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JPH0799680B2 - Flat panel image display device - Google Patents
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JPH0799680B2 - Flat panel image display device - Google Patents

Flat panel image display device

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Publication number
JPH0799680B2
JPH0799680B2 JP1130867A JP13086789A JPH0799680B2 JP H0799680 B2 JPH0799680 B2 JP H0799680B2 JP 1130867 A JP1130867 A JP 1130867A JP 13086789 A JP13086789 A JP 13086789A JP H0799680 B2 JPH0799680 B2 JP H0799680B2
Authority
JP
Japan
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electron beam
electron
display device
image display
panel image
Prior art date
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Application number
JP1130867A
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Japanese (ja)
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JPH02309539A (en
Inventor
隆一 村井
欽造 野々村
淳平 橋口
雅幸 高橋
潔 濱田
智 北尾
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はテレビジョン受像機、計算機の端末用ディスプ
レイ等に用いる平板型画像表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel image display device used for a television receiver, a display for a computer terminal, and the like.

従来の技術 近年、平板型画像表示装置が盛んに開発されており、液
晶ディスプレー(LCD)、エレクトロルミネッセンスデ
ィスプレー(EL)、発光ダイオードディスプレー(LE
D)等が、市場に登場しているが、輝度、解像度、フル
カラー化の点で、カラーブラウン管に劣っている。
2. Description of the Related Art In recent years, flat panel image display devices have been actively developed, and liquid crystal displays (LCD), electroluminescence displays (EL), light emitting diode displays (LE) have been developed.
D) and others have appeared on the market, but they are inferior to color CRTs in terms of brightness, resolution, and full-colorization.

これらの問題点を解消するために本出願人は、第10図〜
第13図に示すような平板型陰極線管を提案している。実
際には真空外囲器(ガラス容器)によって各電極を内蔵
した形がとられるが、同図においては内部電極を明確に
するため、真空外囲器は省略してある。また画像、文字
などを表示する画面の水平および垂直方向を明確にする
ため、フェースプレート部に水平方向(H)、垂直方向
(V)を図示している。
In order to solve these problems, the applicant of the present invention is shown in FIG.
A flat panel cathode ray tube as shown in Fig. 13 is proposed. In reality, each electrode is built in by a vacuum envelope (glass container), but the vacuum envelope is omitted in the figure to clarify the internal electrodes. Further, in order to clarify the horizontal and vertical directions of the screen for displaying images, characters, etc., the face plate portion is shown in the horizontal direction (H) and the vertical direction (V).

第10図において、10はタングステン線の表面に酸化物陰
極材料が塗布された垂直方向に長い線状カソードであ
り、水平方向に等間隔で独立して複数本配置されてい
る。線状カソード10を挟んでフェースプレート部28と反
対側には、線状カソード10と近接して絶縁支持体11上に
垂直方向に等ピッチで、かつ電気的に分離された水平方
向に細長い垂直走査電極12が配置される。
In FIG. 10, reference numeral 10 denotes a vertically long linear cathode in which an oxide cathode material is applied to the surface of a tungsten wire, and a plurality of linear cathodes are independently arranged at equal intervals in the horizontal direction. On the side opposite to the face plate portion 28 with the linear cathode 10 sandwiched therebetween, the linear cathode 10 is adjacent to the linear cathode 10 and is vertically elongated at a regular pitch on the insulating support 11 and is electrically separated. The scanning electrode 12 is arranged.

次に線状カソード10とフェースプレート28との間には、
線状カソード10側より順次、線状カソード10と垂直走査
電極12の交点に対応した部分に開孔を有する面状の第1
グリッド電極(以下G1電極)13、G1電極13と同様の開孔
を有する第2グリッド電極(以下G2電極)14、第3グリ
ッド電極(以下G3電極)15を配置する。G1,G2電極13、1
4は線状カソード10からの電子ビーム発生用であり、G3
電極15は後段の電極による電界とビーム発生電界とのシ
ールド用である。
Next, between the linear cathode 10 and the face plate 28,
A planar first having a hole in the portion corresponding to the intersection of the linear cathode 10 and the vertical scanning electrode 12 sequentially from the linear cathode 10 side.
A grid electrode (hereinafter referred to as G1 electrode) 13, a second grid electrode (hereinafter referred to as G2 electrode) 14 having the same openings as the G1 electrode 13, and a third grid electrode (hereinafter referred to as G3 electrode) 15 are arranged. G1, G2 electrodes 13, 1
4 is for generating an electron beam from the linear cathode 10, and G3
The electrode 15 is for shielding the electric field generated by the electrode in the subsequent stage and the electric field generated by the beam.

