間を均一に予備電離す
ることができるので大口径の高気圧ガスレーザ装置を提
供することができる。
According to the present invention described above, since the high-voltage side electrodes and the low-voltage side electrodes are alternately arranged to obtain a large-volume main discharge part equivalently, it is possible to provide a high-pressure high-pressure gas laser device. it can. Further, since the multi-folded laser light is used as the preionization source, it is possible to uniformly preionize a large-volume discharge space, so that a high-pressure high-pressure gas laser device can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の高気圧ガスレーザ装置一実施例を示す
電極部分の斜視図、第2図は第1図の縦断面図、第3図
は本発明の一実施例における主電極間電圧と時間との関
係を示す特性図、第4図は予備電離源における距離と電
子密度との関係を示す特性図、第5図は本発明の第2の
実施例を示す電極部分の斜視図、第6図は第5図の縦断
面図、第7図は第3の実施例を示す電極部分の斜視図、
第8図は第7図の縦断面図、第9図は第4の実施例を示
す電極部分の斜視図、第10図は第5の実施例を示す電極
部分の斜視図、第11図は第6の実施例を示す電極部分の
斜視図、第12図は本発明の応用例を示す斜視図、第13図
は別の応用例を示し、システム構成図である。 1…主レーザ装置、2…主放電部、3,4…主放電電極、
5…ガス容器、6…全反射鏡、7…出力鏡、8…予備電
離用レーザ、9…予備電離用レーザ光、10…ビーム整形
光学系、11,12…折返し鏡、13…トリガ装置、14…遅延
装置、15…コロナ電極、16…スパークギヤツプ、17…バ
ラスト用インダクタンス、18…被加工物。
FIG. 1 is a perspective view of an electrode portion showing an embodiment of a high pressure gas laser device of the present invention, FIG. 2 is a longitudinal sectional view of FIG. 1, and FIG. 3 is a voltage between main electrodes and time in an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a characteristic diagram showing the relationship between the distance and electron density in the preionization source, FIG. 5 is a perspective view of the electrode portion showing the second embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 7 is a vertical sectional view of FIG. 5, FIG. 7 is a perspective view of an electrode portion showing a third embodiment,
8 is a vertical sectional view of FIG. 7, FIG. 9 is a perspective view of an electrode portion showing a fourth embodiment, FIG. 10 is a perspective view of an electrode portion showing a fifth embodiment, and FIG. FIG. 12 is a perspective view of an electrode portion showing a sixth embodiment, FIG. 12 is a perspective view showing an application example of the present invention, and FIG. 13 is a system configuration diagram showing another application example. 1 ... Main laser device, 2 ... Main discharge part, 3, 4 ... Main discharge electrode,
5 ... Gas container, 6 ... Total reflection mirror, 7 ... Output mirror, 8 ... Pre-ionization laser, 9 ... Pre-ionization laser light, 10 ... Beam shaping optical system, 11, 12 ... Folding mirror, 13 ... Trigger device, 14 ... Delay device, 15 ... Corona electrode, 16 ... Spark gear cup, 17 ... Inductance for ballast, 18 ... Workpiece.

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ガスレーザ媒質が封入されている密閉容器
内に配置された主放電電極と、該主放電電極に接続さ
れ、主放電電極間に放電を生じさせて放電空間のレーザ
ガスを励起するエネルギーを供給する励起用充電回路
と、前記主放電電極間の主放電に先だつて放電空間を予
備電離する予備電離手段とを備えた高気圧ガスレーザ装
置において、前記主放電電極の高電圧側電極と低電圧側
電極を、レーザ光軸に対して平行に、かつ、層状に少な
くとも2組の放電部を形成するように交互に配置して形
成したことを特徴とする高気圧ガスレーザ装置。
1. A main discharge electrode arranged in a closed container in which a gas laser medium is sealed, and energy for exciting a laser gas in a discharge space by generating a discharge between the main discharge electrodes and the main discharge electrode. In a high pressure gas laser device comprising an excitation charging circuit for supplying and a preionization means for preionizing the discharge space prior to main discharge between the main discharge electrodes, wherein the high-voltage side electrode and the low voltage of the main discharge electrode A high-pressure gas laser device, wherein the side electrodes are formed in parallel with the laser optical axis and alternately arranged so as to form at least two sets of discharge parts in a layered manner.
