JPH0794530B2 - Method of curing epoxy resin - Google Patents
Method of curing epoxy resinInfo
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- JPH0794530B2 JPH0794530B2 JP62125822A JP12582287A JPH0794530B2 JP H0794530 B2 JPH0794530 B2 JP H0794530B2 JP 62125822 A JP62125822 A JP 62125822A JP 12582287 A JP12582287 A JP 12582287A JP H0794530 B2 JPH0794530 B2 JP H0794530B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はエポキシ樹脂の硬化方法に関する。The present invention relates to a method for curing an epoxy resin.
エポキシ樹脂は、分子中に反応性に富んだエポキシ基を
持った化合物であり、化学構造の異なった多くのものが
知られている。このうち、ビスフェノールA型のエポキ
シ樹脂は市場の75%を占め、最も広く利用されている。
この樹脂は比較的低分子量のオリゴマーの混合物であ
り、分子量が500以下の常温で液状、又は半固体状の樹
脂から、分子量が6000程度の固体状の樹脂まで、分子量
の異なる各種のグレードのものが得られる。Epoxy resins are compounds having highly reactive epoxy groups in the molecule, and many compounds having different chemical structures are known. Of these, bisphenol A type epoxy resin accounts for 75% of the market and is most widely used.
This resin is a mixture of oligomers of relatively low molecular weight, and various grades with different molecular weights, from liquid or semi-solid resin with a molecular weight of 500 or less at room temperature to solid resin with a molecular weight of about 6000. Is obtained.
ビスフェノールA型エポキシ樹脂は、種々の硬化剤を加
えて硬化反応を行って硬化物として使用されている。エ
ポキシ樹脂の硬化物は、強靭性、接着性、耐薬品性、強
度的性質、高温特性に優れているので、接着剤、積層板
用バインダー、塗装材などに広く利用されている。The bisphenol A type epoxy resin is used as a cured product by adding various curing agents to cause a curing reaction. Since a cured product of an epoxy resin is excellent in toughness, adhesiveness, chemical resistance, strength properties and high temperature characteristics, it is widely used as an adhesive, a binder for laminated plates, a coating material and the like.
(従来の技術) エポキシ樹脂の硬化はアミン類などの硬化剤を添加して
加熱によって行われるのが普通である。最近のプリント
配線基板、チップなど電子部品の封止剤、保護塗装材と
して応用が拡大しつつある。しかしながら、このような
製品は、高い温度に曝すことは好ましくないので、硬化
剤を加えて加熱硬化する方法は採用できない。そこで、
エポキシ樹脂にトリフェニルスルホニウムヘキサフォス
フェートなどのオニウム塩を光カチオン反応開始剤とし
て添加して紫外線を照射する方法が開発された。この方
法では、特に加熱することなく、室温の照射により硬化
反応を行うことができるからである。また、加熱による
硬化反応に比べて短い時間の紫外線照射で硬化反応を行
うことができるという利点もある。(Prior Art) The curing of an epoxy resin is usually performed by adding a curing agent such as amines and heating. Recently, its application is expanding as a sealant and protective coating material for electronic parts such as printed wiring boards and chips. However, since it is not preferable to expose such a product to a high temperature, the method of adding a curing agent and curing by heating cannot be adopted. Therefore,
A method has been developed in which an onium salt such as triphenylsulfonium hexaphosphate is added to an epoxy resin as a photocation initiator to irradiate ultraviolet rays. This is because, in this method, the curing reaction can be performed by irradiation at room temperature without particularly heating. Further, there is an advantage that the curing reaction can be performed by irradiation of ultraviolet rays for a shorter time than the curing reaction by heating.
