JPH0816659B2 - Calibration method of gas concentration measuring instrument and apparatus used for the implementation - Google Patents
Calibration method of gas concentration measuring instrument and apparatus used for the implementationInfo
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- JPH0816659B2 JPH0816659B2 JP61246178A JP24617886A JPH0816659B2 JP H0816659 B2 JPH0816659 B2 JP H0816659B2 JP 61246178 A JP61246178 A JP 61246178A JP 24617886 A JP24617886 A JP 24617886A JP H0816659 B2 JPH0816659 B2 JP H0816659B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明はガス濃度測定機の校正方法及びその実施に
使用される校正装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a calibration method for a gas concentration measuring instrument and a calibration device used for the implementation.
従来の技術 従来特定のガスにつき、その濃度を測定する測定機は
数多く提供されているが、すべて該特定のガスについて
メーカーで校正する必要があり、1台の測定機で不特定
の複数種類のガスを測定できず、またデータを記録する
ことができるものではなく、個人ばくろ測定には使用す
ることができない。またガス測定においては、測定機の
指示値と対象ガス成分量との関係を正しく知ることが重
要であり、そのために標準ガスの調整が行われる。従来
そのための方法としては拡散セルによる方法及び一定量
の液を定容の容器内で気化させる方法等がその代表的な
方法とされている。2. Description of the Related Art Conventionally, many measuring machines for measuring the concentration of a specific gas have been provided, but it is necessary to calibrate all of the specific gas by the manufacturer, and one measuring machine can measure a plurality of unspecified types. It cannot measure gas, cannot record data, and cannot be used for personal exposure measurements. Further, in gas measurement, it is important to know the relationship between the indicated value of the measuring instrument and the amount of the target gas component correctly, and therefore the standard gas is adjusted. Conventionally, as a method therefor, a method using a diffusion cell and a method of vaporizing a certain amount of liquid in a container having a constant volume are known as typical methods.
発明が解決しようとする問題点 ところで前記従来の調整方法のうちの前者にあつて
は、多量の清浄空気を必要とするばかりでなく、濃度が
安定するまでに長時間を必要とするという問題があり、
また後者にあつては、ガスセンサを校正するのに使用し
ようとしても、容器内にセンサを設置しにくくて、使用
することができないという問題がある。さらに両者とも
実験室において使用されるように構成されていて、測定
現場においては使用が困難であり、また容器の洗浄に手
間がかかるという問題もある。DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention In the former of the conventional adjustment methods, there is a problem that not only a large amount of clean air is required, but also a long time is required until the concentration becomes stable. Yes,
Further, in the latter case, there is a problem that even if an attempt is made to use it to calibrate the gas sensor, it is difficult to install the sensor in the container and it cannot be used. Further, both of them are configured to be used in a laboratory, which is difficult to use at a measurement site, and it takes time to clean the container.
そこでこの発明の目的は、前記従来の測定機の校正方
法及びその校正装置のもつ問題を解決し、使用者が測定
現場において、標準ガスの調整及びそれに基づく測定機
の校正を簡単な操作で、比較的短い時間に行うことがで
き、1台の測定機が複数種類のガス濃度測定を可能とす
る校正方法及びその実施に使用される装置を提供するに
ある。Therefore, an object of the present invention is to solve the problems of the conventional method of calibrating a measuring instrument and its calibrating device, so that the user can easily adjust the standard gas and calibrate the measuring instrument based on the standard gas at the measurement site. It is an object of the present invention to provide a calibration method which can be performed in a relatively short time and enables one measuring instrument to measure a plurality of kinds of gas concentrations, and an apparatus used for carrying out the calibration method.
