JPH0795396B2 - Control method of semiconductor memory device having radiation resistance - Google Patents
Control method of semiconductor memory device having radiation resistanceInfo
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- JPH0795396B2 JPH0795396B2 JP61122133A JP12213386A JPH0795396B2 JP H0795396 B2 JPH0795396 B2 JP H0795396B2 JP 61122133 A JP61122133 A JP 61122133A JP 12213386 A JP12213386 A JP 12213386A JP H0795396 B2 JPH0795396 B2 JP H0795396B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の属する分野〕 本発明は、LSIメモリ等の記憶装置に関し、特に耐放射
線特性を改善した記憶装置の制御方法に関するものであ
る。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a storage device such as an LSI memory, and more particularly to a storage device control method with improved radiation resistance.
第4図は、従来のスタティックメモリで使われているCM
OSメモリセルの回路図である。Figure 4 shows the CM used in the conventional static memory.
It is a circuit diagram of an OS memory cell.
第4図の回路においては、4個のNチャネル電界効果ト
ランジスタQ11〜Q14と2個のPチャネル電界効果トラン
ジスタQ15、Q16とを用い、Q11のドレイン、Q12のゲー
ト、Q13のドレイン、Q15のドレインおよびQ16のゲート
をそれぞれ接続して第1のノードN1とし、また、Q11の
ゲート、Q12のドレイン、Q14のドレイン、Q15のゲート
およびQ16のドレインをそれぞれ接続して第2のノードN
2とし、さらにQ13のゲートおよびQ14のゲートをワード
線Wに接続し、Q13のソースを一方のビット線B1に接続
し、Q14のソースを他方のビット線B2に接続し、Q15のソ
ースおよびQ16のソースを電源Vccに接続し、Q11および
Q12のソースをGNDに接続している。In the circuit of FIG. 4, four N-channel field effect transistor Q 11 to Q 14 and using the two P-channel field effect transistor Q 15, Q 16, the drain of Q 11, the Q 12 gates, Q The drain of 13 and the drain of Q 15 and the gate of Q 16 are connected to form the first node N 1, and the gate of Q 11 , the drain of Q 12 , the drain of Q 14 , the gate of Q 15 and the gate of Q 16 are connected. Connect the drains of each to the second node N
2 , the gate of Q 13 and the gate of Q 14 are connected to the word line W, the source of Q 13 is connected to one bit line B 1, and the source of Q 14 is connected to the other bit line B 2. a source connected to the source and Q 16 of Q 15 to the power supply Vcc, Q 11 and
The source of Q 12 is connected to GND.
上記のごとき第4図の回路においては、情報の“1"およ
び“0"はノードN1の電圧V1およびノードN2の電圧V2に対
応させて記憶しており、電圧V1およびV2はクロスカップ
ルされたトランジスタQ11、Q12、Q15およびQ16によって
電気的に保持されている。In the circuit of Figure 4 such above, the "1" and "0" of the information is stored in correspondence with the voltage V 2 at the node N voltage V 1 of the 1 and node N 2, the voltage V 1 and V 2 is electrically held by cross-coupled transistors Q 11 , Q 12 , Q 15 and Q 16 .
読出し時には、ビット線B1、B2がプルアップされてお
り、トランジスタQ11およびQ12のうちのどちらか導通し
ている方のトランジスタで一方のビット線をローレベル
に下げることにより、ビット線に記憶情報を読み出す。At the time of reading, the bit lines B 1 and B 2 are pulled up, and one of the transistors Q 11 and Q 12 , whichever is conducting, lowers one bit line to the low level, The stored information is read to.
例えば、V1>V2とすれば、ワード線Wがハイレベルにな
り、導通したトランジスタQ14を介してトランジスタQ12
がビット線B2をローレベルに引き下げる。For example, if V 1 > V 2 , the word line W becomes high level, and the transistor Q 12 is turned on via the transistor Q 14 which is conductive.
Pulls bit line B 2 low.
書込み時には、書込み回路によってビット線とトランジ
スタQ13、Q14とを介して強制的にセルの状態を決定(V1
>V2またはV1<V2にする)することによって書き込みが
行なわれる。At the time of writing, the write circuit forcibly determines the state of the cell via the bit line and the transistors Q 13 and Q 14 (V 1
> V 2 or V 1 <V 2 ) to write.
なお、トランジスタQ15およびQ16の主な役割は、読出し
時や情報を保持しているときにノードN1またはN2のうち
のハイレベル側のノードから失われた電荷を補充するこ
とである。Note that the main role of the transistors Q 15 and Q 16 is to replenish the charge lost from the node on the high level side of the nodes N 1 or N 2 at the time of reading or holding information. .
