JPH0791210B2 - カルボニル化方法の改良 - Google Patents
カルボニル化方法の改良Info
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- JPH0791210B2 JPH0791210B2 JP60500829A JP50082985A JPH0791210B2 JP H0791210 B2 JPH0791210 B2 JP H0791210B2 JP 60500829 A JP60500829 A JP 60500829A JP 50082985 A JP50082985 A JP 50082985A JP H0791210 B2 JPH0791210 B2 JP H0791210B2
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- imidazole
- carbon monoxide
- acetic acid
- iodide
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/10—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction with carbon monoxide
- C07C51/12—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction with carbon monoxide on an oxygen-containing group in organic compounds, e.g. alcohols
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- Catalysts (AREA)
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Inorganic Fibers (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明はカルボニル化方法における改良に関する。特に
本発明はこのようなカルボニル化方法に対して触媒とし
て働く化合物類を安定化することより生ずるカルボニル
化方法における改良に関する。
本発明はこのようなカルボニル化方法に対して触媒とし
て働く化合物類を安定化することより生ずるカルボニル
化方法における改良に関する。
例えばアルケン類又はアルキン類の如き無極性分子又は
アルコール類、エステル類、エーテル類の如き有極性分
子の有機小分子が液相において遷移金属触媒の下で一酸
化炭素と反応するカルボニル化方法は公知であり、ある
場合には工業的に使用されている。
アルコール類、エステル類、エーテル類の如き有極性分
子の有機小分子が液相において遷移金属触媒の下で一酸
化炭素と反応するカルボニル化方法は公知であり、ある
場合には工業的に使用されている。
特に、カルボニル化方法の成功しているクラスの一つは
活性触媒が第VIII族金属ロジウムの化合物より導かれ、
ハロゲン化物促進剤とともに使用されるものである。
活性触媒が第VIII族金属ロジウムの化合物より導かれ、
ハロゲン化物促進剤とともに使用されるものである。
他の遷移金属錯体、例えば屡々“古典的”なカルボニル
化触媒と見做されているコバルトカーボニル、ニッケル
カーボニル、鉄カーボニルと比較するとき、ロジウム触
媒は２つの利点を有しているものと考えることができ
る。その第一は、ロジウム触媒はより活性であり、それ
は所定量の供給原料に対して反応速度が非常に大きいこ
とを意味している。これは２つの可能な望ましい選択権
に通じ；供給原料の処理量（スループット）が増加で
き、或は反応速度が温度に関連するときは方法を低温度
で操業することができる。いずれの選択権も全工程コス
トにおける実質的低減に通ずるものである。
化触媒と見做されているコバルトカーボニル、ニッケル
カーボニル、鉄カーボニルと比較するとき、ロジウム触
媒は２つの利点を有しているものと考えることができ
る。その第一は、ロジウム触媒はより活性であり、それ
は所定量の供給原料に対して反応速度が非常に大きいこ
とを意味している。これは２つの可能な望ましい選択権
に通じ；供給原料の処理量（スループット）が増加で
き、或は反応速度が温度に関連するときは方法を低温度
で操業することができる。いずれの選択権も全工程コス
トにおける実質的低減に通ずるものである。
