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JPH081487B2 - METHOD FOR CREATING OPTICAL ELEMENT HAVING PATTERN WITH DIFFERENTIAL INDEX, PATTERN TRANSFER PRODUCT AND IMAGE FORMING PRODUCT - Google Patents
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JPH081487B2 - METHOD FOR CREATING OPTICAL ELEMENT HAVING PATTERN WITH DIFFERENTIAL INDEX, PATTERN TRANSFER PRODUCT AND IMAGE FORMING PRODUCT - Google Patents

METHOD FOR CREATING OPTICAL ELEMENT HAVING PATTERN WITH DIFFERENTIAL INDEX, PATTERN TRANSFER PRODUCT AND IMAGE FORMING PRODUCT

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JPH081487B2
JPH081487B2 JP63133272A JP13327288A JPH081487B2 JP H081487 B2 JPH081487 B2 JP H081487B2 JP 63133272 A JP63133272 A JP 63133272A JP 13327288 A JP13327288 A JP 13327288A JP H081487 B2 JPH081487 B2 JP H081487B2
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refractive index
pattern
image forming
optical element
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は屈折率差のあるパターン作成方法及びそれに
供するパターン転写体及び像形成体に関するものであ
る。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a pattern forming method having a difference in refractive index, and a pattern transfer body and an image forming body to be used therefor.

従来の技術 従来、屈折率差のあるパターンからなる光導波路の第
1の作成方法として、次のような方法が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, the following method has been known as a first method for producing an optical waveguide having a pattern having a refractive index difference.

1、基材の上に屈折率が低い層を設ける。1. A layer having a low refractive index is provided on the base material.

2、この上に一旦フォトレジスタ、電子線レジストなど
の放射線に対して感応性がある物質を構成する。
2. On top of this, once form a substance sensitive to radiation, such as a photoresistor or an electron beam resist.

3、導波路を構成したい場所だけを(または導波路以外
の場所を)マスク等を用いて放射線により感応させる。
3. Only the place where the waveguide is to be formed (or the place other than the waveguide) is made sensitive to radiation by using a mask or the like.

4、この場所だけの(またはこの場所以外の)レジスト
を除去する。
4. Remove the resist only at this place (or other than this place).

5、エッチングにより、導波路を構成したい場所の低屈
折率層を除去する。
5. By etching, the low-refractive index layer at the location where the waveguide is to be formed is removed.

6、高屈折率物質の層を構成する。6. Construct a layer of high refractive index material.

7、残留レジストを除去する。7. Remove residual resist.

また、第2の方法として、屈折率差を用いた(位相変
調による)ホログラフィック光学素子或はホログラムと
しては、重クロムゼラチンのようなホログラム記録材料
に露光したあと、ウエットプロセスで処理するという方
法がある。
As a second method, as a holographic optical element or hologram using a difference in refractive index (by phase modulation), a hologram recording material such as heavy chromium gelatin is exposed and then processed by a wet process. There is.

また屈折率差を有するパターン作成方法の新しい流れ
として、特開昭60−166946号公報に記載のように、予
め、光によって反応することで屈折率が変化する2種類
の物質によりフィルムなどを構成し、これにパターンの
露光を行って反応させた後未反応の物質の一方を除去す
るといった方法がある。また、2つの異なる波長の光を
照射したときだけ反応が起こり屈折率が変化するという
ような材料を用いることにより、露光プロセスだけでパ
ターンを作製するという方法もある。
Further, as a new flow of a pattern forming method having a difference in refractive index, as described in JP-A-60-166946, a film or the like is previously composed of two kinds of substances whose refractive index is changed by reacting with light. Then, there is a method in which a pattern is exposed to this to react it and then one of the unreacted substances is removed. There is also a method of forming a pattern only by an exposure process by using a material in which a reaction occurs and a refractive index changes only when light of two different wavelengths is irradiated.

発明が解決しようとする課題点 前記の種類の屈折率差を有するパターンの作成方法の
うち、1番目の方法はパターンの形成された光学素子や
記録像を得るまでの処理が複雑であり、また容易ではな
い。2番目の方法は複雑ではないが、ウエットプロセス
での処理でやや容易ではなく、また、未記録状態での像
形成体が単独で感光性を有するため、未記録材料の保存
安定性の点で不利である。3番目の方法は更に簡便な方
法ではあるが、一方の未反応物質を十分に除去しないと
十分な屈折率差が得られないという問題点がある。4番
目の方法は、2つの波長の光を与えて初めて屈折率変化
を伴う反応が起こるというゲートを設けた設計であり、
未記録状態或は記録後の状態の材料の保存安定性の点で
も有利である。しかしながら、実用に十分な記録感度が
得られていないのが実状である。
Problems to be Solved by the Invention Of the methods for creating a pattern having a refractive index difference of the type described above, the first method is complicated in processing until an optical element in which a pattern is formed or a recorded image is obtained, and It's not easy. The second method is not complicated, but it is not so easy to perform in a wet process, and since the image-forming body in the unrecorded state has a single photosensitivity, the storage stability of the unrecorded material is improved. It is a disadvantage. The third method is a simpler method, but has a problem that a sufficient refractive index difference cannot be obtained unless one of the unreacted substances is sufficiently removed. The fourth method is a design with a gate in which a reaction involving a change in refractive index occurs only when light of two wavelengths is given,
It is also advantageous in terms of storage stability of the material in the unrecorded state or the state after recording. However, the reality is that the recording sensitivity is not sufficient for practical use.

本発明者は、屈折率差を有するパターンの簡便な作成
方法を説明するに当たり、前記の従来の技術の3番目の
方法、即ち2種類の物質を光により反応させることによ
り屈折率が低い方の物質の屈折率を高くするという方法
に注目した。さらに屈折率変化を伴う反応のために必要
なエネルギーとパターン記録のための信号エネルギーを
分離することにより、より多くの記録手段によってパタ
ーン信号(情報)の記録が行うことが出来ると考え、本
発明に至った。
The present inventor, in explaining a simple method for producing a pattern having a difference in refractive index, is the third method of the above-mentioned conventional technique, that is, one having a lower refractive index by reacting two kinds of substances with light. We paid attention to the method of increasing the refractive index of the substance. Further, by separating the energy required for the reaction involving the change in the refractive index and the signal energy for the pattern recording, it is considered that the pattern signal (information) can be recorded by a larger number of recording means. Came to.