次にG4電極16が配置され、その開孔は垂直方向に比べ水
平方向に長い。G4電極16の後段には同様の開孔を持つ2
枚の垂直偏向電極17,18を配置している。第11図に水平
方向断面を、第12図に垂直方向断面を示す。第11図に示
すように2枚の垂直偏向電極17、18の開孔中心軸を垂直
方向にずらすことによって垂直偏向電極部を形成する。
垂直偏向電極17、18の後段には、線状カソード10の各間
に垂直方向に長い電極がフェースプレート部28に向かっ
て複数段設けられている。第10図〜第12図は一例として
3段の場合を示し、各電極を第1水平偏向電極(以下DH
1電極)19、第2水平偏向電極(以下DH2電極)20、第3
水平偏向電極(以下DH3電極)21とし、各DH電極19〜21
は水平方向に1本おきに共通母線22、23、24に接続され
ている。これらのDH電極19〜21は偏向作用と共に水平集
束作用も兼ねている。フェースプレート部28の内面には
蛍光面27とメタルバック電極26とからなる発光層が形成
されている。蛍光面27には水平方向に順次赤(R)、緑
(G)、青(B)の蛍光体ストライプが黒色ガードバン
ドを介して形成されている。
Next, the G4 electrode 16 is arranged, and the opening thereof is longer in the horizontal direction than in the vertical direction. G4 electrode 16 has a similar opening at the latter stage 2
The vertical deflection electrodes 17 and 18 are arranged. FIG. 11 shows a horizontal section, and FIG. 12 shows a vertical section. As shown in FIG. 11, the vertical deflection electrode portion is formed by shifting the aperture central axes of the two vertical deflection electrodes 17 and 18 in the vertical direction.
In the subsequent stage of the vertical deflection electrodes 17 and 18, a plurality of vertically long electrodes are provided between the linear cathodes 10 toward the face plate portion 28. FIGS. 10 to 12 show a case of three stages as an example, in which each electrode is a first horizontal deflection electrode (hereinafter referred to as DH
1 electrode) 19, 2nd horizontal deflection electrode (hereinafter DH2 electrode) 20, 3rd
Horizontal deflection electrode (DH3 electrode hereafter) 21, each DH electrode 19-21
Are connected to the common buses 22, 23, 24 every other horizontal line. These DH electrodes 19 to 21 have a horizontal focusing function as well as a deflecting function. A light emitting layer including a phosphor screen 27 and a metal back electrode 26 is formed on the inner surface of the face plate portion 28. On the phosphor screen 27, red (R), green (G), and blue (B) phosphor stripes are sequentially formed in the horizontal direction via a black guard band.

次に上記カラー陰極線管の動作について簡単に説明す
る。
Next, the operation of the color cathode ray tube will be briefly described.

線状カソード10に電流を流すことよりこれを加熱し、垂
直走査電極12、G1電極13にはカソード10とほぼ同じ電位
を印加する。このとき各電極開孔をビームが通過するよ
うにカソード10の電位よりも高い電位をG2電極14に印加
しておくと、G1,G2電極13、14に向かってカソード10か
ら電子ビームが放出される。ここでビーム量を制御する
には線状カソード10あるいはG1電極13の電位を変えるこ
とによって行う。G2電極14の開孔を通過したビームはG3
電極15、G4電極16、垂直偏向電極17、18の間に形成され
る静電レンズで垂直方向に集束され、水平方向にはDH1
電極19、DH2電極20、DH3電極21の各々の間に形成される
静電レンズで集束される。
The linear cathode 10 is heated by passing a current through it, and the same potential as that of the cathode 10 is applied to the vertical scanning electrode 12 and the G1 electrode 13. At this time, if a potential higher than the potential of the cathode 10 is applied to the G2 electrode 14 so that the beam passes through each electrode opening, the electron beam is emitted from the cathode 10 toward the G1, G2 electrodes 13, 14. It Here, the beam amount is controlled by changing the potential of the linear cathode 10 or the G1 electrode 13. The beam that passed through the aperture of G2 electrode 14 is G3
It is vertically focused by an electrostatic lens formed between the electrode 15, the G4 electrode 16, and the vertical deflection electrodes 17 and 18, and DH1 is horizontally focused.
It is focused by an electrostatic lens formed between the electrode 19, the DH2 electrode 20, and the DH3 electrode 21.

一方、水平偏向はこれらDH電極19〜21に接続されている
共通母線22〜24に、水平走査周波数の鋸歯状波、三角波
等を印加することにより行われる。
On the other hand, horizontal deflection is performed by applying a sawtooth wave, a triangular wave or the like having a horizontal scanning frequency to the common buses 22 to 24 connected to the DH electrodes 19 to 21.