ロジウム触媒が有する第２の望ましい付帯物は、“古典
的”なカルボニル化触媒に関し、それらがすぐれた熱安
定性を示すことである。これは、一般に、所定の温度に
おける触媒の失活の問題を克服する唯一の方法が上昇す
る一酸化炭素圧において作業するので、方法の見地から
特に重要である。斯くして以前に古典的触媒を使用した
カルボニル化方法は常に高温において、屡々150バール
以上で作業することを包含していた。しかしながら、ロ
ジウム触媒は75バール以下の圧力下で、同じか又はすぐ
れた生産性で同じ反応を実施することを可能としてい
る。低圧で作業することにより、多くの問題及び高圧加
工設備の設計と使用とに伴うコストが逸除される。
的”なカルボニル化触媒に関し、それらがすぐれた熱安
定性を示すことである。これは、一般に、所定の温度に
おける触媒の失活の問題を克服する唯一の方法が上昇す
る一酸化炭素圧において作業するので、方法の見地から
特に重要である。斯くして以前に古典的触媒を使用した
カルボニル化方法は常に高温において、屡々150バール
以上で作業することを包含していた。しかしながら、ロ
ジウム触媒は75バール以下の圧力下で、同じか又はすぐ
れた生産性で同じ反応を実施することを可能としてい
る。低圧で作業することにより、多くの問題及び高圧加
工設備の設計と使用とに伴うコストが逸除される。
ロジウム触媒は古典的触媒に比べ一つだけの大きな欠点
を有している。ロジウムは精製するのが困難である比較
的に稀な金属であるため、単位重量に対するコストがコ
バルト、ニッケル、鉄のような、より普通の金属より実
質的に過剰である。その結果、ロジウムカルボニル化触
媒は極めて高価となり、反応装置及び生成物の流れより
の定量的の触媒回収ができる限り実施されることが望ま
しい。
を有している。ロジウムは精製するのが困難である比較
的に稀な金属であるため、単位重量に対するコストがコ
バルト、ニッケル、鉄のような、より普通の金属より実
質的に過剰である。その結果、ロジウムカルボニル化触
媒は極めて高価となり、反応装置及び生成物の流れより
の定量的の触媒回収ができる限り実施されることが望ま
しい。
触媒損失が低減されるのを確実にする最も有効な方法は
液体流から触媒の沈殿するのを防ぐ安定剤を添加するこ
とである。これは反応後ある点で一酸化炭素の過圧が低
減され、そのために溶液よりの少量の触媒沈殿の可能性
が増加されるので生成物の流れでは特に重要である。然
しながら、工業的プラントのサイズは、例えば反応装置
の移動ライン及び再循環ラインにおける少量の夫々の触
媒損失が実質的な全損失とすることができるようなもの
であることは熟練せる化学者によって認められるもので
ある。
液体流から触媒の沈殿するのを防ぐ安定剤を添加するこ
とである。これは反応後ある点で一酸化炭素の過圧が低
減され、そのために溶液よりの少量の触媒沈殿の可能性
が増加されるので生成物の流れでは特に重要である。然
しながら、工業的プラントのサイズは、例えば反応装置
の移動ライン及び再循環ラインにおける少量の夫々の触
媒損失が実質的な全損失とすることができるようなもの
であることは熟練せる化学者によって認められるもので
ある。
無極性オレフィン系供給原料の液相カルボニル化の間に
ロジウム触媒を安定化する添加剤が開示されている。例
えば、米国特許第3,818,060号から、５価のりん、ひ
素、アンチモン、窒素、蒼鉛の有機誘導体がエチレン系
不飽和化合物の液相カルボニル化の間に安定剤として使
用されることが知られている。さらに、米国特許第3,57
9,552号から、就中、ホスフィン類、アミン及びトリハ
ロ−錫酸塩がまた同じ反応に用いられる可溶性ロジウム
配合錯体（coordination complex）を製造するのに使用
することができることが知られている。
ロジウム触媒を安定化する添加剤が開示されている。例
えば、米国特許第3,818,060号から、５価のりん、ひ
素、アンチモン、窒素、蒼鉛の有機誘導体がエチレン系
不飽和化合物の液相カルボニル化の間に安定剤として使
用されることが知られている。さらに、米国特許第3,57
9,552号から、就中、ホスフィン類、アミン及びトリハ
ロ−錫酸塩がまた同じ反応に用いられる可溶性ロジウム
配合錯体（coordination complex）を製造するのに使用
することができることが知られている。
有極性供給原料、例えばアルコール類、エステル類、エ
ーテル類及びロジウム−ハロゲン化物触媒の使用を包含
するカルボニル化反応に関し、欧州特許出願0055618Aは