本発明は、作成方法が簡便で、未記録状態の像形成体
に感熱・感光性がなく保存安定性に優れ、熱、電流、光
などの放射線を記録エネルギーとして用いることによ
り、多くの記録手段で記録が行える屈折率差を有するパ
ターンの形成方法及びこれに供する転写体と像形成体を
提供することを目的とする。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is easy to prepare and has excellent storage stability without heat sensitivity and photosensitivity in an unrecorded image forming body. By using radiation such as heat, current and light as recording energy, many recording means It is an object of the present invention to provide a method for forming a pattern having a difference in refractive index that enables recording, and a transfer body and an image forming body used for the method.

課題を解決するための手段 反応性官能基を有する化合物Aを含む層または基材か
らなる像形成体に対して、化合物Aと反応することによ
り化合物Aの屈折率を変化させる化合物Bと結着材を含
む転写体を密着させ、光等の電磁波や熱のエネルギーに
より転写体から化合物Bを像形成体へ昇華または拡散に
より位置選択的に転写し、化合物Aと反応させることに
よって屈折率変化を生じさせる。
Means for Solving the Problems An image-forming body comprising a layer or a base material containing a compound A having a reactive functional group is bound to a compound B which changes the refractive index of the compound A by reacting with the compound A. The transfer material containing the material is brought into close contact, and the compound B is position-selectively transferred from the transfer material to the image forming body by sublimation or diffusion by electromagnetic waves such as light or heat energy, and reacted with the compound A to change the refractive index. Give rise to.

作用 反応性官能基を有する化合物Aを含む層が構成された
像形成体または反応性官能基を有する化合物Aを含む基
材自体が像形成体であるような像形成体の反応性官能基
を有する化合物Aを含む層または基材の部分に対して、
化合物Aと反応することにより化合物Aの屈折率を変化
させる化合物Bと結着材を含む転写体の、化合物Bを含
む部分を密着させ、転写体の像形成体に密着させた側の
反対方向から光等の電磁波や熱のエネルギーを加える
と、昇華転写型感熱記録方法と同様に転写体から化合物
Bは像形成体へ昇華または拡散により位置選択的に転写
し、さらに転写記録時の熱エネルギーや新たに像形成体
に加える熱、光等の放射線のエネルギーにより化合物A
と反応させることによって屈折率変化を生じさせること
が出来る。
The reactive functional group of the image forming body in which the layer containing the compound A having a reactive functional group is formed, or the reactive functional group of the image forming body in which the substrate itself containing the compound A having a reactive functional group is the image forming body. With respect to the part of the layer or substrate containing the compound A having
The direction in which the portion containing compound B of the transfer body containing compound B and the binder that changes the refractive index of compound A by reacting with compound A are brought into close contact with each other, and the direction opposite to the side of the transfer body brought into close contact with the image forming body When an electromagnetic wave such as light or heat energy is applied from the transfer material, the compound B is position-selectively transferred from the transfer material to the image forming material by sublimation or diffusion, similarly to the sublimation transfer type thermal recording method. Compound A by the energy of radiation such as heat and light newly applied to the image forming body
A refractive index change can be caused by reacting with.

実施例 本発明のパターン作成方法において、反応性官能基を
有する化合物Aと、化合物Aと反応することにより化合
物Aの屈折率を変化させる化合物Bとの反応は特に限定
されるものではない。屈折率が異なる化合物Aと化合物
Bの反応を効率よく起こすことができるもので有ればよ
い。化合物Aは、像形成体を構成するので、未反応の反
応性官能基がある状態でも安定であるものが好ましい。
さらに層やフィルムを構成する上で都合がよい高分子化
合物が好ましい。また化合物Bとしては、化合物Aの反
応性官能基と反応するもので、かつ転写体内及び像形成
体内を拡散し易いものであればよい。具体的に説明する
ために、化合物Aと化合物Bの反応に利用しうる例を挙
げ、更にその反応を利用する場合の化合物Aと化合物B
の例を挙げる。
Example In the pattern forming method of the present invention, the reaction between the compound A having a reactive functional group and the compound B which changes the refractive index of the compound A by reacting with the compound A is not particularly limited. It is only necessary that the reaction between the compound A and the compound B having different refractive indices can be caused efficiently. Since the compound A constitutes the image forming body, it is preferable that the compound A is stable even in the state where there is an unreacted reactive functional group.
Further, a polymer compound that is convenient in forming a layer or a film is preferable. The compound B may be any compound that reacts with the reactive functional group of the compound A and that easily diffuses in the transfer body and the image forming body. For the sake of concrete explanation, an example that can be used for the reaction between the compound A and the compound B is given, and further, the compound A and the compound B when the reaction is used.
Take the example of.

(1)オキセタン生成反応 芳香族カルボニル化合物とオレフィンによる光反応
で、下記のようなオキタセン環を有する化合物を生成す
る(徳丸 克己著「有機光化学反応論」東京化学同人発
行)。
(1) Oxetane formation reaction The following compound having an octacene ring is formed by a photoreaction of an aromatic carbonyl compound and an olefin (Katsumi Tokumaru, "Organic Photochemical Reaction Theory," published by Tokyo Kagaku Dojin).

前述の特開昭60−166946号公報の感光性樹脂組成物の
反応もこれが含まれるが、反応の量子収率が比較的高い
ので有用である。
The reaction of the photosensitive resin composition described in JP-A-60-166946 mentioned above includes this, but it is useful because the quantum yield of the reaction is relatively high.