また、垂直走査については、第13図(a)(b)に示す
ように行われる。線状カソード10からの電子ビームの放
出は、カソードを取り囲む空間電位を線状カソード10の
電位よりも正あるいは負とすることによって制御でき
る。すなわち、垂直走査電極12の電位をビーム放出(以
下オン)、または遮断(以下オフ)となる電位に切り替
えることにより制御することができる。インターレース
方式を採用している現行のテレビジョン方式の場合、最
初の1フィールド目において垂直偏向電極17、18に所定
の偏向電圧を1フィールド期間印加し、最上段の垂直走
査電極12に1水平走査期間(以下1H)のみビームオン電
圧を印加し、第2段目以下の垂直走査電極12にはビーム
オフ電圧を印加する。1H経過後、第2段目の垂直走査電
極12にのみ1Hビームオン電圧を印加し、以下順次垂直走
査電極12に1HビームON電圧を印加する。最下段の垂直走
査電極12が終了すれば、最初の1フィールドの垂直走査
が完了する。次の第2フィールド目は、垂直偏向電極1
7、18に印加する偏向電圧の極性を反転し、これを1フ
ィールド間印加する。そして垂直走査電極12に印加する
ビームオン電圧は第1フィールド目と同様に行う。この
とき、第1フィールド目の垂直走査によるビームの水平
走査線位置の間に第2フィールドの水平走査線が位置す
るように、垂直偏向電極17、18に印加する偏向電圧の振
幅を調整すれば、インターレースが行える。
The vertical scanning is performed as shown in FIGS. 13 (a) and 13 (b). The emission of the electron beam from the linear cathode 10 can be controlled by making the spatial potential surrounding the cathode positive or negative with respect to the potential of the linear cathode 10. That is, it can be controlled by switching the potential of the vertical scanning electrode 12 to a potential at which the beam is emitted (hereinafter turned on) or cut off (hereinafter turned off). In the case of the current television system adopting the interlace system, a predetermined deflection voltage is applied to the vertical deflection electrodes 17 and 18 for one field period in the first first field, and one horizontal scanning is performed on the uppermost vertical scanning electrode 12. The beam-on voltage is applied only during the period (1H below), and the beam-off voltage is applied to the vertical scanning electrodes 12 in the second and subsequent stages. After the lapse of 1H, the 1H beam ON voltage is applied only to the second-stage vertical scan electrodes 12, and thereafter, the 1H beam ON voltage is sequentially applied to the vertical scan electrodes 12. When the lowermost vertical scanning electrode 12 is completed, the vertical scanning of the first one field is completed. The second field is the vertical deflection electrode 1
The polarity of the deflection voltage applied to 7 and 18 is reversed, and this is applied for one field. The beam-on voltage applied to the vertical scanning electrodes 12 is the same as in the first field. At this time, if the amplitude of the deflection voltage applied to the vertical deflection electrodes 17 and 18 is adjusted so that the horizontal scanning line of the second field is positioned between the horizontal scanning lines of the beam in the vertical scanning of the first field. , Interlacing is possible.

発明が解決しようとする課題 このような構成では、平板ディスプレーとして、均一
で、充分な明るさをもった画像を、安定して得る上で、
4つの問題点がある。
Problems to be Solved by the Invention In such a configuration, as a flat panel display, in order to stably obtain an image having a uniform and sufficient brightness,
There are four problems.

(1)均一な画像が獲られない第1の問題点は、電子源
として垂直方向に長い線状カソードを用いていることに
よる。
(1) The first problem in that a uniform image cannot be obtained is that a linearly long linear cathode is used as an electron source.

即ち、線状カソードは、ばねによって架張されている
も、その長さのために、小さな機械的衝撃が加わるだけ
で、線状カソードが弦振動する。このように線状カソー
ドが弦振動すると電子ビーム取り出し電極との距離が変
動して電界強度が変化し取り出される電子ビーム量が変
動するため、蛍光体が発光する輝度にむらが生じて画像
の品質を低下させている。
That is, the linear cathode is stretched by a spring, but due to its length, the linear cathode vibrates in a string due to a small mechanical impact. When the linear cathode vibrates in this way, the distance from the electron beam extraction electrode fluctuates, the electric field strength changes, and the amount of the electron beam extracted fluctuates, which causes uneven brightness in the phosphor emission, resulting in image quality. Is decreasing.

又、振動した線状カソードが、前記背面電極や、電子ビ
ーム取り出し電極に接触して電気的に短絡した場合に
は、線状カソードの断線が発生する。
Further, when the vibrated linear cathode contacts the back electrode or the electron beam extraction electrode and is electrically short-circuited, disconnection of the linear cathode occurs.

(2)均一な画像が獲られない第2の問題点は、画像出
力が、線状カソードの本数だけ水平方向に分割されたブ
ロックを、継ぎ合わせていることによる。
(2) The second problem that a uniform image cannot be obtained is that the image output splices blocks horizontally divided by the number of linear cathodes.

即ち、1本の線状カソードは、僅かな量水平偏向され1
つの出力ブロックを形成している。蛍光面に画像や、文
字等を表示する場合、このブロックが継ぎ合わされて全
体画像を表示することになる。従って、各ブロックを水
平走査する電子ビームは、此の継ぎ目で互いに重複した
り分離することなく、定められた位置を衝撃する必要が
ある。そのために各水平電極DH1、DH2、DH3に印加され
る偏向波形は、常に一定の振幅に保たれなければならな
いが、電気回路の温度特性等によっては波形振幅は変化
してしまう。それによって電子ビームのミスランディン
グが発生し、各ブロック間の色ずれを生じることにな
る。
That is, one linear cathode is horizontally deflected by a slight amount.
Form one output block. When displaying an image, characters, etc. on the phosphor screen, these blocks are joined together to display the entire image. Therefore, the electron beams that horizontally scan each block must strike a defined position without overlapping or separating from each other at this joint. Therefore, the deflection waveform applied to each horizontal electrode DH1, DH2, DH3 must always be kept at a constant amplitude, but the waveform amplitude changes depending on the temperature characteristics of the electric circuit. As a result, mislanding of the electron beam occurs, causing color shift between the blocks.