〔発明が解決しようとする問題点〕 上記のようにメモリセルにおいては、書込み時には外部
から任意にセルの状態を設定出来なければならないし、
また読出し時にはセルの状態に応じてビット線を駆動し
てビット線上に記憶情報を読出すことが出来なければな
らない。すなわち、セルにとって書込み時には破壊動作
となり、読出し時には非破壊動作となる。セルを設計す
る際には、この基本的に相反する要求条件を共に満たす
ようにしなければならない。そのために、最も重要なの
は、動作時に主要な役割を果たすトランジスタQ11(ま
たはQ12)とQ13(またはQ14)の利得比と回路的な対称
性である。[Problems to be Solved by the Invention] In the memory cell as described above, the state of the cell must be arbitrarily set from the outside at the time of writing,
Further, at the time of reading, it must be possible to drive the bit line according to the state of the cell and read the stored information on the bit line. That is, the cell has a destructive operation at the time of writing and a non-destructive operation at the time of reading. When designing a cell, both of these fundamentally conflicting requirements must be met. Therefore, most important is the gain ratio and circuit symmetry of the transistors Q 11 (or Q 12 ) and Q 13 (or Q 14 ) that play a major role in operation.
なお、回路的な対称性とは、トランジスタQ11(またはQ
13)とQ12(またはQ14)の利得や閾値電圧等のデバイス
パラメータが等しいことを意味する。Note that circuit symmetry means that transistor Q 11 (or Q
13 ) and Q 12 (or Q 14 ) have the same device parameters such as gain and threshold voltage.
上記のようにメモリセルにおいては、回路的な対称性が
必要とされるため、宇宙空間で使用されるLSIのよう
に、放射線に晒されるセルの場合には次のような問題が
生じる。Since the memory cell requires circuit symmetry as described above, the following problems occur in the case of a cell exposed to radiation such as an LSI used in outer space.
すなわち、放射線が照射されるとMOSトランジスタの閾
値電圧や利得定数等のデバイスパラメータの値が変動す
る。That is, the values of device parameters such as the threshold voltage of the MOS transistor and the gain constant change when the radiation is applied.
しかも、変動値はバイアス条件によって著しく異なり、
Nチャネル電界効果トランジスタの場合はゲート電圧が
高い程、Pチャネル電界効果トランジスタの場合はゲー
ト電圧が低い程変動量が大きくなることが知られてい
る。Moreover, the fluctuation value is significantly different depending on the bias condition,
It is known that the higher the gate voltage is in the case of an N-channel field effect transistor and the lower the gate voltage is in the case of a P-channel field effect transistor, the larger the fluctuation amount.
前記第4図に示したセルにおいては、常に電圧V1とV2と
の値が異なるから、トランジスタQ11とQ12、Q13とQ14、
Q15とQ16のそれぞれのペアに対するバイアス条件が異な
っている。In the cell shown in FIG. 4, since the values of the voltages V 1 and V 2 are always different, the transistors Q 11 and Q 12 , Q 13 and Q 14 ,
The bias conditions for each pair of Q 15 and Q 16 are different.
したがって、長期間同一の情報を保持していると、すな
わち長期間トランジスタのバイアス条件が変わらない
と、変動の大きなバイアス条件の方のトランジスタの劣
化が進むと共に、デバイスパラメータの変動値が異なる
ことからセルの回路的な対称が崩れてしまい、それによ
って読出し時のセル内の記憶情報の破壊、書込み不可
能、待機時のノイズマージンの低下等が生じ、誤動作の
原因になるという問題があった。Therefore, if the same information is held for a long period of time, that is, if the bias condition of the transistor does not change for a long period of time, the deterioration of the transistor under the bias condition with large fluctuation progresses and the fluctuation value of the device parameter changes. There is a problem that the circuit symmetry of the cell is broken, which causes the destruction of the stored information in the cell at the time of reading, the inability to write, the reduction of the noise margin at the time of standby, etc., which causes a malfunction.
本発明は、上記のごとき従来技術の問題を解決するため
になされたものであり、放射線によるデバイスパラメー
タの劣化を抑制し、長期間回路的な対称性を保つことの
出来る記憶装置の制御方法を提供することを目的とする
ものである。The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art as described above, and provides a control method of a storage device capable of suppressing deterioration of device parameters due to radiation and maintaining circuit symmetry for a long period of time. It is intended to be provided.