問題点を解決するための手段 この発明は前記のような目的を達成するにつき、特許
請求の範囲第1項に記載の発明は、半導体センサを有す
るガス濃度測定機の前記半導体センサを気体循環系路に
設置された試験槽内に設置し、前記気体循環系路内を清
浄気体によって清浄にするとともに、該気体循環系路内
を清浄気体で満たし、その後該気体循環系路内を標準ガ
スを循環させ、前記半導体センサの出力値がガス濃度に
対応するように前記ガス濃度測定機を調整することを特
徴とするものであり、特許請求の範囲第2項に記載の発
明は、気体循環系路と、この気体循環系路へ清浄気体を
供給し排出するために気体循環系路に設けられた気体の
供給口及び排出口と、気体循環系路に設けられた試験槽
及び気液注入口と、気体循環系路に設けられて気体循環
系路内を気体を循環させるポンプとを具えていることを
特徴とするものである。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present invention according to claim 1 provides a gas circulation system in which the semiconductor sensor of a gas concentration measuring instrument having a semiconductor sensor is used. Installed in a test tank installed in the passage, the inside of the gas circulation system passage is cleaned with a clean gas, the inside of the gas circulation passage is filled with a clean gas, and then the inside of the gas circulation passage is filled with a standard gas. The gas concentration measuring device is circulated, and the gas concentration measuring device is adjusted so that the output value of the semiconductor sensor corresponds to the gas concentration. The invention according to claim 2 is the gas circulation system. Path, a gas supply port and a discharge port provided in the gas circulation system path for supplying and discharging a clean gas to the gas circulation system path, and a test tank and a gas-liquid injection port provided in the gas circulation system path And provided in the gas circulation system And a pump for circulating a gas in the gas circulation system.
作 用 前記の方法においては、清浄気体がポンプによつて循
環系路内を循環充満し、そのときのセンサ出力が0にな
るように調整したうえ、標準ガスまたは標準液を循環系
路内に導入し、それらが循環路内で希釈されて一定時間
後にそのガス濃度が所定値となつた際、センサの出力値
がその数値と異つた場合にスパン調整によつてそれらを
一致させることとなる。Operation In the above method, the clean gas is circulated and filled in the circulation system by the pump, the sensor output at that time is adjusted to 0, and the standard gas or the standard solution is introduced into the circulation system. Introduced, when they are diluted in the circulation path and their gas concentration reaches a predetermined value after a certain time, if the output value of the sensor differs from that value, they will be matched by span adjustment. .
実 施 例 第1〜3図には、この発明の方法により校正されるガ
ス濃度測定機1が示されている。Practical Example FIGS. 1 to 3 show a gas concentration measuring instrument 1 calibrated by the method of the present invention.
第1図に示す測定機1は、半導体センサ3、アンプ
4、時計5、キースイツチ6、A/D変換器7、演算処理
部8、ROM9、RAM10等を有する制御手段と、液晶表示部1
1と、メモリカード12及び電源回路13とを具えている。
この測定機1は携帯型、設置型のいずれとしてもよく、
携帯型の場合の電源回路13はバツテリ内蔵型となる。The measuring machine 1 shown in FIG. 1 comprises a semiconductor sensor 3, an amplifier 4, a clock 5, a key switch 6, an A / D converter 7, an arithmetic processing unit 8, a ROM 9, a RAM 10 and the like, and a liquid crystal display unit 1.
1, a memory card 12 and a power supply circuit 13.
The measuring device 1 may be portable or stationary,
In the case of a portable type, the power supply circuit 13 is a battery built-in type.
前記のものにおいて、半導体センサとしては各種のも
のが使用されてよいのであるが、その最適なものとして
特開昭59−143946号公報に開示されたものがあり、それ
の構成を第2、第3図を参照して簡単に述べる。その詳
細は該公報に記述を参照されたい。In the above, various types of semiconductor sensors may be used, and the most suitable one is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 143946/1984. A brief description will be given with reference to FIG. For details, refer to the description in the publication.