又、本方式が採用しているインデックス方式において
は、光電変換素子からビーム変調信号の増幅器にいたる
光学系及び、回路系で、フィルターで除去不可能な信号
の位相に非線形の歪を生じる場合がある。即ち、ビーム
の蛍光体衝撃のタイミングと、ビーム変調電極への色信
号の印加タイミングとが正確に合致せず電子ビームのミ
スランディングを生じ画像のブロック間の継ぎ目が現わ
れる。
In addition, in the index method adopted by this method, nonlinear phase distortion may occur in the phase of the signal that cannot be removed by the filter in the optical system and circuit system from the photoelectric conversion element to the amplifier of the beam modulation signal. is there. That is, the timing of the impact of the phosphor on the beam and the timing of applying the color signal to the beam modulation electrode do not exactly match, causing mislanding of the electron beam, and a seam between the blocks of the image appears.

(3)均一な画像が獲られない第3の問題点は各水平偏
向電極を硝子性の板状体に蒸着などによる薄膜状電極で
構成していることによる。
(3) The third problem that a uniform image cannot be obtained is that each horizontal deflection electrode is composed of a thin film electrode formed by vapor deposition on a glass plate.

即ち、薄膜蒸着による板状電極に高電圧が印加される
と、水平電極内の陽極端即近傍において、電界放出や花
火放電が生じることがあり高電圧印加回路の破損、電位
分布の乱れによる電子ビーム軌道変動及び画像の乱れ、
輝度変動等の問題が発生する。
That is, when a high voltage is applied to the plate electrode by thin film deposition, field emission or fireworks discharge may occur in the vicinity of the anode end in the horizontal electrode, which may damage the high voltage application circuit or disturb the potential distribution of electrons. Beam trajectory fluctuation and image disturbance,
Problems such as brightness variations occur.

この原因として、陰極側電極が薄膜であり、電極絶縁部
の電界強度が大きくなり電子放出をしやすくなること、
及び蒸着党で形成した薄膜電極の端部に凹凸が生じ、一
部剥離等が生じることにより局部的な電界集中が起こり
放電に至ったと考えられる。
As a cause of this, the cathode side electrode is a thin film, the electric field strength of the electrode insulating part becomes large, and it becomes easy to emit electrons,
It is considered that unevenness is generated at the end of the thin film electrode formed by the vapor deposition party, and partial peeling or the like is caused, whereby local electric field concentration occurs and discharge is caused.

(4)均一な画像が獲られない第4の問題点は、真空容
器が偏平化したことによる大気圧の問題による。
(4) The fourth problem that a uniform image cannot be obtained is due to the problem of atmospheric pressure due to the flattening of the vacuum container.

即ち、軽量で大気圧に耐える真空容器を得るために、電
極とフェースプレート間に、支持部材を配置しているた
めに、フェイスプレート上に通された蛍光体の均一性を
劣化させている。前記水平偏向電極に固定されたフェイ
スプレート側に先鋭な形状をした支持部材は、容器を真
空にする製造工程において、真空引き以前には、支持部
材のフェースプレート側は、フェースプレートと僅かに
接触しているに過ぎないが、容器を真空にすると、大気
圧がフェースプレートに作用し、フェースプレートは、
支持部材によって、圧力を受け、大気圧に耐えるわけで
あるが、同時にフェースルレート枚に塗布された蛍光体
あるいは、ブラックストライプを圧迫する。その状態
で、ベーキングプロセスを経ると、ガラスと金属の熱膨
張差により相対的に支持部材は移動する。そして蛍光面
にその軌跡を残し蛍光面を劣化させる。
That is, in order to obtain a vacuum container that is lightweight and can withstand atmospheric pressure, the support member is disposed between the electrode and the face plate, so that the uniformity of the phosphors passed over the face plate is deteriorated. The support member, which is fixed to the horizontal deflection electrode and has a sharp shape on the side of the face plate, has a slight contact with the face plate side of the support member before evacuation in the manufacturing process in which the container is evacuated. However, when the container is evacuated, atmospheric pressure acts on the face plate,
The support member receives the pressure to withstand the atmospheric pressure, but at the same time, the phosphor coated on the face plate or the black stripe is pressed. When the baking process is performed in that state, the supporting member relatively moves due to the difference in thermal expansion between the glass and the metal. Then, the locus is left on the phosphor screen to deteriorate the phosphor screen.

本発明は、上記従来例の画像の均一性、対電圧性、生産
性の問題点を改良するものである。
The present invention improves the problems of the image uniformity, voltage resistance, and productivity of the above-mentioned conventional examples.

課題を解決するための手段 表示画面の水平方向の蛍光体数に相当する熱電子源を表
示装置の下端に設け、前記熱電子源から出射した電子ビ
ームを、周期的な磁場レンズによって発散させることな
く誘導する。そして電子ビームを所望の位置で蛍光面側
に偏向し電子増倍器によって電子ビームを増倍する。増
倍された電子ビームは、電子ビーム増倍器の最終段に設
けられた蛍光体を発光させる。
Means for Solving the Problems A thermoelectron source corresponding to the number of phosphors in the horizontal direction of a display screen is provided at the lower end of a display device, and an electron beam emitted from the thermoelectron source is diverged by a periodic magnetic field lens. Guide without. Then, the electron beam is deflected to the phosphor screen side at a desired position, and the electron beam is multiplied by the electron multiplier. The multiplied electron beam causes the phosphor provided at the final stage of the electron beam multiplier to emit light.

