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JPH0817035B2 - Semiconductor memory device - Google Patents
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JPH0817035B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH0817035B2
JPH0817035B2 JP63312674A JP31267488A JPH0817035B2 JP H0817035 B2 JPH0817035 B2 JP H0817035B2 JP 63312674 A JP63312674 A JP 63312674A JP 31267488 A JP31267488 A JP 31267488A JP H0817035 B2 JPH0817035 B2 JP H0817035B2
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JP
Japan
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word line
divided word
memory array
transistor
divided
Prior art date
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JP63312674A
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Japanese (ja)
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Inventor
雄治 木原
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、一般に半導体メモリ装置に関し、特に、
動作速度が改善された分割ワード線方式の半導体メモリ
装置に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention generally relates to a semiconductor memory device,
The present invention relates to a divided word line type semiconductor memory device having an improved operation speed.

[従来の技術] 半導体メモリ装置のアクセスタイムの短縮および消費
電流の低減のために、分割ワード線方式が用いられてい
る。分割ワード線方式では、メモリセルに接続されてい
るワード線とは別に、複数のメモリアレイブロックにわ
たって設けられた前置ワード線が設けられている。メモ
リアレイブロックを選択するためのブロック選択信号と
前置ワード線信号の論理積をとることにより、メモリア
レイブロックごとにワード線を選択することができる。
したがって、1回のアクセスで選択されるメモリセルの
数が減少でき、半導体メモリ装置の高速化および低消費
電力化を図ることができる。
[Prior Art] A divided word line method is used to shorten the access time and the current consumption of a semiconductor memory device. In the divided word line system, a front word line provided over a plurality of memory array blocks is provided separately from the word line connected to the memory cells. The word line can be selected for each memory array block by taking the logical product of the block selection signal for selecting the memory array block and the front word line signal.
Therefore, the number of memory cells selected by one access can be reduced, and high speed operation and low power consumption of the semiconductor memory device can be achieved.

一般に、ワード線にはトランジスタのゲートと同じポ
リシリコンが使用され、前置ワード線はビット線と異な
る層に設けられたアルミ配線が用いられる。したがっ
て、ビット線と前置ワード線との間で浮遊容量が存在す
る。浮遊容量が存在するので、動作上の悪影響を防ぐた
めの対策が必要となる。
Generally, the same polysilicon as the gate of the transistor is used for the word line, and the aluminum wiring provided in the layer different from the bit line is used for the front word line. Therefore, there is stray capacitance between the bit line and the front word line. Since there is stray capacitance, it is necessary to take measures to prevent adverse effects on operation.

第3図は、従来の分割ワード線方式を利用したダイナ
ミックランダムアクセスメモリ(以下DRAMという)の一
例を示す回路図である。第3図を参照して、このDRAM
は、2つのメモリアレイブロック1および2と、メモリ
アレイブロック1および2にわたって設けられた前置ワ
ード線RGSLと、前置ワード線RGSLに接続されたロウデコ
ーダ3とを含む。ロウデコーダ3は、NAND回路およびイ
ンバータにより構成される。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a dynamic random access memory (hereinafter referred to as DRAM) using a conventional divided word line system. Referring to FIG. 3, this DRAM
Includes two memory array blocks 1 and 2, a front word line RGSL provided over memory array blocks 1 and 2, and a row decoder 3 connected to front word line RGSL. The row decoder 3 is composed of a NAND circuit and an inverter.

たとえばメモリアレイブロック1には、1本の前置ワ
ード線RGSLに対して、メモリセルMが接続された1本の
ワード線WL0が設けられる。前置ワード線RGSLとワード
線WL0との間にNMOSトランジスタ11が接続され、ワード
線WL0と接地との間にNMOSトランジスタ12が接続され
る。トランジスタ11および12のゲートはそれぞれブロッ
ク選択信号B0および▲▼を受けるように接続され
る。一方、メモリアレイブロック2も同様の回路構成を
有し、ブロック選択信号としてB1および▲▼が与え
られる。
For example, in the memory array block 1, one word line WL0 to which the memory cell M is connected is provided for one front word line RGSL. An NMOS transistor 11 is connected between the front word line RGSL and the word line WL0, and an NMOS transistor 12 is connected between the word line WL0 and the ground. The gates of the transistors 11 and 12 are connected so as to receive the block selection signals B0 and ▲ ▼, respectively. On the other hand, the memory array block 2 also has a similar circuit configuration, and B1 and ▲ ▼ are given as block selection signals.

動作において、ロウデコーダ3は、Xアドレス信号X0
ないしXnに応答して、2n本の前置ワード線のうち1本の
前置ワード線RGSLのみを選択的に高レベルにもたらす。
したがって、メモリアレイブロック1のワード線WL0が
選択されるとき、高レベルのブロック選択信号B0が与え
られ、トランジスタ11がこの信号B0に応答してオンす
る。その結果、ワード線WL0が高レベルにもたらされ、
メモリセルMに対してアクセスがなされる。
In operation, the row decoder 3 causes the X address signal X0
To Xn, only one of the 2 n preword lines RGSL is selectively brought to a high level.
Therefore, when word line WL0 of memory array block 1 is selected, high level block select signal B0 is applied, and transistor 11 is turned on in response to this signal B0. As a result, the word line WL0 is brought to a high level,
The memory cell M is accessed.