本実施例における半導体センサは第2図中15で示さ
れ、16が基板、17が絶縁層、18が金属層である。金属層
18はそれぞれが2つの電極部と1つの細線部を有する3
本のパタンに形成されており、22と24がヒーター、22
a、22d、24c、24fがヒーター電極、23がガス検知用リー
ド、23b、23eが検出用電極である。21はガス検知用半導
体層である。19は絶縁層であり、各電極部(22a、23b、
24c、24d、23e、24f)には絶縁層19の窓開けの後バンブ
20が形成されている。このガス検出装置15は、フイルム
26上に装着されたリード箔31(6本)を各電極部(22
a、23b、24c、22d、23e、24f)のバンブ20に加熱ボンデ
イングすることによりフイルム26上に装着されており、
下方は下カバー27、上方は防爆ネツト29と防塵フイルタ
ー30によつて覆われている。防爆ネツト29と防塵フイル
ター30はフイルム26上に設けられた上カバーワク28に取
り付けられ固定されている。防爆ネツト29は着火防止用
である。防塵フイルター30はガス検出装置15が微細構造
であつて、表面に付着したゴミによつて寿命の低下や動
作が不安定になる等の影響を受けるのを防ぐ為であり、
本実施例のガス検出装置15をフイルム26に取り付ける場
合には、0.1μm以上のゴミを通さず尚且つガスの流出
入には支障を起さないグラスウールを使用している。ガ
スはこの防爆ネツト29と防塵フイルター30を通してガス
検知用半導体21に吸着される。The semiconductor sensor in this embodiment is shown by 15 in FIG. 2, 16 is a substrate, 17 is an insulating layer, and 18 is a metal layer. Metal layer
18 has 3 each having two electrode parts and one thin wire part 3
It is formed on the pattern of the book, 22 and 24 are heaters, 22
Reference numerals a, 22d, 24c, and 24f are heater electrodes, 23 is a gas detection lead, and 23b and 23e are detection electrodes. 21 is a semiconductor layer for gas detection. Reference numeral 19 is an insulating layer, and each electrode portion (22a, 23b,
24c, 24d, 23e, 24f), after opening the window of insulating layer 19
20 are formed. The gas detector 15 is a film
26 Lead foils 31 (6 pieces) mounted on each electrode part (22
a, 23b, 24c, 22d, 23e, 24f) is mounted on the film 26 by heating and bonding to the bump 20.
The lower part is covered with a lower cover 27, and the upper part is covered with an explosion-proof net 29 and a dust-proof filter 30. The explosion-proof net 29 and the dust-proof filter 30 are attached and fixed to the upper cover frame 28 provided on the film 26. The explosion-proof net 29 is for preventing ignition. The dust-proof filter 30 has a fine structure of the gas detection device 15, and is for preventing the influence of dust attached to the surface such as reduction of life and unstable operation,
When the gas detection device 15 of this embodiment is attached to the film 26, glass wool is used, which does not allow dust of 0.1 μm or more to pass through and does not hinder the inflow and outflow of gas. The gas is adsorbed on the gas detecting semiconductor 21 through the explosion-proof net 29 and the dust-proof filter 30.
第4〜6図には、この発明の方法の際使用される校正
装置2についての詳細が示されている。4 to 6 show details of the calibration device 2 used in the method of the invention.
校正装置2においては、一方にガス吸込口36が他方に
活性炭フイルタ付空気吸込口37がそれぞれ設けられた吸
気管38に3方コツク39を介して連結管40の一端が連結さ
れている。そしてこの連結管40の他端には4方コツク41
を介して、その2方には閉管路42が、また一方には排気
管44がそれぞれ連結されている。In the calibration device 2, one end of a connecting pipe 40 is connected via a three-way cock 39 to an intake pipe 38 provided with a gas inlet 36 on one side and an air inlet 37 with an activated carbon filter on the other side. At the other end of this connecting pipe 40, a four-way cock 41
The closed pipe line 42 is connected to the two sides of the exhaust pipe 44, and the exhaust pipe 44 is connected to the other side thereof.
そして閉管路42にはコツク41から遠ざかる方向に順次
バツフアタンク45、試験槽46、サンプリング口47、気液
注入口48及びポンプ49が配置されている。このポンプ49
はダイヤフラムポンプまたはベローズポンプ等からな
り、気体接触部はテフロン、ガラスまたはステンレス等
の腐食や吸着の少ないものによつて形成される。A buffer tank 45, a test tank 46, a sampling port 47, a gas-liquid injection port 48, and a pump 49 are sequentially arranged in the closed pipe line 42 in a direction away from the cock 41. This pump 49
Is composed of a diaphragm pump or a bellows pump, and the gas contact portion is formed by a material such as Teflon, glass, or stainless steel, which is less corroded or adsorbed.