作用 周期的な磁場レンズを用いることによって、耐電圧的問
題もなく電子ビームは所望の位置まで、発散すること無
しに誘導される。電子増倍器に入射した電子ビームは増
倍され、最終段にある蛍光面を励起発光させる。電子増
倍器と蛍光面を一体化することで、地磁気や経時変化に
よるミスランディングや、放電の問題が解決される。
Action By using a periodic magnetic field lens, the electron beam is guided to the desired position without divergence, without withstanding voltage problems. The electron beam incident on the electron multiplier is multiplied, and the phosphor screen at the final stage is excited to emit light. By integrating the electron multiplier and the phosphor screen, the problems of mislanding and discharge due to geomagnetism and aging can be solved.

実 施 例 以下、本発明の一実施例を図面を参照しながら説明す
る。
Example Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本実施例における平板型画像表示装置の要部構
成を示すものである。
FIG. 1 shows the configuration of the main part of the flat panel image display device in this embodiment.

即ち、真空容器1内に、熱電子放射を利用した電子ビー
ム源とそれを加速集束する電子レンズ系とを含む電子ビ
ーム発生部2と、電子ビーム発生部2で発生した電子ビ
ームを所望の位置まで発散させることなく誘導する電子
ビーム案内体3を備えた電子ビーム誘導部と、誘導され
た電子ビームをフェイスプレート6側へ偏向する電子ビ
ーム偏向系と、偏向された電子ビームを増幅し、最終段
にある蛍光体を発光させる電子ビーム増幅発光部5とを
備えている。
That is, an electron beam generator 2 including an electron beam source using thermoelectron radiation and an electron lens system for accelerating and focusing the electron beam in the vacuum container 1, and an electron beam generated by the electron beam generator 2 at a desired position. To the face plate 6 side, an electron beam deflecting system for deflecting the induced electron beam to the face plate 6 side, and an electron beam deflecting system for amplifying the deflected electron beam. It is provided with an electron beam amplification light emitting unit 5 for emitting the fluorescent material in the steps.

以下、電子ビーム発生部2、電子ビーム誘導部3、電子
ビーム増倍発光部5について各々詳しく述べる。
Hereinafter, the electron beam generating unit 2, the electron beam guiding unit 3, and the electron beam multiplying light emitting unit 5 will be described in detail.

第2図に電子ビーム発生部2を示す。平板型表示装置の
真空容器を形成している硝子基板21の長辺側の底辺に沿
って、膜厚2μm〜100μmの熱絶縁層25を設ける。熱
絶縁層25の一端は、他の部分に比べ厚くなって突起部28
を形成している。この突起部28の先端部に陥没部23が設
けられている。この陥没部23の断面形状は、約20μmの
直径の円形あるいは、10μm*20μm程度の長方形をし
ている。そして陥没部23の内部には、高融点材であると
ころのタングステン線22が配置されている。このタング
ステン線22に電流を流すことによって、酸化物陰極24を
加熱する。酸化物陰極24であるところのBaOは、直径10
から30μmのニッケル線26の先端に電着等によって取り
付けられている。抵抗(図示せず)を介して接地された
ニッケル線26は、長さ5mmで、その基端側は、変調用の
電圧印加線を2次側として、容量性素子あるいは、誘導
性素子27に結合されている。ニッケル線26はクロストー
クを防止するためにアルミナ等の絶縁膜で覆われてい
る。
The electron beam generator 2 is shown in FIG. A thermal insulating layer 25 having a film thickness of 2 μm to 100 μm is provided along the bottom side on the long side of the glass substrate 21 forming the vacuum container of the flat panel display device. One end of the thermal insulation layer 25 is thicker than the other part, and the protrusion 28
Is formed. A depression 23 is provided at the tip of the protrusion 28. The cross-sectional shape of the depression 23 is a circle having a diameter of about 20 μm or a rectangle of about 10 μm * 20 μm. Inside the recess 23, the tungsten wire 22 which is a high melting point material is arranged. By passing a current through the tungsten wire 22, the oxide cathode 24 is heated. BaO, which is the oxide cathode 24, has a diameter of 10
Is attached to the tip of the nickel wire 26 having a thickness of 30 μm by electrodeposition or the like. The nickel wire 26, which is grounded via a resistor (not shown), has a length of 5 mm, and its proximal end is connected to the capacitive element or the inductive element 27 with the voltage application line for modulation as the secondary side. Are combined. The nickel wire 26 is covered with an insulating film such as alumina to prevent crosstalk.

電子ビーム発生部2は、酸化物陰極24のあるニッケル線
26を除いては、印刷或いは蒸着によって形成されてい
る。電子ビーム発生部2の前方(第2図右方)には、同
じく印刷または蒸着によって複数の電極(図示せず)が
形成され、これによって電子ビームは50〜200eVに加速
され、発散角の小さな電子ビームに集束される。
The electron beam generator 2 is a nickel wire with an oxide cathode 24.
Except for 26, they are formed by printing or vapor deposition. A plurality of electrodes (not shown) are also formed in front of the electron beam generator 2 (on the right side in FIG. 2) by printing or vapor deposition, whereby the electron beam is accelerated to 50 to 200 eV and the divergence angle is small. It is focused on the electron beam.