上記の目的を達成するため本発明においては、セルアレ
イと外部回路との間に設けられた正信号線Dとその相補
信号線から成る1対のデータ線の途中に設けられ、
(DとD、と)または(Dと、とD)の2種類
の電気的な接続の切換えを外部制御信号に応じて行なう
情報変換回路を備えた半導体記憶装置を用い、上記外部
制御信号を反復して通常のアクセス時以外のときに切り
換える制御ステップと、上記切り換え毎に上記情報変換
回路を介して上記セルアレイ内の全てのセルの記憶情報
を反転させる制御ステップと、通常アクセス時の上記外
部回路に対しては上記情報変換回路を介して常に正常極
性の信号授受を行なう制御ステップと、を行なうように
構成している。To achieve the above object, in the present invention, a positive signal line D provided between a cell array and an external circuit is provided in the middle of a pair of data lines consisting of a positive signal line D and its complementary signal line,
A semiconductor memory device provided with an information conversion circuit for switching between two types of electrical connections (D and D, and) or (D and, and D) according to an external control signal is used. A control step of repeatedly switching at times other than the normal access time, a control step of inverting the stored information of all cells in the cell array through the information conversion circuit at each switching time, and the external time at the normal access time The circuit is configured to perform a control step of always transmitting and receiving a signal of normal polarity via the information conversion circuit.
上記のように構成したことにより、本発明においては、
外部制御信号によって適当な周期でセル内の記憶情報を
反転することにより、トランジスタのバイアス条件が長
期間一方に偏らないようにすることが出来るので、デバ
イスパラメータの変動や回路の非対称性を抑えることが
可能となる。With the above-mentioned configuration, in the present invention,
By inverting the stored information in the cell at an appropriate cycle by an external control signal, the bias condition of the transistor can be prevented from being biased to one side for a long period of time, thus suppressing fluctuations in device parameters and circuit asymmetry. Is possible.
また、本発明の他の構成においては、使用する半導体記
憶装置として、上記の構成に加えて第2及び第3の外部
制御信号に応じて動作するラッチ回路とスイッチ回路と
を少なくとも有する反転情報書込みブロックと、上記デ
ータ線が分枝されて上記反転情報書込みブロックの入力
に接続され、上記反転情報書込みブロックの出力が上記
データ線に接続された回路と、を備えた半導体記憶装置
を用い、上記外部制御信号を反復して通常のアクセス時
以外のときに切り換える制御ステップと、上記切り換え
毎に上記反転情報書込みブロックを介して、若しくは上
記情報変換回路と上記反転情報書込みブロックとを介し
て上記セルアレイ内の全てのセルの記憶情報を反転させ
る制御ステップと、通常アクセス時の上記外部回路に対
しては上記情報変換回路を介して常に正常極性の信号授
受を行なう制御ステップと、を行なうように構成してい
る。In addition, in another configuration of the present invention, as a semiconductor memory device to be used, in addition to the above configuration, inversion information writing including at least a latch circuit and a switch circuit which operate in response to second and third external control signals. And a circuit in which the data line is branched and connected to the input of the inversion information writing block and the output of the inversion information writing block is connected to the data line. A control step in which an external control signal is repeated to switch at a time other than a normal access, and the cell array through the inversion information writing block or the information conversion circuit and the inversion information writing block at each switching. Control step to invert the stored information of all the cells in the cell and the information change to the external circuit at the time of normal access. And configured to perform a control step of performing always exchange signals normal polarity through the circuit.
なお、上記の反転情報書込みブロックのみを介して記憶
情報を反転させるものは、例えば後記第3図の実施例に
相当し、上記情報変換回路と上記反転情報書込みブロッ
クとを介して記憶情報を反転させるものは、例えば後記
第2図の実施例に相当する。It is to be noted that the one in which the stored information is inverted only through the inversion information writing block corresponds to, for example, the embodiment of FIG. 3 described later, and the storage information is inverted through the information conversion circuit and the inversion information writing block. What is caused corresponds to, for example, the embodiment shown in FIG.
上記のように構成したことにより、メモリ内に既に記憶
されている情報を反転させる際に、一旦外部へ情報を読
み出す必要がなく、外部制御信号を与えることによって
全てメモリ内部で処理することが可能となる。With the above configuration, when inverting the information already stored in the memory, it is not necessary to read out the information once, and it is possible to process everything inside the memory by giving an external control signal. Becomes
第1図は、本発明に用いる半導体記憶装置の第1の実施
例図である。FIG. 1 is a first embodiment of a semiconductor memory device used in the present invention.