第5図にはサンプリング口47、気液注入口48の、また
第6図には試験槽46の口部が示されており、これらの口
部にはそれぞれテフロン張りシリコン栓50、51が施さ
れ、シリコン栓50はパツキンを通して、シリジン針(図
示せず)を差込めるようになつている。FIG. 5 shows the sampling port 47 and the gas-liquid injection port 48, and FIG. 6 shows the ports of the test tank 46. These ports are provided with Teflon-clad silicone stoppers 50 and 51, respectively. Then, the silicone stopper 50 can be inserted with a silidine needle (not shown) through the packing.
第7図には、試験層46にセンサ3を装着した状態を示
し、この際の栓50′はセンサ止具51及びコード52装着用
の孔53を有しているものとなつている。FIG. 7 shows a state in which the sensor 3 is mounted on the test layer 46, and the stopper 50 'at this time has a hole 53 for mounting the sensor stopper 51 and the cord 52.
この校正装置2の各部材は、それぞれ図示しない継手
によつて分離可能に接続され、その結果一部の変換及び
各部の清掃が別個に行われるようになつている。またバ
ツフアタンク45及び試験槽46等にヒーターを付設し、温
度を一定に保つようにしてもよく、それらは組立てられ
た後は一体となつて保管、運搬が容易なように構成す
る。Each member of the calibration device 2 is separably connected by a joint (not shown), so that part of the conversion and cleaning of each part can be performed separately. Further, a heater may be attached to the buffer tank 45, the test tank 46 and the like to keep the temperature constant, and after they are assembled, they are integrally formed so that they can be stored and transported easily.
第8図は、測定機1の校正時における作動についての
フローチヤートであり、これをも参照して校正作業につ
いて説明する。FIG. 8 is a flow chart of the operation of the measuring instrument 1 during calibration, and the calibration work will be described with reference to this.
センサ3を第7図示のように試験槽46に装着し、3方
コツク39を第9図(イ)に示す位置とし、4方コツク41
を第10図(a)に示す位置とすると、吸気管38の吸込口
37の活性炭フイルタを通して清浄空気が連結管40を通し
て閉管路42に導入されて、排気管44から排出されるよう
になるので、4方コツク41を第10図(b)に示す位置に
切換えて排気管44を閉鎖し、これによつて校正装置2の
系内が清浄空気で充満される。そこでこのとき表示部11
に表示されるセンサ3の出力値が0となるように制御手
段の操作により自動的にゼロ調整を行う。The sensor 3 is attached to the test tank 46 as shown in FIG. 7, and the three-way cock 39 is set to the position shown in FIG.
Is the position shown in FIG. 10 (a), the suction port of the intake pipe 38
Clean air is introduced into the closed pipe line 42 through the connecting pipe 40 through the activated carbon filter 37 and is discharged from the exhaust pipe 44. Therefore, the four-way cock 41 is switched to the position shown in FIG. The tube 44 is closed, whereby the system of the calibration device 2 is filled with clean air. Therefore, at this time, the display unit 11
The zero value is automatically adjusted by the operation of the control means so that the output value of the sensor 3 displayed at 0 becomes zero.
ここで気液注入口48からシリジン等を用いて、標準液
または標準ガスを注入すると、標準液は気化希釈されて
ガスとなり、また標準ガスは希釈されて、この希釈され
たガスが系内に充満し、一定時間後にその濃度Cは次式
で計算したものとなる。When a standard solution or standard gas is injected from the gas-liquid injection port 48 using a syridine or the like, the standard solution is vaporized and diluted to become a gas, and the standard gas is diluted, and the diluted gas enters the system. After a certain period of time, the concentration C is calculated by the following equation.
