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JPH0810731B2 - Chip carrier - Google Patents
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JPH0810731B2 - Chip carrier - Google Patents

Chip carrier

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JPH0810731B2
JPH0810731B2 JP5016033A JP1603393A JPH0810731B2 JP H0810731 B2 JPH0810731 B2 JP H0810731B2 JP 5016033 A JP5016033 A JP 5016033A JP 1603393 A JP1603393 A JP 1603393A JP H0810731 B2 JPH0810731 B2 JP H0810731B2
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cap
chip
substrate
sealing
chip carrier
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明裕 銅谷
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/877Bump connectors and die-attach connectors

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電子装置等に使用される
配線基板にICを実装するために用いるチップキャリア
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip carrier used for mounting an IC on a wiring board used for an electronic device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のこの種のチップキャリアは図2に
示すように構成されており、このチップキャリアはたと
えばIEICE TRANSAITIONS.(VOL.E 74,No.8 AUGUST 1991)
P.2331に掲載されている。この従来の技術はTAB(Ta
pe Automated Bonding) IC50をフェイスダウンで配
線基板51上に接続し、熱伝導性の良好なキャップ52
にて気密封止されている。気密封止にはシーム溶接53
が用いられ、高さ方向のばらつきやICの傾きはIC5
0と配線基板51の間にシリコンラバー54を緩衝剤と
して入れることにより吸収している。
2. Description of the Related Art A conventional chip carrier of this type is constructed as shown in FIG. 2, and this chip carrier is, for example, IEICE TRANSAITIONS. (VOL.E 74, No. 8 AUGUST 1991).
See page 2331. This conventional technique uses TAB (Ta
pe Automated Bonding) The IC 50 is connected face down on the wiring board 51, and the cap 52 with good thermal conductivity is attached.
Is hermetically sealed. Seam welding 53 for hermetic sealing
Is used, the variation in the height direction and the inclination of the IC are
Silicon rubber 54 is absorbed as a buffer between 0 and the wiring board 51 for absorption.

【0003】また、従来の他のチップキャリアは図3に
示されており、このチップキャリアは特開昭62−62
545号公報に記載されている。この従来の他のチップ
キャリアは図2の従来の技術と同様にICチップ67を
フェイスダウンでTAB実装しており、キャップ69を
基板にAu/Sn60で接合すると同時に封止する構造
となっている。この他のチップキャリアでは、IC実装
高さのばらつきは切り欠き部を設けたキャップ69を基
板61側面で移動させることにより調整している。
Further, another conventional chip carrier is shown in FIG. 3, and this chip carrier is disclosed in JP-A-62-62.
It is described in Japanese Patent No. 545. In this other conventional chip carrier, the IC chip 67 is face-down TAB mounted similarly to the conventional technique of FIG. 2, and the cap 69 is bonded to the substrate by Au / Sn 60 and is sealed at the same time. . In other chip carriers, variations in IC mounting height are adjusted by moving the cap 69 having the cutout portion on the side surface of the substrate 61.

【0004】更に、従来の他のチップキャリアは図4に
示されており、これも第41回ECTC論文集1991
年 P.704に掲載されている。このIC70はバンプを介
して配線基板71上に設けられた薄膜上のパッドに接続
し、AINキャップ75をはんだ付けすることにより気
密封止している。この従来例ではキャップのばらつきと
IC実装高さのばらつきは、ICを実装した後キャップ
を選別していると考えられる。
Further, another conventional chip carrier is shown in FIG. 4, which is also the 41st ECTC paper collection 1991.
It is published in P.704 for the year. The IC 70 is connected to a pad on a thin film provided on the wiring board 71 via a bump, and an AIN cap 75 is soldered to hermetically seal it. In this conventional example, it is considered that the cap variation and the IC mounting height variation are caused by selecting the cap after mounting the IC.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来この主のチップキ
ャリアでは、図2に示す従来例のシリコンラバーを使用
することによって、またはIC実装後にキャップの選別
を行うことによってキャップとICの接着厚を一定にす
ることが可能であったが、近年のICの信号数の増加に
伴い、バンプを介してICの面全体から信号を取り出す
ようなフリップチップ実装ではシリコンラバーのような
弾性体でIC下面から接続部を保護することが不可能と
なる。
Conventionally, in this main chip carrier, the adhesive thickness between the cap and the IC is reduced by using the conventional silicon rubber shown in FIG. 2 or by selecting the cap after mounting the IC. Although it was possible to keep it constant, with flip-chip mounting in which signals are taken out from the entire surface of the IC through bumps with the increase in the number of signals of the IC in recent years, the lower surface of the IC is made of an elastic material such as silicon rubber. It becomes impossible to protect the connection part from