第3図は電場を利用した電子ビーム案内体3を示した図
である。即ち、硝子基板21上に約100μmの間隔で30か
ら50μm幅で、高さ20から50μmの略直方体状の側壁32
が、例えば表面がアルミニウムからなる導電性材料によ
って複数条つくられている。これら側壁32には、壁厚の
小さい部分33と大きい部分34とを1mmから10mmの周期で
電子ビームの進行方向に設けている。壁厚の小さい部分
33は大きい部分34に対して10〜20μm壁厚が小さい。こ
れによって形成される陥没部33aにより電子ビームは、
実質的に正負の集束レンズによって発散されることなく
任意の位置まで誘導される。
FIG. 3 is a view showing an electron beam guide 3 using an electric field. That is, a substantially rectangular parallelepiped side wall 32 having a width of 30 to 50 μm and a height of 20 to 50 μm on the glass substrate 21 at intervals of about 100 μm.
However, a plurality of strips are made of a conductive material whose surface is made of aluminum, for example. On these side walls 32, a portion 33 having a small wall thickness and a portion 34 having a large wall thickness are provided in the electron beam traveling direction at a cycle of 1 mm to 10 mm. Small wall thickness
33 has a smaller wall thickness of 10 to 20 μm than the large portion 34. Due to the depression 33a formed by this, the electron beam is
It is guided to an arbitrary position without being diverged by a focusing lens that is substantially positive and negative.

第4図に示す例ではさらに効果を高めるため、前記陥没
部33aに、例えばフリット硝子などの高抵抗材35を設置
する。そうすると、壁厚の小さい部分33は他の部分34よ
り低電圧となり、実質的に電子ビーム進行方向に対し
て、高電圧と低電圧が交互に配列され、第5図に示すよ
うに、周期的な静電レンズが形成され電子ビームは発散
することなく所望の位置まで進行することが可能とな
る。本構成の利点は、印加電圧源1つで実質的に高圧部
と低圧部を形成することができ、効率的な静電レンズが
得られることにある。
In the example shown in FIG. 4, in order to further enhance the effect, a high resistance material 35 such as frit glass is installed in the depression 33a. Then, the portion 33 having a small wall thickness has a lower voltage than the other portions 34, and the high voltage and the low voltage are substantially arranged alternately in the electron beam traveling direction, and as shown in FIG. An electrostatic lens is formed, and the electron beam can travel to a desired position without diverging. The advantage of this configuration is that the high voltage part and the low voltage part can be substantially formed by one applied voltage source, and an efficient electrostatic lens can be obtained.

側壁(導電層)32には、300Vの電圧を印加し、相対的に
低電圧の部分33には50から100Vになるように抵抗値を調
整する。電子ビームのエネルギーによって異なるが、例
えば100eVなら、1μA〜3μAの電流を流すことで可
能となる。
A voltage of 300 V is applied to the side wall (conductive layer) 32, and the resistance value is adjusted to 50 to 100 V in the relatively low voltage portion 33. Although it depends on the energy of the electron beam, for example, 100 eV can be obtained by passing a current of 1 μA to 3 μA.

第6図は、静磁場を利用した電子ビーム案内体3を示し
た斜視図で第7図はその断面図である。
FIG. 6 is a perspective view showing an electron beam guide 3 utilizing a static magnetic field, and FIG. 7 is a sectional view thereof.

即ち、硝子基板21上に、磁性材料であるGd−CO,Gd−Fe,
あるいは、γ−Fe2O3からなる厚さ、0.01〜100μmの磁
性薄膜52を形成し、それを1〜10mmピッチで電子ビーム
53の進行方向に磁化する。同様に硝子基板21に相対する
面例えばマイクロチャンネルプレート(図示せず)の面
上に、磁性薄膜を設け磁化する。そうすると電子ビーム
53は、X方向の正負に力を受け集束発散を繰り返しなが
ら、所望の位置まで移動する。さらに効果を確実にする
ために、第8図に示すようにビーム分割壁61の側面にも
磁性薄膜62を設け磁化するとよい。これら薄膜を設ける
手段としては、蒸着や印刷等による方法が取られる。又
磁性材料としては、他の磁性記録材料を用いても良いの
はいうまでもない。
That is, on the glass substrate 21, a magnetic material Gd-CO, Gd-Fe,
Alternatively, a magnetic thin film 52 made of γ-Fe 2 O 3 and having a thickness of 0.01 to 100 μm is formed, and is formed with an electron beam at a pitch of 1 to 10 mm.
Magnetize in the traveling direction of 53. Similarly, a magnetic thin film is provided and magnetized on the surface facing the glass substrate 21, for example, the surface of a microchannel plate (not shown). Then electron beam
The 53 moves to a desired position while receiving positive and negative forces in the X direction and repeating focused divergence. To further secure the effect, a magnetic thin film 62 may be provided and magnetized on the side surface of the beam dividing wall 61 as shown in FIG. As a means for providing these thin films, a method such as vapor deposition or printing is used. Needless to say, another magnetic recording material may be used as the magnetic material.