(1) 標準液注入の場合 M:分子量 ρ:密度(g/ml) V:標準液注入量(μ) A:系内の容量() T:氷点温度273.15(゜K) t:温度(℃) (2) 標準ガス注入の場合 c:標準ガス濃度(ppm) v:標準ガス量(ml) この場合、標準液または標準ガスを順次追加注入して
いくことにより、系内のガス濃度Cを段階的に上昇させ
ることができる。(1) In case of standard solution injection M: Molecular weight ρ: Density (g / ml) V: Standard solution injection amount (μ) A: System volume () T: Freezing point temperature 273.15 (° K) t: Temperature (° C) (2) For standard gas injection If c: Standard gas concentration (ppm) v: Standard gas amount (ml) In this case, the gas concentration C in the system can be increased stepwise by successively injecting the standard liquid or standard gas.
ここに1例として系内の容量が5のものを使用し、
25℃のときのアセトンの注入量μと、系内のアセトン
の濃度ppmの関係を第11図のグラフに示す。Here, as an example, a system having a capacity of 5 is used,
The relationship between the injection amount μ of acetone at 25 ° C and the concentration ppm of acetone in the system is shown in the graph of FIG.
つぎに他の例として標準液としてトルエンを使用した
場合について説明すると、ガスセンサ3の出力の0調整
後、アセトンに代えてトルエン1μを注入し、前記に
よりトルエン濃度を46ppmに調整し、そのときのセンサ
3の出力値を読み、その値が46ppm以外であることが表
示されれば、制御手段の操作によりスパン調整を行つ
て、表示値が46ppmとなるように調整し、これによりガ
スセンサ3の出力値が正しい値を示すこととなる。Next, as another example, the case of using toluene as a standard solution will be described. After adjusting the output of the gas sensor 3 to 0, 1 μl of toluene was injected in place of acetone, and the toluene concentration was adjusted to 46 ppm by the above, If the output value of the sensor 3 is read and it is displayed that the value is other than 46 ppm, the span is adjusted by the operation of the control means to adjust the displayed value to 46 ppm, thereby the output of the gas sensor 3 The value will show the correct value.
この場合センサ3の出力電圧と、ガス濃度との関係は
直線関係でないので、演算処理部8内で直線化し、それ
が液晶表示部11に表示されることとなり、これによつて
測定機1の校正作業が終了する。In this case, since the relationship between the output voltage of the sensor 3 and the gas concentration is not a linear relationship, it is linearized in the arithmetic processing unit 8 and is displayed on the liquid crystal display unit 11, whereby the measuring device 1 The calibration work is completed.
このようにして校正を終えた測定機1により、その後
に測定現場の環境中の被検ガスを測定し、それが表示部
11に表示されることとなり、その際キースイツチ6によ
つて書込み開始信号を送ると、メモリカード12に被検ガ
スの濃度を蓄積して行くことができる。そしてこのメモ
リカードをパソコン等に読み出させ、気中濃度の経時変
化を第12図に示すようにグラフ化してみることができ
る。After the calibration is completed in this way, the measuring instrument 1 measures the test gas in the environment of the measurement site, and the measured gas is displayed on the display unit.
When the writing start signal is sent by the key switch 6 at that time, the concentration of the test gas can be accumulated in the memory card 12. Then, this memory card can be read out by a personal computer or the like, and the change with time of the airborne concentration can be graphed as shown in FIG.
前記校正作業中サンプリング口47を利用し、ここから
ガスタイトシリンジ等により系内のガスを採取し、これ
をガスクロマトグラフ分析等のための標準ガスとして使
用することができる。During the calibration operation, the sampling port 47 is used, and the gas in the system is sampled from this by a gas tight syringe or the like, and this can be used as a standard gas for gas chromatographic analysis and the like.
前記のようにして校正作業が終了すると、校正装置2
の系内を洗浄することとなるが、それには3方コツク39
を第9図(ハ)または(ニ)に示す位置とし、4方コツ
ク41を第10図(a)に示す位置とし、ポンプ49を作動す
る。このポンプ49の作動によつて系内は減圧状態となつ
て、各部材の内壁に吸着している物質を排出することと
なる。When the calibration work is completed as described above, the calibration device 2
The inside of the system is to be cleaned, but it is a 3-way trick 39
Is set to the position shown in FIG. 9 (c) or (d), the four-way cock 41 is set to the position shown in FIG. 10 (a), and the pump 49 is operated. By the operation of this pump 49, the inside of the system is brought into a depressurized state, and the substance adsorbed on the inner wall of each member is discharged.