４つのクラスの安定剤を開示している。
ーテル類及びロジウム−ハロゲン化物触媒の使用を包含
するカルボニル化反応に関し、欧州特許出願0055618Aは
４つのクラスの安定剤を開示している。
（１） Ｎ、Ｎ、Ｎ′、Ｎ′−テトラメチル−ｏ−フェ
ニレンジアミン及び２、３′ジピリジム （２） 下記の式を有する置換ジホスフィン ここにおいて、R1、R2、R4、R5はアルキル又は置換アル
キル基、R3はポリメチレン基である。
ニレンジアミン及び２、３′ジピリジム （２） 下記の式を有する置換ジホスフィン ここにおいて、R1、R2、R4、R5はアルキル又は置換アル
キル基、R3はポリメチレン基である。
（３） 下記の式を有する二塩基酸又は多塩基酸 こゝにおいて、Y1はｍが２〜10である式（CX1X2）ｍ、Y
2、Y3、Y4及びY5は水素、ハロゲン、低級アルキル、ア
リール、ヒドロキシル、カルボキシルアミノ、ヒドロオ
キシ−置換アルキル及びカルボキシ置換アルキルより独
立して選択される。
2、Y3、Y4及びY5は水素、ハロゲン、低級アルキル、ア
リール、ヒドロキシル、カルボキシルアミノ、ヒドロオ
キシ−置換アルキル及びカルボキシ置換アルキルより独
立して選択される。
（４） 触媒が一酸化炭素の不足している状態に曝され
ているカルボニル化装置のそれらの部分で、溶液よりロ
ジウム触媒の損失を低減するすべてのゲルマニウムアン
チモン、錫又はアルカリ金属の化合物。
ているカルボニル化装置のそれらの部分で、溶液よりロ
ジウム触媒の損失を低減するすべてのゲルマニウムアン
チモン、錫又はアルカリ金属の化合物。
欧州特許出願0055618Aに開示されているような有極性供
給原料が使用されるときは、さらに２つのクラスの化合
物がロジウム触媒系を安定化し、沈殿による触媒損失を
防止するために使用されることが発見された。斯くし
て、本発明では、一般に一酸化炭素の不足している状態
でのロジウム−ハロゲン化物触媒系におけるロジウムの
沈殿はチオール又はイミダゾールより選択される安定化
化合物の系への添加によって防止又は遅延される。
給原料が使用されるときは、さらに２つのクラスの化合
物がロジウム触媒系を安定化し、沈殿による触媒損失を
防止するために使用されることが発見された。斯くし
て、本発明では、一般に一酸化炭素の不足している状態
でのロジウム−ハロゲン化物触媒系におけるロジウムの
沈殿はチオール又はイミダゾールより選択される安定化
化合物の系への添加によって防止又は遅延される。
従って本発明は、メタノール供給原料のカルボニル化に
よる酢酸の製造方法であって、 （ａ） ロジウム触媒成分、沃化物または臭化物成分、
安定化化合物としてイミダゾール、水及び酢酸を含む液
体反応媒体中で、該供給原料と一酸化炭素を過圧及び高
温度下で反応させ、 （ｂ） 工程（ａ）の生成物を、一酸化炭素の過圧が低
減され及び酢酸が蒸留によって除去されるゾーンに移動
させ、及び （ｃ） その後、ロジウム触媒及びイミダゾールを工程
（ａ）へ再循環させることを含む方法である。
よる酢酸の製造方法であって、 （ａ） ロジウム触媒成分、沃化物または臭化物成分、
安定化化合物としてイミダゾール、水及び酢酸を含む液
体反応媒体中で、該供給原料と一酸化炭素を過圧及び高
温度下で反応させ、 （ｂ） 工程（ａ）の生成物を、一酸化炭素の過圧が低
減され及び酢酸が蒸留によって除去されるゾーンに移動
させ、及び （ｃ） その後、ロジウム触媒及びイミダゾールを工程
（ａ）へ再循環させることを含む方法である。
また本発明により、上記の方法によって酢酸を製造する
プラント中に見出される一酸化炭素が不足した状況下に
おいて、沈殿によるロジウムの損失を減少させる方法が
提供される。その方法は、該プラントにおいて一酸化炭
素の過圧が低減されている地点及びその後に、ロジウム
とイミダゾールを一緒にしておくことを特徴とする。
プラント中に見出される一酸化炭素が不足した状況下に
おいて、沈殿によるロジウムの損失を減少させる方法が
提供される。その方法は、該プラントにおいて一酸化炭
素の過圧が低減されている地点及びその後に、ロジウム
とイミダゾールを一緒にしておくことを特徴とする。
本発明の方法においてカルボニル化される供給原料は、
メタノール、メチルアセテートまたはそれらの混合物を
含む。
メタノール、メチルアセテートまたはそれらの混合物を
含む。
アルコール類、エステル類、エーテル類のカルボニル化
に有用な任意の可溶性のロジウム含有触媒がこゝで使用
される。ロジウムの供給源は、例えばロジウム塩化物、