【0006】また、図4に示す従来例のようにIC取付
け後にキャップを選別して高さを合わせる方法は何種類
もの高さの異なるキャップを準備しなければならずコス
ト、歩留まりの悪化につながるという問題がある。ま
た、封止接合する際に接合材料のはんだが飛散、流動に
よってチップキャリア内に侵入してICと基板の接続部
が短絡しやすいという問題もある。
Further, as in the conventional example shown in FIG. 4, the method of selecting the caps after mounting the ICs to adjust the heights requires preparing various kinds of caps having different heights, which leads to deterioration in cost and yield. There is a problem. In addition, there is a problem that solder of the bonding material scatters and flows into the chip carrier due to the flow at the time of sealing and bonding, so that the connecting portion between the IC and the substrate is easily short-circuited.

【0007】また、図3に示す従来例のように切り欠き
を設けたキャップを基板側面で移動させてIC取付け高
さのばらつきを調整する場合はコストが安いという利点
があるが、やはり封止接合する際に接合材料のAu/S
nが飛散、流動によってチップキャリア内に侵入してI
Cと基板の接続部が短絡する危険がある。
Further, when the cap provided with the notch is moved on the side surface of the substrate to adjust the variation of the IC mounting height as in the conventional example shown in FIG. 3, there is an advantage that the cost is low, but the sealing is still performed. Au / S of the joining material when joining
n scatters and flows into the chip carrier to cause I
There is a risk of short-circuiting the connection between C and the board.

【0008】図5に基板からキャップ内壁までの寸法説
明図を示す。基板81からキャップ83の内壁までの高
さHのばらつきは通常の機械的加工精度では±0.03mm程
度あり、基板81からフェイスダウン実装されているI
Cチップ88上面までの高さhのばらつきはLSIウェ
ハーの厚みばらつき、バンプ部の高さばらつきなどを総
合すると±0.05mmあるため、ICチップ88とキャップ
83を接着する接着材料82の厚みは最低厚を0.03mmと
すると0.03〜0.21mmとばらつくことになる。接着材料8
2が厚くなると、発熱源であるICチップ88から放熱
面となるキャップ83の上面までの熱抵抗が増加し、冷
却効果が悪化するという問題点がある。また、接着材料
として接着剤を用いる場合には、接着剤が厚くなると接
着剤中のボイド除去が困難となり、熱抵抗の増加、熱ス
トレスによるクラックの発生等、信頼性品質も劣るとい
う問題点がある。
FIG. 5 is an explanatory view of dimensions from the substrate to the inner wall of the cap. The variation in the height H from the substrate 81 to the inner wall of the cap 83 is about ± 0.03 mm in normal mechanical processing accuracy, and the face-down mounting from the substrate 81 is I.
The variation in the height h to the upper surface of the C chip 88 is ± 0.05 mm when the variation in the thickness of the LSI wafer and the variation in the height of the bump portion are combined. Therefore, the thickness of the adhesive material 82 for bonding the IC chip 88 and the cap 83 is the minimum. If the thickness is 0.03 mm, it will vary from 0.03 to 0.21 mm. Adhesive material 8
When 2 is thick, there is a problem that the thermal resistance from the IC chip 88, which is the heat source, to the upper surface of the cap 83, which is the heat radiation surface, increases, and the cooling effect deteriorates. Further, when an adhesive is used as the adhesive material, it becomes difficult to remove voids in the adhesive when the adhesive becomes thick, and there is a problem in that reliability quality is poor, such as an increase in thermal resistance and the occurrence of cracks due to thermal stress. is there.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のチップキャリア
は、パッドを有する基板と、該基板にフェイスダウンで
実装されるICチップと、該ICチップ裏面に接着する
キャップとを有し、前記基板と前記キャップによって前
記ICチップを封止するチップキャリアにおいて、前記
キャップと嵌合する構造の封止高さ調整枠を有し、前記
基板は前記封止高さ調整枠とキャップを接合したときに
キャップ下端位置より基板上面が高くなる段差を有して
いる。
A chip carrier of the present invention comprises a substrate having a pad, an IC chip mounted face down on the substrate, and a cap adhered to the back surface of the IC chip. And a chip carrier for sealing the IC chip with the cap, which has a sealing height adjustment frame having a structure that fits with the cap, and the substrate is provided when the sealing height adjustment frame and the cap are joined. There is a step in which the upper surface of the substrate is higher than the lower end position of the cap.