化合物Aの例としては、透明性の高い物質が好まし
く、化合物Aが炭素−炭素2重結合を有する化合物にな
る場合には特開昭60−166946号公報の特許請求の範囲に
記載されているような、(メタ)アクリル酸3,3−ジメ
チルアリルエステルの単独または共重合体のほか(メ
タ)アクリル酸の3−メチル−3−ブテニルエステル、
3−メチルアリルエステル、アリルエステル、2−メチ
ルアリルエステル、3−ヘプテニルエステル、3,3−ジ
エチルアリルエステル、ジシクロペンテニルエステル、
2−フルフリルエステルあるいはジビニルベンゼンなど
の単独重合体や他のビニルモノマーとの共重合体があ
る。化合物Bとしては、置換もしくは非置換のベンズア
ルデヒド、アセトフェノン、ベンゾフェノン、1−,ま
たは2−ナフトアルデヒド,1または2−ナフチルメチル
ケトンまたは2−ナフチルフェニルケトンがある。オキ
セタン生成反応の量子収率の点で好ましいのは置換もし
くは非置換のベンズアルデヒドまたはベンゾフェノンで
ある。さらに置換もしくは非置換のベンズアルデヒド類
として4−フルオロベンズアルデヒド、2−,3−または
4−クロロベンズアルデヒド、2−,3−または4−ブロ
モベンズアルデヒド、2,4−,3,4−または3,5−ジクロロ
ベンズアルデヒド、2,4−,3,4−または3,5−ジブロモベ
ンズアルデヒド、4−メチルベンズアルデヒド、4−is
o−プロピルベンズアルデヒド、4−シクロヘキシルベ
ンズアルデヒド、2−,3−または4−メトキシベンズア
ルデヒド、3,4−ジメトキシベンズアルデヒド3,4,5−ト
リメトキシベンズアルデヒド、3−フェノキシベンズア
ルデヒド、3−ヒドロキシベンズアルデヒド、フタルア
ルデヒドあるいは4−シアノベンズアルデヒドなどなど
がある。また置換もしくは非置換のベンズフェノンとし
て、ベンゾフェノン、2−,3−または4−クロロベンゾ
フェノン、4,4′−ジクロロベンゾフェノン、2−,3−
または4−ブロモベンゾフェノン、4−メチルベンゾフ
ェノン、4−プロピルベンゾフェノン、4−メトキシベ
ンゾフェノンあるいは4−ベンゾイルベンゾフェノンな
どがある。
As an example of the compound A, a highly transparent substance is preferable, and when the compound A is a compound having a carbon-carbon double bond, it is described in the claims of JP-A-60-166946. In addition to homo- or copolymer of (meth) acrylic acid 3,3-dimethylallyl ester, 3-methyl-3-butenyl ester of (meth) acrylic acid,
3-methylallyl ester, allyl ester, 2-methylallyl ester, 3-heptenyl ester, 3,3-diethylallyl ester, dicyclopentenyl ester,
There are homopolymers such as 2-furfuryl ester or divinylbenzene and copolymers with other vinyl monomers. Compound B includes substituted or unsubstituted benzaldehyde, acetophenone, benzophenone, 1-, or 2-naphthaldehyde, 1- or 2-naphthylmethylketone or 2-naphthylphenylketone. A substituted or unsubstituted benzaldehyde or benzophenone is preferable from the viewpoint of the quantum yield of the oxetane production reaction. Further substituted or unsubstituted benzaldehydes such as 4-fluorobenzaldehyde, 2-, 3- or 4-chlorobenzaldehyde, 2-, 3- or 4-bromobenzaldehyde, 2,4-, 3,4- or 3,5- Dichlorobenzaldehyde, 2,4-, 3,4- or 3,5-dibromobenzaldehyde, 4-methylbenzaldehyde, 4-is
o-Propylbenzaldehyde, 4-cyclohexylbenzaldehyde, 2-, 3- or 4-methoxybenzaldehyde, 3,4-dimethoxybenzaldehyde 3,4,5-trimethoxybenzaldehyde, 3-phenoxybenzaldehyde, 3-hydroxybenzaldehyde, phthalaldehyde or 4-cyanobenzaldehyde and the like. As the substituted or unsubstituted benzphenone, benzophenone, 2-, 3- or 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 2-, 3-
Alternatively, 4-bromobenzophenone, 4-methylbenzophenone, 4-propylbenzophenone, 4-methoxybenzophenone, 4-benzoylbenzophenone, or the like can be given.

(2)シクロブタン生成反応 3重項増感剤存在下でのオレフィン同士あるいは共役
エノンとオレフィンによる光反応で、下記のようなシク
ロブタン環を有する化合物を生成する。また1重項から
でも励起錯体を経由してシクロブタン環を生成する化合
物もある(徳丸 克己著「有機光化学反応論」東京化学
同人発行)。
(2) Cyclobutane formation reaction The following compounds having a cyclobutane ring are formed by a photoreaction between olefins or a conjugated enone and an olefin in the presence of a triplet sensitizer. There is also a compound that produces a cyclobutane ring from a singlet via an exciplex (Katsumi Tokumaru, "Organic Photochemical Reaction Theory," published by Tokyo Kagaku Dojin).

前述のオキセタン生成反応と同様に、量子収率が高い
反応もあり有用である。
Similar to the above-mentioned oxetane formation reaction, there are also reactions with high quantum yield, which are useful.

例えば励起錯体を経由する反応としては、芳香族ビニ
ル化合物同士のシクロブタン環生成反応があり、スチレ
ン、ビニルナフタレン、ビニルピレンやこれらの誘導体
はイオン化ポテンシャル、酸化還元電位などが適当な関
係にあればこのような反応をする。しかしながら、化合
物Aを含む記録増形成層は屈折率が低いことが望まし
く、化合物Aとしてはビニル基の残存したジビニルベン
ゼン誘導体と(メタ)アクリル酸エステルの共重合体な
どが好ましい。化合物Bとしてはジアルキルアミノ基や
シアノ基を有するビニルナフタレン、ビニルピレンなど
がある。
For example, as a reaction via an exciplex, there is a cyclobutane ring formation reaction between aromatic vinyl compounds, and styrene, vinylnaphthalene, vinylpyrene, and their derivatives have such an ionization potential and an oxidation-reduction potential as long as they are appropriate. Reacts well. However, it is desirable that the recording enhancement layer containing the compound A has a low refractive index, and the compound A is preferably a copolymer of a divinylbenzene derivative having a vinyl group remaining and a (meth) acrylic acid ester. Examples of the compound B include vinylnaphthalene and vinylpyrene having a dialkylamino group and a cyano group.