第4図は、従来の分割ワード線方式を利用したDRAMの
他の例を示す回路図である。第4図を参照して、このDR
AMでは、1本の前置ワード線RGSLに対して2本のワード
線が設けられている。たとえばメモリアレイブロック1
では、ワード線WL00およびWL01が設けられ、これらを選
択的に活性化するためのNANDゲート13およびインバータ
14が接続されている。NANDゲート13は、一方入力が前置
ワード線RGSLに接続され、他方入力がブロック選択信号
B0およびXアドレス信号X0または▲▼の論理積の信
号を受けるように接続される。一方、メモリアレイブロ
ック2も同様の回路構成を持つ。
FIG. 4 is a circuit diagram showing another example of the DRAM using the conventional divided word line system. Referring to Figure 4, this DR
In AM, two word lines are provided for one front word line RGSL. For example, memory array block 1
In, a word line WL00 and WL01 are provided, and a NAND gate 13 and an inverter for selectively activating them are provided.
14 are connected. One input of the NAND gate 13 is connected to the front word line RGSL, and the other input is a block selection signal.
B0 and X address signal X0 or the signal of the logical product of ▲ ▼ are connected. On the other hand, the memory array block 2 also has a similar circuit configuration.

動作において、たとえばメモリアレイブロック1中の
ワード線WL00が活性化されるとき、高レベルの論理積信
号B0X0が与えられる。その結果、ワード線WL00のみが選
択的に高レベルにもたらされる。
In operation, for example, when word line WL00 in memory array block 1 is activated, high-level AND signal B0X0 is applied. As a result, only word line WL00 is selectively brought to a high level.

[発明が解決しようとする課題] 第3図に示されたDRAMでは、1本の前置ワード線RGSL
と1本のビット線10との間に生じる寄生容量をCとする
と、寄生容量の総和が(ワード線総数)×Cとなり、か
なり大きな値となる。また、前置ワード線とワード線と
の間をNMOSトランジスタのみによって接続しているの
で、高レベルのときのワード線の電圧レベルが電源電圧
のレベルよりもトランジスタのしきい電圧分だけ減少さ
れ、その結果、メモリセルの駆動能力が低下される。さ
らに、NMOSトランジスタを介してワード線を高レベルに
もたらすので、トランジスタのドレインの電圧レベルの
上昇に伴ないトランジスタ(たとえば11)がオフ状態に
もたらされる。その結果、ワード線の電圧レベルが上昇
する速度がPMOSトランジスタを用いた場合よりも遅くな
る。
[Problems to be Solved by the Invention] In the DRAM shown in FIG. 3, one front word line RGSL is used.
Letting C be the parasitic capacitance generated between the bit line 10 and one bit line 10, the total parasitic capacitance becomes (total number of word lines) × C, which is a considerably large value. Further, since the front word line and the word line are connected only by the NMOS transistor, the voltage level of the word line at the high level is reduced from the level of the power supply voltage by the threshold voltage of the transistor, As a result, the driving capability of the memory cell is reduced. In addition, bringing the word line to a high level through the NMOS transistor causes the transistor (eg, 11) to be turned off as the voltage level at the drain of the transistor rises. As a result, the speed at which the voltage level of the word line rises becomes slower than when a PMOS transistor is used.

第4図に示されたDRAMでは、1本の前置ワード線に対
し2本のワード線が設けられているので、前置ワード線
とビット線との間に生じる寄生容量の総和が(ワード線
総数)×C×1/2となり減少される。また、ワード線の
電圧レベルも電源電圧レベルまで上昇するので、上記の
ような遅延は少ないが、NANDゲート13およびインバータ
14により遅延が引き起こされ、高速動作を妨げる。
In the DRAM shown in FIG. 4, since two word lines are provided for one front word line, the total parasitic capacitance generated between the front word line and the bit line is (word The total number of lines) x C x 1/2, which is reduced. Moreover, since the voltage level of the word line also rises to the power supply voltage level, the above delay is small, but the NAND gate 13 and the inverter
14 causes a delay and prevents high speed operation.

この発明は、上記のような課題を解決するためになさ
れたもので、分割ワード線方式を利用した半導体メモリ
装置において、分割ワード線の活性化および非活性化を
高速に行なうことを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to quickly activate and deactivate a divided word line in a semiconductor memory device using the divided word line system. .