臭化物、沃化物、硝酸塩のような単純無機塩；ロジウム
のカーボニル又はオルガノ金属錯体又は配位錯体であ
る。反応媒体において可溶性となる微粉ロジウム金属も
使用される。
に有用な任意の可溶性のロジウム含有触媒がこゝで使用
される。ロジウムの供給源は、例えばロジウム塩化物、
臭化物、沃化物、硝酸塩のような単純無機塩；ロジウム
のカーボニル又はオルガノ金属錯体又は配位錯体であ
る。反応媒体において可溶性となる微粉ロジウム金属も
使用される。
触媒と結合して使用される沃化物又は臭化物成分が沃化
物であるときは、元素状沃素、沃化水素、沃化物塩例え
ば沃化ソーダ或は沃化アルキル又はアリールの如き沃化
物の有機供給源として添加される。沃化物成分の好まし
い供給源は沃化メチルである。例えば三沃化ロジウムの
如き化合物を使用することによってロジウムとともに沃
化物の部分を供給することができる。沃化物の濃度は沃
化物に対するロジウムの比を少くとも1:4、好ましくは
1:10〜1:1000を製造するようにする。臭化物成分が使用
されるときは、同等の手段で添加され、又沃化物と臭化
物との組合わせも使用できる。
物であるときは、元素状沃素、沃化水素、沃化物塩例え
ば沃化ソーダ或は沃化アルキル又はアリールの如き沃化
物の有機供給源として添加される。沃化物成分の好まし
い供給源は沃化メチルである。例えば三沃化ロジウムの
如き化合物を使用することによってロジウムとともに沃
化物の部分を供給することができる。沃化物の濃度は沃
化物に対するロジウムの比を少くとも1:4、好ましくは
1:10〜1:1000を製造するようにする。臭化物成分が使用
されるときは、同等の手段で添加され、又沃化物と臭化
物との組合わせも使用できる。
イミダゾールが安定剤として使用されるときは下記の一
般式を有する こゝにおいてR1、R2、R3、R4は各々独立して水素、アル
キル、アリール、シクロアルキル又はアルキアリール、
ヒドロカルビール基である。好ましいイミダアゾールは
Ｎ−メチルイミダゾールである。
般式を有する こゝにおいてR1、R2、R3、R4は各々独立して水素、アル
キル、アリール、シクロアルキル又はアルキアリール、
ヒドロカルビール基である。好ましいイミダアゾールは
Ｎ−メチルイミダゾールである。
安定化化合物はロジウム成分に対する安定化化合物のモ
ル比が少くとも0.5:1、好ましくは0.5:1〜105:1の範囲
であるような量で存在せしめられる。
ル比が少くとも0.5:1、好ましくは0.5:1〜105:1の範囲
であるような量で存在せしめられる。
こゝで述べたようにカルボニル化反応は有極性供給源に
おける触媒系の溶液を一酸化炭素と適当な反応装置にお
いて接触せしめることによって実施される。可溶性ロジ
ウム成分の濃度は一般に反応混合物の10〜3000ppmとな
るようにする。
おける触媒系の溶液を一酸化炭素と適当な反応装置にお
いて接触せしめることによって実施される。可溶性ロジ
ウム成分の濃度は一般に反応混合物の10〜3000ppmとな
るようにする。
前述のように、反応は過圧、高温度で行なわれる。最適
条件は使用する特殊の供給原料によって変るが、反応は
一般に10バール以上好ましくは10〜100バールの圧力及
び100−250℃の温度範囲で行なわれる。こゝで述べた好
ましい供給原料に対し最適温度及び圧力範囲は幾分変
る。然しながら、このような最適温度及圧力の所定の供
給原料に対する範囲はカルボニル化の技術に練達してい
るものにはよく知られている。
条件は使用する特殊の供給原料によって変るが、反応は
一般に10バール以上好ましくは10〜100バールの圧力及
び100−250℃の温度範囲で行なわれる。こゝで述べた好
ましい供給原料に対し最適温度及び圧力範囲は幾分変
る。然しながら、このような最適温度及圧力の所定の供
給原料に対する範囲はカルボニル化の技術に練達してい
るものにはよく知られている。
本発明で使用される一酸化炭素はできるだけ純粋である
ことが好ましい。然しながら、ある量の窒素の如き不活
性の稀薄ガス又は水素の如き屡々一酸化炭素と一緒に生
成されるガスを存在させることができる。もし水素を存
在せしめるならば、全ガス流の50モル％以下のレベルと
すべきである。
ことが好ましい。然しながら、ある量の窒素の如き不活
性の稀薄ガス又は水素の如き屡々一酸化炭素と一緒に生
成されるガスを存在させることができる。もし水素を存
在せしめるならば、全ガス流の50モル％以下のレベルと
すべきである。
こゝで述べるイミダゾール類の安定化の影響を次の実施