【請求項2】ガスレーザ媒質が封入されている密閉容器
内に配置された主放電電極と、該主放電電極に接続さ
れ、主放電電極間に放電を生じさせて放電空間のレーザ
ガスを励起するエネルギーを供給する励起用充電回路
と、前記主放電電極間の主放電に先だつて放電空間を予
備電離する予備電離手段とを備えた高気圧ガスレーザ装
置において、前記予備電離手段が、前記主放電電極への
電圧印加に対し時間遅れを有する多重折返しレーザ光で
あることを特徴とする高気圧ガスレーザ装置。
2. A main discharge electrode arranged in a hermetically sealed container in which a gas laser medium is enclosed, and energy for exciting a laser gas in a discharge space by generating a discharge between the main discharge electrodes. In a high-pressure gas laser device comprising an excitation charging circuit for supplying and a preionization means for preionizing the discharge space prior to the main discharge between the main discharge electrodes, the preionization means, to the main discharge electrodes, A high-pressure gas laser device, which is a multi-folded laser beam having a time delay with respect to voltage application.
【請求項3】前記多重折返しレーザ光の光軸が主放電に
より形成されるレーザ光の光軸とほぼ直交するように、
折返し鏡を備えていることを特徴とする請求項2記載の
高気圧ガスレーザ装置。
3. The optical axis of the multi-folded laser light is substantially orthogonal to the optical axis of the laser light formed by the main discharge,
The high pressure gas laser device according to claim 2, further comprising a folding mirror.
【請求項4】前記折返し鏡は、主レーザ装置のレーザ波
長に対して無反射となるようコーテイングが施されてい
ることを特徴とする請求項3記載の高気圧ガスレーザ装
置。
4. The high pressure gas laser device according to claim 3, wherein the folding mirror is coated so as to be non-reflective with respect to the laser wavelength of the main laser device.
【請求項5】前記密閉容器は一部全反射鏡と出力鏡で形
成され、該全反射鏡と出力鏡は予備電離用のレーザ光の
波長に対して無反射となるようなコーテイングが施され
ていることを特徴とする請求項2記載の高気圧ガスレー
ザ装置。
5. The closed container is formed by a partial total reflection mirror and an output mirror, and the total reflection mirror and the output mirror are coated so as to be non-reflective with respect to the wavelength of the laser beam for preionization. The high pressure gas laser device according to claim 2, wherein
【請求項6】ガスレーザ媒質が封入されている密閉容器
内に配置された主放電電極と、該主放電電極に接続さ
れ、主放電電極間に放電を生じさせて放電空間のレーザ
ガスを励起するエネルギーを供給する励起用充電回路
と、前記主放電電極間の主放電に先だつて放電空間を予
備電離する予備電離手段とを備えた高気圧ガスレーザ装
置において、前記主放電電極の高電圧側電極と低電圧側
電極を、レーザ光軸に対して平行に、かつ、層状に少な
くとも2組の放電部を形成するように交互に配置して形
成し、かつ、前記予備電離手段が前記主放電電極への電
圧印加に対し時間遅れを有する多重折返しレーザ光であ
ることを特徴とする高気圧ガスレーザ装置。
6. A main discharge electrode arranged in a hermetically sealed container in which a gas laser medium is sealed, and energy for exciting a laser gas in a discharge space by generating a discharge between the main discharge electrodes and the main discharge electrode. In a high pressure gas laser device comprising an excitation charging circuit for supplying and a preionization means for preionizing the discharge space prior to main discharge between the main discharge electrodes, wherein the high-voltage side electrode and the low voltage of the main discharge electrode The side electrodes are formed in parallel to the laser optical axis and alternately arranged so as to form at least two sets of discharge parts in a layered form, and the preionization means applies a voltage to the main discharge electrode. A high pressure gas laser device, which is a multi-folded laser beam having a time delay with respect to application.