[課題を解決するための手段] この発明の第1の半導体メモリ装置は、分割ワード線
方式の半導体メモリ装置であって、各々が、行列状に配
列された複数のメモリセルと、各行に対応して設けられ
た分割ワード線と、各列に対応して設けられたビット線
とを含み、前記分割ワード線が2つずつグループ化され
て対をなしている複数のメモリアレイブロック、各メモ
リアレイブロックの各分割ワード線対に対応して、かつ
前記複数のメモリアレイブロックに共通に設けられた前
置ワード線、各メモリアレイブロックに対応して、かつ
各々がそれぞれ対応のメモリアレイブロックの分割ワー
ド線対の一方および他方に共通に設けられた第1および
第2の信号伝達線対、各メモリアレイブロックの各分割
ワード線対の一方に対応して設けられ、各々が対応の分
割ワード線とその分割ワード線に対応する前置ワード線
の間に接続され、各々の入力電極がそれぞれその分割ワ
ード線に対応する第1の信号伝達線対の一方および他方
に接続される第1の導電形式の第1のトランジスタおよ
び第2の導電形式の第2のトランジスタを含む第1のト
ランスミッションゲート、各第1のトランスミッション
ゲートに対応して設けられ、対応の第1のトランスミッ
ションゲートに対応する分割ワード線と接地電位のライ
ンとの間に接続され、その入力電極が対応の第1のトラ
ンスミッションゲートの第1のトランジスタの入力電極
と共通接続される第1の導電形式の第3のトランジス
タ、各メモリアレイブロックの各分割ワード線対の他方
に対応して設けられ、各々が対応の分割ワード線とその
分割ワード線に対応する前置ワード線の間に接続され、
各々の入力電極がそれぞれその分割ワード線に対応する
第2の信号伝達線対の一方および他方に接続される第1
の導電形式の第4のトランジスタおよび第2の導電形式
の第5のトランジスタを含む第2のトランスミッション
ゲート、各第2のトランスミッションゲートに対応して
設けられ、対応の第2のトランスミッションゲートに対
応する分割ワード線と接地電位のラインとの間に接続さ
れ、その入力電極が対応の第2のトランスミッションゲ
ートの第4のトランジスタの入力電極と共通接続される
第1の導電形式の第6のトランジスタ、外部から与えら
れるアドレス信号に従って、前記複数の前置ワード線の
うちのいずれかの前置ワード線と、前記複数のメモリア
レイブロックのうちのいずれかのメモリアレイブロック
と、そのメモリアレイブロックの第1または第2の信号
伝達線対とを選択する選択回路、および前記選択回路に
よって選択された前置ワード線に前記分割ワード線を活
性化させるための活性化信号を与えるとともに、前記選
択されたメモリアレイブロックの第1または第2の信号
伝達線対に前記第1または第2のトランスミッションゲ
ートを導通させ、かつ前記第3または第6のトランジス
タを非導通にさせるための選択信号を与える信号発生回
路を備えたことを特徴としている。
[Means for Solving the Problems] A first semiconductor memory device of the present invention is a divided word line type semiconductor memory device, each corresponding to a plurality of memory cells arranged in a matrix and each row. A plurality of memory array blocks each including a divided word line and a bit line provided corresponding to each column, and the divided word lines are grouped in pairs to form pairs. A front word line corresponding to each pair of divided word lines of the array block and commonly provided to the plurality of memory array blocks, corresponding to each memory array block, and each of the corresponding memory array blocks. First and second signal transmission line pairs provided commonly to one and the other of the divided word line pairs, and provided corresponding to one of the divided word line pairs of each memory array block, respectively. Is connected between a corresponding divided word line and a front word line corresponding to the divided word line, and each input electrode is connected to one and the other of the first signal transmission line pair corresponding to the divided word line. A first transmission gate including a first transistor of a first conductivity type and a second transistor of a second conductivity type, a first transmission gate provided corresponding to each first transmission gate, and a corresponding first transmission A first conductive type transistor connected between a divided word line corresponding to a gate and a line of ground potential, the input electrode of which is commonly connected to the input electrode of the first transistor of the corresponding first transmission gate. No. 3 transistor, each divided word line pair of each memory array block are provided corresponding to the other divided word line and its divided word line. Is connected between the pre-word line corresponding to the line,
Each input electrode is connected to one and the other of the second signal transmission line pair corresponding to the divided word line, respectively.
A second transmission gate including a fourth transistor of the conductivity type and a fifth transistor of the second conductivity type, the second transmission gate being provided corresponding to each second transmission gate, and corresponding to the corresponding second transmission gate. A sixth transistor of the first conductivity type, which is connected between the divided word line and a line of ground potential, and whose input electrode is commonly connected to the input electrode of the fourth transistor of the corresponding second transmission gate, According to an address signal given from the outside, any one of the plurality of front word lines, one of the plurality of memory array blocks, and one of the memory array blocks. A selection circuit for selecting the first or second pair of signal transmission lines, and a selection circuit selected by the selection circuit. An activation signal for activating the divided word line is applied to the storage word line, and the first or second transmission gate is provided to the first or second signal transmission line pair of the selected memory array block. It is characterized in that a signal generation circuit for providing a selection signal for making the third transistor or the sixth transistor non-conductive is provided.