その後3方コツク39を第9図(イ)または(ロ)の位
置とすると、吸込口37からの清浄空気または吸込口36か
らの窒素ガス等で系内を置換することとなる。After that, if the three-way cock 39 is set to the position shown in FIG. 9A or 9B, the inside of the system will be replaced with clean air from the suction port 37, nitrogen gas from the suction port 36, or the like.
前記のような清浄作業を繰返えすことにより、系内の
洗浄が行われることとなるが、その際ヒータ等により装
置を加熱すると洗浄が一層効果的になされる。By repeating the above-mentioned cleaning operation, the inside of the system will be cleaned. At that time, if the apparatus is heated by a heater or the like, the cleaning will be more effective.
前記のような校正装置にあつては、接ガス部に濃度の
経時変化を少くするように、吸着、分解の少ないテフロ
ン、ガラスまたはステンレス等を使用するのがよい。ま
た試験槽46に部材を入れて異なるガスによる劣化試験を
行うことができる。In the calibration device as described above, it is preferable to use Teflon, glass, stainless steel, or the like, which is less adsorbed and decomposed, in the gas contact part so as to reduce the change in concentration over time. Further, it is possible to put a member in the test tank 46 and perform a deterioration test with different gases.
発明の効果 この発明は前記のようであつて、ガス濃度測定機の半
導体センサを試験槽中に設置し、この試験槽が標準ガス
循環系路に設置され、この循環系路を清浄気体で清浄化
した後、該系路内を標準ガスを循環させ、このガス濃度
に対応するように前記センサの出力を調整するようにし
たので、使用者が標準ガスの調整及び測定機の校正を測
定現場において簡単に実施することができ、したがつて
1台の測定機で異つたガスの測定が可能となり、清浄気
体や標準液または標準ガスの使用が少量ですむのに加え
て、校正作業が迅速に行われるという効果がある。その
ため有機溶剤等の作業者の個人ばくろ濃度の経時変化の
測定も可能となる。EFFECTS OF THE INVENTION The present invention is as described above, in which a semiconductor sensor of a gas concentration measuring instrument is installed in a test tank, the test tank is installed in a standard gas circulation system path, and the circulation system path is cleaned with a clean gas. After this, the standard gas was circulated in the system and the output of the sensor was adjusted to correspond to this gas concentration, so the user could adjust the standard gas and calibrate the measuring machine at the measurement site. In this way, it is possible to measure different gases with one measuring instrument, and a small amount of clean gas, standard solution or standard gas can be used, and calibration work is quick. There is an effect that is done in. Therefore, it is possible to measure the change with time of the individual exposure concentration of the worker such as the organic solvent.