第1図において、1はセルアレイ、2は行選択回路、3
は列選択回路およびマルチプレクサ、4はワード線、5
はビット線、6は入出力回路、7は外部端子である。In FIG. 1, 1 is a cell array, 2 is a row selection circuit, 3
Is a column selection circuit and multiplexer, 4 is a word line, 5
Is a bit line, 6 is an input / output circuit, and 7 is an external terminal.
また、8は行選択回路3と入出力回路6とを接続するデ
ータ・バスであり、これには、正信号線Dと相補信号線
とがある。Reference numeral 8 denotes a data bus connecting the row selection circuit 3 and the input / output circuit 6, which has a positive signal line D and a complementary signal line.
上記の構成は、従来のスタティックメモリの構成と同様
である。The above configuration is similar to that of a conventional static memory.
本発明においては、データ・バス8の中間に情報変換回
路9を設けたことが異なっている。The present invention is different in that an information conversion circuit 9 is provided in the middle of the data bus 8.
なお、第1図においては、情報変換回路9と入出力回路
6との間のデータ・バスを8′とし、その正信号線を
D′、相補信号線を′として示している。In FIG. 1, the data bus between the information conversion circuit 9 and the input / output circuit 6 is shown as 8 ', its positive signal line is shown as D', and its complementary signal line is shown as'.
上記の情報変換回路9は、データ・バス8を経由する情
報を外部制御信号に応じて反転する機能を有するもので
あれば良い。第1図の実施例においては、4個のトラン
ジスタQ1〜Q4を用い、端子T5およびT6に外部制御信号を
与え、それによって情報の切換えを行なうように構成し
ている。The above information conversion circuit 9 may be any one having a function of inverting the information passing through the data bus 8 according to an external control signal. In the embodiment of FIG. 1, using four transistors Q 1 to Q 4, applying an external control signal to the terminal T 5 and T 6, it is constituted thereby to perform switching of information.
すなわち、端子T5には外部制御信号φ1を与え、端子T6
にはφ1と相補性を有する外部制御信号1を与える。That is, the external control signal φ 1 is applied to the terminal T 5 , and the terminal T 6
Is supplied with an external control signal 1 having a complementarity with φ 1 .
φ1がハイレベル(したがって1はローレベル)の場
合には、トランジスタQ1とQ2が導通、Q3とQ4が非導通に
なるので、端子T1とT3、T2とT4が接続され、したがっ
て、データ・バスの正信号線DとD′、相補信号線と
′とが接続されることになる。When φ 1 is at a high level (therefore, 1 is a low level), the transistors Q 1 and Q 2 are conductive and Q 3 and Q 4 are non-conductive, so that terminals T 1 and T 3 , T 2 and T 4 , And thus the positive signal lines D and D'of the data bus and the complementary signal lines and 'are connected.
一方、外部制御信号φ1がローレベルのときには、トラ
ンジスタQ1とQ2が非導通、Q3とQ4とが導通になるので、
端子T1とT4、T2とT3とがそれぞれ接続され、したがっ
て、データ・バスのDと′、とD′とが接続されて
正信号線と相補信号線とが入れ代わり、情報が反転され
ることになる。On the other hand, when the external control signal φ 1 is at the low level, the transistors Q 1 and Q 2 are non-conductive and the transistors Q 3 and Q 4 are conductive.
The terminals T 1 and T 4 , T 2 and T 3 are connected, respectively, so that the data buses D, ', and D'are connected to replace the positive signal line and the complementary signal line, and the information is inverted. Will be.
上記のごとき構成において、外部制御信号φ1、1を
適当な周期で切換えることにより、セルアレー1内の各
セルの記憶情報を反転する。In the above structure, the stored information of each cell in the cell array 1 is inverted by switching the external control signals φ 1 and 1 at an appropriate cycle.
以下、上記の記憶情報反転動作について説明する。Hereinafter, the above-mentioned stored information inversion operation will be described.
記憶情報反転動作時には、まず、既に記憶されている情
報を読み出し、その情報を反転して再び元のセルに書き
込む。At the time of the stored information inversion operation, first, the already stored information is read, the information is inverted, and the original cell is written again.
そのためには、読み出しまたは書き込みのどちらか一方
の動作を行なうときに外部制御信号φ1をローレベルに
しておけば良い。For that purpose, the external control signal φ 1 may be set to the low level when performing either one of the read operation and the write operation.
そうすれば、上記のごとき情報変換回路の切換え動作に
よって情報が反転される。Then, the information is inverted by the switching operation of the information conversion circuit as described above.
また、記憶情報が反転している期間は、外部制御信号φ
1をローレベルにしておく。Further, during the period in which the stored information is inverted, the external control signal φ
Keep 1 at low level.