また、この発明の第2の半導体メモリ装置は、分割ワ
ード線方式の半導体メモリ装置であって、各々が、行列
状に配列された複数のメモリセルと、各行に対応して設
けられた分割ワード線と、各列に対応して設けられたビ
ット線とを含み、前記分割ワード線が2つずつグループ
化されて対をなしている複数のメモリアレイブロック、
各メモリアレイブロックの各分割ワード線対に対応し
て、かつ前記複数のメモリアレイブロックに共通に設け
られた前置ワード線、各メモリアレイブロックの各分割
ワード線対に対応して設けられ、対応の分割ワード線対
に対応する前置ワード線を介して与えられた信号の反転
信号を出力するインバータ、各メモリアレイブロックに
対応して、かつ各々がそれぞれ対応のメモリアレイブロ
ックの分割ワード線対の一方および他方に共通に設けら
れた第1および第2の信号伝達線、各メモリアレイブロ
ックの各分割ワード線対の一方に対応して設けられ、各
々が対応の分割ワード線とその分割ワード線に対応する
第1の信号伝達線の間に接続され、その一方の入力電極
がその分割ワード線に対応する前置ワード線に接続さ
れ、その他方の入力電極がその分割ワード線に対応する
インバータの出力を受ける第1の導電形式の第1のトラ
ンジスタおよび第2の導電形式の第2のトランジスタを
含む第1のトランスミッションゲート、各第1のトラン
スミッションゲートに対応して設けられ、対応の第1の
トランスミッションゲートに対応する分割ワード線と接
地電位のラインとの間に接続され、その入力電極が対応
の第1のトランスミッションゲートの第1のトランジス
タの入力電極と共通接続される第1の導電形式の第3の
トランジスタ、各メモリアレイブロックの各分割ワード
線対の他方に対応して設けられ、各々が対応の分割ワー
ド線とその分割ワード線に対応する第2の信号伝達線の
間に接続れさ、その一方の入力電極がその分割ワード線
に対応する前記ワード線に接続され、その他方の入力電
極がその分割ワード線に対応するインバータの出力を受
ける第1の導電形式の第4のトランジスタおよび第2の
導電形式の第5のトランジスタを含む第2のトランスミ
ッションゲート、各第2のトランスミッションゲートに
対応して設けられ、対応の第2のトランスミッションゲ
ートに対応する分割ワード線と接地電位のラインとの間
に接続され、その入力電極が対応の第2のトランスミッ
ションゲートの第4のトランジスタの入力電極と共通接
続される第1の導電形式の第6のトランジスタ、外部か
ら与えられるアドレス信号に従って、前記複数の前置ワ
ード線のうちのいずれかの前置ワード線と、前記複数の
メモリアレイブロックのうちのいずれかのメモリアレイ
ブロックと、そのメモリアレイブロックの第1または第
2の信号伝達線とを選択する選択回路、および前記選択
回路によって選択された前置ワード線に前記第1および
第2のトランスミッションゲートを導通させ、かつ前記
第3または第6のトランジスタを非導通にさせるための
選択信号を与えるとともに、前記選択されたメモリアレ
イブロックの第1または第2の信号伝達線に前記分割ワ
ード線を活性化させるための活性化信号を与える信号発
生回路を備えたことを特徴としている。
A second semiconductor memory device of the present invention is a divided word line type semiconductor memory device, each of which has a plurality of memory cells arranged in a matrix and divided words provided corresponding to each row. A plurality of memory array blocks each including a line and a bit line provided corresponding to each column, and the divided word lines are grouped in pairs to form a pair;
A preword word line corresponding to each divided word line pair of each memory array block and provided in common to the plurality of memory array blocks, provided corresponding to each divided word line pair of each memory array block, An inverter that outputs an inversion signal of a signal applied via the front word line corresponding to the corresponding pair of divided word lines, the divided word line of each memory array block corresponding to each memory array block First and second signal transmission lines provided in common to one and the other of the pair, provided corresponding to one of the divided word line pairs of each memory array block, each corresponding divided word line and its divided It is connected between the first signal transmission lines corresponding to the word lines, one input electrode of which is connected to the front word line corresponding to the divided word lines, and the other input voltage is connected. A first transmission gate including a first transistor of a first conductivity type and a second transistor of a second conductivity type for receiving an output of an inverter corresponding to the divided word line, corresponding to each first transmission gate Connected between the divided word line corresponding to the corresponding first transmission gate and the ground potential line, and its input electrode is connected to the input electrode of the first transistor of the corresponding first transmission gate. A third transistor of the first conductivity type that is commonly connected, is provided corresponding to the other of the divided word line pairs of each memory array block, and each corresponds to the corresponding divided word line and the corresponding divided word line. Two signal transmission lines, one input electrode of which is connected to the word line corresponding to the divided word line, A second transmission gate, which includes a fourth transistor of a first conductivity type and a fifth transistor of a second conductivity type, the other input electrode receiving the output of the inverter corresponding to the divided word line, each second transmission gate. A fourth transistor of the corresponding second transmission gate, which is provided corresponding to the transmission gate and is connected between the divided word line corresponding to the corresponding second transmission gate and the ground potential line. A sixth transistor of the first conductivity type commonly connected to the input electrode of the first conductivity type, a front word line of any one of the plurality of front word lines, and a plurality of memories according to an externally applied address signal. Any one of the array blocks and the first or second memory array block A selection circuit for selecting a signal transmission line and a pre-word line selected by the selection circuit are made conductive with the first and second transmission gates and made non-conductive with the third or sixth transistor. And a signal generation circuit for giving an activation signal for activating the divided word line to the first or second signal transmission line of the selected memory array block. I am trying.

[作用] この発明の第1の半導体メモリ装置にあっては、各メ
モリアレイブロックにおいて各前置ワード線に対応して
1対の分割ワード線が設けられ、各分割ワード線に対応
して互いに導電形式の異なる1対のトランジスタを含む
充電用のトランスミッションゲートおよび放電用のトラ
ンジスタが設けられる。また、各メモリアレイブロック
の分割ワード線対の一方および他方に対応して、それぞ
れ第1および第2の信号伝達線対が設けられる。そし
て、選択された信号伝達線対からトランスミッションゲ
ートおよびトランジスタの入力電極に選択信号が与えら
れ、トランスミッションゲートが導通しトランジスタが
非導通になり選択された前記ワード線からトランスミッ
ションゲートを介して分割ワード線に活性化信号が与え
られる。このように、活性化信号はトランスミッション
ゲートを介して分割ワード線に与えられるので、活性化
信号のレベルの低下が防止される。また、各メモリアレ
イブロックにおいて各前置ワード線に1対の分割ワード
線が設けられるので、前置ワード線の数が減少し、前置
ワード線に付随する寄生容量の総和が減少する。また、
活性化された分割ワード線は放電用のトランジスタを介
して放電され非活性化されるので、活性化された分割ワ
ード線を非活性化させるための非活性化信号を分割ワー
ド線に別途与える必要がない。以上の結果、分割ワード
線の活性化および非活性化が高速に行なわれる。
[Operation] In the first semiconductor memory device of the present invention, a pair of divided word lines is provided corresponding to each front word line in each memory array block, and each divided word line corresponds to each other. A transmission gate for charging and a transistor for discharging, which include a pair of transistors having different conductivity types, are provided. Further, first and second signal transmission line pairs are provided corresponding to one and the other of the divided word line pairs of each memory array block. Then, a selection signal is given to the transmission gate and the input electrode of the transistor from the selected signal transmission line pair, the transmission gate becomes conductive and the transistor becomes non-conductive, and the selected word line is divided from the selected word line through the transmission gate. An activation signal is applied to. In this way, the activation signal is applied to the divided word lines via the transmission gates, so that the level of the activation signal is prevented from lowering. Further, since a pair of divided word lines is provided for each front word line in each memory array block, the number of front word lines is reduced and the total parasitic capacitance associated with the front word lines is reduced. Also,
Since the activated divided word line is discharged and inactivated through the discharging transistor, it is necessary to separately provide an inactivation signal for deactivating the activated divided word line to the divided word line. There is no. As a result, the division word lines are activated and deactivated at high speed.