第1図は、この発明の測定機の実施例の概略回路図、第
2図は、同上のものに最適な半導体センサの概略図、第
3図は、同上の線III−IIIによる断面図、第4図は、こ
の発明の校正装置の実施例の概略図、第5図は、第4図
の5部分の拡大断面図、第6図は、第4図の6部分の拡
大断面図、第7図は、第6図示のものに測定機のセンサ
を装着した状態を示す図面、第8図は、この発明の方法
実施時における測定機のフローチヤート図、第9図
(イ)(ロ)(ハ)(ニ)は、第4図のものの3方コツ
クの作動説明図、第10図(a)(b)は、同4方コツク
の作動説明図、第11図は、第4図のものにおけるアセト
ン注入量と濃度との関係を示すグラフ、第12図は測定機
による測定時における気中濃度と時間との関係を示すグ
ラフである。 1……測定機、2……校正装置 3……半導体センサ、7……A/D変換器 8……演算処理部、9……ROM 10……RAM、11……液晶表示部 37……活性炭フイルター付空気吸込口、39……3方コツ
ク 41……4方コツク、42……閉管路 44……排気管、46……試験槽 48……気液注入口、49……ポンプFIG. 1 is a schematic circuit diagram of an embodiment of a measuring machine of the present invention, FIG. 2 is a schematic diagram of a semiconductor sensor most suitable for the same as above, and FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III above. FIG. 4 is a schematic view of an embodiment of the calibration device of the present invention, FIG. 5 is an enlarged sectional view of a portion 5 in FIG. 4, and FIG. 6 is an enlarged sectional view of a portion 6 in FIG. FIG. 7 is a drawing showing a state in which the sensor of the measuring machine is attached to the one shown in FIG. 6, FIG. 8 is a flow chart of the measuring machine when the method of the present invention is carried out, and FIGS. 9 (a) and 9 (b). (C) and (d) are operation explanatory views of the three-way cock of FIG. 4, FIG. 10 (a) and (b) are operation explanatory views of the same four-way cock, and FIG. 11 is of FIG. FIG. 12 is a graph showing the relationship between the amount of injected acetone and the concentration in the thing, and FIG. 12 is a graph showing the relationship between the concentration in the air and the time at the time of measurement by the measuring instrument. 1 ... Measuring instrument, 2 ... Calibration device 3 ... Semiconductor sensor, 7 ... A / D converter 8 ... Arithmetic processing unit, 9 ... ROM 10 ... RAM, 11 ... Liquid crystal display unit 37 ... Air inlet with activated carbon filter, 39 …… 3-way cock 41 …… 4-way cock, 42 …… Closed conduit 44 …… Exhaust pipe, 46 …… Test tank 48 …… Gas-liquid inlet, 49 …… Pump
フロントページの続き (72)発明者 中野 克 東京都大田区北馬込1丁目17番1号 リコ ーテクノリサーチ株式会社内 (72)発明者 新井 洋一 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (56)参考文献 実公 昭49−4395(JP,Y1)Front Page Continuation (72) Inventor Katsushi Nakano 1-17-1 Kitamamagome, Ota-ku, Tokyo Rico Techno Research Co., Ltd. (72) Inventor Yoichi Arai 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Stock Company In Ricoh (56) References Published by Shoko 49-4395 (JP, Y1)
Claims (2)
記半導体センサを気体循環系路に設置された試験槽内に
設置し、前記気体循環系路内を清浄気体によって清浄に
するとともに、該気体循環系路内を清浄気体で満たし、
その後該気体循環系路内を標準ガスを循環させ、前記半
導体センサの出力値がガス濃度に対応するように前記ガ
ス濃度測定機を調整することを特徴とするガス濃度測定
機の校正方法。1. A gas concentration measuring instrument having a semiconductor sensor, wherein the semiconductor sensor is installed in a test tank installed in a gas circulation path, and the inside of the gas circulation path is cleaned with a clean gas. Fill the circulation path with clean gas,
After that, a standard gas is circulated in the gas circulation system passage, and the gas concentration measuring instrument is adjusted so that the output value of the semiconductor sensor corresponds to the gas concentration.
気体を供給し排出するために気体循環系路に設けられた
気体の供給口及び排出口と、気体循環系路に設けられた
試験槽及び気液注入口と、気体循環系路に設けられて気
体循環系路内を気体を循環させるポンプとを具えている
ことを特徴とするガス濃度測定機の校正装置。2. A gas circulation system passage, a gas supply port and a discharge port provided in the gas circulation system passage for supplying and discharging a clean gas to the gas circulation system passage, and a gas circulation system passage. A calibration device for a gas concentration measuring instrument, comprising a test tank and a gas-liquid inlet, and a pump provided in the gas circulation system passage for circulating gas in the gas circulation passage.
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| JP61246178A JPH0816659B2 (en) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | Calibration method of gas concentration measuring instrument and apparatus used for the implementation |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP61246178A JPH0816659B2 (en) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | Calibration method of gas concentration measuring instrument and apparatus used for the implementation |
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| JPS6398555A JPS6398555A (en) | 1988-04-30 |
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