JPH0817199B2 - Wafer transfer device - Google Patents
Wafer transfer deviceInfo
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- JPH0817199B2 JPH0817199B2 JP3083600A JP8360091A JPH0817199B2 JP H0817199 B2 JPH0817199 B2 JP H0817199B2 JP 3083600 A JP3083600 A JP 3083600A JP 8360091 A JP8360091 A JP 8360091A JP H0817199 B2 JPH0817199 B2 JP H0817199B2
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- wafer
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- storage box
- vacuum
- box
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Manipulator (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、ウエハを収納すべき
収納箱のウエハの収納、取出し等に用いられるウエハ移
送装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer transfer device used for storing and taking out wafers in a storage box for storing wafers.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、ウエハの測定においては、検査す
べきウエハを収納した収納箱の下側にベルト駆動装置を
設置し、そのベルトによって下段のウエハから1枚ずつ
順に取り出すようにされていた。このようなベルト駆動
装置によるウエハの取出しは、ベルトに接触可能なウエ
ハのみの取出しが可能であるから、収納箱内の任意のウ
エハを選択的に取り出すことができない。即ち、測定し
たウエハを収納箱に一旦戻すと、そのウエハが最下段に
ある場合は別にして、収納箱から必要に応じて任意のウ
エハを選択的に取り出すことができないため、ウエハの
再測定を困難にしていた。2. Description of the Related Art Conventionally, in the measurement of wafers, a belt drive device is installed under a storage box in which the wafers to be inspected are stored, and the belts are used to take out the wafers one by one from the lower wafer. . When the wafers are taken out by such a belt drive device, only the wafers that can contact the belt can be taken out, so that it is not possible to selectively take out any wafer in the storage box. In other words, once the measured wafer is returned to the storage box, it is not possible to selectively take out any wafer from the storage box as needed, except when the wafer is at the lowermost stage. Was making it difficult.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、ウエハの検
査に際し、その検査効率を高めるとともに、先ず、移送
の自動化が要請されるところである。従来、ウエハを移
送する装置として例えば、特開昭50−126175号
「ウエーハ供給装置」、特開昭58−123736号
「ウエハー転送方式および装置」、特公昭63−322
49号「試料交換装置」、特開昭58−138046号
「ウエハ移替装置」、特開昭58−182846号「半
導体基板の移替え装置」、特開昭58−155735号
「ウエハ搬送装置」等が提案されている。これらのもの
では、収納箱内のウエハを任意に選択して取出し又は収
納箱にウエハを収納することは困難である。By the way, in the case of inspecting a wafer, it is required to improve the inspection efficiency and first to automate the transfer. Conventionally, as a device for transferring a wafer, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 50-126175, "Wafer Supply Device", Japanese Patent Laid-Open No. 58-123736, "Wafer Transfer Method and Device", Japanese Patent Publication No. 63-322.
No. 49 “Sample Exchanger”, Japanese Patent Laid-Open No. 58-138046 “Wafer Transfer Device”, Japanese Patent Laid-Open No. 58-182846 “Semiconductor Substrate Transfer Device”, Japanese Patent Laid-Open No. 58-155735 “Wafer Transfer Device”. Etc. have been proposed. With these devices, it is difficult to arbitrarily select a wafer in the storage box and take it out or store the wafer in the storage box.