また、この発明の第2の半導体メモリ装置にあって
は、各メモリアレイブロックにおいて各前置ワード線に
対応して1対の分割ワード線が設けられ、各分割ワード
線に対応して互いに導電形式の異なる1対のトランジス
タを含む充電用のトランスミッションゲートおよび放電
用のトランジスタが設けられる。また、各メモリアレイ
ブロックの分割ワード線対の一方および他方に対応し
て、それぞれ第1および第2の信号伝達線が設けられ、
各分割ワード線対に対応してインバータが設けられる。
そして、選択された前置ワード線およびインバータから
トランスミッションゲートおよびトランジスタの入力電
極に選択信号が与えられ、選択された信号伝達線からト
ランスミッションゲートを介して分割ワード線に活性化
信号が与えられる。このように、活性化信号はトランス
ミッションゲートを介して分割ワード線に与えられ、ま
た、各メモリアレイブロックにおいて各前置ワード線に
1対の分割ワード線が設けられ、また、分割ワード線は
放電用のトランジスタを介して放電され非活性化される
ので、第1の半導体メモリ装置と同様、分割ワード線の
活性化および非活性化が高速に行なわれる。
Further, in the second semiconductor memory device of the present invention, a pair of divided word lines are provided corresponding to each front word line in each memory array block, and are electrically connected to each other corresponding to each divided word line. A transmission gate for charging and a transistor for discharging including a pair of transistors of different types are provided. Further, first and second signal transmission lines are provided corresponding to one and the other of the divided word line pairs of each memory array block, respectively.
An inverter is provided corresponding to each divided word line pair.
Then, a selection signal is applied from the selected front word line and the inverter to the transmission gate and the input electrode of the transistor, and an activation signal is applied from the selected signal transmission line to the divided word line via the transmission gate. In this way, the activation signal is applied to the divided word lines via the transmission gates, each front word line is provided with a pair of divided word lines in each memory array block, and the divided word lines are discharged. Since it is discharged and inactivated through the transistor for use in memory, the division word lines can be activated and deactivated at high speed as in the first semiconductor memory device.

[発明の実施例] 第1図は、この発明の一実施例を示す分割ワード線方
式を利用したDRAMの回路図である。第1図を参照して、
このDRAMは、2つのメモリアレイブロック1および2
と、メモリアレイブロック1および2にわたって設けら
れた前置ワード線RGSLと、前置ワード線RGSLに接続され
たロウデコーダ3とを含む。たとえば、メモリアレイブ
ロック1において1本の前置ワード線RGSLに対して、メ
モリセルMに接続された2本のワード線WL00およびWL01
とが設けられる。前置ワード線RGSLとワード線WL00とが
トランスミッションゲート15を介して接続される。トラ
ンスミッションゲート15は、PMOSトランジスタおよびNM
OSトランジスタの並列接続により構成される。トランス
ミッションゲート15を構成する2つのトランジスタのゲ
ートが信号▲▼およびB0X0を受けるように接続
される。ワード線WL00と接地との間にNMOSトランジスタ
16が接続される。トランジスタ16のゲートは信号▲
▼を受けるように接続される。
[Embodiment of the Invention] FIG. 1 is a circuit diagram of a DRAM using a divided word line system showing an embodiment of the present invention. Referring to FIG.
This DRAM has two memory array blocks 1 and 2
And a front word line RGSL provided over the memory array blocks 1 and 2, and a row decoder 3 connected to the front word line RGSL. For example, in the memory array block 1, one front word line RGSL is connected to two word lines WL00 and WL01 connected to the memory cell M.
And are provided. Pre-word line RGSL and word line WL00 are connected via transmission gate 15. Transmission gate 15 is a PMOS transistor and NM
It consists of parallel connection of OS transistors. The gates of the two transistors forming the transmission gate 15 are connected to receive the signals {circle around (1)} and B0X0. NMOS transistor between word line WL00 and ground
16 are connected. The gate of transistor 16 is a signal ▲
▼ connected to receive.

同様にして、ワード線WL01についても、トランスミッ
ションゲート17が前置ワード線RGSLとワード線WL01との
間に接続され、また、NMOSトランジスタ18がワード線WL
01と接地との間に接続される。トランスミッションゲー
ト17を構成する2つのトランジスタのゲートが信号 およびB0▲▼を受けるように接続され、トランジス
タ18のゲートが信号 を受けるように接続される。なお、メモリアレイブロッ
ク2についても、同様の回路構成がなされている。
Similarly, for the word line WL01, the transmission gate 17 is connected between the front word line RGSL and the word line WL01, and the NMOS transistor 18 is connected to the word line WL01.
Connected between 01 and ground. The gates of the two transistors that make up the transmission gate 17 are signals And B0 ▲ ▼ to receive the signal from the gate of transistor 18. Connected to receive. The memory array block 2 has the same circuit configuration.

動作において、例えばワード線WL00が活性化されると
き、前置ワード線RGSLがロウデコーダ3により高レベル
にもたらされる。高レベルの信号B0X0および低レベルの
信号▲▼が与えられ、トランスミッションゲー
ト15はオンする。したがって、ワード線WL00がトランス
ミッションゲート15を介して前置ワード線RGSLからの電
圧により高レベルにもたらされる。
In operation, the front word line RGSL is brought to a high level by the row decoder 3 when, for example, the word line WL00 is activated. The high level signal B0X0 and the low level signal ▲ ▼ are given, and the transmission gate 15 is turned on. Therefore, the word line WL00 is brought to a high level by the voltage from the front word line RGSL via the transmission gate 15.