このようなプロセスにおいては、硬化に先立って目的物
にエポキシ樹脂を塗布し、その後紫外線を照射する。し
かしながら、液状のビスフェノールA型のエポキシ樹脂
は、最も広く使用されている平均分子量が300〜400程度
の樹脂でも、室温では100〜200ポイズの粘度のかなり粘
稠な液体であり、そのままでは塗布することは困難であ
る。そのため塗布時には50〜80℃に加熱せねばならな
い。或いは室温で塗布を円滑に行うためには、アセト
ン、メチルエチルケトンのような溶剤で希釈することが
必要である。この場合、塗布後、或いは硬化後に溶剤を
除去回収する必要がある。第3の方法は、反応性希釈剤
を用いる方法であり、例えばアルキルモノグリシジルエ
ーテルなどを用いて希釈する方法である。この場合に
は、希釈剤が硬化時に反応して樹脂成分となるのである
が、一般に硬化速度が低下するという欠点がある。In such a process, an epoxy resin is applied to a target material prior to curing, and then ultraviolet rays are irradiated. However, the liquid bisphenol A type epoxy resin is a fairly viscous liquid having a viscosity of 100 to 200 poise at room temperature, even if it is the most widely used resin having an average molecular weight of about 300 to 400, and is applied as it is. Is difficult. Therefore, it must be heated to 50-80 ℃ during coating. Alternatively, in order to carry out the coating smoothly at room temperature, it is necessary to dilute it with a solvent such as acetone or methyl ethyl ketone. In this case, it is necessary to remove and recover the solvent after coating or curing. The third method is a method using a reactive diluent, for example, a method using an alkyl monoglycidyl ether or the like for dilution. In this case, the diluent reacts at the time of curing to form a resin component, but there is a drawback that the curing rate generally decreases.
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は、このような問題点のないエポキシ樹脂
の硬化方法を提供することにある。(Problems to be Solved by the Invention) An object of the present invention is to provide a method for curing an epoxy resin that does not have such problems.
(問題点を解決するための手段) 本願発明者は、この目的達成のため、エポキシ樹脂に対
して有効な反応性希釈剤を鋭意探索の結果、エポキシ樹
脂の優れた溶剤であるテトラヒドロフランが、光カチオ
ン反応開始剤の添加下において室温、空気の存在下の放
射線照射によって高い速度で硬化し、テトラヒドロフラ
ンはエポキシオリゴマーと共重合し、硬さの優れた硬化
物が得られることを見出し、本発明に到達した。(Means for Solving Problems) In order to achieve this object, the inventor of the present invention has conducted a thorough search for a reactive diluent effective for an epoxy resin, and as a result, tetrahydrofuran, which is an excellent solvent for the epoxy resin, is At room temperature under the addition of a cationic reaction initiator, curing at a high rate by irradiation with radiation in the presence of air, tetrahydrofuran was copolymerized with an epoxy oligomer, it was found that a cured product having excellent hardness is obtained, the present invention Arrived
エポキシ樹脂に光カチオン反応開始剤の存在下に放射線
を照射して、硬化物を製造する方法において、常温で液
状のビスフェノールAジグリジルエーテル型のエポキシ
樹脂にトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフ
ェートなどの光カチオン反応開始剤を添加して放射線を
照射してエポキシ樹脂の硬化物を製造する際、該エボキ
シ樹脂100部(重量標準)に対して、精製しないままの
市販のテトラヒドロフランを最大量50部を加えることを
特徴とするエポキシ樹脂の硬化方法である。In a method for producing a cured product by irradiating an epoxy resin with radiation in the presence of a photocationic initiator, a photocation such as triphenylsulfonium hexafluorophosphate is added to a bisphenol A diglycidyl ether type epoxy resin which is liquid at room temperature. When producing a cured product of epoxy resin by adding a reaction initiator and irradiating with radiation, add up to 50 parts of commercially available tetrahydrofuran without purification to 100 parts (weight standard) of the epoxy resin. And a method for curing an epoxy resin.
本発明の方法においては、テトラヒドロフランは、重量
基準でエポキシ樹脂100部に対し、最大量50部までが用
いられる。この際、テトラヒドロフランの量が多すぎる
と、塗布時に樹脂液の粘度が下がりすぎ、また、テトラ
ヒドロフランの揮発性が増し、取扱が厄介になる。さら
に、硬化生成物の硬さが低下するので好ましくない。テ
トラヒドロフランの配合量は、エポキシ樹脂の分子量、
硬化生成物の所望の性質によって調節することができ
る。In the method of the present invention, tetrahydrofuran is used in a maximum amount of 50 parts per 100 parts by weight of the epoxy resin. At this time, if the amount of tetrahydrofuran is too large, the viscosity of the resin solution will be too low at the time of application, and the volatility of tetrahydrofuran will increase, making handling difficult. Furthermore, the hardness of the cured product decreases, which is not preferable. The blending amount of tetrahydrofuran is the molecular weight of the epoxy resin,
It can be adjusted depending on the desired properties of the cured product.