【0004】そこで、この発明は、信頼性の高いウエハ
の移送を実現することにより、収納箱内のウエハの取出
し、収納箱へのウエハの収納に適するウエハ移送装置の
提供を目的とする。Therefore, an object of the present invention is to provide a wafer transfer device suitable for taking out a wafer from a storage box and storing the wafer in the storage box by realizing highly reliable transfer of the wafer.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】この発明のウエハ検出装
置は、前面側及び後面側を開放して任意の間隔で複数枚
のウエハを収納する収納箱と、この収納箱を載置する装
置本体に併設されて前記収納箱に対して上下方向の位置
関係を変更させる昇降機構と、前記収納箱内に光源から
光ビームを照射し、その光ビームを受光素子で受けるこ
とにより前記収納箱内のウエハの有無を検出するウエハ
検出手段と、前記収納箱の前面側に設置されて前記昇降
機構を以て昇降し、前記収納箱に対して出し入れすべき
前記ウエハをバキュームにより吸着させて保持するウエ
ハ載置部を備えたアームと、駆動手段から駆動力を受け
て前記アームを前記収納箱の内外に進退させることによ
り、前記アームに前記ウエハの出し入れを行なわせるア
ーム進退機構と、前記ウエハ検出手段の検出出力に基づ
いて、前記収納箱内のウエハ又は空き位置を表す検出デ
ータを記憶手段に記憶し、そのデータに基づいて前記昇
降機構を制御するとともに、前記アームの移動を制御し
て前記収納箱に対して前記ウエハの取出し又は収納を行
う制御手段とを備えたことを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION A wafer detecting apparatus according to the present invention comprises a storage box for opening a front side and a rear side and storing a plurality of wafers at arbitrary intervals, and an apparatus main body for mounting the storage box. An elevating mechanism that is attached to the storage box to change the vertical positional relationship with respect to the storage box, and a light beam is emitted from a light source into the storage box, and the light beam is received by a light receiving element. Wafer detection means for detecting the presence / absence of a wafer, and wafer placement for holding the wafer to be taken in and out of the storage box by vacuum suction, which is installed on the front side of the storage box and moved up and down by the elevating mechanism. An arm provided with a section, and an arm advancing / retreating mechanism for advancing / retreating the arm in and out of the storage box by receiving a driving force from a driving means, thereby moving the wafer in and out of the storage box. Based on the detection output of the wafer detection means, the detection data representing the wafer or the vacant position in the storage box is stored in the storage means, and based on the data, the lifting mechanism is controlled and the movement of the arm is controlled. And a control means for taking out or storing the wafer in the storage box.
【0006】[0006]
【作用】このような構成によれば、前面側及び後面側が
開放された収納箱に対し、アームを進退させるととも
に、アームは昇降機構によって昇降する。そして、収納
箱のウエハの有無はウエハ検出手段によって検出され、
収納箱から取り出すべきウエハ及び収納箱の収納すべき
位置が検出される。このウエハ検出出力を受け、制御手
段を以て収納箱から取り出すべきウエハ又は収納箱に収
納すべきウエハに応じてアームの進退及び昇降の各制御
が実行される。即ち、収納箱内にアームを挿入してその
アーム上にウエハを載せて収納箱から取り出し、また、
アームに収納すべきウエハを載せ、アームとともにウエ
ハを収納箱に収納することにより、ウエハの取出し及び
収納等ウエハの移送を効率よく行うことができる。With this structure, the arm is moved forward and backward with respect to the storage box whose front and rear surfaces are open, and the arm is moved up and down by the lifting mechanism. Then, the presence or absence of the wafer in the storage box is detected by the wafer detection means,
The wafer to be taken out of the storage box and the position of the storage box to be stored are detected. Receiving this wafer detection output, the control means executes the control of advancing / retracting and raising / lowering the arm according to the wafer to be taken out from the storage box or the wafer to be stored in the storage box. That is, the arm is inserted into the storage box, the wafer is placed on the arm, and the wafer is taken out from the storage box.
By mounting the wafer to be stored in the arm and storing the wafer together with the arm in the storage box, the wafer can be efficiently taken out and transferred such as storing.
【0007】[0007]
【実施例】図1は、この発明のウエハ移送装置の実施例
を示す。この実施例のウエハ移送装置は、ウエハの検
出、取出し及び収納装置として構成されたものであり、
ウエハを非接触で検出するウエハ検出手段としてのウエ
ハ検出装置eとともに、収納箱に対するウエハの取出し
及び収納を行うウエハ取出・収納装置hが並設されてい
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an embodiment of the wafer transfer device of the present invention. The wafer transfer device of this embodiment is configured as a wafer detecting, taking-out and storing device,
A wafer detection device e as a wafer detection means for detecting a wafer in a non-contact manner, and a wafer extraction / accommodation device h for extracting and accommodating a wafer from a storage box are arranged in parallel.