前置ワード線RGSLとワード線WL00との間がトランスミ
ッションゲート15により接続されるので、前置ワード線
信号の電圧レベルがロスを生じることなくワード線WL00
に与えられる。したがって、メモリセルの駆動能力を十
分引き出すことができる。また、ワード線WL00の電圧が
高レベルに上昇する速度も遅くなることはない。
Since the pre-word line RGSL and the word line WL00 are connected by the transmission gate 15, the voltage level of the pre-word line signal is not lost and the word line WL00
Given to. Therefore, the driving capability of the memory cell can be sufficiently obtained. Also, the speed at which the voltage of the word line WL00 rises to a high level does not slow down.

また、1本の前置ワード線RGSLに対して、2本のワー
ド線WL00およびWL01が設けられているので、前置ワード
線RGSLとビット線10との間に生じる寄生容量の総和が
(ワード線総数)×C×1/2となり、寄生容量による悪
影響を防ぐこともできる。
Since two word lines WL00 and WL01 are provided for one front word line RGSL, the total parasitic capacitance generated between the front word line RGSL and the bit line 10 is (word (Total number of lines) × C × 1/2, and it is possible to prevent adverse effects due to parasitic capacitance.

第2図は、この発明の別の実施例を示す分割ワード線
方式を利用したDRAMの回路図である。第2図を参照し
て、第1図に示されたDRAMと比較して異なる点は、ワー
ド線を活性化するための電圧がブロック選択信号B0とX
アドレス信号X0または▲▼の論理積の信号によって
供給され、また、前置ワード線信号がトランジスタのス
イッチング制御のために使用されることである。すなわ
ち、たとえばメモリアレイブロック1において、ワード
線WL00がトランスミッションゲート15を介して信号B0X0
を受けるように接続される。トランスミッションゲート
15を構成するトランジスタのゲートが前置ワード線信号
およびインバータ10によって反転された信号を受けるよ
うに接続される。また、ワード線WL00と接地との間に接
続されたNMOSトランジスタ16のゲートが前置ワード線RG
SLに接続される。
FIG. 2 is a circuit diagram of a DRAM using a divided word line system showing another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, the difference from the DRAM shown in FIG. 1 lies in that the voltage for activating the word line is the block selection signals B0 and X.
It is supplied by an AND signal of the address signal X0 or ▲ ▼, and the front word line signal is used for switching control of the transistor. That is, for example, in the memory array block 1, the word line WL00 is transmitted via the transmission gate 15 to the signal B0X0.
Connected to receive. Transmission gate
The gates of the transistors that make up 15 are connected to receive the preword line signal and the signal inverted by inverter 10. Further, the gate of the NMOS transistor 16 connected between the word line WL00 and the ground is connected to the front word line RG.
Connected to SL.

動作において、前置ワード線RGSLが活性化されて低レ
ベルになるとき、トランスミッションゲート15を介して
与えられる高レベルの論理積信号B0X0の電圧により、ワ
ード線WL00が高レベルにもたらされる。第1図に示され
たDRAMの場合と同様に、信号B0X0の電圧レベルがワード
線WL00に与えられることになり、同様の効果が得られ
る。
In operation, when the pre-word line RGSL is activated and goes low, the high level AND signal B0X0 voltage provided via the transmission gate 15 brings the word line WL00 to a high level. Similar to the case of the DRAM shown in FIG. 1, the voltage level of the signal B0X0 is applied to the word line WL00, and the same effect can be obtained.

[発明の効果] 以上のように、この発明の第1および第2の半導体メ
モリ装置にあっては、分割ワード線を活性化させるため
の活性化信号が互いに導電形式の異なる1対のトランジ
スタを含むトランスミッションゲートを介して分割ワー
ド線に与えられるので、活性化信号のレベルの低下が防
止される。また、各メモリアレイブロックにおいて各前
置ワード線に1対の分割ワード線が設けられるので、前
置ワード線の数が減少し、前置ワード線に付随する寄生
容量の総和が減少する。また、活性化された分割ワード
線は放電用のトランジスタを介して放電され非活性化さ
れるので、分割ワード線に非活性化信号を別途与える必
要がない。よって、分割ワード線の活性化および非活性
化が高速に行なわれる。
[Effects of the Invention] As described above, in the first and second semiconductor memory devices of the present invention, the pair of transistors whose activation signals for activating the divided word lines are different in conductivity type from each other. Since it is applied to the divided word lines through the transmission gates including it, the activation signal level is prevented from lowering. Further, since a pair of divided word lines is provided for each front word line in each memory array block, the number of front word lines is reduced and the total parasitic capacitance associated with the front word lines is reduced. Further, since the activated divided word line is discharged and inactivated through the discharging transistor, it is not necessary to separately provide an inactivation signal to the divided word line. Therefore, division word lines are activated and deactivated at high speed.