(3)ディールス・アルダー反応 炭素−炭素1重結合を介して炭素−炭素2重結合を有
する共役ジエンとオレフィンは熱または光によってシク
ロヘキセン環を生成するディールス・アルダー反応を起
こす。
(3) Diels-Alder reaction A conjugated diene having a carbon-carbon double bond through a carbon-carbon single bond and an olefin undergo a Diels-Alder reaction which produces a cyclohexene ring by heat or light.

記録時に発生する熱により、化合物Bの転移の他、化
合物Aと化合物Bの反応も起こり、有用である。化合物
Aとしては置換または非置換のポリアセチレンなどがあ
り、化合物Bとしてはビニル基を有する芳香族化合物が
ある。ポリアセチレン類は安定性が良くなく、残存2重
結合は少ない方が好ましい。またポリアセチレン類は共
役2重結合鎖を有して可視域に吸収を有するので、用途
上不適当な場合にはブタジエン構造を有する置換基を持
つ化合物の方が好ましい。
The heat generated during recording is useful because not only the transfer of compound B but also the reaction between compound A and compound B occurs. The compound A includes substituted or unsubstituted polyacetylene and the like, and the compound B includes an aromatic compound having a vinyl group. It is preferable that the polyacetylenes are not stable and have less residual double bonds. Further, since polyacetylene has a conjugated double bond chain and has absorption in the visible region, a compound having a substituent having a butadiene structure is preferable when it is not suitable for use.

上記のような化合物Aを含む層または基材からなる像
形成体としては種々の形態が考えられるが、主に、 1)化合物Aを含む基材1だけの構成(第1図) 2)化合物Aを含まない基材3上に化合物Aを含む記録
像形成層2を少なくとも有する構成(第2図) 3)化合物Aを含む基材1上に化合物Aを含む記録像形
成層2を少なくとも有する構成(第3図) が考えられる。像形成体が、光を透過させることによ
り、光学素子等として機能する場合には少なくとも必要
な波長については透明でなければならない。そのため、
化合物Aを含むところの像形成体を構成する層または基
材は、必要な波長については透明でなければならない
が、化合物A以外の物質は特に限定されたものではな
い。化合物Bの拡散を容易にするためにはガラス転移温
度或は熱変形温度が余り高くない方が好ましく、40〜15
0℃度の高分子組成物がよい。さらに化合物Aと化合物
Bの反応時に架橋硬化させることを考えて、1,3−ジオ
キソラン環などの反応性官能基を有する化合物(化合物
Aであってもよい)が存在する場合には、この限りでは
ない。また化合物Aを含まない基材の場合には、像形成
体に耐熱性を付与するために、高分子組成物ばかりでな
くガラス等を用いてもよい。基材の上に像形成層を設け
る場合には像形成層を設けるための塗液が必要である
が、用いる溶剤としては化合物A及び化合物B以外の高
分子組成物を溶解するものであれば良いが、例えばこれ
らの物質がアクリル系である場合にはベンゼン、トルエ
ン、メチルエチルケトン、モノクロルベンゼン、ジクロ
ロメタンなどを用いることができる。像形成層の厚みは
均一であることが望ましいが、スピンコーティング法に
より良好に形成できる。
Although various forms are conceivable as the image-forming body comprising the layer or the base material containing the compound A as described above, mainly, 1) the constitution of only the base material 1 containing the compound A (FIG. 1) 2) the compound A structure having at least the recording image forming layer 2 containing the compound A on the base material 3 not containing A (FIG. 2) 3) Having at least the recording image forming layer 2 containing the compound A on the base material 1 containing the compound A A configuration (Fig. 3) is possible. When the image forming body functions as an optical element or the like by transmitting light, it must be transparent at least for the necessary wavelength. for that reason,
The layer or substrate constituting the image forming body containing the compound A must be transparent for the necessary wavelength, but the substance other than the compound A is not particularly limited. In order to facilitate the diffusion of the compound B, it is preferable that the glass transition temperature or heat distortion temperature is not too high.
A polymer composition at 0 ° C. is preferable. Further, in consideration of crosslinking and curing during the reaction between the compound A and the compound B, if a compound having a reactive functional group such as 1,3-dioxolane ring (may be the compound A) is present, this is not. In the case of a base material containing no compound A, not only the polymer composition but also glass or the like may be used in order to impart heat resistance to the image forming body. When an image forming layer is provided on a base material, a coating liquid for providing the image forming layer is required, and the solvent used is a solvent that dissolves a polymer composition other than compound A and compound B. Although good, for example, when these substances are acrylic, benzene, toluene, methyl ethyl ketone, monochlorobenzene, dichloromethane and the like can be used. The image forming layer preferably has a uniform thickness, but can be favorably formed by the spin coating method.