本発明の方法に用いられるエポキシ樹脂には特別の制限
はないが、好ましくは、液状のビスフェノールAジグリ
シジルエーテル型のエポキシ樹脂 が用いられる。The epoxy resin used in the method of the present invention is not particularly limited, but is preferably a liquid bisphenol A diglycidyl ether type epoxy resin. Is used.
本発明に用いられるテトラヒドロフランは、特に厳重に
精製する必要はない。テトラヒドロフランのカチオン重
合は微量の水分、その他の不純分によって禁止されるこ
とが知られている。重合を円滑に行うには充分に精製す
ることが必要であるが、本発明の方法では、市販のテト
ラヒドロフランを、特に精製することはなくそのまま用
いることができる。これは本発明の大きな利点である。Tetrahydrofuran used in the present invention does not need to be strictly purified. It is known that the cationic polymerization of tetrahydrofuran is prohibited by trace amounts of water and other impurities. Although sufficient purification is necessary for smooth polymerization, commercially available tetrahydrofuran can be used as it is without any particular purification in the method of the present invention. This is a great advantage of the present invention.
本発明に用いられる光カチオン反応開始剤としては、 アリールジアゾニウム塩 ArN N X-、 Ar:アリール基、 X-:PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、BF4 -など、 例えば、メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロ
フォスフェートなど、 ジアリルヨードニウム塩 ArI X-、 例えば、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォス
フェート、ビス(4−メチルフェニル)−ヨードニウム
ヘキサフルオロアンチモネートなど、 トリアリールスルホニウム塩 Ar3S X-、 例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロフォ
スフェート、トリス(4−メチルフェニル)−スルホニ
ウムヘキサフルオロアルセネートなど、さらに、ビス
〔(4−ジフェニルスルホニオ)フェニル〕スルフィド
−ビス−ヘキサフルオロフォスフェートなどのジスルフ
ォニウム塩等の周知のオニウム塩がある。The photo cationic initiator used in the present invention, aryl diazonium salt ArN NX -, Ar: aryl group, X -: PF 6 -, AsF 6 -, SbF 6 -, BF 4 - , etc., e.g., methoxyphenyl diazonium such as hexafluorophosphate, diaryliodonium salts ArI X -, for example, diphenyl iodonium hexafluorophosphate, bis (4-methylphenyl) - such as iodonium hexafluoroantimonate, triarylsulfonium salts Ar 3 SX -, for example, triphenyl Sulfonium hexafluorophosphate, tris (4-methylphenyl) -sulfonium hexafluoroarsenate and the like, and further, bis [(4-diphenylsulfonio) phenyl] sulfide-bis-hexafluorophosphate and the like disulfonium salts and the like. Lap There is an onium salt.
光カチオン反応開始剤は、エポキシ樹脂の量に対して0.
05〜8%、好ましくは0.2〜3%が用いられる。The photocationic initiator is 0, based on the amount of epoxy resin.
05-8%, preferably 0.2-3% is used.
放射線としては、放射性同位体よりのα線、β線、γ
線、加速器よりの電子線が用いられるが、コバルト60よ
りのγ線、特に加速器よりの電子線が好ましく用いられ
る。As radiation, α rays, β rays, γ from radioactive isotopes
Rays and electron beams from an accelerator are used, but γ rays from Cobalt 60, particularly electron beams from an accelerator are preferably used.
電子線加速器としては、種々のタイプのものを用いるこ
とができるが、1cmのオーダーの厚さのものであれば、
ファン・デ・グラーフ加速器、コッククロフトワルトン
型加速器のように0.5〜2MeVのエネルギーのもの、1mm以
下であれば、変圧器型加速器のように、0.1〜0.7MeVの
エネルギーのもの、1μmのオーダーの薄膜であれば、
0.1〜0.3MeVのリニアフィラメントタイプの加速器、例
えばエレクトロカーテンなどが便利に用いられる。As the electron beam accelerator, various types can be used, but if the thickness is in the order of 1 cm,
0.5 to 2 MeV energy like Van de Graaf accelerator, Cockcroft-Walton type accelerator, 0.1 mm to 0.7 MeV energy like transformer type accelerator if it is 1 mm or less, 1 μm order thin film If,
A 0.1-0.3 MeV linear filament type accelerator, such as an electro curtain, is conveniently used.
