JPH0813827B2 - n―ブチル―テキシル―ジ―メトキシシラン - Google Patents
n―ブチル―テキシル―ジ―メトキシシランInfo
- Publication number
- JPH0813827B2 JPH0813827B2 JP2334568A JP33456890A JPH0813827B2 JP H0813827 B2 JPH0813827 B2 JP H0813827B2 JP 2334568 A JP2334568 A JP 2334568A JP 33456890 A JP33456890 A JP 33456890A JP H0813827 B2 JPH0813827 B2 JP H0813827B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- butyl
- methoxysilane
- silane
- texyl
- thexyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、文献未載の新規な上記式(1)で表される
n−ブチル−テキシル−ジ−メトキシシランに関するも
のである。
n−ブチル−テキシル−ジ−メトキシシランに関するも
のである。
本発明のシランは、Si−O−CH3の加水分解性ならび
にテキシル基及びブチル基の嵩高い有機基の特性を生か
して、木材、コンクリート、大理石等の建築物の表面撥
水処理剤として応用される。
にテキシル基及びブチル基の嵩高い有機基の特性を生か
して、木材、コンクリート、大理石等の建築物の表面撥
水処理剤として応用される。
また、金属Mg、Ti及びAl化合物と配位化合物を作り易
いので、この化合物はオレフィン重合用錯体触媒の添加
剤として利用できる。
いので、この化合物はオレフィン重合用錯体触媒の添加
剤として利用できる。
[従来の技術及び課題] 従来、テキシル基及びブチル基がけい素原子に結合し
たメトキシシランは知られていなかった。
たメトキシシランは知られていなかった。
本発明はこのシラン化合物を提供しようとするものであ
る。
る。
[課題を解決するための手段] すなわち、本発明は式 で表わされるn−ブチル−テキシル−ジ−メトキシシラ
ン、を要旨とするものである。
ン、を要旨とするものである。
以下に本発明について詳しく説明する。
本発明の前記式(1)で示されるn−ブチル−テキシ
ル−ジ−メトキシシランは次の方法により合成できるこ
とが分った。一法はテキシル−トリ−メトキシシランと
n−ブチルリチウムを反応させる方法であり、また、他
の一法はテキシル−トリ−ハライドシランとn−ブチル
リチウムを反応させて一度n−ブチル−テキシル−ジ−
ハライドシランを合成した後に、これをメタノールと反
応させる方法である。
ル−ジ−メトキシシランは次の方法により合成できるこ
とが分った。一法はテキシル−トリ−メトキシシランと
n−ブチルリチウムを反応させる方法であり、また、他
の一法はテキシル−トリ−ハライドシランとn−ブチル
リチウムを反応させて一度n−ブチル−テキシル−ジ−
ハライドシランを合成した後に、これをメタノールと反
応させる方法である。
上記の合成反応に際して、原料シランはそのままある
いは溶液として用いることができる。溶液とする場合の
溶媒にはテトラハイドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
ブチルエーテル、ペンタン、ヘキサン等が例示される。
シラン濃度としては0.01モル/l以上とすればよい。ま
た、n−ブチルリチウムは溶液として用いるのがよく、
溶媒としてはテトラハイドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ペンタン、ヘキサン等が例示さ
れる。n−ブチルリチウムの濃度は0.01〜4モル/lとす
ればよい。
いは溶液として用いることができる。溶液とする場合の
溶媒にはテトラハイドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
ブチルエーテル、ペンタン、ヘキサン等が例示される。
シラン濃度としては0.01モル/l以上とすればよい。ま
た、n−ブチルリチウムは溶液として用いるのがよく、
溶媒としてはテトラハイドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ペンタン、ヘキサン等が例示さ
れる。n−ブチルリチウムの濃度は0.01〜4モル/lとす
ればよい。
合成反応を行なうには、上記シランあるいはシラン溶
液にn−ブチルリチウムを添加してゆくか、又は、n−
ブチルリチウムにシランあるいはシラン溶液を加えてゆ
き、−78℃〜100℃で反応させればよい。反応終了後、
副生したリチウム塩を濾過して取り除き、溶媒を留去し
てから蒸留することにより、n−ブチル−テキシル−ジ
−メトキシシランもしくはn−ブチル−テキシル−ジ−
ハライドシランを得る。
液にn−ブチルリチウムを添加してゆくか、又は、n−
ブチルリチウムにシランあるいはシラン溶液を加えてゆ
き、−78℃〜100℃で反応させればよい。反応終了後、
副生したリチウム塩を濾過して取り除き、溶媒を留去し
てから蒸留することにより、n−ブチル−テキシル−ジ
−メトキシシランもしくはn−ブチル−テキシル−ジ−
ハライドシランを得る。
後者のn−ブチル−テキシル−ジ−ハライドシランを
2当量以上のメタノールと反応させればn−ブチル−テ
キシル−ジ−メトキシシランが得られる。
2当量以上のメタノールと反応させればn−ブチル−テ
キシル−ジ−メトキシシランが得られる。
[実施例] 次に、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1 1.6モル/lのブチルリチウムを含有するテトラハイド
ロフラン溶液0.21をテキシル−トリ−クロロシラン0.