転写体は基材4の片面に転写材層5を有する構成が好
ましい(第4図)。基材は転写材層を支持するものであ
り、ポリエステル、ポリイミド、アラミド、セロハンな
どのフィルムやポリスチレン、PMMA、ポリカーボネー
ト、ガラスなどの板状の材料を用いることができる。サ
ーマルヘッドで記録するために耐熱滑性層が設けてあっ
たり、通電記録ヘッドあるいは誘導加熱ヘッドできろく
するために導電層または抵抗層などが設けてあってもよ
い。さらに光記録を行うために基材4の転写材層5側に
光エネルギーを熱に替えるための光吸収層6があっても
よい(第5図)。転写材層は少なくとも転写材(すなわ
ち化合物B)と結着材から構成される。転写材は上述の
通りであり、結着材には昇華転写型感熱記録体に用いら
れるような結着材を用いることができる。すなわちセル
ロース系、アクリル酸系、デンプン系などの水溶性樹
脂、アクリル樹脂、ポリフェニレンオキサイド、ポリサ
ルホン、ポリエーテルサルホン、エチルセルロース、ア
セチルセルロースなどの有機溶剤あるいは水に可溶性の
樹脂などを挙げることができるが記録感度及び転写体の
保存安定性の点で、熱変形温度(ASTM D648)が70〜15
0℃のものが優れている。よって、ポリスチレン、ポリ
ビニルブチラール、ポリカーボネート、メタクリル樹
脂、アクリロニトリル・スチレン共重合体、ポリエステ
ル樹脂、ウレタン樹脂、塩素化ポリエチレン、塩素化ポ
リプロピレンなどが好ましい。また転写材層には、可塑
剤、記録後の像形成体との剥離をよくする等の目的の滑
剤や界面活性剤等を含んでいてもよい。そして前記の転
写材・結着材などを含んだ転写材層を構成するための塗
液を調製するに当り、使用する溶剤としては、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアル
コール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどの
セロソルブ類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳
香族類、酢酸ブチルなどのエステル類、アセトン、2−
ブタノン、シクロヘキサンなどのケトン類、N,N−ジメ
チルホルムアミドなどの窒素化合物類、ジクロルメタ
ン、クロルベンゼン、クロロホルムなどのハロゲン化炭
化水素などが使用できるが、水溶性または水分散性の水
性樹脂を結着材として用いる場合には、水または水と上
記の溶剤を混合して使用することもできる。更に、塗液
をフィルム状の基材上に塗布する方法としては、リバー
スロールコーター、グラビアコーター、ロッドコータ
ー、フレキソコーター、エアドクタコーターなどを使用
して実施することができ、また板状の基材上に塗布する
方法としてはスピンコーティングが代表的である。
The transfer body preferably has a transfer material layer 5 on one surface of the base material 4 (FIG. 4). The base material supports the transfer material layer, and films such as polyester, polyimide, aramid, and cellophane, and plate-shaped materials such as polystyrene, PMMA, polycarbonate, and glass can be used. A heat resistant slipping layer may be provided for recording with a thermal head, and a conductive layer or a resistance layer may be provided for easy recording by an electric recording head or an induction heating head. Further, a light absorption layer 6 for converting light energy into heat may be provided on the transfer material layer 5 side of the substrate 4 for performing optical recording (FIG. 5). The transfer material layer is composed of at least a transfer material (that is, compound B) and a binder. The transfer material is as described above, and as the binder, a binder that is used in a sublimation transfer thermal recording medium can be used. That is, water-soluble resins such as cellulose-based, acrylic acid-based, and starch-based resins, acrylic resins, polyphenylene oxide, polysulfone, polyether sulfone, ethyl cellulose, acetyl cellulose, and other organic solvents or water-soluble resins can be mentioned. In terms of recording sensitivity and storage stability of the transfer material, the heat distortion temperature (ASTM D648) is 70 to 15
Those at 0 ° C are excellent. Therefore, polystyrene, polyvinyl butyral, polycarbonate, methacrylic resin, acrylonitrile / styrene copolymer, polyester resin, urethane resin, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene and the like are preferable. Further, the transfer material layer may contain a plasticizer, a lubricant for the purpose of improving separation from the image forming body after recording, a surfactant and the like. And when preparing a coating liquid for forming the transfer material layer containing the transfer material, the binder, etc., as the solvent to be used, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, Cellosolves such as ethyl cellosolve, aromatics such as benzene, toluene and xylene, esters such as butyl acetate, acetone, 2-
Ketones such as butanone and cyclohexane, nitrogen compounds such as N, N-dimethylformamide, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chlorobenzene and chloroform can be used, but a water-soluble or water-dispersible aqueous resin is bound. When used as a material, water or a mixture of water and the above solvent may be used. Further, as a method of applying the coating liquid on a film-shaped substrate, it can be carried out by using a reverse roll coater, a gravure coater, a rod coater, a flexo coater, an air doctor coater, etc. Spin coating is a typical method for coating the material.

次に更に詳細な例を挙げて説明する。 Next, a more detailed example will be described.

実施例1 まず3−メチル−2−ブテノール−1 11gとトリエ
チルアミン15g及びジオキサン200gを500mlの3つ口フラ
スコにいれ、撹拌しながら塩化メタクロイル 16gとジ
オキサン50gの混合液を30分かけて滴下した。さらに30
分撹拌放置した後、これに100gの水をいれて撹拌し、こ
れらの反応液を濾過した。さらに有機層を抽出した後、
炭酸水素ナトリウム水溶液、ついで水で洗浄した。これ
をエバポレーターにてジオキサンを除去した後、減圧蒸
留を2回繰り返して20gのメタクリル酸3,3−ジメチルア
リルエステルを得た。これによって得た5gのメタクリル
酸3,3−ジメチルアリルエステルと15gのメタクリル酸メ
チル、そして0.1gのAIBNを200gのベンゼンに溶解し、窒
素雰囲気下でラジカル重合させて15gのメタクリル酸3,3
−ジメチルアリルエステルとメタクリル酸メチルとの共
重合体を得た。この重合体をジクロロメタンに溶解させ
て、塗液とした。この塗液を用いてガラス基板上にスピ
ンコートし、基材上に像形成層を設けた像形成体1Aとし
た。
Example 1 First, 11 g of 3-methyl-2-butenol-1, 15 g of triethylamine and 200 g of dioxane were placed in a 500 ml three-necked flask, and a mixed solution of 16 g of metacloyl chloride and 50 g of dioxane was added dropwise over 30 minutes while stirring. 30 more
After leaving to stir for minutes, 100 g of water was added to this and stirred, and these reaction solutions were filtered. After extracting the organic layer further,
It was washed with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then with water. After removing dioxane with an evaporator, vacuum distillation was repeated twice to obtain 20 g of methacrylic acid 3,3-dimethylallyl ester. The thus obtained 5 g of methacrylic acid 3,3-dimethylallyl ester, 15 g of methyl methacrylate, and 0.1 g of AIBN were dissolved in 200 g of benzene, and radically polymerized under a nitrogen atmosphere to give 15 g of methacrylic acid 3,3.
A copolymer of dimethylallyl ester and methyl methacrylate was obtained. This polymer was dissolved in dichloromethane to obtain a coating liquid. A glass substrate was spin-coated with this coating liquid to prepare an image forming body 1A in which an image forming layer was provided on a substrate.

次にベンゾフェノン1gとブチラール樹脂(積水化学
エスレックB BX−1)2gをトルエン21g、メチルエチ
ルケトン9gに溶解して塗液1Bとした。またこれを倍に希
釈した塗液を塗液1B′とした。記録及びその結果につい
ては、他の実施例と併せて後述する。
Next, 1 g of benzophenone and butyral resin (Sekisui Chemical
2 g of S-REC B BX-1) was dissolved in 21 g of toluene and 9 g of methyl ethyl ketone to prepare a coating liquid 1B. A coating solution obtained by doubling this was designated as coating solution 1B '. The recording and the result thereof will be described later together with other examples.

実施例2 塩化メタクロイルとフルフリルアルコールを原料とし
て実施例1と同様の操作でメタクリル酸フルフリルエス
テルを得た。メタクリル酸フルフリルエステル5g、メタ
クリル酸[2−メチル−2−(2−オキソプロピル)−
1,3−ジオキソラン−4−イル]エステル2g、メタクリ
ル酸メチル10gとアクリル酸エチル3gを同様にラジカル
重合して15gの4元共重合体を得た。これを熱プレス成
形して1mm厚みの板を得た。これを像形成体2Aとした。
Example 2 Methacrylic acid furfuryl ester was obtained by the same procedure as in Example 1 using methacryloyl chloride and furfuryl alcohol as raw materials. Methacrylic acid furfuryl ester 5 g, methacrylic acid [2-methyl-2- (2-oxopropyl)-
Similarly, 2 g of 1,3-dioxolan-4-yl] ester, 10 g of methyl methacrylate and 3 g of ethyl acrylate were radically polymerized to obtain 15 g of a quaternary copolymer. This was hot press molded to obtain a plate having a thickness of 1 mm. This was designated as image forming body 2A.

次に実施例1と同様にして4−ブロムベンズアルデヒ
ドを化合物Bとする塗液2B、2B′を得た。
Then, in the same manner as in Example 1, coating solutions 2B and 2B 'containing 4-bromobenzaldehyde as the compound B were obtained.

実施例3 p−ジビニルベンゼン4gとメタクリル酸メチル16gを
実施例1と同様にラジカル重合してジビニルベンゼンの
未反応ビニル基の残る共重合体13gを得た。これをトル
エンに溶解し、2mm厚みのPMMAキャスト板(協和ガス化
学工業(株)パラグラス)上にスピンコーティングして
像形成体3Aとした。
Example 3 4 g of p-divinylbenzene and 16 g of methyl methacrylate were radical-polymerized in the same manner as in Example 1 to obtain 13 g of a copolymer in which unreacted vinyl groups of divinylbenzene remained. This was dissolved in toluene and spin-coated on a 2 mm-thick PMMA cast plate (Kyowa Gas Chemicals Co., Ltd. Paragrass) to obtain image forming body 3A.

次に2−ビニルナフタレン1gとAS樹脂(電気化学工業
(株)デンカスチロール AS−SU)2gをトルエン21g、
メチルエチルケトン9gに溶解し、2−ビニルナフタレン
を化合物Bとする塗液3Bとした。さらにこれを倍に希釈
したものを塗液3B′とした。
Next, 1 g of 2-vinylnaphthalene and 2 g of AS resin (Denkastyrol AS-SU manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) were mixed with 21 g of toluene,
A coating liquid 3B containing 2-vinylnaphthalene as the compound B was dissolved in 9 g of methyl ethyl ketone to prepare a coating liquid 3B. Further, this was diluted twice to obtain coating liquid 3B '.

実施例4 ポリフェニルアセチレン10重量部とPMMA90重量部をト
ルエンに溶解し、ガラス上にスピンコーティングして像
形成体4Aとした。
Example 4 10 parts by weight of polyphenylacetylene and 90 parts by weight of PMMA were dissolved in toluene and spin-coated on glass to prepare an image forming body 4A.

次に実施例3と同様に2−ビニルナフタレンを化合物
Bとする塗液4B並びに塗液4B′を作成した。
Next, in the same manner as in Example 3, coating liquid 4B containing 2-vinylnaphthalene as compound B and coating liquid 4B 'were prepared.

実施例1〜4の記録及び結果 (記録方法1) 光硬化性樹脂及びシリカ微粒子からなる耐熱滑性層を
設けた4μmのPETフィルムの耐熱滑性層を設けていな
い面に実施例1〜4の塗液1〜4Bをワイヤーバーで塗布
し、約1μmの転写材層を構成して転写体1〜4Cとし
た。これら転写体の転写材層と像形成体の像形成層が接
するように重ね合わせ(像形成層を有しない像形成体2A
の場合にはどちら側でも良い)、転写体の耐熱滑性層の
側からサーマルヘッドによって、下記の条件にて記録を
行った。
Recording and Results of Examples 1 to 4 (Recording Method 1) Examples 1 to 4 on a surface of a PET film of 4 μm provided with a heat resistant slip layer composed of a photocurable resin and silica fine particles without the heat resistant slip layer. Coating liquids 1 to 4B were coated with a wire bar to form a transfer material layer having a thickness of about 1 μm to obtain transfer bodies 1 to 4C. The transfer material layer of these transfer bodies and the image forming layer of the image forming body are superposed so as to be in contact with each other (image forming body 2A having no image forming layer
In either case, either side may be used), but recording was performed under the following conditions with a thermal head from the heat resistant slipping layer side of the transfer member.

サーマルヘッド記録条件 主走査の線密度:4ドット/mm 副走査の線密度:8ドット/mm 記録電力:0.7W/dot ヘッドの加熱時間:8ms/dot 副走査芳香に1ラインだけ記録 記録後の像形成体1〜4Aの各々について、300W高圧水
銀灯を30秒間照射したあと、記録ライン上にプリズムを
2個距離を離して置き、一方のプリズムからヘリウム・
ネオンレーザー光を入射させると、どの像形成体につい
ても他方のプリズムから記録ラインの光導波路を導波し
てきた光が出射するのを観測できた。また、像形成層に
混入した異物による乱反射から、光が記録ライン部分だ
けを導波していることも確認できた。
Thermal head recording conditions Linear density in main scanning: 4 dots / mm Linear density in sub-scanning: 8 dots / mm Recording power: 0.7 W / dot Head heating time: 8 ms / dot Recording one line in sub-scanning fragrance After recording After irradiating each of the image forming bodies 1 to 4A with a 300 W high pressure mercury lamp for 30 seconds, two prisms are placed on the recording line at a distance from each other, and helium
When a neon laser beam was incident, it was possible to observe that the light guided through the optical waveguide of the recording line was emitted from the other prism of any image forming body. It was also confirmed that the light was guided only in the recording line portion from the irregular reflection by the foreign matter mixed in the image forming layer.

(記録方法2) カーボン含有のアラミドフィルム(厚み8μm、シー
ト抵抗約1kΩ/□)に実施例1〜4の塗液1〜4Bのワイ
ヤーバーで塗布し、約1μmの転写材層を構成して、転
写体1〜4Dとした。記録方法1と同様にして転写体と像
形成体を重ね合わせ、転写体のフィルム側からライン型
通電ヘッドを用いて、下記の条件で記録した。
(Recording Method 2) A carbon-containing aramid film (thickness 8 μm, sheet resistance about 1 kΩ / □) was applied with a wire bar of coating liquids 1 to 4B of Examples 1 to 4 to form a transfer material layer of about 1 μm. , And transfer bodies 1 to 4D. The transfer member and the image forming member were superposed in the same manner as in the recording method 1, and recording was performed from the film side of the transfer member using a line-type energizing head under the following conditions.

通電ヘッド記録条件 主走査の線密度:10ドット/mm 副走査の線密度:20ドット/mm 印加電圧:50V 印加パルス幅:80μs 副走査方向に1ラインだけ記録 記録方法1の場合と同様の処理をした後、同様の光導
波の実験を行ったところ、どの像形成体でも光導波路と
して機能していることが確認できた。
Energizing head recording conditions Linear density in main scanning: 10 dots / mm Linear density in sub-scanning: 20 dots / mm Applied voltage: 50 V Applied pulse width: 80 μs Recording only one line in the sub-scanning direction Same processing as in recording method 1 After that, the same optical waveguide experiment was conducted, and it was confirmed that any image forming body functions as an optical waveguide.

(記録方法3) 厚さ1.1mm、外径130mm、内径15mmのガラス基板にカー
ボンブラックを分散させたエチルセルロース溶液をスピ
ンコートし、2μmの光吸収層を設けた。さらに実施例
1〜4の塗液1〜4B′をスピンコートして1μmの転写
材層を設けて転写体1〜4Eとした。予め外径130mm、内
径15mmに加工した像形成体を記録像形成層と転写体の転
写材層が重なるように転写体に密着させた。これを光デ
ィスク用光記録デッキにて、線速度10m/s、6mW、径方向
送りピッチ2μm、無変調で記録した。記録後転写体と
像形成体を剥離させ、像形成体に300W高圧水銀灯で30秒
間光照射した。
(Recording Method 3) A glass substrate having a thickness of 1.1 mm, an outer diameter of 130 mm and an inner diameter of 15 mm was spin-coated with an ethylcellulose solution in which carbon black was dispersed to provide a 2 μm light absorbing layer. Further, the coating liquids 1 to 4B 'of Examples 1 to 4 were spin-coated to provide a transfer material layer having a thickness of 1 μm to obtain transfer bodies 1 to 4E. An image forming body which was previously processed to have an outer diameter of 130 mm and an inner diameter of 15 mm was brought into close contact with the transfer body so that the recording image forming layer and the transfer material layer of the transfer body were overlapped. This was recorded on an optical recording deck for optical disks with a linear velocity of 10 m / s, 6 mW, a radial feed pitch of 2 μm, and no modulation. After recording, the transfer body and the image forming body were separated, and the image forming body was irradiated with light from a 300 W high-pressure mercury lamp for 30 seconds.

これらの像形成体に0.5mWのヘリウム・ネオンレーザ
ーを垂直入射させたところ、回折光が観測でき、回折格
子などの光学素子の作成が可能なことが判った。
When a 0.5 mW helium-neon laser was vertically incident on these image forming bodies, diffracted light was observed, and it was found that optical elements such as a diffraction grating could be produced.

発明の効果 本発明に基づく屈折率差を有するパターンの作成方法
は、反応性官能基を有する化合物Aを含む層または基材
からなる像形成体に対して、化合物Aと反応することに
より化合物Aの屈折率を変化させる化合物Bと結着材を
含む転写体を密着させ、光等の電磁波や熱のエネルギー
により転写体から化合物Bを像形成体へ昇華または拡散
により位置選択的に転写し、化合物Aと反応させること
によって屈折率変化を生じさせるため、作成方法が簡便
で、未記録状態の像形成体に感熱・感光性がなく保存安
定性に優れ、熱、電流、光などの放射線を記録エネルギ
ーとして用いることにより、多くの記録手段で記録が行
える。
EFFECTS OF THE INVENTION The method of forming a pattern having a difference in refractive index according to the present invention comprises reacting a compound A with an image-forming body comprising a layer or a base material containing the compound A having a reactive functional group. The compound B that changes the refractive index of the compound B and a transfer body containing a binder are brought into close contact with each other, and the compound B is regioselectively transferred by sublimation or diffusion from the transfer medium to the image forming body by electromagnetic waves such as light or energy of heat, Since the reaction with Compound A causes a change in the refractive index, the preparation method is simple, the image-forming body in the unrecorded state does not have heat sensitivity and photosensitivity, and has excellent storage stability. By using it as recording energy, recording can be performed by many recording means.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図〜第3図は、本発明の実施例における像形成体の
断面模式図、第4および第5図は本発明の実施例におけ
るパターン転写体の断面模式図である。 1……化合物Aを含む基材、2……化合物Aを含む記録
像形成層、3……化合物Aを含まない基材、4……基
材、5……転写材層、6……光吸収層。
1 to 3 are schematic sectional views of the image forming body in the embodiment of the present invention, and FIGS. 4 and 5 are schematic sectional views of the pattern transfer body in the embodiment of the present invention. 1 ... Substrate containing Compound A, 2 ... Recording image forming layer containing Compound A, 3 ... Substrate not containing Compound A, 4 ... Substrate, 5 ... Transfer material layer, 6 ... Light Absorption layer.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】反応性官能基を有する化合物Aを含む層ま
たは基材からなる像形成体に対して、化合物Aと反応す
ることにより化合物Aの屈折率を変化させる化合物Bと
結着材を含む転写体を密着させ、光等の電磁波や熱のエ
ネルギーにより転写体から化合物Bを像形成体へ昇華ま
たは拡散により位置選択的に転写し、化合物Aと反応さ
せることによって転写した部分の屈折率変化を生じさせ
ることを特徴とする屈折率差のあるパターンを具備した
光学素子の作成方法。
1. An image-forming body comprising a layer or a base material containing a compound A having a reactive functional group, a compound B which changes the refractive index of the compound A by reacting with the compound A, and a binder. The compound B is regioselectively transferred by sublimation or diffusion from the transfer member to the image-forming material by electromagnetic energy such as light or heat energy, and the refractive index of the transferred part is reacted. A method for producing an optical element having a pattern having a difference in refractive index, which is characterized by causing a change.
【請求項2】化合物A、化合物Bが下記の化合物である
請求項1に記載の屈折率差のあるパターンを具備した光
学素子の作成方法。 (イ)化合物Aは、置換または非置換のアリルアルコー
ルと(メタ)アクリル酸とのエステルの単独重合あるい
は、置換または非置換のアリルアルコールと(メタ)ア
クリル酸とのエステルを5重量%以上含む他のビニルモ
ノマーとの共重合体であって、かつ重合体中に置換また
は非置換のアリルアルコールの二重結合が残存している
(共)重合体 (ロ)化合物Bは、非置換または置換基を有するベンズ
アルデヒド、ベンゾフェノンまたはナフチルフェニケト
2. The method for producing an optical element having a pattern having a difference in refractive index according to claim 1, wherein compound A and compound B are the following compounds. (A) Compound A contains homopolymerization of an ester of substituted or unsubstituted allyl alcohol and (meth) acrylic acid, or 5% by weight or more of an ester of substituted or unsubstituted allyl alcohol and (meth) acrylic acid. A (co) polymer (B) which is a copolymer with another vinyl monomer and in which a double bond of a substituted or unsubstituted allyl alcohol remains in the polymer, Group containing benzaldehyde, benzophenone or naphthylpheniketone
【請求項3】化合物A、化合物Bが下記の化合物である
請求項1に記載の屈折率差のあるパターンを具備した光
学素子の作成方法。 (イ)化合物Aは、(メタ)アクリル酸の3,3−ジメチ
ルアリルエステルの単独重合体または(メタ)アクリル
酸の3,3−ジメチルアリルエステルを5重量%以上含む
他のビニルモノマーとの共重合体であって、かつ重合体
中に3,3−ジメチルアリル基の二重結合が残存している
(共)重合体 (ロ)化合物Bは、非置換または置換基を有するベンズ
アルデヒド、ベンゾフェノンまたはナフチルフェニルケ
トン
3. The method for producing an optical element having a pattern with a difference in refractive index according to claim 1, wherein compound A and compound B are the following compounds. (A) Compound A is a homopolymer of 3,3-dimethylallyl ester of (meth) acrylic acid or another vinyl monomer containing 5% by weight or more of 3,3-dimethylallyl ester of (meth) acrylic acid. (Co) polymer which is a copolymer and has double bond of 3,3-dimethylallyl group remaining in the polymer (b) Compound B is a benzaldehyde or benzophenone having an unsubstituted or substituted group. Or naphthyl phenyl ketone
【請求項4】請求項1に記載の屈折率差のあるパターン
を具備した光学素子の作成方法に供される、反応性官能
基を有する化合物Aを含む層または基材からなる像形成
体。
4. An image-formed body comprising a layer or a substrate containing a compound A having a reactive functional group, which is used in the method for producing an optical element having a pattern having a difference in refractive index according to claim 1.
【請求項5】請求項1に記載の屈折率差のあるパターン
を具備した光学素子の作成方法に供される、化合物Aと
反応することにより化合物Aの屈折率を変化させる化合
物Bを含む転写記録体。
5. A transfer containing a compound B which reacts with the compound A and changes the refractive index of the compound A, which is used in the method for producing an optical element having a pattern having a refractive index difference according to claim 1. Record body.
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JPS59204803A (en) * 1983-05-09 1984-11-20 Nippon Sheet Glass Co Ltd Manufacture of optical circuit of synthetic resin
JPS60166946A (en) * 1983-10-14 1985-08-30 Kyowa Gas Chem Ind Co Ltd Photosensitive resin composition and formation of pattern having refractive index difference by using it

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