こうすれば、情報変換回路9によって書込み時には反転
した情報がセルに書き込まれ、また読出し時にはセルの
記憶情報が再度反転されてから外部へ読み出されるの
で、記憶情報が反転している期間であっても外部制御信
号φ1のレベルが異なる以外は外部からみて記憶の読み
出し、書き込みに全く差を生じない。In this case, the information conversion circuit 9 writes the inverted information in the cell at the time of writing, and at the time of reading, the stored information of the cell is again inverted and then read out to the outside. Also, except that the level of the external control signal φ 1 is different, there is no difference in reading and writing of the memory as seen from the outside.
上記のように、第1図の実施例においては、適当な周期
でセルの記憶情報が反転する。そのため、メモリ外部か
らみた記憶情報は長期間変更がなくても、セル内のバイ
アス条件は定められた周期毎に反転し、同一のトランジ
スタのみが長期間悪条件下におかれることがなく、その
ため、劣化の程度が平均化される。As described above, in the embodiment shown in FIG. 1, the stored information in the cell is inverted at an appropriate cycle. Therefore, even if the stored information seen from the outside of the memory is not changed for a long period of time, the bias condition in the cell is inverted at every predetermined cycle, and only the same transistor is not left under bad conditions for a long time. , The degree of deterioration is averaged.
したがって、従来の記憶装置に比べて、デバイスパラメ
ータの劣化が抑制されると共に回路的対称性もより良く
保たれる。Therefore, as compared with the conventional storage device, the deterioration of the device parameter is suppressed and the circuit symmetry is better maintained.
なお、従来装置に比較して情報変換回路9を設けた分だ
け構成は複雑になるが、集積度を決定する最大の要素で
あるところのセルには、通常のものをそのまま用いるこ
とが出来るから集積度は従来とほとんど変わりがない。It should be noted that the structure becomes more complicated than that of the conventional device due to the provision of the information conversion circuit 9, but a normal cell can be used as it is as a cell which is the largest element for determining the degree of integration. The degree of integration is almost the same as before.
また、セルの記憶情報を書き換えている時は、メモリの
アクセス出来ないことになるが、書き換える周期は長く
て良いので、実際の動作上に問題を生ずることはない。Further, while the memory information of the cell is being rewritten, the memory cannot be accessed, but since the rewriting cycle can be long, no problem occurs in the actual operation.
なお、記憶情報の書換え周期は長くて良いので、必ずし
も動作期間中に行なう必要はない。Since the rewriting cycle of the stored information may be long, it is not always necessary to perform it during the operation period.
例えば、電源投入時や既に記憶されている情報が必要で
なくなったときに外部制御信号を切換えて情報の書き換
えを行なっても良い。For example, the information may be rewritten by switching the external control signal when the power is turned on or when the already stored information is no longer needed.
このようにすれば、既に書き込まれた情報についての処
理が不要になり、外部制御信号φ1を切換えるのみにな
るから動作は極めて簡単なものとなる。In this way, the processing for the already written information becomes unnecessary and only the external control signal φ 1 is switched, so that the operation becomes extremely simple.
次に、第2図は本発明に用いる半導体記憶装置の第2の
実施例図である。Next, FIG. 2 is a second embodiment of the semiconductor memory device used in the present invention.
第2図の実施例は、前記第1図の実施例に更に反転情報
書込み用ブロック10を付加したものである。The embodiment shown in FIG. 2 is obtained by adding an inversion information writing block 10 to the embodiment shown in FIG.
反転情報書込み用ブロック10としては、例えば、図示の
ごとく、ラッチ回路11、アンプ12、スイッチ回路13から
なる回路を用い、情報変換回路9と入出力回路6との間
のデータ・バス8′を反転情報書込み用ブロック10の入
力端子T9およびT10に接続し、また、その出力端子T7お
よびT8を列選択回路3と情報変換回路9との間のデータ
・バス8に接続するように構成している。As the inversion information writing block 10, for example, a circuit composed of a latch circuit 11, an amplifier 12 and a switch circuit 13 is used as shown in the figure, and a data bus 8'between the information conversion circuit 9 and the input / output circuit 6 is provided. Connect the input terminals T 9 and T 10 of the inversion information writing block 10 and connect the output terminals T 7 and T 8 thereof to the data bus 8 between the column selection circuit 3 and the information conversion circuit 9. Is configured.
また、反転情報書込み用ブロック10内においては、入力
端子T9およびT10がラッチ回路11の入力に接続され、ラ
ッチ回路11の出力がアンプ12とスイッチ回路13とを介し
て出力端子T7およびT8に接続されている。Further, in the inversion information writing block 10, the input terminals T 9 and T 10 are connected to the input of the latch circuit 11, and the output of the latch circuit 11 is output via the amplifier 12 and the switch circuit 13 to the output terminals T 7 and Connected to T 8 .