47モル(103.5g)を含むテトラハイドロフラン0.1
に、反応温度−78℃〜10℃にて5時間かけて滴下した。
その後反応温度を徐々に25℃まで上げた。ガスクロマト
グラフィーにより反応の終点を確認した後、副生した塩
を濾過により取り除き、さらに溶媒を蒸留により除去し
た。この溶媒を留去した濃縮物を減圧蒸留(103℃/5mmH
g)して無色透明の液状物質32gを得た。
ロフラン溶液0.21をテキシル−トリ−クロロシラン0.
47モル(103.5g)を含むテトラハイドロフラン0.1
に、反応温度−78℃〜10℃にて5時間かけて滴下した。
その後反応温度を徐々に25℃まで上げた。ガスクロマト
グラフィーにより反応の終点を確認した後、副生した塩
を濾過により取り除き、さらに溶媒を蒸留により除去し
た。この溶媒を留去した濃縮物を減圧蒸留(103℃/5mmH
g)して無色透明の液状物質32gを得た。
この得られた物質10gを1,5−ジアザビシクロ[5,4,
0]ウンデク−5−エン(DBU)13g(86ミリモル)、ヘ
キサン50ml及びメタノール3.0g(94ミリモル)の混合物
中に25℃で滴下し2時間反応させた。ガスクロマトグラ
フィーにより反応の終点を確認した後、副生したDBU塩
酸塩を濾過により取り除き、さらに溶媒を蒸留により除
去した。この溶媒を留去した濃縮物を減圧蒸留(86℃/3
mmHg)して無色透明の液状物質7.5gを得た。
0]ウンデク−5−エン(DBU)13g(86ミリモル)、ヘ
キサン50ml及びメタノール3.0g(94ミリモル)の混合物
中に25℃で滴下し2時間反応させた。ガスクロマトグラ
フィーにより反応の終点を確認した後、副生したDBU塩
酸塩を濾過により取り除き、さらに溶媒を蒸留により除
去した。この溶媒を留去した濃縮物を減圧蒸留(86℃/3
mmHg)して無色透明の液状物質7.5gを得た。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果は、この液
状物質が単一成分であることを示した。このものの25℃
における屈折率は1.4398であった。さらに、ガスクロマ
トグラフィー質量分析、1H−NMR分析の結果は下記のと
おりであった。
状物質が単一成分であることを示した。このものの25℃
における屈折率は1.4398であった。さらに、ガスクロマ
トグラフィー質量分析、1H−NMR分析の結果は下記のと
おりであった。
ガスクロマトグラフィー質量分析 分子イオンピーク(M/Z):2321 H−NMR分析(CDCl3) δ(ppm):3.57(s,6H,−OCH3) 2.2〜1.1(m,5H,−CH2−,−CH) 1.1〜0.5(m,17H,−CH3,Si−CH2) また、赤外線吸収スペクトル分析の結果は第1図に示
すとおりであった。
すとおりであった。
以上の分析結果から、得られた物質は の構造をもつn−ブチル−テキシル−ジ−メトキシシラ
ンであることが確認された。(総合単離収率31%) 実施例2 1.6モル/lのブチルリチウムを含有するテトラハイド
ロフラン溶液6mlをテキシル−トリ−メトキシシラン2.0
g(10ミリモル)を含むテトラハイドロフラン10ml溶液
に、反応温度−78℃〜20℃にて4時間で滴下した。その
後25℃まで温度を上げて反応させた。ガスクロマトグラ
フィーにより反応の終点を確認した後、副生した塩を濾
過により取り除き、さらに溶媒を蒸留により除去した。
この溶媒を留去した濃縮物を減圧蒸留して無色透明の液
状物質1.4gを得た。分析結果は実施例1で得られたn−
ブチル−テキシル−ジ−メトキシシランに一致した。
(単離収率63%) [発明の効果] 本発明により文献未載の新規なシラン化合物であるn
−ブチル−テキシル−ジ−メトキシシランが提供され
た。このシランは建築物の表面撥水処理剤やオレフィン
重合用錯体触媒の添加剤として有用である。
ンであることが確認された。(総合単離収率31%) 実施例2 1.6モル/lのブチルリチウムを含有するテトラハイド
ロフラン溶液6mlをテキシル−トリ−メトキシシラン2.0
g(10ミリモル)を含むテトラハイドロフラン10ml溶液
に、反応温度−78℃〜20℃にて4時間で滴下した。その
後25℃まで温度を上げて反応させた。ガスクロマトグラ
フィーにより反応の終点を確認した後、副生した塩を濾
過により取り除き、さらに溶媒を蒸留により除去した。
この溶媒を留去した濃縮物を減圧蒸留して無色透明の液
状物質1.4gを得た。分析結果は実施例1で得られたn−
ブチル−テキシル−ジ−メトキシシランに一致した。
(単離収率63%) [発明の効果] 本発明により文献未載の新規なシラン化合物であるn
−ブチル−テキシル−ジ−メトキシシランが提供され
た。このシランは建築物の表面撥水処理剤やオレフィン
重合用錯体触媒の添加剤として有用である。
第1図は本発明の実施例1で得られたシランの赤外線吸
収スペクトルを示す図である。
収スペクトルを示す図である。
Claims (1)
- 【請求項1】式 で表わされるn−ブチル−テキシル−ジ−メトキシシラ
ン。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2334568A JPH0813827B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | n―ブチル―テキシル―ジ―メトキシシラン |
| US07/798,515 US5136072A (en) | 1990-11-30 | 1991-11-26 | Thexyl C1 -C4 alkyl dialkoxy silane |
| EP91311071A EP0488759B1 (en) | 1990-11-30 | 1991-11-29 | Thexyl (C1-C4)alkyl dialkoxy silanes; methods of preparation; and uses thereof |