一般に、磁場の大きさをB、ビーム半径r=bの電位を
Vbとすると電流量Iは、 I=A*b2*B2*(Vb−CB2*b20.5 (但しここで、Aは常数) 電流量Iには最大値が存在して、 Imax=16*π*ε*(e/m)0.5*Vb1.5 となる。
Generally, the magnitude of the magnetic field is B and the potential of the beam radius r = b is
Current I When Vb is, I = A * b 2 * B 2 * (Vb-CB 2 * b 2) 0.5 ( however, where, A is constant) to the current amount I exist maximum value, Imax = 16 * π * ε * (e / m) 0.5 * Vb 1.5 .

本実施例では、磁場の大きさBが、10GAUSS〜200GAUS
S、電子ビーム53のエネルギーが100eVの時、約1μAの
電子ビーム53が発散せずに伝送された。
In this embodiment, the magnitude B of the magnetic field is 10 GAUSS to 200 GAUS.
S, when the energy of the electron beam 53 was 100 eV, the electron beam 53 of about 1 μA was transmitted without diverging.

第9図は、電子ビーム増幅装置及び発光装置を示す。即
ち、縦方向に蛍光体トリオ数の3倍、横方向に走査線数
の略円形開孔を有する厚さ0.2mmの金属薄板の全面にフ
リット硝子71を塗布し、それを3段から4段重ね合わせ
て一体化した高抵抗材料に、前記高抵抗材と同数の略円
形で、開孔断面の形状が略円錐形72の透過型の電子増倍
器73を重ね合わせる。前記電場あるいは磁場を用いた電
子ビーム案内体3によって誘導された電子ビームは、所
望の位置で静電的あるいは磁場を用いて偏向され、前記
電子ビーム増倍器73の開孔に入射する。そして、開孔内
壁に衝突しながら電子ビームは増倍され、最終段の透過
型増倍器73に入り円錐形状の開口内に塗布された蛍光体
74を励起発光する。透過型増倍器73の蛍光体を塗布した
側の表面には、いわゆるアクアダックが塗布されてい
る。
FIG. 9 shows an electron beam amplifier and a light emitting device. That is, the frit glass 71 is applied to the entire surface of a thin metal plate having a thickness of 0.2 mm, which has three times the number of phosphor trios in the vertical direction and approximately circular holes in the horizontal direction of the number of scanning lines. A transmission electron multiplier 73 having the same number of circular shapes as that of the high resistance material and a cross section of a hole having a substantially conical shape 72 is superposed on the high resistance material which is superposed and integrated. The electron beam guided by the electron beam guide 3 using the electric field or the magnetic field is deflected at a desired position using the electrostatic or magnetic field, and enters the aperture of the electron beam multiplier 73. Then, the electron beam is multiplied while colliding with the inner wall of the aperture, enters the transmission type multiplier 73 at the final stage, and the phosphor coated in the conical opening.
Excitation 74 emits light. A so-called aqua duck is applied to the surface of the transmission type multiplier 73 on which the phosphor is applied.

本構成によれば、いわゆる電子ビームのミスランディン
グ発生しない。そして熱膨張差よるランディングの変化
もなく経時変化の無い優れた画像が得られる。
According to this configuration, so-called mislanding of the electron beam does not occur. An excellent image without landing change due to the difference in thermal expansion and with time is obtained.