【図面の簡単な説明】 第1図は、この発明の一実施例を示す分割ワード線方式
を利用したDRAMの回路図である。第2図は、この発明の
別の実施例を示す分割ワード線方式を利用したDRAMの回
路図である。第3図は、従来の分割ワード線方式を利用
したDRAMの一例を示す回路図である。第4図は、従来の
分割ワード線方式を利用したDRAMの別の例を示す回路図
である。 図において、1,2はメモリアレイブロック、3はロウデ
コーダ、10はビット線、Mはメモリセル、RGSLは前置ワ
ード線、WL00ないしWL11はワード線である。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a circuit diagram of a DRAM using a divided word line system showing an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram of a DRAM using a divided word line system showing another embodiment of the present invention. FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a DRAM using a conventional divided word line system. FIG. 4 is a circuit diagram showing another example of the DRAM using the conventional divided word line system. In the figure, 1 and 2 are memory array blocks, 3 is a row decoder, 10 is a bit line, M is a memory cell, RGSL is a front word line, and WL00 to WL11 are word lines.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】分割ワード線方式の半導体メモリ装置であ
って、 各々が、行列状に配列された複数のメモリセルと、各行
に対応して設けられた分割ワード線と、各列に対応して
設けられたビット線とを含み、前記分割ワード線が2つ
ずつグループ化されて対をなしている複数のメモリアレ
イブロック、 各メモリアレイブロックの各分割ワード線対に対応し
て、かつ前記複数のメモリアレイブロックに共通に設け
られた前置ワード線、 各メモリアレイブロックに対応して、かつ各々がそれぞ
れ対応のメモリアレイブロックの分割ワード線対の一方
および他方に共通に設けられた第1および第2の信号伝
達線対、 各メモリアレイブロックの各分割ワード線対の一方に対
応して設けられ、各々が対応の分割ワード線とその分割
ワード線に対応する前置ワード線の間に接続され、各々
の入力電極がそれぞれその分割ワード線に対応する第1
の信号伝達線対の一方および他方に接続される第1の導
電形式の第1のトランジスタおよび第2の導電形式の第
2のトランジスタを含む第1のトランスミッションゲー
ト、 各第1のトランスミッションゲートに対応して設けら
れ、対応の第1のトランスミッションゲートに対応する
分割ワード線と接地電位のラインとの間に接続され、そ
の入力電極が対応の第1のトランスミッションゲートの
第1のトランジスタの入力電極と共通接続される第1の
導電形式の第3のトランジスタ、 各メモリアレイブロックの各分割ワード線対の他方に対
応して設けられ、各々が対応の分割ワード線とその分割
ワード線に対応する前置ワード線の間に接続され、各々
の入力電極がそれぞれその分割ワード線に対応する第2
の信号伝達線対の一方および他方に接続される第1の導
電形式の第4のトランジスタおよび第2の導電形式の第
5のトランジスタを含む第2のトランスミッションゲー
ト、 各第2のトランスミッションゲートに対応して設けら
れ、対応の第2のトランスミッションゲートに対応する
分割ワード線と接地電位のラインとの間に接続され、そ
の入力電極が対応の第2のトランスミッションゲートの
第4のトランジスタの入力電極と共通接続される第1の
導電形式の第6のトランジスタ、 外部から与えられるアドレス信号に従って、前記複数の
前置ワード線のうちのいずれかの前置ワード線と、前記
複数のメモリアレイブロックのうちのいずれかのメモリ
アレイブロックと、そのメモリアレイブロックの第1ま
たは第2の信号伝達線対とを選択する選択回路、および 前記選択回路によって選択された前置ワード線に前記分
割ワード線を活性化させるための活性化信号を与えると
ともに、前記選択されたメモリアレイブロックの第1ま
たは第2の信号伝達線対に前記第1または第2のトラン
スミッションゲートを導通させ、かつ前記第3または第
6のトランジスタを非導通にさせるための選択信号を与
える信号発生回路を備える、半導体メモリ装置。
1. A divided word line type semiconductor memory device, each of which corresponds to a plurality of memory cells arranged in rows and columns, a divided word line provided corresponding to each row, and each column. A plurality of memory array blocks in which the divided word lines are grouped in pairs to form a pair, the divided word lines corresponding to each divided word line pair of each memory array block, and A front word line commonly provided to a plurality of memory array blocks, a first word line corresponding to each memory array block, and each of which is commonly provided to one and the other of divided word line pairs of the corresponding memory array block. The first and second signal transmission line pairs are provided corresponding to one of the divided word line pairs of each memory array block, and each of them corresponds to the corresponding divided word line and the divided word line. A first word line connected between the input word electrodes and each input electrode corresponding to the divided word line.
A first transmission gate including a first transistor of a first conductivity type and a second transistor of a second conductivity type connected to one and the other of the pair of signal transmission lines, and corresponding to each first transmission gate Connected between the divided word line corresponding to the corresponding first transmission gate and the ground potential line, and its input electrode is connected to the input electrode of the first transistor of the corresponding first transmission gate. A third transistor of the first conductivity type commonly connected, provided corresponding to the other of each divided word line pair of each memory array block, each corresponding to a corresponding divided word line and the divided word line. A second word line connected between the input word electrodes and each input electrode corresponding to the divided word line.
A second transmission gate including a fourth transistor of a first conductivity type and a fifth transistor of a second conductivity type connected to one and the other of the pair of signal transmission lines, and corresponding to each second transmission gate Connected between the divided word line corresponding to the corresponding second transmission gate and the ground potential line, and its input electrode is connected to the input electrode of the fourth transistor of the corresponding second transmission gate. A sixth transistor of the first conductivity type that is commonly connected, one of the plurality of front word lines, and one of the plurality of memory array blocks according to an externally applied address signal. Of the memory array block and the first or second signal transmission line pair of the memory array block are selected. A select circuit and an activation signal for activating the divided word line to the front word line selected by the select circuit, and the first or second signal transmission line of the selected memory array block. A semiconductor memory device comprising: a pair of signal generation circuits that provide a selection signal for turning on the first or second transmission gate and turning off the third or sixth transistor.
【請求項2】分割ワード線方式の半導体メモリ装置であ
って、 各々が、行列状に配列された複数のメモリセルと、各行
に対応して設けられた分割ワード線と、各列に対応して
設けられたビット線とを含み、前記分割ワード線が2つ
ずつグループ化されて対をなしている複数のメモリアレ
イブロック、 各メモリアレイブロックの各分割ワード線対に対応し
て、かつ前記複数のメモリアレイブロックに共通に設け
られた前置ワード線、 各メモリアレイブロックの各分割ワード線対に対応して
設けられ、対応の分割ワード線対に対応する前置ワード
線を介して与えられた信号の反転信号を出力するインバ
ータ、 各メモリアレイブロックに対応して、かつ各々がそれぞ
れ対応のメモリアレイブロックの分割ワード線対の一方
および他方に共通に設けられた第1および第2の信号伝
達線、 各メモリアレイブロックの各分割ワード線対の一方に対
応して設けられ、各々が対応の分割ワード線とその分割
ワード線に対応する第1の信号伝達線の間に接続され、
その一方の入力電極がその分割ワード線に対応する前置
ワード線に接続され、その他方の入力電極がその分割ワ
ード線に対応するインバータの出力を受ける第1の導電
形式の第1のトランジスタおよび第2の導電形式の第2
のトランジスタを含む第1のトランスミッションゲー
ト、 各第1のトランスミッションゲートに対応して設けら
れ、対応の第1のトランスミッションゲートに対応する
分割ワード線と接地電位のラインとの間に接続され、そ
の入力電極が対応の第1のトランスミッションゲートの
第1のトランジスタの入力電極と共通接続される第1の
導電形式の第3のトランジスタ、 各メモリアレイブロックの各分割ワード線対の他方に対
応して設けられ、各々が対応の分割ワード線とその分割
ワード線に対応する第2の信号伝達線の間に接続され、
その一方の入力電極がその分割ワード線に対応する前置
ワード線に接続され、その他方の入力電極がその分割ワ
ード線に対応するインバータの出力を受ける第1の導電
形式の第4のトランジスタおよび第2の導電形式の第5
のトランジスタを含む第2のトランスミッションゲー
ト、 各第2のトランスミッションゲートに対応して設けら
れ、対応の第2のトランスミッションゲートに対応する
分割ワード線と接地電位のラインとの間に接続され、そ
の入力電極が対応の第2のトランスミッションゲートの
第4のトランジスタの入力電極と共通接続される第1の
導電形式の第6のトランジスタ、 外部から与えられるアドレス信号に従って、前記複数の
前置ワード線のうちのいずれかの前置ワード線と、前記
複数のメモリアレイブロックのうちのいずれかのメモリ
アレイブロックと、そのメモリアレイブロックの第1ま
たは第2の信号伝達線とを選択する選択回路、および 前記選択回路によって選択された前置ワード線に前記第
1および第2のトランスミッションゲートを導通させ、
かつ前記第3または第6のトランジスタを非導通にさせ
るための選択信号を与えるとともに、前記選択されたメ
モリアレイブロックの第1または第2の信号伝達線に前
記分割ワード線を活性化させるための活性化信号を与え
る信号発生回路を備える、半導体メモリ装置。
2. A divided word line type semiconductor memory device, each comprising a plurality of memory cells arranged in a matrix, divided word lines provided corresponding to each row, and corresponding to each column. A plurality of memory array blocks in which the divided word lines are grouped in pairs to form a pair, the divided word lines corresponding to each divided word line pair of each memory array block, and A pre-word line commonly provided to a plurality of memory array blocks, provided corresponding to each divided word line pair of each memory array block, and given via the pre-word line corresponding to the corresponding divided word line pair An inverter that outputs an inverted signal of the generated signal, corresponding to each memory array block and provided in common to one and the other of the divided word line pairs of the corresponding memory array block. First and second signal transmission lines, which are provided corresponding to one of the divided word line pairs of each memory array block, each corresponding divided word line and a first signal corresponding to the divided word line. Connected between the transmission lines,
A first transistor of a first conductivity type, one input electrode of which is connected to a front word line corresponding to the divided word line, and the other input electrode of which receives the output of the inverter corresponding to the divided word line; Second of second conductivity type
A first transmission gate including a transistor, the first transmission gate is provided corresponding to each first transmission gate, and is connected between a divided word line corresponding to the corresponding first transmission gate and a ground potential line, and its input A third transistor of the first conductivity type, whose electrode is commonly connected to the input electrode of the first transistor of the corresponding first transmission gate, is provided corresponding to the other of each pair of divided word lines of each memory array block. And each connected between the corresponding divided word line and the second signal transmission line corresponding to the divided word line,
A fourth transistor of a first conductivity type, one input electrode of which is connected to a front word line corresponding to the divided word line, and the other input electrode of which receives an output of the inverter corresponding to the divided word line; Fifth of the second conductive type
A second transmission gate including a transistor, the second transmission gate is provided corresponding to each second transmission gate, and is connected between the divided word line corresponding to the corresponding second transmission gate and the ground potential line, and its input A sixth transistor of the first conductivity type whose electrode is commonly connected to the input electrode of the fourth transistor of the corresponding second transmission gate, among the plurality of pre-word lines according to an externally applied address signal A preselection word line, a selection circuit for selecting any one of the plurality of memory array blocks, and a first or second signal transmission line of the memory array block, and The first and second transmission gates are connected to the front word line selected by the selection circuit. To conduct,
Further, the selection signal for turning off the third or sixth transistor is given, and the divided word line is activated by the first or second signal transmission line of the selected memory array block. A semiconductor memory device comprising a signal generation circuit for providing an activation signal.
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