| DE69103388T DE69103388T2 (de) | 1990-11-30 | 1991-11-29 | Thexyl-(C1-C4)alkyl-dialkoxysilane, Verfahren zur Herstellung und deren Verwendung. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2334568A JPH0813827B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | n―ブチル―テキシル―ジ―メトキシシラン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04208292A JPH04208292A (ja) | 1992-07-29 |
| JPH0813827B2 true JPH0813827B2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=18278860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2334568A Expired - Fee Related JPH0813827B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | n―ブチル―テキシル―ジ―メトキシシラン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0813827B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105829364B (zh) * | 2014-01-17 | 2017-11-10 | 博里利斯股份公司 | 用于制备丙烯/1‑丁烯共聚物的方法 |
| JPWO2023181867A1 (ja) * | 2022-03-24 | 2023-09-28 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2334568A patent/JPH0813827B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04208292A (ja) | 1992-07-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3414134B2 (ja) | N,n−ビス(トリメチルシリル)アミノプロピルシラン化合物及びその製造方法 | |
| JP5115729B2 (ja) | トリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
| JP7596996B2 (ja) | 環状シラザン化合物の製造方法 | |
| JP2003532734A (ja) | 第二級アミノイソブチルアルコキシシラン類の調製 | |
| JPH0813827B2 (ja) | n―ブチル―テキシル―ジ―メトキシシラン | |
| JP2003040895A (ja) | スルフィド鎖含有有機珪素化合物の製造方法 | |
| JP3279148B2 (ja) | 2−アリロキシメチル−1,4−ジオキサンの製造方法 | |
| JP2002020392A (ja) | N−アルケニルアザシラシクロペンタン、およびその製造方法 | |
| EP0643064B1 (en) | Tert-butyl cycloalkyl dialkoxysilane compounds and method for preparing same | |
| EP0488759B1 (en) | Thexyl (C1-C4)alkyl dialkoxy silanes; methods of preparation; and uses thereof | |
| JP3419207B2 (ja) | 3−アミノプロピルアルコキシシラン化合物の製造方法 | |
| JP2797962B2 (ja) | シクロアルキル(2−ノルボルニル)ジアルコキシシラン化合物 | |
| JP2538447B2 (ja) | N−tert−ブチルジアルキルシリルマレイミドの製造方法 | |
| Sternberg et al. | The Reaction of Transient 1, 1‐Bis (trimethylsilyl) silenes with Tris (trimethylsilyl) silyllithium–Synthesis and Structure of Sterically Congested 1‐Trimethylsilylalkylpolysilanes | |
| JP2002012597A (ja) | 有機ケイ素化合物 | |
| JP2688469B2 (ja) | (メタ)アクリル官能基含有有機けい素化合物の製造方法 | |
| JP3821191B2 (ja) | 有機珪素化合物及びその製造方法 | |
| JPH02108692A (ja) | アリ―ルジメチル(3‐アリールプロピル)シランの製造方法 | |
| JPH0813825B2 (ja) | エポキシ基含有有機ケイ素化合物 | |
| JPH0748387A (ja) | tert−ブチルジアルコキシシラン及びその製造方法 | |
| WO1994017080A1 (en) | Rhodium catalyzed silaformylation of aldehydes and products obtained therefrom | |
| JPH04321694A (ja) | メチル−テキシル−ジメトキシシラン | |
| JPH07278161A (ja) | 1−アルキルシクロアルキル基含有アルコキシシラン化合物 | |
| JPH07121952B2 (ja) | ピリジン環を有する有機ケイ素化合物 | |
| JPH06329683A (ja) | 4−tert−ブチルシクロヘキシル基含有シラン化合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080214 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090214 Year of fee payment: 13 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |