JPH0814891B2 - Disk substrate cleaning device - Google Patents
Disk substrate cleaning deviceInfo
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- JPH0814891B2 JPH0814891B2 JP4323790A JP4323790A JPH0814891B2 JP H0814891 B2 JPH0814891 B2 JP H0814891B2 JP 4323790 A JP4323790 A JP 4323790A JP 4323790 A JP4323790 A JP 4323790A JP H0814891 B2 JPH0814891 B2 JP H0814891B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ディスク基板用洗浄装置、例えば、磁気
ディスク用基板や光ディスク用基板などのようなディス
ク形の基板を洗浄するためのディスク基板用洗浄装置に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a disk substrate cleaning device, for example, a disk substrate for cleaning a disk-shaped substrate such as a magnetic disk substrate or an optical disk substrate. The present invention relates to a cleaning device.
近年、コンピュータやオーディオ機器などの発達と共
に磁気ディスクや光ディスクの需要が急速に増大し、そ
れに伴って高品質の磁気ディスクや光ディスクを安定供
給することが要求されるようになった。In recent years, the demand for magnetic disks and optical disks has increased rapidly with the development of computers and audio equipment, and along with this, stable supply of high-quality magnetic disks and optical disks has been required.
例えば、磁気ディスク用素材(サブストレイト)等の
円板材は加工工程よりの付着物を持つので、その表面お
よび内外周面を多面的に板面に傷等を発生させることな
く能率的に洗浄して後工程に送る必要がある。そのため
には、ディスク基板の全面を均質に洗浄して洗浄むらを
なくすことが必要であると共に、洗浄後の乾燥を迅速か
つ確実に行うことも非常に重要である。すなわち、乾燥
が迅速かつ確実に行われない場合には、洗浄液が長時間
付着したり流れたりして、この部分がしみとして残りや
すく、洗浄工程の洗浄効果を減じる結果に陥る。For example, disk materials such as magnetic disk materials (substrate) have deposits from the processing process, so the surface and inner and outer peripheral surfaces are efficiently cleaned in a multifaceted manner without causing scratches on the plate surface. Need to be sent to the subsequent process. For that purpose, it is necessary to uniformly wash the entire surface of the disc substrate to eliminate unevenness in washing, and it is also very important to perform drying after washing quickly and surely. That is, when the drying is not performed quickly and reliably, the cleaning liquid adheres or flows for a long time, and this portion is likely to remain as a stain, resulting in a reduction in the cleaning effect of the cleaning process.
従来、このような基板の洗浄方法として、例えば、特
開昭61-8734号公報、特開昭61-8735号公報、特開昭63-8
6177号公報、特開平1-1182号公報、特開平1-105376号公
報、実開昭63-81379号公報、実開平1-888号公報、実開
平1-121185号公報に示されているように、基板を1枚ず
つ手で洗い自然乾燥させる方法、超音波洗浄あるいはロ
ボットハンドによるブラシ洗浄と溶剤蒸気乾燥とを併用
する方法等が用いられていた。Conventionally, as a method for cleaning such a substrate, for example, JP-A-61-8734, JP-A-61-8735, and JP-A-63-8
6177, JP 1-1182, JP 1-105376, JP 63-81379, JP 1-888, JP 1-211185 In addition, a method of washing the substrates one by one by hand and naturally drying them, a method of using ultrasonic cleaning or brush cleaning with a robot hand in combination with solvent vapor drying, and the like have been used.
手洗いの場合は、非能率的で均一な洗浄及び乾燥が困
難であるばかりでなく、ディスク基板の破損や人体との
接触による汚染等を生じやすいなどの問題点があった。In the case of hand washing, not only is it inefficient and difficult to wash and dry uniformly, but there are problems such as damage to the disk substrate and contamination due to contact with the human body.
また、超音波による洗浄の場合は手洗いに比べ能率的
でディスク基板サイズの変更に容易に対処できるが、洗
浄効果が優れないなどの問題点があつた。In addition, ultrasonic cleaning is more efficient than hand cleaning and can easily deal with changing the size of the disk substrate, but has a problem that the cleaning effect is not excellent.
更に、ロボットハンドによって各洗浄工程にタクト送
り(拍子送り)して順次洗浄する方法は、タクト時間が
長く、またサイズ変化に対応するために要する時間も長
く多量生産に不向きであるなどの問題点があった。Further, the method of sequentially cleaning by tact feeding (beat feeding) to each cleaning step by a robot hand has a long tact time and a long time required to cope with a size change, which is not suitable for mass production. was there.
更にまた、ディスク基板に対して高圧スプレーをかけ
る洗浄方法では、洗浄効果が優れないし、加圧ポンプ内
のプランジャから発塵してディスク基板に対してダスト
を付着させてしまうなどの問題点があった。Furthermore, the cleaning method in which a high-pressure spray is applied to the disk substrate has a problem that the cleaning effect is not excellent and dust is adhered to the disk substrate by generating dust from the plunger in the pressure pump. It was
一般に汚染物を除去する洗浄方法は、上記のように、
溶解力、界面活性力、化学反応力に、物理力(摩擦力、
超音波、撹拌など)などが利用される(藤居、角田;精
密工学会誌、54、1835(1988)、土橋;精密工学会誌、
54、1840(1988))が、デイスク基板の洗浄に対して
は、ブラシなどで擦るという機械的力を利用する方法が
最も効果が上がる。このため市販されている洗浄装置の
多くはブラシ洗浄方法を用いている。例えば、特開平1-
1182号、特開昭61-8734号、特開昭61-8735号、実開昭63
-81379号の各公報や装置メーカのカタログなどに見られ
るとおりである。このような装置の構造として、ディス
ク基板をスピンドルにチヤックしたり、カセットに入れ
て基板を固定してブラシを基板表面に当て基板とブラシ
とを回転させながら洗浄する。この場合のブラシの種類
はリングブラシなどが装置について1種類のみ装備され
ている(例えば特開平1-1182)。この方法ではディスク
基板表面に対してブラシ接触の方向が一定になり、汚染
物を除去しやすい場合とできにくい場合とがあり、洗浄
効果が上がらず、また、この方法を用いるとディスク基
板表面とブラシが一定時間接触することになり、一旦ブ
ラシ内に取り込まれた汚染物が、洗浄時間の終了付近に
おいて再び基板表面を汚し除去できなくなるおそれもあ
るという問題点があった。Generally, the cleaning method for removing contaminants is as described above.
Dissolving power, surface activity, chemical reaction force, physical force (friction force,
Ultrasonic waves, stirring, etc. are used (Fujii, Kakuda; Journal of Precision Engineering, 54 , 1835 (1988), Tsuchihashi; Journal of Precision Engineering,
54 , 1840 (1988), the most effective method for cleaning a disk substrate is to use a mechanical force such as rubbing with a brush. For this reason, most of the commercially available cleaning devices use the brush cleaning method. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 1-
1182, JP 61-8734, JP 61-8735, JP 63
-81379 as published in each publication and equipment manufacturer's catalog. As a structure of such an apparatus, the disk substrate is chucked on the spindle, or is put in a cassette to fix the substrate and a brush is applied to the surface of the substrate for cleaning while rotating the substrate and the brush. In this case, only one kind of brush, such as a ring brush, is provided for the apparatus (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 1-1182). In this method, the direction of the brush contact with the surface of the disk substrate is constant, and there are cases where contaminants can be easily removed and cases where it is difficult to remove them, and the cleaning effect does not improve. There is a problem in that the brush comes into contact with the brush for a certain period of time, and the contaminants once taken into the brush may stain the surface of the substrate again near the end of the cleaning time and cannot be removed.
また、ブラシ洗浄とスピンドル間の搬送は異なる工程
であり、従って、それだけ洗浄処理の合計時間は長くな
るなどの問題点もあった。Further, the brush cleaning and the transfer between the spindles are different processes, and therefore, there is a problem that the total time of the cleaning process becomes longer accordingly.
また、一方において、ブラシによる洗浄にあっては、
ブラシが接触するとブラシの回転力などでディスク基板
が搬送路よりはずれたり、十分な接触による洗浄がなさ
れないうちに基板のみ前方へ送り出してしまうことがあ
る。この結果、第12図に示すように、洗浄ブラシの前後
にブラシ回転力によって基板が動くことがないようにす
るディスク基板の押えローラを設置する必要がある。図
において、符号(101)は押えローラ、(102)は搬送用
ローラであり、(103)は押えローラ用駆動モータであ
る。On the other hand, when cleaning with a brush,
When the brush comes into contact, the disk substrate may be displaced from the transport path due to the rotational force of the brush or the like, or only the substrate may be sent forward without being sufficiently cleaned. As a result, as shown in FIG. 12, it is necessary to install, before and after the cleaning brush, a pressing roller for the disk substrate that prevents the substrate from moving due to the brush rotating force. In the figure, reference numeral (101) is a pressing roller, (102) is a conveying roller, and (103) is a pressing roller drive motor.
このように、この押えローラ(101)に対しても搬送
用ローラ(102)と同様に駆動力を与えなければ、ワー
クが進まないという問題点があった。このため搬送用ロ
ーラ(102)に駆動を与えると共にその上部に位置する
押えローラ(101)に対しても駆動力を伝達する必要が
あり、また、搬送用ローラ(102)と回転の同期を取ら
なければならず、装置として複雑な機構を取らざるを得
ないという問題点があった。As described above, there is a problem that the work is not advanced unless a driving force is applied to the pressing roller (101) as in the case of the carrying roller (102). For this reason, it is necessary to drive the transfer roller (102) and also to transmit the driving force to the pressing roller (101) located above the transfer roller (102). Further, the rotation of the transfer roller (102) should be synchronized. It is necessary to use a complicated mechanism as a device.
更にまた、従来の洗浄装置ではリンス用の水をかける
スプレーはディスク基板両面の上部に設けられている
が、この方式では洗浄部と非洗浄部、洗浄済み基板表面
と未洗浄基板表面との明確な区別は不可能であり、リン
ス用の水と汚染水が混合し十分なリンスの効果が上げら
れず、洗浄の終了したディスク基板表面上に汚染水が残
存してしまうなどの問題点もあった。Furthermore, in the conventional cleaning device, a spray for spraying water for rinsing is provided on the upper part of both sides of the disk substrate. In this method, it is possible to clearly determine the cleaning part and the non-cleaning part, the cleaned substrate surface and the uncleaned substrate surface. However, there is a problem that the rinse water and the contaminated water are mixed and the effect of the rinse is not sufficiently enhanced, and the contaminated water remains on the surface of the cleaned disc substrate. It was
次に、乾燥方式ではスピン乾燥法があるが、高速回転
する際に内周と外周とで周速の差が生じ、内周側に洗浄
液が残りやすくディスク基板表面にしみが残る、あるい
は、高速回転時のダストの巻き上げによるディスク基板
表面へのダスト付着などの問題点があった。Next, there is a spin drying method as a drying method, but when rotating at a high speed, a difference in peripheral speed occurs between the inner circumference and the outer circumference, and the cleaning liquid is likely to remain on the inner circumference side, or stains remain on the disk substrate surface, or high speed. There are problems such as dust adhering to the disk substrate surface due to the dust being wound up during rotation.
また、溶剤蒸気乾燥方法は現在フロンが最も多く用い
られているが、西暦2000年までに全廃するという全世界
における規制が決定しており、今後入手することはでき
ないし、また、使用することも禁止されるという問題点
があった。Although Freon is the most used solvent vapor drying method at present, regulations around the world have decided that it will be completely abolished by the year 2000, and it is not possible to obtain it or to use it. There was a problem that it was banned.
アルコール類(例えばイソプロピルアルコール(IP
A)の蒸気を用いる蒸気乾燥方法では、フロン規制とは
関係無く使用できる利点があるが、引火点が低く爆発の
危険性が高いため、防爆設備を充実させなければ使用で
きず、設備費用が高価になるなどの問題点があった。ま
た消火設備にはハロンというフロンと同様の規制対象と
なる化合物が用いられることが多く、消火設備が今後安
価な化合物で設置できなくなるという問題点もあった。Alcohols (eg isopropyl alcohol (IP
The steam drying method using steam of A) has the advantage that it can be used irrespective of CFC regulations, but it has a low flash point and a high risk of explosion, so it cannot be used unless the explosion-proof equipment is enhanced, and the equipment cost is high. There were problems such as being expensive. In addition, a fire extinguishing facility often uses a compound that is subject to the same regulation as CFCs called halon, and there is a problem that the fire extinguishing facility cannot be installed with an inexpensive compound in the future.
この発明は、上記のような問題点をすべて解決するこ
とを課題とするものであって、ディスク基板の洗浄は、
均一に洗浄すると共にブラシに取り込まれた汚染物は2
度と基板に付着することなく、かつ、ディスク基板の搬
送はその方向、速度共規定どおりであり、また、乾燥
は、均一に乾燥されると共にダストの再付着もなく、加
うるに、規制対象薬品を使用することなく、しかも防
爆、防火装置も必要とせず、更に装置自体も複雑でなく
簡素で処理時間も短くてすむディスク基板の洗浄装置を
得ることを目的とする。The present invention is intended to solve all of the above problems, and the cleaning of the disk substrate is
Clean evenly and remove 2 contaminants from the brush.
Of the disk substrate, and the direction and speed of the disk substrate transfer are as specified, and the drying is done uniformly and without dust re-adhesion. An object of the present invention is to provide a disk substrate cleaning apparatus that does not use chemicals, does not require explosion-proof and fire-proof devices, and is simple and simple in processing time and processing time.
この発明に係るディスク基板用洗浄装置は、その第1
発明では、ディスク基板を水平方向に搬送する搬送用ロ
ーラと、ディスク基板の穴側面及び外周面を洗浄する側
面洗浄ブラシと、ディスク基板の表面を洗浄する表面洗
浄ブラシと、スプレー洗浄用のスプレーノズルと、ディ
スク基板を浸漬させて洗浄する純水、純水槽及び超音波
洗浄装置とを有しており、ディスク基板を上記純水中に
表面を垂直にして浸漬し引き上げながら乾燥させる乾燥
装置とを備えているものであり、また、第2発明におい
ては、表面洗浄ブラシを備えた部位の前後の搬送用ロー
ラの上部に、上記搬送用ローラに接して自由回転するス
ポンジロールからなる押えローラが設けられているもの
であり、更に第3発明にあっては、洗浄ブラシと乾燥装
置との間に設けられ、ディスク基板を間隔を有して順次
重ねてストックすると共に、内部に収容のディスク基板
の載置状態が水平方向から垂直方向に変換するように構
成されている回動装置が設けられているカセットを備え
ており、かつ、カセット収容中のディスク基板を湿潤状
態に保持しているものである。A disk substrate cleaning device according to the present invention is
According to the invention, a transport roller for transporting a disk substrate in a horizontal direction, a side surface cleaning brush for cleaning a hole side surface and an outer peripheral surface of the disk substrate, a surface cleaning brush for cleaning the surface of the disk substrate, and a spray nozzle for spray cleaning. And a pure water for immersing and cleaning the disk substrate, a pure water tank and an ultrasonic cleaning device, and a drying device for immersing the disk substrate in the above pure water with its surface vertical and then drying while immersing the disk substrate. Further, in the second aspect of the invention, a pressing roller made of a sponge roll that freely rotates in contact with the transport roller is provided above the transport roller before and after the portion having the surface cleaning brush. According to the third aspect of the present invention, the disk substrates are provided between the cleaning brush and the drying device, and the disk substrates are sequentially stacked with a gap therebetween. At the same time, a cassette provided with a turning device configured to convert the mounted state of the accommodated disc substrate from the horizontal direction to the vertical direction is provided, and the disc substrate being accommodated in the cassette is provided. It is kept in a wet state.
この発明は、上記のように構成されているので、第1
発明にあっては、ディスク基板は水平に搬送され、その
途中において、洗浄自体は外周面、穴側面及び表裏の表
面をそれぞれ個別のブラシによつて洗浄されると共にス
プレー洗浄が行われるので洗浄は効果的かつ確実に行わ
れ、かつ、乾燥も純粋によって行われるので規制対象薬
品を使用することを必要とせず、しかも垂直に引き上げ
るので乾燥むらも生じない。Since the present invention is configured as described above,
According to the invention, the disk substrate is conveyed horizontally, and in the middle of the cleaning, the outer peripheral surface, the hole side surface, and the front and back surfaces are cleaned by individual brushes and spray cleaning is performed. It does not require the use of regulated chemicals because it is effective and reliable, and the drying is done purely, and since it is pulled up vertically, there is no unevenness in drying.
また、第2発明においては、搬送用ローラとスポンジ
ロールからなる押えローラとの間にディスク基板が挟ま
れている時点でも、挟まれていない部分においては、搬
送用ローラと押えローラとは当接しているために、スポ
ンジロールである押えローラは、搬送用ローラの回転に
同期して回ることができて、特別の同期回転用装置を必
要としない。According to the second aspect of the invention, even when the disc substrate is sandwiched between the transport roller and the pressing roller made of a sponge roll, the transport roller and the pressing roller are in contact with each other in the non-sandwiched portion. Therefore, the pressing roller, which is a sponge roll, can rotate in synchronism with the rotation of the conveying roller, and does not require a special synchronous rotation device.
更に第3発明にあっては、所定数のディスク基板がカ
セットに貯えられたら、カセットは回転するので、ディ
スク基板の載置状態も迅速に変換できると共に、その間
は湿潤状態に保たれているので、乾燥むらも生じない。Further, according to the third aspect of the invention, when a predetermined number of disk substrates are stored in the cassette, the cassette rotates, so that the mounted state of the disk substrates can be quickly changed, and the wet state is maintained during that time. No uneven drying occurs.
以下、この発明をその一実施例を示す図に基づいて説
明する。Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings showing one embodiment.
第1図はこのディスク基板洗浄装置の実施例の全体を
機能単位で説明している概略構成図である。FIG. 1 is a schematic block diagram for explaining the entire embodiment of the disk substrate cleaning apparatus by function unit.
図において、符号(1)は機能挿入部、(2)はスプ
レー洗浄部、(3)は穴内側面及び外周面を洗浄する側
面洗浄ブラシを備えているブラシスクラブ洗浄部、
(4)〜(8)はディスク基板の表裏両面を洗浄する表
面洗浄ブラシを備えている表面洗浄部、(9)はスプレ
ー洗浄するスプレーノズルを備えているスプレー洗浄
部、(10)はディスク基板を間隔を有して順次積み重ね
収容し、所定数収容時、デイスク基板面が水平から垂直
になるように回動される基板収納のカセット、(11)は
超音波装置により洗浄する超音波洗浄部、(12)は高温
純水中にデイスク基板を浸漬し引き上げて乾燥する高温
純水浸漬引上げ乾燥部、(13)は基板取出し部である。
また、(21)はディスク基板である。In the drawing, reference numeral (1) is a function insertion portion, (2) is a spray cleaning portion, (3) is a brush scrub cleaning portion having a side surface cleaning brush for cleaning the inner surface and outer peripheral surface of the hole,
(4) to (8) are surface cleaning parts equipped with surface cleaning brushes for cleaning both front and back surfaces of the disk substrate, (9) are spray cleaning parts equipped with spray nozzles for spray cleaning, and (10) are disk substrates. Substrate storage cassettes that are sequentially stacked at intervals and are rotated so that the disk substrate surface turns from horizontal to vertical when a predetermined number of them are accommodated. (11) is an ultrasonic cleaning unit for cleaning with an ultrasonic device. , (12) is a high-temperature pure water immersion pull-up and drying section for immersing a disk substrate in high-temperature pure water, pulling it up and drying it, and (13) is a substrate removing section.
Further, (21) is a disk substrate.
また、これら装置による洗浄乾燥作業は次のような順
番に従って行われる。すなわち、 (1)基板挿入 (2)スプレー洗浄 (3)穴内側面及び外周面ブラシスクラブ洗浄 (4)ディスクブラシ表面洗浄 (5)ロールブラシ表面洗浄 (6)ディスクブラシ表面洗浄 (7)ロールブラシ表面洗浄 (8)ロールブラシ表面洗浄 (9)スプレー洗浄 (10)ディスク基板のカセットへの収納及びカセツトの
回動 (11)超音波洗浄 (12)高温超純水浸漬・引上げ乾燥 (13)基板取出し 次に上記各工程とその構成、動作について説明する。The washing and drying work by these devices is performed in the following order. That is, (1) substrate insertion (2) spray cleaning (3) hole inner side and outer peripheral surface brush scrub cleaning (4) disk brush surface cleaning (5) roll brush surface cleaning (6) disk brush surface cleaning (7) roll brush surface Cleaning (8) Roll brush surface cleaning (9) Spray cleaning (10) Disc substrate storage and cassette rotation (11) Ultrasonic cleaning (12) High temperature ultrapure water immersion / pulling dry (13) Substrate removal Next, each of the above steps, and the configuration and operation thereof will be described.
(1)基板挿入部 第2図は第1図の基板挿入部の構成を示した斜視図で
ある。(1) Board Insertion Section FIG. 2 is a perspective view showing the structure of the board insertion section of FIG.
汚れの付着したディスク基板(21)を水平搬送するた
めの搬送ローラ(22)に載せるスペースと、搬送タクト
によりディスク基板(21)を搬送ローラ(22)に載せる
昇降台(23)とを有している。It has a space for placing a dirty disc substrate (21) on a transport roller (22) for horizontal transport, and a lift table (23) for placing the disc substrate (21) on the transport roller (22) by a transport tact. ing.
第3図は第1図の搬送用ローラの駆動構成を示してい
る構造斜視図である。図に示すように、搬送用ローラ
(22)は、駆動用モータ(24)からオーリングあるいは
ベルト(26)により駆動力を伝達された駆動軸(25)と
更にオーリングあるいはベルト(26)とにより接続され
て駆動される。これにより駆動用モータは1個で済み、
すべての搬送用ローラ(22)の回転同期を取るのも容易
である。FIG. 3 is a structural perspective view showing a driving structure of the transport roller of FIG. As shown in the figure, the transport roller (22) includes a drive shaft (25) to which a driving force is transmitted from a drive motor (24) by an O-ring or a belt (26), and an O-ring or a belt (26). It is connected and driven by. This requires only one drive motor,
It is easy to synchronize the rotation of all the transport rollers (22).
また、昇降台(23)は予め定められた間隔に応じて、
図示していないモータにより上下する。下降してディス
ク基板(21)を搬送用ローラ(22)上に載せる際には、
搬送用ローラ(22)は回転を停止する。In addition, the lift table (23) is
It moves up and down by a motor (not shown). When descending and placing the disk substrate (21) on the transfer roller (22),
The transport roller (22) stops rotating.
このようにして搬送用ローラ(22)上に水平に載せさ
らたディスク基板(21)は、搬送用ローラ(22)の回転
によって、次工程へ移送される。The disk substrate (21) thus placed horizontally on the carrying roller (22) is transferred to the next step by the rotation of the carrying roller (22).
(2)スプレー洗浄部 第4図は第1図のスプレー洗浄部の構成を示した構成
斜視図である。(2) Spray Cleaning Section FIG. 4 is a structural perspective view showing the structure of the spray cleaning section in FIG.
ディスク基板(21)に付着している汚れを後工程のブ
ラシスクラブ洗浄工程にはいる前にできるだけ洗い流す
ことを目的として設けられているスプレーノズル(27)
を表裏両面に有するスプレー洗浄部を備えている。A spray nozzle (27) provided for the purpose of washing away the dirt adhering to the disk substrate (21) as much as possible before entering the brush scrub cleaning step in the subsequent step.
It is equipped with a spray cleaning section having both sides.
なお、矢印Pはディスク基板(21)の搬送方向を示し
ている。The arrow P indicates the direction in which the disc substrate (21) is conveyed.
(3)穴内側面及び外周面ブラシスクラブ洗浄 第5図は第1図の穴内側面及び外周面洗浄部の構成を
示した構成斜視図である。(3) Brush Scrub Cleaning of Inner Side and Outer Surface of Hole FIG. 5 is a perspective view showing the structure of the cleaning section of the inner and outer surfaces of the hole shown in FIG.
図に示すように、スプレー洗浄部より送られてくるデ
ィスク基板(21)をストッパ(28)により停止させた
後、昇降台(29)により持ち上げ、ディスク基板チャッ
ク(30)により外周をチャックし、ディスク基板(21)
の穴内側面及び外周面をPVAのスポンジブラシ(31)に
よってスクラブ洗浄する。As shown in the figure, after stopping the disk substrate (21) sent from the spray cleaning section with the stopper (28), it is lifted with the lifting table (29) and the outer periphery is chucked with the disk substrate chuck (30). Disc board (21)
The inside surface and outer peripheral surface of the hole are scrubbed with a PVA sponge brush (31).
スポンジブラシ(31)はブラシ回転用モータ(32)に
より回転され、それに伴ってディスク基板(21)は回転
する。The sponge brush (31) is rotated by the brush rotating motor (32), and the disk substrate (21) is rotated accordingly.
ディスク基板チャック(30)はエアシリンダ(33)に
よって移動される。The disk substrate chuck (30) is moved by the air cylinder (33).
スポンジブラシ(31)には洗剤滴下あるいは水のスプ
レーができるように図示していない洗剤滴下管あるいは
スプレー管が配置されている。The sponge brush (31) is provided with a detergent dropping pipe or a spray pipe (not shown) so that the detergent can be dropped or water can be sprayed.
(4)ディスクブラシ表面洗浄部 第6図A,Bは第1図の表面洗浄部の構成を示した構成
斜視図である。(4) Disk brush surface cleaning unit FIGS. 6A and 6B are perspective views showing the structure of the surface cleaning unit shown in FIG.
図において、(34)は第6図Cに示しているディスク
ブラシ、(35)は同様のロールブラシ、(37)は駆動力
伝達用の駆動軸、(38)はベルト、(27)はスプレーノ
ズルである。In the figure, (34) is the disk brush shown in FIG. 6C, (35) is the same roll brush, (37) is a drive shaft for transmitting driving force, (38) is a belt, and (27) is a spray. It is a nozzle.
また、第7図は第6図Aに示したディスクブラシ(3
4)による洗浄部の機構を詳細に示した構造斜視図であ
り、図において、(36)は駆動力モータであり、この駆
動用モータ(36)の駆動力はベルト(38)、駆動軸(3
7)を通してディスクブラシ軸(34a)に設けられている
ディスクブラシ(34)に伝達される。この構成によれ
ば、上下のブラシを同時に駆動できるので駆動用モータ
は1個で済む。Further, FIG. 7 shows the disk brush (3
FIG. 4 is a structural perspective view showing in detail the mechanism of the cleaning unit by 4), in which (36) is a driving force motor, and the driving force of this driving motor (36) is the belt (38), the driving shaft ( 3
7) and transmitted to the disc brush (34) provided on the disc brush shaft (34a). According to this structure, the upper and lower brushes can be driven simultaneously, so that only one drive motor is required.
内外周スクラブにて、穴内側面及び外周面が洗浄され
送られてきたディスク基板(21)の両面(上下表面)
を、第6図Cに示す縦形の特殊のブラシすなわちディス
クブラシ(34)の回転によりその端面(34b)によって
スクラブ洗浄する。Both sides (upper and lower surfaces) of the disk substrate (21) that has been cleaned and sent on the inner and outer surfaces of the hole by inner and outer scrubbing.
Is scrubbed by its end face (34b) by the rotation of a special vertical brush or disk brush (34) shown in FIG. 6C.
ディスクブラシ(34)の材質は、付着した研磨剤の種
類、汚れの種類等により材質を変更することができる。
例えば、ナイロン、ポリポロピレン、馬毛などの線材、
ポリビニルアルコール等の発泡材(PVAスポンジブラシ
(例えば、商品名:ベルクリン:カネボウ製))、ウレ
タンなどのプラスチツク発泡材などが用いられる。The material of the disk brush (34) can be changed depending on the kind of the adhered abrasive, the kind of dirt and the like.
For example, wire materials such as nylon, polypropylene, horsehair,
A foam material such as polyvinyl alcohol (PVA sponge brush (for example, product name: Bellclean: made by Kanebo)), a plastic foam material such as urethane, and the like are used.
ディスクブラシ(34)はディスク基板(21)の上下面
をむらなく洗浄することができると共に、ディスク基板
(21)には、上部、下部よりスプレーノズルにて水を吹
き付け、これによって、ディスクブラシにより取り除か
れた研磨剤や汚れ等を効果的に除去することができる。The disc brush (34) can clean the upper and lower surfaces of the disc substrate (21) evenly, and water is sprayed onto the disc substrate (21) from the upper and lower parts by a spray nozzle, whereby the disc brush It is possible to effectively remove the removed abrasive and dirt.
また、洗剤も使用することができるように洗剤滴下管
を設けることも可能である。It is also possible to provide a detergent drip pipe so that a detergent can also be used.
(5)ロールブラシ表面洗浄部 ロールブラシ表面洗浄部は、前工程のディスクブラシ
表面洗浄部により、固着した研磨剤、汚れ等が剥がされ
て、浮遊した汚れ等を洗い流すことを目的とした第8図
A,Bに示すような円筒状のロールブラシ(35)を有する
洗浄部である。(5) Roll brush surface cleaning section The roll brush surface cleaning section is intended to wash away the suspended dirt and the like by removing the adhered abrasives and dirt by the disk brush surface cleaning section in the previous step. Figure
The cleaning unit has a cylindrical roll brush (35) as shown in A and B.
第8図Aにおいて、ロールブラシ(35)は駆動用モー
タ(36)から駆動軸(37)、ベルト(38)を通して駆動
力がロールブラシ軸(35a)に伝達され、上下のロール
ブラシ(35)が回転し、その円筒面(35b)によってデ
ィスク基板(21)が洗浄される。ロールブラシ(35)に
は、第6図Bに示しているように、スプレーノズル(2
7)より常に水が噴霧されている。In FIG. 8A, in the roll brush (35), the driving force is transmitted from the drive motor (36) to the roll brush shaft (35a) through the drive shaft (37) and the belt (38), and the upper and lower roll brushes (35). Rotates, and the cylindrical surface (35b) cleans the disk substrate (21). The roll brush (35) has a spray nozzle (2
Water is always sprayed from 7).
ロールブラシ(35)は研磨剤の種類、汚れの種類等に
より、材質を変更することができる。例えばナイロン、
ポリポロピレン、馬毛などの線材、ポリビニルアルコー
ル(PVAスポンジブラシ)やウレタンなどの発泡プラス
チック材などが用いられる。The material of the roll brush (35) can be changed depending on the type of abrasive, the type of dirt, and the like. For example nylon,
Wire materials such as polypropylene, horsehair, and foamed plastic materials such as polyvinyl alcohol (PVA sponge brush) and urethane are used.
ロールブラシ(35)及びディスク基板(21)には、第
6図A,Bに示すように、上部、下部よりスプレーノズル
にて水を吹き付け、ロールブラシ(35)の回転力による
汚れの除去作用との相乗効果によつて効果的に除去でき
る。As shown in FIGS. 6A and 6B, water is sprayed onto the roll brush (35) and the disc substrate (21) from above and below by a spray nozzle to remove dirt by the rotating force of the roll brush (35). It can be effectively removed by the synergistic effect with.
また、上記ディスクブラシ表面洗浄部及びロールブラ
シ表面洗浄部の前後の搬送用ローラ(22)上にはディス
ク基板(21)を押えるための押えローラが設けられてお
り、この押えローラとしてスポンジを用いたので、ワー
クであるディスク基板(21)が押えローラと搬送用ロー
ラ(22)との間に挿入されても、ディスク基板(21)の
厚み分のスポンジが凹むだけで、ディスク基板(21)が
接触していない押えローラの部分は下部に位置する搬送
用ローラ(22)に接触しており、駆動力は搬送用ローラ
(22)から伝達されて押えローラに駆動力を与えてい
る。 このように構成される押えローラが設けられてい
る部分を示すと第8図Cのとおりであって、図におい
て、符号(22a)が上記した押えローラであり、図で示
すように、ディスクブラシ(34)及びロールブラシ(3
5)の前後の搬送用ローラ(22)の上部に搬送用ローラ
(22)に接して回転自由に設けられている。そして、そ
の押えローラ(22a)はスポンジローラで構成されてい
る。A pressing roller for pressing the disk substrate (21) is provided on the transport roller (22) before and after the disk brush surface cleaning section and the roll brush surface cleaning section, and a sponge is used as the pressing roller. Therefore, even if the disc substrate (21), which is a work, is inserted between the pressing roller and the transport roller (22), the sponge corresponding to the thickness of the disc substrate (21) is dented, and the disc substrate (21) The portion of the pressing roller which is not in contact with is in contact with the carrying roller (22) located in the lower part, and the driving force is transmitted from the carrying roller (22) to give the driving force to the pressing roller. FIG. 8C shows a portion where the pressing roller configured in this way is provided. In the figure, reference numeral (22a) is the above-mentioned pressing roller, and as shown in the figure, the disc brush (34) and roll brush (3
It is provided on the upper part of the carrying roller (22) before and after 5) so as to be freely rotatable in contact with the carrying roller (22). The pressing roller (22a) is composed of a sponge roller.
押えローラ(22a)は、このように構成されているの
で、搬送用ローラ(22)に載せられたディスク基板(2
1)が水平に搬送され、押えローラ(22a)と搬送用ロー
ラ(22)との間を通過してディスクブラシ(34)または
ロールブラシ(35)の部分に到達する。このとき、ディ
スク基板(21)が挿入された部分の押えローラ(22a)
はスポンジで構成されているために、第8図Dに示すよ
うに、凹むが、それ以外の押えローラ(22a)の部分は
元の状態のままで下部の搬送用ローラ(22)と接触して
いる。このため搬送用ローラ(22)の駆動力は押えロー
ラ(22a)へ伝達されることになり、従って、ディスク
基板(21)が押えローラ(22a)と搬送用ローラ(22)
との間に挿入された状態であっても、押えローラ(22
a)は搬送用ローラ(22)の回転に従動して回転し、デ
イスク基板(21)の搬送を妨げることがない。更に押え
ローラ(22a)はスポンジにより構成されているので、
接触抵抗が高く、従って、ディスク基板(21)がディス
クブラシ(34)、ローラブラシ(35)の回転力等に影響
されず、ディスク基板(21)を保持しながら搬送させる
ことが可能である。Since the presser roller (22a) is configured in this way, the disc substrate (2) mounted on the transport roller (22) is
1) is conveyed horizontally, passes between the pressing roller (22a) and the conveying roller (22), and reaches the portion of the disk brush (34) or the roll brush (35). At this time, the pressing roller (22a) in the portion where the disc substrate (21) is inserted
Since it is made of sponge, it is dented as shown in FIG. 8D, but the other part of the pressing roller (22a) comes into contact with the lower conveying roller (22) in its original state. ing. Therefore, the driving force of the carrying roller (22) is transmitted to the pressing roller (22a), so that the disc substrate (21) is pressed by the pressing roller (22a) and the carrying roller (22).
Even if it is inserted between the
The a) rotates following the rotation of the transfer roller (22) and does not hinder the transfer of the disk substrate (21). Furthermore, since the presser roller (22a) is made of sponge,
Since the contact resistance is high, the disk substrate (21) can be carried while being held by the disk substrate (21) without being affected by the rotating force of the disk brush (34) and the roller brush (35).
なお、この実施例では、押えローラ(22a)のスポン
ジの材質はポリビニルアルコール(PVAと略記する)系
多孔質弾性体(商品名:ベルクリン;カネボウ製)を用
いたものを示したが、他のスポンジ質材料、例えば、ウ
レタンなどの場合であっても良く、上記実施例と同様の
効果を奏する。In this embodiment, the material of the sponge of the pressing roller (22a) is a polyvinyl alcohol (abbreviated as PVA) type porous elastic body (trade name: Bellclean; manufactured by Kanebo), but other materials are used. A sponge material such as urethane may be used, and the same effect as that of the above-described embodiment is obtained.
(6)ディスクブラシ表面洗浄部 上記(4)ディスクブラシ表面洗浄部と同じ構成及び
作用を有する。(6) Disc brush surface cleaning unit This has the same configuration and operation as the above (4) Disc brush surface cleaning unit.
(7),(8)ロールブラシ表面洗浄部 上記(5)ロールブラシ表面洗浄部と同じ構成及び作
用を有する。(7), (8) Roll brush surface cleaning section This has the same configuration and operation as the above (5) roll brush surface cleaning section.
(9)スプレー洗浄部 前工程(7),(8)ロールブラシ表面洗浄部にて汚
れが最終的に除去された後、第9図に示すように、スプ
レーノズル(27)によってディスク基板(21)の上下面
に純水(27a)をスプレーし、ディスク基板(21)に付
着している前工程に使用された洗浄水との置換を図り、
ディスク基板(21)の表面の清浄化を図る。この場合、
スプレーされる純水(27a)は、ディスク基板(21)の
進行方向とは逆方向に、図示されていない給水源から給
水されて、噴出するように構成されている。(9) Spray cleaning part (7), (8) After the dirt is finally removed by the roll brush surface cleaning part, as shown in FIG. ) Spray pure water (27a) on the upper and lower surfaces to replace the cleaning water used in the previous step that is attached to the disk substrate (21).
The surface of the disk substrate (21) is cleaned. in this case,
The pure water (27a) to be sprayed is configured to be jetted by being supplied with water from a water supply source (not shown) in a direction opposite to the traveling direction of the disk substrate (21).
このとき、センサと電磁弁を設置することにより、デ
ィスク基板(21)が該当場所に到達したときにのみ水を
噴出させる機構や、給水源のバルブを開けると常にスプ
レーノズルから水が噴出される機構などが選択できる。At this time, by installing a sensor and an electromagnetic valve, a mechanism that ejects water only when the disc substrate (21) reaches the corresponding location, or a valve that is the water supply source opens, and water is always ejected from the spray nozzle. The mechanism etc. can be selected.
(10)ディスク基板のカセットへの収容及びカセツトの
回動 第10図は第1図のディスク基板(21)がカセットに収
容され、かつ、回動される回動装置の構成図である。(10) Housing of Disk Substrate in Cassette and Rotation of Cassette FIG. 10 is a block diagram of a rotating device in which the disk substrate (21) of FIG. 1 is accommodated in the cassette and rotated.
図において、符号(39)はディスク基板(21)を収容
するカセット、(40)はカセット(39)を上下に駆動さ
せる昇降用モータ、(41)はカセット(39)を回動させ
るためのエアシリンダ、(42)はディスク基板(21)が
水平に載置されている場合にディスク基板(21)に噴水
させるスプレーノズル、(43)はディスク基板(21)が
垂直に載置されているときのスプレーノズル、(44),
(45)はディスク基板検出用のセンサ、(46)はシリン
ダ(41)の作動によりカセット(39)を回動する回動装
置である。In the figure, reference numeral (39) is a cassette for accommodating the disk substrate (21), (40) is a lifting motor for vertically driving the cassette (39), and (41) is air for rotating the cassette (39). A cylinder, (42) is a spray nozzle that sprays water onto the disk substrate (21) when the disk substrate (21) is horizontally mounted, and (43) is when the disk substrate (21) is vertically mounted. Spray nozzle, (44),
Reference numeral (45) is a sensor for detecting a disk substrate, and reference numeral (46) is a rotating device for rotating the cassette (39) by the operation of the cylinder (41).
次に動作について説明する。搬送用ローラ(22)上に
水平に載せられて搬送されてきたディスク基板(21)
は、まず、カセット(39)の最上段に収容される。Next, the operation will be described. A disk substrate (21) that has been horizontally mounted on a transfer roller (22) and has been transferred.
Are first stored in the uppermost stage of the cassette (39).
収納されたことをセンサ(44)により検出すると、カ
セット(39)は予め定められたピッチに従って、ディス
ク基板1枚分だけ上昇するが、そのとき、カセットと一
体のシリンダ(41)及び回動装置(46)も上昇し、次の
ディスク基板(21)の収容に備える。その間、スプレー
ノズル(42)によりディスク基板(21)は常に水をかけ
られる。When the sensor (44) detects that the cassette (39) is stored, the cassette (39) moves up by one disk substrate at a predetermined pitch. At that time, the cylinder (41) and the rotating device integrated with the cassette. (46) also rises and prepares for the accommodation of the next disk substrate (21). Meanwhile, the spray nozzle (42) constantly sprays water on the disk substrate (21).
このようにして最下段に収容能力最大枚数のデイスク
基板(21)を収容すると、上昇端に到達したことをセン
サ(45)により検出し、これによって、エアシリンダ
(41)が作動し、回動装置(46)によって同装置を支点
としてカセット(39)を90°回動し、ディスク基板(2
1)を水平状態から垂直状態へ変換する。ディスク基板
(21)はその間スプレーノズル(42),(43)により純
水をかけられて乾燥が防止され、次の工程に運ばれるま
で待機する。Thus, when the disk substrates (21) having the maximum storage capacity are stored in the lowermost stage, the sensor (45) detects that the disk substrate (21) has reached the ascending end, whereby the air cylinder (41) operates and rotates. The device (46) rotates the cassette (39) 90 ° about the device as a fulcrum, and the disc substrate (2
1) is converted from the horizontal state to the vertical state. During this time, the disk substrate (21) is sprayed with pure water by the spray nozzles (42) and (43) to prevent it from drying, and waits until it is carried to the next step.
上記実施例では、回動用のカセット(39)がディスク
基板(21)の収容後上昇する場合について説明したが、
ディスク基板(21)が収納後に下降するようにしてもよ
く、上記実施例と同様の効果を奏する。In the above embodiment, the case where the rotating cassette (39) is raised after the disc substrate (21) is housed has been described.
The disk substrate (21) may be lowered after being housed, and the same effect as that of the above-described embodiment is obtained.
また上記実施例では、ディスク基板(21)の乾燥防止
のためにスプレーを使用する場合について説明したが、
その他、ディスク基板(21)を水に浸漬させる方法や噴
霧させずに水をかける方法などであってもよく、上記実
施例と同様の効果を奏する。In the above embodiment, the case where the spray is used to prevent the disk substrate (21) from drying has been described.
In addition, a method of immersing the disk substrate (21) in water or a method of spraying water without spraying may be used, and the same effect as that of the above-described embodiment is obtained.
(11)超音波洗浄部 カセットにディスク基板が収容され、ディスク基板
(21)の表面が垂直になるようにカセット(39)を回動
した後、搬送用アーム(42)により、ディスク基板(2
1)のみを吊り下げ、純水槽中に浸漬した状態で既知の
方法に従って超音波を発振させて超音波洗浄する。(11) Ultrasonic cleaning unit After the disc substrate is housed in the cassette and the cassette (39) is rotated so that the surface of the disc substrate (21) becomes vertical, the disc arm (42) is moved by the transfer arm (42).
Only 1) is suspended and ultrasonically oscillated according to a known method while being immersed in a pure water tank for ultrasonic cleaning.
(12)高温純水浸漬・引上げ乾燥部 第11図Aは第1図における高温純水浸漬引上げ乾燥部
の概略構成斜視図である。(12) High-temperature pure water immersion / pull-up / drying section FIG. 11A is a schematic configuration perspective view of the high-temperature pure water immersion-pulling-drying section in FIG.