【0010】本発明の他のチップキャリアは、請求項1
記載のチップキャリアにおいて、キャップと封止高さ調
整枠の接合位置が基板上面より含くなる段差を有してい
る。
Another chip carrier of the present invention is claim 1.
In the described chip carrier, there is a step in which the bonding position of the cap and the sealing height adjusting frame is included from the upper surface of the substrate.

【0011】[0011]

【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
The present invention will be described below with reference to the drawings.

【0012】図1(A)は本発明の一実施例のチップキ
ャリアを示す断面図である。図1(A)において、IC
チップ8は高温はんだバンプ4(たとえば、5Sm/95Pb、
10Sn/90Pb 、80Au/20Sn 等)を介して、基板1上のパッ
ド3にフリップチップ接続法によってフェイスダウンに
実装してある。
FIG. 1A is a sectional view showing a chip carrier according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1A, the IC
The chip 8 is a high temperature solder bump 4 (for example, 5Sm / 95Pb,
10Sn / 90Pb, 80Au / 20Sn, etc.) is mounted face down on the pad 3 on the substrate 1 by the flip chip connection method.

【0013】基板1はその端部に封止高さ調整枠7とキ
ャップ10との接合位置が基板1上面より低い位置とな
るように段差を有しており、封止高さ調整枠7はこの段
差部に封止材5を用いて接合されている。
The substrate 1 has a step at the end thereof so that the joining position of the sealing height adjusting frame 7 and the cap 10 is lower than the upper surface of the substrate 1, and the sealing height adjusting frame 7 is The step portion is joined with the sealing material 5.

【0014】ICチップ8裏面はキャップ10に接着材
料9によって接着されており、このキャップ10は封止
高さ調整枠7い封止材6によって封止接合されている。
The back surface of the IC chip 8 is adhered to a cap 10 by an adhesive material 9, and the cap 10 is sealed and joined by a sealing height adjusting frame 7 and a sealing material 6.

【0015】封止高さ調整枠7はキャップ10の高さ方
向に面で接する構造となっているため、基板1からIC
チップ8上面までの高さや基板1からキャップ10内壁
までの高さがそれぞればらついていても確実に封止接合
することができる。接着材料9の供給方法としては、I
Cチップ8裏面にテンプレートによる印刷等の手段等が
可能となり、一定量の熱伝導性の良い接着材料(たとえ
ば、エポテック社製エポテックXD9028、Sn/Pb はんだ
等)を薄く供給することが可能となる。キャップ10は接
着材料9を介してICチップ8の冷却を行うため熱伝導
性が良好で熱膨張係数がシリコンにできるだけ等しい材
料(たとえば、Cu/W、A1N、ガラスセラミック
ス、ムライト等)を使用する。
Since the sealing height adjusting frame 7 has a structure in which the surface is in contact with the height direction of the cap 10, the substrate 1 to IC
Even if the height to the upper surface of the chip 8 or the height from the substrate 1 to the inner wall of the cap 10 varies, the sealing and bonding can be reliably performed. As a method of supplying the adhesive material 9, I
It becomes possible to print on the back surface of the C chip 8 using a template, etc., and it becomes possible to thinly supply a certain amount of adhesive material with good thermal conductivity (for example, Epotek XD9028 made by Epotek Co., Sn / Pb solder). . Since the cap 10 cools the IC chip 8 via the adhesive material 9, a material having good thermal conductivity and a coefficient of thermal expansion as close to that of silicon as possible (eg Cu / W, A1N, glass ceramics, mullite, etc.) is used. .

【0016】封止高さ調整枠7は基板1の段差部分に接
合されており、キャップ10との接合位置が基板1上面よ
り低い位置となっているため、封止時に封止材6が飛
散、流動してもICチップ8と基板1との接続部に挿入
することを防止すう。このことにより、封止材6はたと
えば、Au/Sn、Sn/Pbはんだ等の流動性のある
材料でも使用することが可能である。
Since the sealing height adjusting frame 7 is joined to the step portion of the substrate 1 and the joining position with the cap 10 is lower than the upper surface of the substrate 1, the sealing material 6 scatters during the sealing. Even if it flows, it is prevented from being inserted into the connecting portion between the IC chip 8 and the substrate 1. As a result, the sealing material 6 can be made of a fluid material such as Au / Sn or Sn / Pb solder.

【0017】図1(A)ではこのようにフリップチップ
接続を行っているが、ICチップ8の接続方法を図1
(B)に示すような、ICチップ8と基板1上のパッド
3を微小リードピン24(以下、マイクロピンとよぶ)を
介しての基板1上のパッド3を高温はんだ(たとえば、
10Sn/90Pb 、80Au/20Sn 等)で結合し、マイクロピン4
のICチップ8側とICチップ8上のパッド21をより高
温のはんだ(たとえば、Cd/Ag 、Zn/A1 等)で接合する
マイクロピン接続方を用いてもICチップ8を基板1上
にフェイスダウンに実装するならば同様の効果が得られ
る。
Although flip-chip connection is performed in this manner in FIG. 1A, the method of connecting the IC chip 8 is shown in FIG.
As shown in (B), the IC chip 8 and the pad 3 on the substrate 1 are connected to the high-temperature solder (for example, the pad 3 on the substrate 1) via the micro lead pins 24 (hereinafter referred to as micro pins).
10Sn / 90Pb, 80Au / 20Sn, etc.) and micropin 4
Even if the IC chip 8 side and the pad 21 on the IC chip 8 are joined by a micropin connection method using a higher-temperature solder (for example, Cd / Ag, Zn / A1 etc.), the IC chip 8 is faced on the substrate 1. If it is installed down, the same effect can be obtained.

【0018】ただし、図1(B)に示すようなマイクロ
ピン接続方式では、マイスロピン24がICチップ8と基
板1の熱膨張差による熱ストレスを緩和するため、基板
1としてたとえばアルミナセラミックのようなシリコン
と熱膨張係数に差のある材料を使用することが可能であ
るが、図1(A)に示す実施例のはんだバンプによるフ
リップチップ実装方式ではICチップ8のサイズによっ
て熱膨張係数による材料の選択が必要となる。
However, in the micro pin connection method as shown in FIG. 1B, the mysulo-pins 24 alleviate the thermal stress due to the difference in thermal expansion between the IC chip 8 and the substrate 1, so that the substrate 1 is made of alumina ceramic, for example. It is possible to use a material having a coefficient of thermal expansion different from that of silicon. However, in the flip chip mounting method using solder bumps of the embodiment shown in FIG. 1A, a material having a coefficient of thermal expansion depending on the size of the IC chip 8 is used. Selection is required.

【0019】図1(C)には、図1(A)の実施例のバ
ンプ2の代わりにマイクロピン32を使用した実施例
を、図1(D)では、図1(B)の実施例のバンプ2の
代わりにマイクロピン32を使用した実施例を示す。
FIG. 1C shows an embodiment in which micro pins 32 are used instead of the bumps 2 of the embodiment shown in FIG. 1A, and FIG. 1D shows the embodiment shown in FIG. 1B. An example in which the micro pins 32 are used instead of the bumps 2 will be shown.

【0020】次に、図1(A)を例に組立方法の一例を
示す。まず、基板1に封止材5を用いて封止高さ調整枠
5を接合する。次にICチップ8を基板1にフリップチ
ップ実装する。次に、キャップ10の所定の位置にテンプ
レート等を用いて接着材料9を一定量供給した後、IC
チップ8裏面をキャップ10に位置合わせして搭載し、加
熱する。最後に、キャップ10と封止高さ調整枠7の接合
面を側面から加熱すると同時に封止材6を供給し封止接
合を行なう。
Next, an example of an assembling method will be described with reference to FIG. First, the sealing height adjusting frame 5 is bonded to the substrate 1 using the sealing material 5. Next, the IC chip 8 is flip-chip mounted on the substrate 1. Next, after a certain amount of the adhesive material 9 is supplied to a predetermined position of the cap 10 using a template or the like, IC
The back surface of the chip 8 is aligned with the cap 10 and mounted, and heated. Finally, the joint surface between the cap 10 and the sealing height adjusting frame 7 is heated from the side surface, and at the same time, the sealing material 6 is supplied to carry out sealing joining.

【0021】手順で本発明のチップキャリアを組み立て
る場合は、封止材5、バンプ4、接着材料9、封止材6
の接合温度を階層化する必要がある。一例を挙げると、
封止材5として94Au/6Si(370℃)、バンプ4として5Sn/
95Pb(320-324℃)、接着材料9として80Au/20Sn(280
℃) 、封止材6として63Sn/37Pb(183 ℃) を使用するこ
とができる。
When assembling the chip carrier of the present invention by the procedure, the sealing material 5, bumps 4, adhesive material 9, sealing material 6
It is necessary to stratify the junction temperatures of. To give an example,
94Au / 6Si (370 ℃) as the sealing material 5 and 5Sn / as the bump 4
95Pb (320-324 ℃), 80Au / 20Sn (280 as adhesive material 9
63 ° C.) and 63Sn / 37Pb (183 ° C.) can be used as the sealing material 6.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように本発明のチップキャ
リアはICを封止するキャップと基板の間に封止高さ調
整枠を備えているため、ICとキャップを接着するため
に用いる接着材料を薄く一定の厚みとすることが可能と
なり、その結果としてICからキャップ上面までの熱抵
抗を下げ、冷却効率が向上するという効果を有し、接着
剤中のバイド除去が容易となることから信頼性品質も向
上するという効果を有する。
As described above, since the chip carrier of the present invention has the sealing height adjusting frame between the cap for sealing the IC and the substrate, the adhesive material used for bonding the IC and the cap together. Can be made thin and uniform, and as a result, it has the effect of lowering the thermal resistance from the IC to the top surface of the cap, improving cooling efficiency, and facilitating removal of the binder in the adhesive. It also has the effect of improving sex quality.

【0023】また、封止材がチップキャリア内に侵入す
ることを防止するため、信頼性品質を向上させるととも
に製品の歩留まりを向上させるという効果を有する。
Further, since the encapsulating material is prevented from entering the chip carrier, it has the effects of improving reliability quality and improving product yield.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の各実施例の断面を示す図である。FIG. 1 is a view showing a cross section of each embodiment of the present invention.

【図2】従来のチップキャリアを示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a conventional chip carrier.

【図3】従来の他のチップキャリアを示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing another conventional chip carrier.

【図4】従来の更に他のチップキャリアを示す断面図で
ある。
FIG. 4 is a sectional view showing still another conventional chip carrier.

【図5】従来のチップキャリアにおける断面構造を示す
説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a cross-sectional structure of a conventional chip carrier.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 3,21 パッド 4 はんだバンプ 5,6 封止材 7 封止高さ調整枠 8 ICチップ 9 接着材料 10 キャップ 24,32 マイクロピン 1 Substrate 3,21 Pad 4 Solder Bump 5,6 Sealing Material 7 Sealing Height Adjustment Frame 8 IC Chip 9 Adhesive Material 10 Cap 24, 32 Micro Pin

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 パッドを有する基板と、該基板のフェイ
スダウンで実装されるICチップと、該ICチップ裏面
に接着するキャップとを有し、前記基板と前記キャップ
によって前記ICチップを封止するチップキャリアにお
いて、前記キャップと嵌合する構造の封止高さ調整枠を
有し、前記基板は前記封止高さ調整枠とキャップを接合
したときにキャップ下端位置より基板上面が高くなる段
差を有することを特徴とするチップキャリア。
1. A substrate having a pad, an IC chip mounted by face down of the substrate, and a cap adhered to the back surface of the IC chip, and the substrate and the cap seal the IC chip. The chip carrier has a sealing height adjustment frame having a structure that fits with the cap, and the substrate has a step where the substrate upper surface is higher than the lower end position of the cap when the sealing height adjustment frame and the cap are joined. A chip carrier having.
【請求項2】 請求項1記載のチップキャリアにおい
て、キャップと封止高さ調整枠の接合位置が基板上面よ
り引すなる段差を有していることを特徴とするチップキ
ャリア。
2. The chip carrier according to claim 1, wherein the joint position of the cap and the sealing height adjusting frame has a step which is pulled from the upper surface of the substrate.
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