発明の効果 本発明によれば、構造が簡単で、耐電圧問題や、地磁気
や経時変化による画像の劣化もなく、容易に大型化する
ことが可能な平板型表示装置を実現することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, it is possible to realize a flat panel display device which has a simple structure, does not have a withstand voltage problem, and is free from deterioration of images due to geomagnetism and aging, and which can be easily enlarged.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例における平板型画像表示装置
の斜視図、第2図は同実施例における電子ビーム発生部
の拡大斜視図、第3図は同実施例における電子ビーム案
内体の斜視図、第4図は同電子ビーム案内体の第1の変
形例を示す平面図、第5図は同変形例の拡大平面図、第
6図は第2の変形例を示す斜視図、第7図は同変形例に
おける作用説明の概略側面図、第8図は第3の変形例を
示す斜視図、第9図は同実施例における電子増倍器と表
示部を示す図、第10図は先行技術の斜視図、第11図はそ
の横断平面図、第12図はその縦断側面図、第13図(a)
(b)はその作用説明の要部側面図(a)及び印加電圧
のタイムチャート(b)である。 1……真空容器、2……電子ビーム発生部、3……電子
ビーム案内体、21……硝子基板、22……タングステン
線、27……誘導素子、28……突起部、32……側壁、33a
……陥没部、35……高抵抗材、52、62……磁性薄膜。
FIG. 1 is a perspective view of a flat panel image display device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged perspective view of an electron beam generator in the same embodiment, and FIG. 3 is an electron beam guiding body in the same embodiment. FIG. 4 is a perspective view, FIG. 4 is a plan view showing a first modification of the electron beam guide, FIG. 5 is an enlarged plan view of the modification, and FIG. 6 is a perspective view showing a second modification. FIG. 7 is a schematic side view for explaining the operation of the modified example, FIG. 8 is a perspective view showing a third modified example, FIG. 9 is a view showing an electron multiplier and a display section in the same example, and FIG. Is a perspective view of the prior art, FIG. 11 is a transverse plan view thereof, FIG. 12 is a longitudinal side view thereof, and FIG. 13 (a).
(B) is a side view (a) of a main part and a time chart (b) of an applied voltage for explaining the operation. 1 ... Vacuum container, 2 ... Electron beam generator, 3 ... Electron beam guide, 21 ... Glass substrate, 22 ... Tungsten wire, 27 ... Induction element, 28 ... Projection, 32 ... Side wall , 33a
…… Cavity, 35 …… High resistance material, 52,62 …… Magnetic thin film.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 雅幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 濱田 潔 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 北尾 智 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−228552(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Masayuki Takahashi 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Kiyoshi Hamada, 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 72) Inventor Satoshi Kitao 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) References JP-A-63-228552 (JP, A)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】真空容器内に、少なくとも1個の電子源
と、前記電子源から出射した電子ビームを集束するため
の電子ビーム集束手段と、少なくとも1色の蛍光体から
なる蛍光表示面を有する平板型画像表示装置に於て、画
像の水平走査方向と略同方向に配列された少なくとも1
つ以上の電子源に対して、絶縁性あるいは高抵抗材料か
らなる壁を前記電子ビーム進行方向にほぼ全長にわたっ
て前記水平画素数叉は水平画素数の3倍設け、この壁の
配列方向の壁面に磁性を有する膜を設けて前記電子ビー
ム進行方向に対して略同方向に磁化した周期磁場からな
る電子ビーム案内体を形成したことを特徴とする平板型
画像表示装置。
1. A vacuum container having at least one electron source, electron beam focusing means for focusing an electron beam emitted from the electron source, and a fluorescent display surface made of a phosphor of at least one color. In a flat-panel image display device, at least one of them is arranged substantially in the same direction as the horizontal scanning direction of the image.
For one or more electron sources, a wall made of an insulating or high-resistance material is provided over the entire length in the electron beam traveling direction over the entire number of horizontal pixels or three times the number of horizontal pixels. A flat panel image display device, characterized in that a film having magnetism is provided to form an electron beam guide body composed of a periodic magnetic field magnetized in substantially the same direction as the electron beam traveling direction.
【請求項2】電子ビーム案内体は、磁性を有したアモル
ファスシート、あるいは蒸着膜、あるいは印刷によって
形成されたことを特徴とする請求項1記載の平板型画像
表示装置。
2. The flat panel image display device according to claim 1, wherein the electron beam guide is formed by a magnetic amorphous sheet, a vapor deposition film, or printing.
【請求項3】真空容器内に、少なくとも1個の電子源
と、前記電子源から出射した電子ビームを集束するため
の電子ビーム集束手段と、少なくとも1色の蛍光体から
なる蛍光表示面を有する平板型画像表示装置に於て、前
記電子源は硝子基盤の一端側に設けた熱絶縁性の突起部
の上に設けられ、前記突起部に設けられた高融点材によ
って前記電子源の加熱が行われる一方、この電子源の電
子ビーム量の制御が、電子源の電位を熱的に絶縁された
容量性あるいは誘電性素子と結合した電気回路に信号を
入れることで行われるように構成したことを特徴とする
平板型画像表示装置。
3. A vacuum container having at least one electron source, electron beam focusing means for focusing an electron beam emitted from the electron source, and a fluorescent display surface made of a phosphor of at least one color. In the flat panel image display device, the electron source is provided on a heat insulating protrusion provided on one end side of the glass substrate, and the high melting point material provided on the protrusion heats the electron source. On the other hand, the electron beam amount of the electron source is controlled by inputting a signal to the electric circuit coupled with the thermally insulated capacitive or dielectric element. A flat panel image display device characterized by:
【請求項4】真空容器内に、少なくとも1個の電子源
と、前記電子源から出射した電子ビームを集束するため
の電子ビーム集束手段と、少なくとも1色の蛍光体から
なる蛍光表示面を有する平板型画像表示装置に於て、画
像の水平走査方向と略同方向に配列された少なくとも1
つ以上の電子源に対して、絶縁性あるいは高抵抗材料か
らなる壁を前記電子ビーム進行方向にほぼ全長にわたっ
て前記水平画素数叉は水平画素数の3倍設け、この壁を
導伝性材料によって形成するとともに、この壁の配列方
向の壁面に電子ビーム進行方向に対して陥没部を設け、
前記陥没部に抵抗体を設けて他の部分より相対的に低電
圧とすることにより、周期電場を形成したことを特徴と
する平板型画像表示装置。
4. A vacuum container having at least one electron source, electron beam focusing means for focusing an electron beam emitted from the electron source, and a fluorescent display surface made of at least one color phosphor. In a flat-panel image display device, at least one of them is arranged substantially in the same direction as the horizontal scanning direction of the image.
For one or more electron sources, a wall made of an insulating or high resistance material is provided over the entire length in the electron beam advancing direction over the entire number of horizontal pixels or three times the number of horizontal pixels, and the wall is made of a conductive material. Along with the formation, a recessed portion is provided on the wall surface in the arrangement direction of this wall in the electron beam traveling direction,
A flat panel image display device, characterized in that a periodic electric field is formed by providing a resistor in the depressed portion so that the voltage is relatively lower than that of other portions.
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