照射線量は、主として線量率によって変化し、特に制限
はないが、通常は0.1〜50Mradの範囲が用いられる。照
射温度についても、特に制限はないが、室温が好ましく
用いられる。Irradiation dose varies mainly depending on the dose rate and is not particularly limited, but usually 0.1 to 50 Mrad is used. The irradiation temperature is also not particularly limited, but room temperature is preferably used.
(実施例) 以下実施例を挙げて本発明をより詳細に説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
実施例 1 液状エポキシ樹脂としてエピコート828〔前記の式にお
いてn=0.1、油化シェルエポキシ社製品〕100g、テト
ラヒドロフラン〔市販特級品、安定剤を含む〕50g、光
カチオン反応開始剤としてトリフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロフォスフェート2gを混合した。この樹脂混
合液約1gを内法7cm×1.5cmのアルミ枠に厚さ約1mmに流
延した。この際、エポキシ樹脂単独では室温25℃でアル
ミ枠に簡単に流延できないが、上記組成の樹脂液は容易
に流延できた。これを速度0.48m/分のベルトコンベアに
のせ、バンデ・グラーク加速器よりの1.5McV、50μAの
電子線を18Mrad照射した。照射によって樹脂液は全体が
完全に固化した。この固化硬化物をアルミ枠より取り外
し、重量を測定した後、室温でアセトン中に浸漬した。
アセトンを24時間毎に新しいものと交換し、10日間浸漬
し、照射生成物から可溶部分の抽出を行った。抽出操作
の終了後、照射生成物を80℃で真空乾燥した。重量測定
によりゲル含有率を計算したところ、98.5%であった。
すなわち、テトラヒドロフランを含む樹脂液はほぼ完全
に重合架橋し、テロラヒドロフランはエポキシ樹脂と共
重合したことがわかった。Example 1 100 g of Epicoat 828 [n = 0.1 in the above formula, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.] as a liquid epoxy resin, 50 g of tetrahydrofuran [commercially available special grade product, including a stabilizer] 50 g, and triphenylsulfonium hexa as a photocation reaction initiator 2 g of fluorophosphate was mixed. About 1 g of this resin mixed solution was cast to a thickness of about 1 mm in an aluminum frame of internal size 7 cm × 1.5 cm. At this time, the epoxy resin alone could not be easily cast on the aluminum frame at room temperature of 25 ° C., but the resin solution having the above composition could be cast easily. This was placed on a belt conveyer at a speed of 0.48 m / min and irradiated with 18 Mrad of 1.5 McV, 50 μA electron beam from a Bande-Glarke accelerator. The irradiation completely solidified the resin liquid. This solidified cured product was removed from the aluminum frame, weighed, and then immersed in acetone at room temperature.
Acetone was exchanged with fresh one every 24 hours and soaked for 10 days to extract the soluble part from the irradiation product. After the completion of the extraction operation, the irradiation product was vacuum dried at 80 ° C. The gel content calculated by gravimetric measurement was 98.5%.
That is, it was found that the resin liquid containing tetrahydrofuran was almost completely polymerized and crosslinked, and terorahydrofuran was copolymerized with the epoxy resin.
この硬化物について、動的粘弾性測定を行い、硬さの目
安として動的弾性率を決定した。25℃における動的弾性
率は1.0×1010dyne/cm2であった。This cured product was measured for dynamic viscoelasticity, and the dynamic elastic modulus was determined as a measure of hardness. The dynamic elastic modulus at 25 ° C was 1.0 × 10 10 dyne / cm 2 .
比較のため、テトラヒドロフランを含まない液状エポキ
シ樹脂について、全く同一の操作で電子線照射による硬
化の実験を行った。ゲル含有率は98.4%であった。この
硬化物の動的弾性率は1.4×1010dyne/cm2であった。す
なわち、テトラヒドロフランを含むエポキシ樹脂の硬化
物もほぼ同程度の硬さを示すことがわかった。For comparison, a liquid epoxy resin containing no tetrahydrofuran was subjected to an experiment of curing by electron beam irradiation in exactly the same operation. The gel content was 98.4%. The dynamic elastic modulus of this cured product was 1.4 × 10 10 dyne / cm 2 . That is, it was found that a cured product of an epoxy resin containing tetrahydrofuran also showed almost the same hardness.
さらに比較のために、エポキシ樹脂を配合しない2重量
%の光カチオン反応開始剤のみを含むテトラヒドロフラ
ンに電子線を照射した。この場合テトラヒドロフランの
蒸発を防ぐために厚さ25μmのポリエステルフイルムで
アルミ枠に収容されているテトラヒドロフラン液を被覆
した。電子線のエネルギーは、1.5MeVで透過性が大きい
ので、この被覆の照射線量に対する影響は無視できる。
18Mradの照射の後にも、テトラヒドロフランの重合は全
く起こらなかった。すなわち、エポキシ樹脂とテトラヒ
ドロフランの混合下の照射においてのみ、テトラヒドロ
フランがエポキシ樹脂と共重合して固化することが分か
る。Further, for comparison, the electron beam was irradiated to tetrahydrofuran containing only 2% by weight of the photocationic reaction initiator containing no epoxy resin. In this case, in order to prevent the evaporation of tetrahydrofuran, a 25 μm-thick polyester film was coated with the tetrahydrofuran solution contained in the aluminum frame. Since the electron beam energy is 1.5 MeV and has a high transparency, the effect of this coating on the irradiation dose can be ignored.
After the irradiation of 18 Mrad, polymerization of tetrahydrofuran did not occur at all. That is, it is understood that the tetrahydrofuran is copolymerized with the epoxy resin and solidified only when the mixture is irradiated with the epoxy resin and the tetrahydrofuran.
実施例 2 実施例1において、エポキシ樹脂100gに対してテトラヒ
ドロフランを12gとする以外は、全く同一条件で照射し
て硬化反応を行った。照射生成物のゲル含有率は98.3%
であった。また照射物の動的弾性率は1.3×1010dyne/cm
2であった。Example 2 In Example 1, the curing reaction was carried out by irradiating under exactly the same conditions except that 12 g of tetrahydrofuran was added to 100 g of the epoxy resin. Irradiation product gel content is 98.3%
Met. The dynamic elastic modulus of the irradiated object is 1.3 × 10 10 dyne / cm.
Was 2 .
実施例 3 実施例2において、照射線量を10Mradとする以外は、全
く同一条件で、エポキシ樹脂−テトラヒドロフラン混合
物に電子線照射を行った。照射生成物のゲル含有率は9
8.8%であり、照射物の動的弾性率は1.4×1010dyne/cm2
であった。Example 3 In Example 2, the epoxy resin-tetrahydrofuran mixture was subjected to electron beam irradiation under exactly the same conditions except that the irradiation dose was 10 Mrad. Irradiation product has a gel content of 9
8.8%, the dynamic elastic modulus of the irradiated object is 1.4 × 10 10 dyne / cm 2
Met.
比較例 1 実施例1において、エポキシ樹脂100gに配合するテトラ
ヒドロフランの量を70gとする以外は、全く同一条件で
エボキシ樹脂−テトラヒドロフラン混合物の電子線照射
を行った。照射生成物のゲル含有率は91.2%であり、テ
トラヒドロフランはエボキシ樹脂と共重合していること
は明らかである。しかしながら、取扱いの際テトラヒド
ロフランの揮発が多く、また照射物の動的弾性率は5.9
×109dyne/cm2であり、硬さを若干低下するので、この
組成は好ましくない。Comparative Example 1 The electron beam irradiation of the epoxy resin-tetrahydrofuran mixture was performed under exactly the same conditions as in Example 1, except that the amount of tetrahydrofuran blended with 100 g of the epoxy resin was 70 g. The gel content of the irradiation product is 91.2% and it is clear that tetrahydrofuran is copolymerized with the epoxy resin. However, tetrahydrofuran is often volatilized during handling, and the dynamic elastic modulus of the irradiated object is 5.9.
This composition is not preferable because it is × 10 9 dyne / cm 2 and the hardness is slightly lowered.