また、スイッチ回路13としては、例えば、図示のごと
く、2個のトランジスタで構成した回路を用いることが
出来る。この回路は端子12から与えられる外部制御信号
φ3がハイレベルのとき導通、ローレベルのとき非導通
となるような機能を有するものである。Further, as the switch circuit 13, for example, a circuit composed of two transistors can be used as illustrated. This circuit has a function of turning on when the external control signal φ 3 given from the terminal 12 is at high level and turning off when it is at low level.
次に、動作を説明する。Next, the operation will be described.
通常の読出し動作と同様に、選択されたセルの記憶情報
をデータ・バス8の正信号線Dおよび相補信号線によ
って読み出し、情報変換回路9によって反転する。Similar to the normal read operation, the stored information of the selected cell is read by the positive signal line D and the complementary signal line of the data bus 8 and inverted by the information conversion circuit 9.
そして、その反転した情報を外部制御信号φ2に応じて
反転情報書込み用ブロック10内のラッチ回路11に取り込
む。Then, the inverted information is taken into the latch circuit 11 in the inverted information writing block 10 according to the external control signal φ 2 .
次に、外部制御信号φ3をハイレベルにしてスイッチ回
路13を導通にすると、ラッチ回路11で保持した情報がア
ンプ12で増幅されたのちスイッチ回路13を介してデータ
・バス8へ送られ、それによってセルの記憶情報を反転
させる。Next, when the external control signal φ 3 is set to the high level to make the switch circuit 13 conductive, the information held by the latch circuit 11 is amplified by the amplifier 12 and then sent to the data bus 8 via the switch circuit 13, This inverts the stored information in the cell.
この動作をセルアレー1内の全てのセルに対して行な
い、全てのセルの記憶情報を反転させる。This operation is performed for all the cells in the cell array 1 to invert the stored information of all the cells.
なお、反転情報の書き込みを行なうとき以外は、外部制
御信号φ3をローレベルにしてスイッチ回路13を非導通
にしておく。The external control signal φ 3 is set to the low level and the switch circuit 13 is made non-conductive except when the inversion information is written.
上記のように構成することにより、既に記憶されている
情報を反転させるために、一旦外部へ情報を読み出す必
要がなくなり、外部制御信号を与えることによって情報
の反転記憶を全てメモリ内部で処理することが出来る。By configuring as described above, it is not necessary to read the information to the outside in order to invert the already stored information, and all the inversion storage of the information is processed inside the memory by giving the external control signal. Can be done.
次に、第3図は本発明に用いる半導体記憶装置の第3の
実施例図である。Next, FIG. 3 is a diagram showing a third embodiment of the semiconductor memory device used in the present invention.
第3図の実施例は、前記第2図の実施例において反転情
報書込み用ブロックの入力を取り出す分枝点を変更した
ことが異なっている。The embodiment shown in FIG. 3 is different from the embodiment shown in FIG. 2 in that the branch point from which the input of the inversion information writing block is taken out is changed.
すなわち、第3図の実施例においては、列選択回路3と
情報変換回路9とを接続するデータ・バス8に反転情報
書込み用ブロックの入力および出力を接続しているが、
ただしこの場合、入力と出力を反転情報書込み用ブロッ
ク10内で逆にするように接続している。That is, in the embodiment of FIG. 3, the input and output of the inverted information writing block are connected to the data bus 8 which connects the column selection circuit 3 and the information conversion circuit 9.
However, in this case, the input and output are connected so as to be reversed in the inverted information writing block 10.
すなわち、データ・バス8の正信号線Dは反転情報書込
み用ブロック10の入力端子T9に接続され、それぞれに対
応した出力は出力端子T7からデータ・バス8の相補信号
線に接続され、またデータ・バス8の相補信号線は
反転情報書込み用ブロック10の入力端子T10に接続さ
れ、それに対応した信号が出力端子T8からデータ・バス
の正信号線Dへ与えられるように接続されている。That is, the positive signal line D of the data bus 8 is connected to the input terminal T 9 of the inversion information writing block 10, the corresponding output is connected from the output terminal T 7 to the complementary signal line of the data bus 8, and The complementary signal line of the data bus 8 is connected to the input terminal T 10 of the inversion information writing block 10, and the signal corresponding thereto is connected to the positive signal line D of the data bus from the output terminal T 8 . .
上記のように正信号を増幅した出力をデータ・バスの相
補信号線に、相補信号を増幅した出力をデータ・バスの
正信号線に与えるように接続すれば、情報信号の反転書
込み動作を反転情報書込み用ブロック10のみの動作で行
なうことが出来る。By connecting the amplified output of the positive signal to the complementary signal line of the data bus and the amplified output of the complementary signal to the positive signal line of the data bus as described above, the inverted write operation of the information signal is reversed. The operation can be performed only by the write block 10.
この場合には、情報変換回路9を反転情報書込み用ブロ
ック10の入力分枝点と入出力回路6との間に配置するこ
とが出来る。In this case, the information conversion circuit 9 can be arranged between the input branch point of the inverted information writing block 10 and the input / output circuit 6.
なお、反転情報書込み用ブロック10を各ビット線対に設
け、上記の考え方を各ビット線に適用すれば、1本のワ
ード線に接続するセル(1列のセル)の情報を一度に反
転することが出来、より簡単に記憶されている情報の反
転を行なうことが出来る。If the inversion information writing block 10 is provided for each bit line pair and the above concept is applied to each bit line, the information of cells (one column of cells) connected to one word line is inverted at once. Therefore, the stored information can be inverted more easily.
また、第2図および第3図の実施例において、ラッチ回
路11の駆動力のみでセルの状態を反転出来るものであれ
ば、アンプ12を設けなくても良い。Further, in the embodiments of FIGS. 2 and 3, the amplifier 12 may not be provided as long as the state of the cell can be inverted only by the driving force of the latch circuit 11.
また、これまでの実施例においては、メモリセルに本発
明を適用した場合を例示しているが、センスアンプ、ア
ドレスバッファ、クロック発生回路等の周辺回路におい
ても、差動増幅回路のような対称的な構成の回路やラッ
チ回路が設けられており、そのため、前記のメモリセル
におけると同様の問題が生じる。したがって、これらの
回路においても本発明の方式を適用すれば同様の効果が
得られる。Further, in the above-described embodiments, the case where the present invention is applied to the memory cell is illustrated, but the peripheral circuits such as the sense amplifier, the address buffer, the clock generation circuit, etc. are also symmetrical as in the differential amplifier circuit. Since a circuit and a latch circuit having a typical structure are provided, the same problem as in the above memory cell occurs. Therefore, similar effects can be obtained by applying the method of the present invention to these circuits.
例えば、ラッチ回路の前段と後段に情報変換回路を挿入
し、適当な周期で反転した情報をラッチさせるように構
成すれば、外部からの情報が変わらなくても上記の実施
例と同様にデバイスパラメータの劣化を抑制し、回路的
対称性をより良く保つことが可能となる。For example, if the information conversion circuits are inserted in the front and rear stages of the latch circuit and the information is inverted at an appropriate period to be latched, the device parameters are the same as in the above embodiment even if the information from the outside does not change. It is possible to suppress the deterioration of and improve the circuit symmetry.
以上説明したごとく本発明においては、記憶装置を構成
するトランジスタを偏った状態で長期間悪いバイアス条
件下におくことがないため、放射線によるデバイスパラ
メータの劣化が抑制されると共に、回路的対称性がより
良く保たれる。As described above, in the present invention, since the transistors constituting the memory device are not biased under a bad bias condition for a long period of time, deterioration of device parameters due to radiation is suppressed and circuit symmetry is reduced. Better kept.
また、集積度を決定する最大の要素であるセルには通常
のものをそのまま使用することが出来るので、集積度を
低下させることなしにセルの放射線に対する耐性を向上
させることが出来るという優れた効果が得られる。In addition, since a normal cell can be used as it is as a cell, which is the largest factor for determining the integration degree, an excellent effect that the radiation resistance of the cell can be improved without lowering the integration degree. Is obtained.