例によって説明する。然しながら、これらの実施例は同
等の態様、修正、変化を包含する本発明の範囲を制限す
るものとして解釈されるべきでない。
例によって説明する。然しながら、これらの実施例は同
等の態様、修正、変化を包含する本発明の範囲を制限す
るものとして解釈されるべきでない。
〔例１〕 撹拌装置を取り付けた150mlのハステロイＣオートクレ
ーブ（オートクレーブ エンジナーズ社製）にメタノー
ル（19.6g）、沃化メチル（12.1g）、酢酸（44.3g）及
び水（12.2g）を仕込んだ。ロジウムトリクロリド（RhC
l3・3H2Oジョンソン マッシー社製0.0793g、これは原
子吸収分光分析法により上記混合物において275ppmのRh
に相当する）及びＮ−メチルイミダゾール（2g、アルド
リッチ社製）をこの混合物に添加した。これらの量は、
Ｎ−メチルイミダゾールとロジウムのモル比80:1に相当
する。
ーブ（オートクレーブ エンジナーズ社製）にメタノー
ル（19.6g）、沃化メチル（12.1g）、酢酸（44.3g）及
び水（12.2g）を仕込んだ。ロジウムトリクロリド（RhC
l3・3H2Oジョンソン マッシー社製0.0793g、これは原
子吸収分光分析法により上記混合物において275ppmのRh
に相当する）及びＮ−メチルイミダゾール（2g、アルド
リッチ社製）をこの混合物に添加した。これらの量は、
Ｎ−メチルイミダゾールとロジウムのモル比80:1に相当
する。
仕込んだ後、オートクレーブを27バールの一酸化炭素の
下、185℃まで加熱した。その温度に達した時、オート
クレーブをシールした。オートクレーブを185℃に45分
間維持し、その間に圧力は27バールからおよそ20バール
にまで下がった。45分後、オートクレーブを20℃まで冷
却し（約１時間）、その後ガス抜きした。
下、185℃まで加熱した。その温度に達した時、オート
クレーブをシールした。オートクレーブを185℃に45分
間維持し、その間に圧力は27バールからおよそ20バール
にまで下がった。45分後、オートクレーブを20℃まで冷
却し（約１時間）、その後ガス抜きした。
ガス抜き後のオートクレーブから回収された溶液の重量
は90.3gであった。原子吸収分光分析法による分析は259
ppmのロジウム濃度を示し、96％のロジウムがなお溶液
に残っていることを表した。
は90.3gであった。原子吸収分光分析法による分析は259
ppmのロジウム濃度を示し、96％のロジウムがなお溶液
に残っていることを表した。
〔例２〕 2gのＮ−メチルイミダゾールの代わりに0.15gのＮ−メ
チルイミダゾールを使用すること以外は例１の操作を繰
り返した。これは、Ｎ−メチルイミダゾールをとロジウ
ムのモル比は6:1に相当する。
チルイミダゾールを使用すること以外は例１の操作を繰
り返した。これは、Ｎ−メチルイミダゾールをとロジウ
ムのモル比は6:1に相当する。
ガス抜き後のオートクレーブから回収された溶液の重量
は88.9gであった。原子吸収分光分析法による分析は226
ppmのロジウム濃度を示し、82％をロジウムがなお溶液
に残っていることを表した。
は88.9gであった。原子吸収分光分析法による分析は226
ppmのロジウム濃度を示し、82％をロジウムがなお溶液
に残っていることを表した。
Ｎ−メチルイミダゾールを使用せずに例１の操作を繰り
返した。
返した。
ガス抜き後のオートクレーブから回収された溶液の重量
は88.8gであった。原子吸収分光分析法による分析は139
ppmのロジウム濃度を示し、僅かに51％のロジウムが溶
液に残っていることを表した。
は88.8gであった。原子吸収分光分析法による分析は139
ppmのロジウム濃度を示し、僅かに51％のロジウムが溶
液に残っていることを表した。
〔例３〕 メタノール（625g/hr）を、175℃及び27バールの圧力で
ロジウム／沃化物触媒及び安定化剤としてＮ−メチルイ
ミダゾールを収容した反応装置に供給した。沃化物に対
するロジウムのモル比は1:185、ロジウムに対する安定
化剤のモル比は80:1であった。触媒と安定化剤は、反応
装置の下流を蒸留することによって酢酸含有生成物流か
分離され、次いで再循環された。液相からのロジウムの
損失は、生成物流の試料を異なる時間でロジウムについ
て分析することによって追跡した。50時間にわたる溶液
におけるロジウムの変化を原子吸収によって測定し、下
表に示す。 流れにおける時間（hrs） 液相におけるロジウムの