超音波洗浄終了後、再び搬送用アーム(42)の下部に
ある例えば第11図B,Cに示されるようなディスクホルダ
(43)を利用してディスク基板(21)を吊り下げて移送
し、純水槽(44)内に貯留されている高温の純水、例え
ば、50〜95℃の超純水中に浸漬し、一定時間浸漬した
後、緩やかに垂直に引き上げる。この過程において、デ
ィスク基板(21)は乾燥される。なお、純水槽(44)中
には温度制御系(45)により制御されたヒータ(46)で
加熱された純水が供給される。After the ultrasonic cleaning is completed, the disk substrate (21) is hung and transferred again using the disk holder (43) shown in, for example, FIGS. 11B and C under the transfer arm (42). It is immersed in high temperature pure water stored in the pure water tank (44), for example, ultrapure water at 50 to 95 ° C., immersed for a certain period of time, and then gently pulled up vertically. In this process, the disc substrate (21) is dried. The pure water heated by the heater (46) controlled by the temperature control system (45) is supplied to the pure water tank (44).
なお、上記高温の純水の温度としては、50℃以下では
ディスク基板の乾燥に時間がかかり、また、95℃以上で
は一定温度に保つことが困難であると共に純水中に気泡
が発生してディスク基板表面の乾燥むらの原因となるた
め、不適当である。すなわち、温度範囲としては50〜95
℃の範囲であればよい。また、適当な温度範囲は制御し
やすい範囲でディスク基板が乾燥しやすい温度であれば
いい。As for the temperature of the high temperature pure water, it takes time to dry the disk substrate if the temperature is 50 ° C. or lower, and it is difficult to maintain a constant temperature at 95 ° C. or higher and bubbles are generated in the pure water. It is not suitable because it causes unevenness of drying of the disk substrate surface. That is, the temperature range is 50 to 95
It may be in the range of ° C. Further, the appropriate temperature range may be a range that is easily controlled and is a temperature at which the disk substrate is easily dried.
更に、この実施例ではディスクホルダ(43)として第
11図B,Cで示す形状のものを示したが、この形状に限定
するものではなく、ディスク基板(21)との接触部分が
多くならない形状であればよい。Furthermore, in this embodiment, the disc holder (43)
Although the shape shown in FIGS. 11B and 11C is shown, the shape is not limited to this, and any shape that does not increase the contact portion with the disk substrate (21) may be used.
(13)基板取出し部 乾燥されたディスク基板(21)は搬送用アーム(42)
により、基板取出し部に移送され、基板取出し部のカセ
ット内に収納される。(13) Substrate unloading section The dried disc substrate (21) is used for the transfer arm (42).
Thus, the substrate is transferred to the substrate unloading section and stored in the cassette of the substrate unloading section.
この発明のディスク基板洗浄装置は、上記のように構
成され、作用するが、その実験例を示すと次のとおりで
ある。The disk substrate cleaning apparatus of the present invention is configured and operates as described above, and its experimental example is as follows.
3.5インチ磁気ディスク基板をこの発明の一実施例で
あるディスク基板用洗浄装置により洗浄し、ディスク基
板表面の接触角、付着ダスト数を調べた。A 3.5-inch magnetic disk substrate was cleaned by a disk substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, and the contact angle of the disk substrate surface and the number of attached dusts were examined.
なお、この接触角は純水を基板表面に滴下し、水滴と
ディスク基板の成す角度との関係を角度を真横から測定
して検討した。その場合、この接触角度が小さいほどデ
ィスク基板表面の清浄度が高いことを示している。ま
た、付着ダストの数は、レーザ光を操作しその反射光に
より評価する装置を用いて測定した。The contact angle was examined by dropping pure water on the substrate surface and measuring the relationship between the water droplet and the angle formed by the disk substrate from the side. In this case, the smaller the contact angle, the higher the cleanliness of the disk substrate surface. The number of adhered dusts was measured by using a device that operates a laser beam and evaluates the reflected light.
同様の評価を、従来のフロン蒸気乾燥工程を含み、デ
ィスク基板をスピンドルにチャックして洗浄する従来の
洗浄装置により、ディスクブラシ単独若しくはロールブ
ラシ単独洗浄を行った3.5インチ磁気ディスク基板で実
施し、上記この発明装置によるものを比較検討した。The same evaluation, including the conventional Freon vapor drying step, by a conventional cleaning device that chucks the disk substrate on the spindle to perform cleaning, was carried out on the 3.5-inch magnetic disk substrate on which the disk brush alone or the roll brush alone was cleaned, The above-mentioned device according to the present invention was compared and examined.
その結果を表にまとめて示す。 The results are summarized in the table.
これによると、上記実施例によるディスク基板表面の
接触角は、従来装置によって洗浄・乾燥されたものに比
べて非常に小さく、測定が困難な10度以下を示してお
り、ディスク基板表面の清浄度がこの実施例においては
非常に向上していることが判る。 According to this, the contact angle on the surface of the disk substrate according to the above-mentioned example is much smaller than that of the one cleaned and dried by the conventional apparatus, which is 10 degrees or less, which is difficult to measure. It can be seen that is greatly improved in this example.
また、付着ダスト数においても、従来装置によるもの
に比べてその数は激減しており、この発明によるディス
ク基板用洗浄装置の効果は著しいものがある。Also, the number of adhered dust is drastically reduced as compared with that of the conventional apparatus, and the effect of the disc substrate cleaning apparatus according to the present invention is remarkable.
また、従来例ではそれぞれの測定値のばらつきが大き
く、再現性が得られにくい。この原因はブラシからの再
汚染の影響であると考えられる。一方、この発明による
上記実施例による洗浄結果では表に示したように測定値
が安定性良く得られており、ブラシあるいは洗浄水によ
るディスク基板の再汚染の影響が除去できている。Further, in the conventional example, the dispersion of each measured value is large, and it is difficult to obtain reproducibility. The cause is considered to be the effect of recontamination from the brush. On the other hand, in the cleaning results of the above-described embodiment according to the present invention, the measured values are obtained with good stability as shown in the table, and the effect of recontamination of the disk substrate by the brush or cleaning water can be eliminated.
また、この実施例では、搬送用ローラ(22)上にディ
スク基板(21)を載せ、搬送しながら洗浄するように構
成していることにより、その処理速度は100〜200枚/時
間以上を達成しており、この処理能力の数値は従来の量
産用洗浄装置と大きくは変わらないが、上記に示した洗
浄効果を達成しかつこの処理速度を実現できるのはこの
発明の大きな効果の1つである。Further, in this embodiment, the disc substrate (21) is placed on the transport roller (22) and is cleaned while being transported, so that the processing speed is 100 to 200 sheets / hour or more. Although the value of this processing capacity is not much different from that of the conventional mass production cleaning apparatus, it is one of the great effects of the present invention that the cleaning effect shown above and the processing speed can be realized. is there.
なお、上記実施例では、(1)基板挿入(2)スプ
レー洗浄(3)穴内側面及び外周面ブラシスクラブ洗
浄(4)ディスクブラシ表面洗浄(5)ロールブラ
シ表面洗浄(6)ディスクブラシ表面洗浄(7)ロ
ールブラシ表面洗浄(8)ロールブラシ表面洗浄
(9)スプレー洗浄(10)ディスク基板のカセットへ
の収容及びカセットの回動(11)超音波洗浄(12)
高温超純水浸漬・引上げ乾燥(13)基板取出しという
工程を有する洗浄装置について説明したが、上記工程
(2)から(11)までの工程の順番はある程度まで任意
であり、例えば、超音波洗浄を前工程(2)〜(4)に
設置したり、ブラシの種類を入れ替えたり、あるいは
又、ブラシ洗浄の回数を5回から増減させることも任意
であり、要はディスク基板(21)の汚染度に応じた工程
を組み上げることが可能であり、その場合においても、
上記実地例と同様の効果を奏する。In the above example, (1) substrate insertion (2) spray cleaning (3) hole inner and outer surface brush scrub cleaning (4) disk brush surface cleaning (5) roll brush surface cleaning (6) disk brush surface cleaning ( 7) Roll brush surface cleaning (8) Roll brush surface cleaning (9) Spray cleaning (10) Disc substrate accommodation and cassette rotation (11) Ultrasonic cleaning (12)
The cleaning apparatus having the steps of high temperature ultrapure water immersion / pull-drying (13) substrate removal has been described, but the order of the steps (2) to (11) is arbitrary to some extent, for example, ultrasonic cleaning. Can be installed in the previous steps (2) to (4), the type of brush can be exchanged, or the number of brush cleanings can be increased or decreased from 5 times. The point is that the disk substrate (21) is contaminated. It is possible to assemble the process according to the degree, and even in that case,
The same effect as the above-mentioned practical example is produced.
また、駆動伝達機構系について図に示したが、他の機
構系でも目的のブラシ、ローラ等が駆動できればよく、
上記実施例と同様の効果を奏する。Although the drive transmission mechanism system is shown in the figure, it is sufficient if the target brush, roller, etc. can be driven by other mechanism systems,
The same effect as that of the above embodiment is obtained.
更に、上記実施例では、ディスク基板を水平にして水
平搬送する例について説明したが、他の垂直搬送、内周
チャックあるいは外周チャックによる搬送、カセットに
よる複数枚搬送などの搬送機構でもよく、上記実施例と
同様の効果を奏する。Further, in the above embodiment, an example in which the disc substrate is horizontally conveyed is described, but other vertical conveyance, conveyance by an inner circumference chuck or outer circumference chuck, conveyance of a plurality of sheets by a cassette, or the like may be used. It has the same effect as the example.
以上のように、この発明に係るディスク基板用洗浄装
置は、第1発明にあっては、ディスク基板を水平方向に
搬送する搬送用ローラと、ディスク基板の穴側面及び外
周面を洗浄する側面洗浄ブラシと、ディスク基板の表面
を洗浄する表面洗浄ブラシと、スプレー洗浄用のスプレ
ーノズルと、デイスク基板を浸漬させて洗浄する純水、
純水槽及び超音波洗浄装置とを有しており、ディスク基
板を上記純水中に表面を垂直にして浸漬し引き上げなが
ら乾燥させる乾燥装置とを備えているものであり、ま
た、第2発明においては、表面洗浄ブラシを備えた部位
の前後の搬送用ローラの上部に、上記搬送用ローラに接
して自由回転するスポンジロールからなる押えロールが
設けられているものであり、更に、第3発明にあって
は、洗浄ブラシと乾燥装置との間に設けられ、ディスク
基板を間隔を有して順次重ねてストックすると共に、内
部に収容のディスク基板の載置状態が水平方向から垂直
方向に変換するように構成されている回動装置が設けら
れているカセットを備えており、かつ、カセット収容中
のディスク基板を湿潤状態に保持しているものである。As described above, the disk substrate cleaning apparatus according to the present invention is, in the first invention, a transportation roller for horizontally transporting the disk substrate and a side surface cleaning for cleaning the hole side surface and the outer peripheral surface of the disk substrate. A brush, a surface cleaning brush for cleaning the surface of the disc substrate, a spray nozzle for spray cleaning, and pure water for immersing and cleaning the disk substrate,
The present invention further comprises a deionized water tank and an ultrasonic cleaning device, and a drying device which dries the disk substrate in the deionized water with its surface vertical and dries it while pulling it up. According to the third aspect of the invention, a pressing roll made of a sponge roll that freely rotates in contact with the transportation roller is provided above the transportation roller before and after the portion provided with the surface cleaning brush. That is, it is provided between the cleaning brush and the drying device, and the disk substrates are stacked one on top of the other with a space therebetween, and the mounting state of the disk substrates accommodated inside is changed from the horizontal direction to the vertical direction. The present invention is provided with the cassette provided with the rotating device configured as described above, and holds the disk substrate in the cassette in a wet state.
従って、第1発明によると、ディスク基板と洗浄ブラ
シとの接触も必要最小時間に押えられて均一に洗浄で
き、汚染物が再度付着する心配もなく、洗浄効果も向上
し、また、最後に純水に浸漬し引き上げて乾燥している
ので、乾燥時付着粒子が少なく、ディスク基板表面の洗
浄度も向上し、しかも、規制対象品の使用も、防爆、防
火装置の設置も不要であり、更に搬送中に洗浄するよう
にしているので装置自体も簡素で洗浄部とリンス部との
区別も明確であり、更に、処理時間も短縮され、また、
第2発明によると、ディスク基板が洗浄ブラシにより洗
浄されているときでも、押えロールは、そのディスク基
板接触部以外において搬送用ローラに接して駆動され、
従って、押えローラの特別の駆動手段を必要とせず、し
かも、ディスク基板の搬送速度も搬送方向も所定どおり
に維持することができ、更に、第3発明にあっては、乾
燥均一であって汚染物の再付着もなく、しかも、デイス
ク基板の面の方向を水平から垂直に換える装置も比較的
簡易であると共にこの変換に要する時間も短時間ですむ
ディスク基板用洗浄装置が得られる効果を有している。Therefore, according to the first invention, the contact between the disc substrate and the cleaning brush can be held down in the required minimum time for uniform cleaning, there is no concern that contaminants will adhere again, and the cleaning effect is improved, and finally the pure cleaning is performed. Since it is soaked in water and pulled up to dry, there are few particles adhering when dried, the degree of cleaning of the disk substrate surface is improved, and there is no need to use regulated items, explosion-proof or fire-proof equipment. Since the cleaning is performed during transportation, the device itself is simple, the distinction between the cleaning part and the rinse part is clear, and the processing time is shortened.
According to the second aspect of the invention, even when the disc substrate is being washed by the washing brush, the pressing roll is driven in contact with the transporting roller at a portion other than the disc substrate contact portion,
Therefore, a special drive means for the pressing roller is not required, and moreover, the transport speed and the transport direction of the disc substrate can be maintained at a predetermined level. Further, in the third aspect of the invention, the drying is uniform and contamination is not caused. There is an effect that there is no re-adhesion of the object, and the device for changing the direction of the surface of the disk substrate from horizontal to vertical is relatively simple and the time required for this conversion can be obtained in a short time. are doing.
第1図はこの発明の一実施例によるディスク基板洗浄装
置の各構成要素の配列概略構成図、第2図は第1図の基
板挿入部の構成を示す斜視図、第3図は第1図の搬送用
ローラの駆動構成を示す構造斜視図、第4図は第1図の
スプレー洗浄部の構成を示す構成斜視図、第5図は第1
図の内側面及び外周面及び外周面洗浄部の構成を示す構
成斜視図、第6図Aは第1図におけるディスクブラシに
よる表面洗浄部の構成を示す構成斜視図、第6図Bは第
1図におけるロールブラシによる表面洗浄部の構成を示
す構成斜視図、第6図Cは第6図Aのディスクブラシの
外形斜視図、第7図は第6図Aの詳細構成斜視図、第8
図Aは第6図Bの詳細構成斜視図、第8図Bは第8図A
のロールブラシの外形斜視図、第8図Cは第1図の搬送
用ローラ、押えローラ、ディスクブラシ及びロールブラ
シの関係側面図、第8図Dは第8図Cの搬送用ローラと
押えローラとの間にディスク基板が入っている場合の押
えローラの状態図、第9図は第1図のスプレー洗浄部の
構成説明図、第10図は第1図のディスク基板収容のカセ
ットとその昇降、回動状態を示す概略側面図、第11図A
は第1図の純水浸漬引上げ乾燥部の概略構成斜視図、第
11図Bは第11図Aのディスクホルダの一部正面図、第11
図Cは第1図Bの側面図、第12図は従来のディスク基板
用洗浄装置における押えローラの駆動装置を示す構成斜
視図である。 (1)……基板挿入部、(2)……スプレー洗浄部、
(3)……穴内側面及び外周面ブラシスクラブ洗浄部、
(4)……ディスクブラシ表面洗浄部、(5)……ロー
ルブラシ洗浄部、(6)……ディスクブラシ表面洗浄
部、(7)……ロールブラシ洗浄部、(8)……ロール
ブラシ洗浄部、(9)……スプレー洗浄部、(10)……
ディスク基板のカセットへの収容及びカセット回動部、
(11)……超音波洗浄部、(12)……高温純水浸漬・引
上げ乾燥部、(13)……基板取出し部、(21)……ディ
スク基板、(22)……搬送用ローラ、(27)……スプレ
ーノズル、(31)……スポンジブラシ、(34)……ディ
スクブラシ、(35)……ロールブラシ、(39)……カセ
ット、(44)……純水槽。 なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示す。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an arrangement of respective components of a disk substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing a configuration of a substrate insertion portion of FIG. 1, and FIG. 3 is FIG. FIG. 4 is a structural perspective view showing the drive structure of the transport roller of FIG. 4, FIG. 4 is a structural perspective view showing the structure of the spray cleaning section of FIG. 1, and FIG.
FIG. 6A is a configuration perspective view showing the configuration of the inner surface and outer peripheral surface and the outer peripheral surface cleaning section, FIG. 6A is a configuration perspective view showing the configuration of the surface cleaning section by the disc brush in FIG. 1, and FIG. FIG. 6C is a perspective view showing the configuration of the surface cleaning section using a roll brush in the figure, FIG. 6C is a perspective view showing the outer shape of the disc brush shown in FIG. 6A, and FIG. 7 is a detailed perspective view showing the configuration of FIG. 6A.
FIG. A is a detailed perspective view of the configuration of FIG. 6B, and FIG. 8B is FIG. 8A.
8C is a perspective view showing the outer shape of the roll brush, FIG. 8C is a side view showing the relationship between the carrying roller, the pressing roller, the disc brush and the roll brush of FIG. 1, and FIG. 8D is the carrying roller and the pressing roller of FIG. 8C. Fig. 9 is a state diagram of the pressing roller when the disc substrate is inserted between the disc substrate, and Fig. 9, Fig. 9 is a configuration explanatory diagram of the spray cleaning unit in Fig. 1, and Fig. 10 is a cassette for accommodating the disc substrate in Fig. 1 and its elevation. , A schematic side view showing a rotated state, Fig. 11A
Is a perspective view of a schematic configuration of the pure water immersion pulling-up and drying section of FIG.
11B is a partial front view of the disc holder of FIG. 11A, FIG.
FIG. C is a side view of FIG. 1B, and FIG. 12 is a configuration perspective view showing a pressing roller driving device in a conventional disk substrate cleaning device. (1) …… Board insertion part, (2) …… Spray cleaning part,
(3) …… Brush scrubbing area on the inner and outer surface of the hole,
(4) …… Disk brush surface cleaning section, (5) …… Roll brush cleaning section, (6) …… Disk brush surface cleaning section, (7) …… Roll brush cleaning section, (8) …… Roll brush cleaning section Section, (9) …… Spray cleaning section, (10) ……
Accommodating the disc substrate in the cassette and rotating the cassette,
(11) …… Ultrasonic cleaning part, (12) …… High temperature pure water dipping / pulling up and drying part, (13) …… Substrate unloading part, (21) …… Disk substrate, (22) …… Transport roller, (27) …… Spray nozzle, (31) …… Sponge brush, (34) …… Disk brush, (35) …… Roll brush, (39) …… Cassette, (44) …… Pure water tank. In each drawing, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−14443(JP,A) 実開 昭61−68318(JP,U) 実開 昭62−69891(JP,U)Continuation of the front page (56) References Japanese Patent Laid-Open No. 2-14443 (JP, A) Actually open 61-68318 (JP, U) Actually open 62-69891 (JP, U)
Claims (9)
ローラと、ディスク基板の穴側面及び外周面を洗浄する
側面洗浄ブラシと、ディスク基板の表面を洗浄する表面
洗浄ブラシと、スプレー洗浄用のスプレーノズルと、デ
ィスク基板を浸漬させて洗浄する純水、純水槽及び超音
波洗浄装置とを有しており、ディスク基板を上記純水中
に表面を垂直にして浸漬し引き上げながら乾燥させる乾
燥装置とを備えていることを特徴とするディスク基板用
洗浄装置。1. A transport roller for horizontally transporting a disk substrate, a side surface cleaning brush for cleaning the hole side surface and outer peripheral surface of the disk substrate, a surface cleaning brush for cleaning the surface of the disk substrate, and a spray cleaning roller. It has a spray nozzle, pure water for immersing and cleaning the disk substrate, a pure water tank, and an ultrasonic cleaning device, and a drying device for immersing the disk substrate in the pure water with its surface vertical and then drying it while pulling it up. An apparatus for cleaning a disk substrate, comprising:
ローラの途中であってディスク基板の上下表面に向けて
設けられている特許請求の範囲第1項記載のディスク基
板用洗浄装置。2. The disk substrate cleaning apparatus according to claim 1, wherein the surface cleaning brush for the disk substrate is provided on the upper and lower surfaces of the disk substrate in the middle of the carrying roller.
する円筒形状のブラシの端面をディスク基板に接触させ
るように構成されているブラシと、回転する円筒形状の
ブラシの円筒面をディスク基板に接触させるように構成
されているブラシの2種類のブラシを備えている特許請
求の範囲第2項記載のディスク基板用洗浄装置。3. A brush for cleaning the surface of a disk substrate, wherein the brush is configured to bring an end surface of the rotating cylindrical brush into contact with the disk substrate, and the cylindrical surface of the rotating cylindrical brush serves as the disk substrate. The cleaning apparatus for a disk substrate according to claim 2, comprising two types of brushes, which are brushes configured to come into contact with each other.
搬送されているディスク基板に対してその上下に設けら
れると共に、ディスク基板の進行方向に対して逆方向に
スプレーするように設定されている特許請求の範囲第1
項ないし第3項のいずれかに記載のディスク基板用洗浄
装置。4. A spray nozzle for spray cleaning is provided above and below a disk substrate which is being transported horizontally, and is set so as to spray in a direction opposite to the traveling direction of the disk substrate. Claim 1st
Item 5. A disk substrate cleaning device according to any one of items 1 to 3.
の純水である特許請求の範囲第1項ないし第4項のいず
れかに記載のディスク基板用洗浄装置。5. The pure water for immersing the disk substrate is 50 to 95 ° C.
The cleaning apparatus for a disk substrate according to any one of claims 1 to 4, which is pure water.
漬及び垂直方向への引上げが、ディスク基板の穴に係止
され吊り下げて行い得るように構成されている吊下げ装
置を有している特許請求の範囲第1項ないし第5項のい
ずれかに記載のディスク基板用洗浄装置。6. The drying device has a suspending device configured so that the dipping of the disc substrate in pure water and the vertical pulling up can be performed by suspending the disc substrate while being locked in the hole of the disc substrate. The cleaning apparatus for a disk substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein
ローラと、該搬送用ローラの途中にあってディスク基板
の表面を洗浄する表面洗浄ブラシとを有するディスク基
板用洗浄装置であって、上記表面洗浄ブラシを備えた部
位の前後の搬送用ローラの上部に、上記搬送用ローラに
接して自由回転するスポンジロールからなる押えローラ
が設けられていることを特徴とするディスク基板用洗浄
装置。7. A disc substrate cleaning device comprising a transport roller for transporting a disc substrate in a horizontal direction and a surface cleaning brush for cleaning the surface of the disc substrate in the middle of the transport roller. A disc substrate cleaning apparatus, wherein a pressing roller made of a sponge roll which is in contact with the transport roller and freely rotates is provided above and below the transport roller provided with the surface cleaning brush.
ローラと、ディスク基板の穴内側面、外周面及び表面を
洗浄する側面及び表面洗浄ブラシと、ディスク基板をそ
の表面を垂直にして純水中に浸漬、引上げを行って乾燥
させる乾燥装置とを有しているディスク基板用洗浄装置
であって、上記洗浄ブラシと乾燥装置との間に設けら
れ、上記ディスク基板を間隔を有して順次重ねてストッ
クすると共に、内部に収納のディスク基板の載置状態が
水平方向から垂直方向に変換するように構成されている
回動装置が設けられているカセットを備えており、か
つ、カセット収納中のディスク基板を湿潤状態に保持し
ていることを特徴とするディスク基板用洗浄装置。8. A transport roller for transporting a disk substrate in a horizontal direction, a side surface and a surface cleaning brush for cleaning the inner side surface, the outer peripheral surface and the surface of the hole of the disk substrate, and the surface of the disk substrate vertical in pure water. A cleaning device for a disk substrate having a drying device for immersing and pulling it in to dry it, the cleaning device being provided between the cleaning brush and the drying device, and sequentially stacking the disk substrates with a gap therebetween. And a cassette provided with a turning device configured to convert the mounted state of the stored disk substrate from the horizontal direction to the vertical direction, and A disk substrate cleaning device, characterized in that the disk substrate is held in a wet state.
に保持する装置が、ディスク基板の載置状態を水平方向
から垂直方向に変換するようにカセットが回動する前後
において、それぞれのディスク基板の表面に対して水が
かかるように2方向以上から噴水する乾燥防止スプレー
である特許請求の範囲第8項記載のディスク基板用洗浄
装置。9. An apparatus for holding a disk substrate in a cassette in a wet state, before and after the cassette is rotated so as to convert the mounted state of the disk substrate from a horizontal direction to a vertical direction, 9. The cleaning apparatus for a disk substrate according to claim 8, which is a drying prevention spray that sprays water from two or more directions so that water is applied to the surface.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4323790A JPH0814891B2 (en) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | Disk substrate cleaning device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4323790A JPH0814891B2 (en) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | Disk substrate cleaning device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03245388A JPH03245388A (en) | 1991-10-31 |
| JPH0814891B2 true JPH0814891B2 (en) | 1996-02-14 |
Family
ID=12658295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4323790A Expired - Lifetime JPH0814891B2 (en) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | Disk substrate cleaning device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0814891B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101916388B1 (en) * | 2018-05-24 | 2019-01-30 | 대구환경공단 | Filtering apparatus and method for moisture content monitoring using the same |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015041011A1 (en) * | 2013-09-17 | 2015-03-26 | Hoya株式会社 | Method for manufacturing glass substrate for information recording medium |
| CN117007529B (en) * | 2023-10-07 | 2024-01-12 | 哈尔滨海鸿基业科技发展有限公司 | Quick auto-focusing microscopic Raman spectrum diagnostic apparatus |
-
1990
- 1990-02-22 JP JP4323790A patent/JPH0814891B2/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101916388B1 (en) * | 2018-05-24 | 2019-01-30 | 대구환경공단 | Filtering apparatus and method for moisture content monitoring using the same |
Also Published As
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|---|---|
| JPH03245388A (en) | 1991-10-31 |
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