第1図〜第3図はそれぞれ本発明に用いる半導体記憶装
置の実施例図、第4図は従来のCMOSメモリセルの回路図
である。 <符号の説明> 8,8′……データ・バス 9……情報変換回路 10……反転情報書込み用ブロック 11……ラッチ回路 12……アンプ 13……スイッチ回路 D,D′……正信号線 ,′……相補信号線 φ1、1、φ2、φ3……外部制御信号1 to 3 are schematic views of semiconductor memory devices used in the present invention, and FIG. 4 is a circuit diagram of a conventional CMOS memory cell. <Explanation of symbols> 8,8 ′ …… Data bus 9 …… Information conversion circuit 10 …… Inverted information writing block 11 …… Latch circuit 12 …… Amplifier 13 …… Switch circuit D, D ′ …… Positive signal line , '... Complementary signal line φ 1 , 1 , φ 2 , φ 3 ... External control signal
Claims (2)
正信号線Dとその相補信号線から成る1対のデータ線
の途中に設けられ、(DとD、と)または(Dと
、とD)の2種類の電気的な接続の切換えを外部制
御信号に応じて行なう情報変換回路を備えた半導体記憶
装置を用い、 上記外部制御信号を反復して通常のアクセス時以外のと
きに切り換える制御ステップと、 上記切り換え毎に上記情報変換回路を介して上記セルア
レイ内の全てのセルの記憶情報を反転させる制御ステッ
プと、 通常アクセス時の上記外部回路に対しては上記情報変換
回路を介して常に正常極性の信号授受を行なう制御ステ
ップと、 を行なうことを特徴とする耐放射線特性を備えた半導体
記憶装置の制御方法。1. A pair of data lines consisting of a positive signal line D and a complementary signal line provided between a cell array and an external circuit, provided in the middle of (D and D) or (D and). D) Control of switching between two types of electrical connection by using a semiconductor memory device provided with an information conversion circuit for switching in accordance with an external control signal and repeating the above external control signal at times other than during normal access Steps, a control step of inverting the stored information of all cells in the cell array via the information conversion circuit at each switching, and a constant access to the external circuit at the time of normal access via the information conversion circuit. A method of controlling a semiconductor memory device having radiation resistance characteristics, which comprises performing a control step of transmitting and receiving signals of normal polarity.
正信号線Dとその相補信号線から成る1対のデータ線
の途中に設けられ、(DとD、と)または(Dと
、とD)の2種類の電気的な接続の切換えを第1の
外部制御信号に応じて行なう情報変換回路と、第2及び
第3の外部制御信号に応じて動作するラッチ回路とスイ
ッチ回路とを少なくとも有する反転情報書込みブロック
と、上記データ線が分枝された上記反転情報書込みブロ
ックの入力に接続され、上記反転情報書込みブロックの
出力が上記データ線に接続された回路と、を備えた半導
体記憶装置を用い、 上記外部制御信号を反復して通常のアクセス時以外のと
きに切り換える制御ステップと、 上記切り換え毎に上記反転情報書込みブロックを介し
て、若しくは上記情報変換回路と上記反転情報書込みブ
ロックとを介して上記セルアレイ内の全てのセルの記憶
情報を反転させる制御ステップと、 通常アクセス時の上記外部回路に対しては上記情報変換
回路を介して常に正常極性の信号授受を行なう制御ステ
ップと、 を行なうことを特徴とする耐放射線特性を備えた半導体
記憶装置の制御方法。2. A pair of data lines consisting of a positive signal line D and its complementary signal line provided between a cell array and an external circuit, provided in the middle of (D and D) or (D and). At least an information conversion circuit for switching between the two types of electrical connections of D) according to the first external control signal, a latch circuit and a switch circuit that operate according to the second and third external control signals. A semiconductor memory device comprising: an inversion information writing block having the above; and a circuit in which the data line is connected to an input of the branched inversion information writing block, and an output of the inversion information writing block is connected to the data line. And a control step in which the external control signal is repeated to switch at a time other than a normal access time, and each time the switching is performed through the inversion information writing block or the information conversion circuit. The control step of inverting the stored information of all the cells in the cell array via the reversal information writing block, and the transmission / reception of a signal of normal polarity to the external circuit at the time of normal access via the information conversion circuit. And a method of controlling a semiconductor memory device having radiation resistance characteristics, characterized in that:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61122133A JPH0795396B2 (en) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | Control method of semiconductor memory device having radiation resistance |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61122133A JPH0795396B2 (en) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | Control method of semiconductor memory device having radiation resistance |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62279595A JPS62279595A (en) | 1987-12-04 |
| JPH0795396B2 true JPH0795396B2 (en) | 1995-10-11 |
Family
ID=14828431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61122133A Expired - Lifetime JPH0795396B2 (en) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | Control method of semiconductor memory device having radiation resistance |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0795396B2 (en) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51138340A (en) * | 1975-05-26 | 1976-11-29 | Hitachi Ltd | Memory system |
| JPS56110166A (en) * | 1980-02-04 | 1981-09-01 | Nippon Electric Ind Co Ltd | Memory circuit |
| JPS5960658A (en) * | 1982-09-30 | 1984-04-06 | Fujitsu Ltd | Semiconductor storage device provided with logical function |
-
1986
- 1986-05-29 JP JP61122133A patent/JPH0795396B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62279595A (en) | 1987-12-04 |
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