【請求項7】前記放電部の両側面に折返し鏡を設置し、
前記予備電離用の多重折返しレーザ光を、主レーザ装置
の光軸に交わるようにしたことを特徴とする請求項6記
載の高気圧ガスレーザ装置。
7. A folding mirror is installed on both sides of the discharge part,
7. The high pressure gas laser device according to claim 6, wherein the multi-folded laser light for preionization intersects the optical axis of the main laser device.
【請求項8】前記各主放電電極を多数の小孔を備えた多
孔開口電極とし、かつ、最上層の主放電電極の裏側に誘
電体で包囲されたコロナ電極を設置したことを特徴とす
る請求項1、又は6記載の高気圧ガスレーザ装置。
8. The main discharge electrode is a porous open electrode having a large number of small holes, and a corona electrode surrounded by a dielectric is provided on the back side of the uppermost main discharge electrode. The high pressure gas laser device according to claim 1 or 6.
【請求項9】前記各放電電極をメツシユ状に形成したこ
とを特徴とする請求項1、又は6記載の高気圧ガスレー
ザ装置。
9. The high pressure gas laser device according to claim 1, wherein each of the discharge electrodes is formed in a mesh shape.
【請求項10】前記励起充電回路は、一体成形されたセ
ラミツクコンデンサで構成されるパルス整形回路である
ことを特徴とする請求項1、又は6記載の高気圧ガスレ
ーザ装置。
10. The high pressure gas laser device according to claim 1, wherein the excitation charging circuit is a pulse shaping circuit composed of an integrally molded ceramic capacitor.
【請求項11】ガスレーザ媒質が封入されている密閉容
器内に所定の距離をおいて対向配置された高電圧側電極
と低電圧側電極から成り、これらがレーザ光軸に対して
平行に、かつ、層状に少なくとも2組の放電部を形成す
るように交互に配置されて形成される主放電電極と、該
主放電電極に接続され、主放電電極間に放電を生じさせ
て放電空間のレーザガスを励起するエネルギーを供給す
る励起用充電回路と、前記主放電電極間の主放電に先だ
つて放電空間を予備電離する予備電離手段とを備えた高
気圧ガスレーザ装置から発生するレーザビームを材料表
面に照射しアニールに用いることを特徴とする高気圧ガ
スレーザを用いた加工方法。
11. A high-voltage side electrode and a low-voltage side electrode, which are opposed to each other at a predetermined distance in a hermetically sealed container in which a gas laser medium is sealed, and which are parallel to the laser optical axis and , Main discharge electrodes formed by alternately arranging so as to form at least two sets of discharge parts in layers, and a laser gas in the discharge space is generated by causing discharge between the main discharge electrodes, the main discharge electrodes being connected to the main discharge electrodes. Irradiating the material surface with a laser beam generated from a high-pressure gas laser device including an excitation charging circuit for supplying energy for excitation and a preionization means for preionizing the discharge space prior to the main discharge between the main discharge electrodes. A processing method using a high pressure gas laser, which is used for annealing.