濃度（ppm） 0 540 8 542 18.7 547 49.5 491 例３は、安定化剤としてのＮ−メチルイミダゾールの添
加が、溶液からのロジウムの損失を低減することを示し
ている。同等の条件で安定化剤のない場合、ロジウムの
損失は100ppm/24hrに達した。
ロジウム／沃化物触媒及び安定化剤としてＮ−メチルイ
ミダゾールを収容した反応装置に供給した。沃化物に対
するロジウムのモル比は1:185、ロジウムに対する安定
化剤のモル比は80:1であった。触媒と安定化剤は、反応
装置の下流を蒸留することによって酢酸含有生成物流か
分離され、次いで再循環された。液相からのロジウムの
損失は、生成物流の試料を異なる時間でロジウムについ
て分析することによって追跡した。50時間にわたる溶液
におけるロジウムの変化を原子吸収によって測定し、下
表に示す。 流れにおける時間（hrs） 液相におけるロジウムの
濃度（ppm） 0 540 8 542 18.7 547 49.5 491 例３は、安定化剤としてのＮ−メチルイミダゾールの添
加が、溶液からのロジウムの損失を低減することを示し
ている。同等の条件で安定化剤のない場合、ロジウムの
損失は100ppm/24hrに達した。
フロントページの続き (72)発明者 ストリンガー アレン ジヨセフ 英国 ノース ハムバーサイド ＨＵ11 ５ＥＷ スカーロー カーウツド クレセ ント 15 (56)参考文献 特開 昭58−164539（ＪＰ，Ａ)
Claims (9)
- 【請求項１】メタノール供給原料のカルボニル化による
酢酸の製造方法であって、 （ａ） ロジウム触媒成分、沃化物または臭化物成分、
安定化化合物としてイミダゾール、水及び酢酸を含む液
体反応媒体中で、該供給原料と一酸化炭素を過圧及び高
温度下で反応させ、 （ｂ） 工程（ａ）の生成物を、一酸化炭素の過圧が低
減され及び酢酸が蒸留によって除去されるゾーンに移動
させ、及び （ｃ） その後、ロジウム触媒及びイミダゾールを工程
（ａ）へ再循環させることを含む方法。 - 【請求項２】ロジウム触媒成分に対する安定化化合物の
モル比が少なくとも0.5:1である請求の範囲第（１）項
記載の方法。 - 【請求項３】イミダゾールが次の一般式を有する請求の
範囲前記各項記載の方法。 （式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立して水素原
子、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはアルキ
アリールヒドロカルビール基である。） - 【請求項４】イミダゾールがＮ−メチルイミダゾールで
ある請求の範囲前記各項記載の方法。 - 【請求項５】沃化物または臭化物成分が沃化メチルであ
って、イミダゾールがＮ−メチルイミダゾールであっ
て、供給原料と一酸化炭素を10〜100バールの圧力且つ1
00〜250℃の温度下で反応させることを特徴とする請求
の範囲第（１）項記載の方法。 - 【請求項６】ロジウム触媒成分に対するＮ−メチルイミ
ダゾールのモル比が少なくとも0.5:1である請求の範囲
第（５）項記載の方法。 - 【請求項７】（ａ） ロジウム触媒成分、沃化物または
臭化物成分、安定化化合物としてイミダゾール、水及び
酢酸を含む液体反応媒体中で、メタノール供給原料と一
酸化炭素を過圧及び高温度下で反応させ、（ｂ） 工程
（ａ）の生成物を、一酸化炭素の過圧が低減され及び蒸
留によって酢酸が除去されるゾーンに移動させ、及び
（ｃ）その後、ロジウム触媒及びイミダゾールを工程
（ａ）へ再循環させることを含むメタノール供給原料の
ガルボニル化による酢酸の製造方法によって酢酸を製造
するプラント中に見出される一酸化炭素が不足した状況
下において、沈殿によるロジウムの損失を減少させる方
法であって、プラントにおいて一酸化炭素の過圧が低減
している地点及びその後に、該ロジウムと該イミダゾー
ルを一緒にしておくことを特徴とする方法。 - 【請求項８】沃化物または臭化物成分が沃化メチルであ
って、イミダゾールがＮ−メチルイミダゾールであっ
て、供給原料と一酸化炭素を10〜100バールの圧力下で
且つ100〜250℃の温度下で反応させることを特徴とする
請求の範囲第（７）項記載の方法。 - 【請求項９】プラントの移動ライン及び再循環ラインを
通して通過する間、ロジウムとイミダゾールを一緒にし
ておくことを特徴とする請求の範囲第（７）項または第
（８）項記載の方法。
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