実施例 4 エピコート828 100gに対し、テトラヒドロフラン30g、
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェー
ト1gの割合で混合した。この樹脂液からその20gを50ml
の三角フラスコに入れ、空気の共存下にガラス栓をし
て、線量率1.5×105rad/hのγ線を20時間、すなわち3Mr
adの照射を行った。樹脂混合物は完全に固化したので、
フラスコを割って生成物を取り出した。この照射生成物
のアセトン抽出によって決定したゲル分率は99.2%であ
った。エポキシ樹脂・テトラヒドロフラン硬化物は300
℃に過熱しても全く溶融しなかった。Example 4 To 100 g of Epicoat 828, 30 g of tetrahydrofuran,
Triphenylsulfonium hexafluorophosphate was mixed in a ratio of 1 g. 50 ml of 20 g from this resin liquid
Put it in an Erlenmeyer flask, put a glass stopper in the presence of air, and give a γ-ray with a dose rate of 1.5 × 10 5 rad / h for 20 hours, that is, 3 Mr
The ad was irradiated. Since the resin mixture has completely solidified,
The product was taken out by breaking the flask. The gel fraction determined by acetone extraction of this irradiated product was 99.2%. Epoxy resin / tetrahydrofuran cured product is 300
It did not melt at all even when heated to ℃.
比較のために、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロフォスフェート1重量%を含むテトラヒドロフラン溶
液に対し、上記と全く同一条件でγ線を照射したが、テ
トラヒドロフランの重合は全く起こらなかった。γ線照
射においてもエポキシ樹脂の共存しない場合はテトラヒ
ドロフランの重合が全く起こらないことは明らかであ
る。For comparison, a tetrahydrofuran solution containing 1% by weight of triphenylsulfonium hexafluorophosphate was irradiated with γ-rays under exactly the same conditions as above, but the polymerization of tetrahydrofuran did not occur at all. It is clear that even in the case of γ-ray irradiation, the polymerization of tetrahydrofuran does not occur at all unless the epoxy resin coexists.
実施例 5 半固形液状エポキシ樹脂としてエピコート834〔前記の
式においてn=1.0、油化シェルエポキシ社製品〕100
g、テトラヒドロフラン50g、ジフェニルヨードニウムヘ
キサフルオロアンチモネート2gの割合の樹脂液を作っ
た。以下実施例1と同様にアルミ枠に流延し、実施例1
と同様の照射条件で電子線を18Mrad照射した。アセトン
抽出試験によって決定したゲル分率は97.6%であった。
すなわち、硬化物にテトラヒドロフランが共重合してい
ることがわかる。Example 5 Epicoat 834 [n = 1.0 in the above formula, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co.] as a semi-solid liquid epoxy resin 100
g, tetrahydrofuran 50 g, diphenyliodonium hexafluoroantimonate 2 g resin solution was prepared. Then, the casting was performed on an aluminum frame in the same manner as in Example 1, and
The electron beam was irradiated with 18 Mrad under the same irradiation conditions as in. The gel fraction determined by the acetone extraction test was 97.6%.
That is, it is found that tetrahydrofuran is copolymerized with the cured product.
Claims (3)
エーテル型のエポキシ樹脂100部(重量標準)に対し
て、精製しないままの市販のテトラヒドロフラン50部
(重量標準)までを加え、光カチオン反応開始剤の存在
下で室温において、放射線を照射することを特徴とする
エポキシ樹脂の硬化方法。1. A cationic photoinitiator is added to 100 parts (weight standard) of a bisphenol A diglycidyl ether type epoxy resin which is liquid at room temperature, up to 50 parts (weight standard) of commercially available tetrahydrofuran without purification. A method for curing an epoxy resin, which comprises irradiating with radiation at room temperature in the presence of.
ルホニウムヘキサフルオロフォスフェートである第1項
に記載のエポキシ樹脂の硬化方法。2. The method for curing an epoxy resin according to claim 1, wherein the photocationic reaction initiator is triphenisulfonium hexafluorophosphate.
特に加速器よりの電子線を照射することを特徴とする第
1項に記載のエポキシ樹脂の硬化方法。3. As the radiation, gamma rays from cobalt 60,
In particular, the method for curing an epoxy resin according to item 1, wherein the electron beam is emitted from an accelerator.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP62125822A JPH0794530B2 (en) | 1987-05-25 | 1987-05-25 | Method of curing epoxy resin |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP62125822A JPH0794530B2 (en) | 1987-05-25 | 1987-05-25 | Method of curing epoxy resin |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63291917A JPS63291917A (en) | 1988-11-29 |
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| JPS588724A (en) * | 1981-07-08 | 1983-01-18 | Mitsubishi Electric Corp | Photo-curable resin composition for prepreg |
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