【請求項12】ガスレーザ媒質が封入されている密閉容
器内に配置された主放電電極と、該主放電電極に接続さ
れ、主放電電極間に放電を生じさせて放電空間のレーザ
ガスを励起するエネルギーを供給する励起用充電回路
と、前記主放電電極間の主放電に先だつて放電空間を予
備電離するために、前記主放電電極への電圧印加に対し
時間遅れを有する多重折返しレーザ光から成る予備電離
手段とを備えた高気圧ガスレーザ装置から発生するレー
ザビームを材料表面に照射しアニールに用いることを特
徴とする高気圧ガスレーザを用いた加工方法。
12. A main discharge electrode arranged in a closed container in which a gas laser medium is sealed, and energy for exciting a laser gas in a discharge space by generating a discharge between the main discharge electrodes and the main discharge electrode. And an auxiliary charging circuit for supplying a plurality of folded laser beams having a time delay with respect to the voltage application to the main discharge electrodes in order to preionize the discharge space prior to the main discharge between the main discharge electrodes. A processing method using a high-pressure gas laser, characterized by irradiating a material surface with a laser beam generated from a high-pressure gas laser device equipped with an ionizing means and using it for annealing.
【請求項13】ガスレーザ媒質が封入されている密閉容
器内に所定の距離をおいて対向配置された高電圧側電極
と低電圧側電極から成り、これらがレーザ光軸に対して
平行に、かつ層状に少なくとも2組の放電部を形成する
ように交互に配置されて形成される主放電電極と、該主
放電電極に接続され、主放電電極間に放電を生じさせて
放電空間のレーザガスを励起するエネルギーを供給する
励起用充電回路と、前記主放電電極間の主放電に先だつ
て放電空間を予備電離するために、前記主放電電極への
電圧印加に対し時間遅れを有する多重折返しレーザ光か
ら成る予備電離手段とを備えた高気圧ガスレーザ装置か
ら発生するレーザビームを材料表面に照射しアニールに
用いることを特徴とする高気圧ガスレーザを用いた加工
方法。
13. A high-voltage side electrode and a low-voltage side electrode which are opposed to each other at a predetermined distance in a hermetically sealed container in which a gas laser medium is sealed, and which are parallel to a laser optical axis and Main discharge electrodes formed by alternately arranging so as to form at least two sets of discharge parts in layers and connected to the main discharge electrodes to generate discharge between the main discharge electrodes to excite laser gas in the discharge space In order to pre-ionize the discharge space prior to the main discharge between the main charging electrode and the excitation charging circuit for supplying the energy, a multi-folded laser beam having a time delay with respect to the voltage application to the main discharge electrode is used. A method for processing using a high-pressure gas laser, which comprises irradiating a laser beam generated from a high-pressure gas laser device having a pre-ionization means to a material surface for annealing.
【請求項14】複数の主レーザ装置を並設し、これらと
は別に、外部に1台のレーザ装置を備え、前記複数の主
レーザ装置を並列に動作させると共に、前記外部に備え
たレーザ装置を予備電離源として動作させることを特徴
とする大容量レーザシステム。
14. A laser device provided with a plurality of main laser devices arranged side by side, separately from this, with one laser device provided outside to operate the plurality of main laser devices in parallel and at the same time provided outside the laser device. A large-capacity laser system that operates as a preionization source.
【請求項15】請求項1,2、又は6記載の高気圧ガスレ
ーザ装置から発生するレーザビームを複数個の材料表面
に照射しアニールして加工する際に、前記レーザビーム
と被照射材料との相対運動方向が一方向のみであること
を特徴とする高気圧ガスレーザを用いた加工方法。
15. When the laser beam generated from the high pressure gas laser device according to claim 1, 2 or 6 is applied to the surface of a plurality of materials and annealed for processing, the laser beam and the material to be irradiated are relative to each other. A processing method using a high pressure gas laser, characterized in that the moving direction is only one direction.
【請求項16】請求項1,2、又は6記載の高気圧ガスレ
ーザ装置から発生するレーザビームを複数個の材料表面
に照射しアニールして加工する際に、単一材料に単一の
レーザビームを照射して加工することを特徴とする高気
圧ガスレーザを用いた加工方法。
16. A single laser beam is applied to a single material when a plurality of material surfaces are irradiated with a laser beam generated from the high pressure gas laser device according to claim 1, 2 or 6 and annealed. A processing method using a high-pressure gas laser, characterized by irradiating and processing.
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