【0008】即ち、図3は、この発明のウエハ移送装置
におけるウエハ検出装置eの部分を示し、装置本体1に
は昇降機構としてのエレベータ2が取り付けられ、装置
本体1の上面には検出すべきウエハ4を収納した収納箱
5が設置されている。収納箱5は、前後に開放され、そ
の両側内壁部にウエハ4を一定の間隔で保持するための
複数の溝部が形成されている。また、装置本体1の背面
側には反射鏡3が固定されている。エレベータ2のステ
ージには、ハーフミラー6が設置されているとともに、
このハーフミラー6を介して光ビームLiを収納箱5側
に照射する光ビーム照射手段として発光素子7が設置さ
れているとともに、収納箱5を通過した光ビームLiを
受光して反射する反射鏡3が設置され、この反射鏡3か
ら得られる反射光ビームLrを受光する受光手段として
受光素子8が設置されている。即ち、エレベータ2は、
図2に示すように、発光素子7及び受光素子8を上下方
向(Y:up及び−Y:down)に移送することによ
り、発光素子7及び受光素子8と収納箱5との相対的な
位置を変更させて収納箱5内のウエハ4に順次に光ビー
ムLiを照射するための位置変更手段を構成している。
したがって、ウエハ検出装置eでは、発光素子7から発
射する光ビームLiはハーフミラー6を通過し、反射鏡
3で反射光ビームLrがもとの光軸を通って、ハーフミ
ラー6に戻り受光素子8に入射される。そこで、装置本
体1に対して下から上にエレベータ2をスキャンする
と、図3に示すように、ウエハ4が無い場合には光ビー
ムLiがウエハ4の無い部分を通過して反射鏡3で反射
された後、受光素子8に入り、また、図4に示すよう
に、ウエハ4に当たって反射光ビームLrはハーフミラ
ー6を通して上方に反射される結果、収納箱5内のウエ
ハ4の有無によって反射光ビームLrに強弱が生じる。
したがって、受光素子8には、ウエハ4の有無を表す反
射光ビームLrが受光され、ウエハ4の検出信号として
微電流の変化が得られる。That is, FIG. 3 shows a portion of a wafer detecting device e in the wafer transfer device of the present invention. An elevator 2 as an elevating mechanism is attached to the device body 1, and the upper surface of the device body 1 should be detected. A storage box 5 storing the wafer 4 is installed. The storage box 5 is opened in the front and rear direction, and a plurality of groove portions for holding the wafers 4 at regular intervals are formed on the inner wall portions on both sides thereof. A reflecting mirror 3 is fixed to the back side of the device body 1. A half mirror 6 is installed on the stage of the elevator 2, and
A light emitting element 7 is installed as a light beam irradiating means for irradiating the storage box 5 side with the light beam Li via the half mirror 6, and a reflecting mirror for receiving and reflecting the light beam Li passing through the storage box 5. 3 is installed, and a light receiving element 8 is installed as a light receiving means for receiving the reflected light beam Lr obtained from the reflecting mirror 3. That is, the elevator 2
As shown in FIG. 2, by moving the light emitting element 7 and the light receiving element 8 in the vertical direction (Y: up and -Y: down), the relative positions of the light emitting element 7 and the light receiving element 8 with respect to the storage box 5. The position changing means for sequentially irradiating the wafer 4 in the storage box 5 with the light beam Li is configured.
Therefore, in the wafer detection device e, the light beam Li emitted from the light emitting element 7 passes through the half mirror 6, the reflected light beam Lr is reflected by the reflecting mirror 3 back to the half mirror 6, and returns to the half mirror 6. It is incident on 8. Therefore, when the elevator 2 is scanned from bottom to top with respect to the apparatus main body 1, as shown in FIG. 3, when the wafer 4 is not present, the light beam Li passes through a portion where the wafer 4 is absent and is reflected by the reflecting mirror 3. After that, the light beam enters the light receiving element 8, and as shown in FIG. 4, the reflected light beam Lr hits the wafer 4 and is reflected upward through the half mirror 6. As a result, the reflected light beam Lr is reflected by the presence or absence of the wafer 4 in the storage box 5. The intensity of the beam Lr is increased.
Therefore, the light receiving element 8 receives the reflected light beam Lr representing the presence / absence of the wafer 4, and the change of the minute current is obtained as the detection signal of the wafer 4.
【0009】そして、ウエハ取出・収納装置hでは、図
1に示すように、発光素子7、受光素子8及びハーフミ
ラー6が設置されたエレベータ2は、パルスモータ11
によって駆動されるボールスクリュー12に取り付けら
れるとともに2本のガイドシャフト16によって摺動可
能に支持されている。In the wafer unloading / accommodating apparatus h, as shown in FIG. 1, the elevator 2 provided with the light emitting element 7, the light receiving element 8 and the half mirror 6 has a pulse motor 11
It is attached to a ball screw 12 driven by and is slidably supported by two guide shafts 16.
【0010】そして、ウエハ取出・収納装置hは、収納
箱5からウエハ4を取出し又はウエハ4を収納箱5に収
納するための上下方向への移送を行う昇降機構としての
エレベータ2を兼用している。このウエハ取出・収納装
置hには、収納箱5の内部に挿入してウエハ4の取出し
及び収納を行う平板状を成すウエハ載置部を備えた取出
しアーム9が設けられている。この取出しアーム9は、
ガイドシャフト10を以て水平方向に摺動可能に支持さ
れており、その一端には、エレベータ2の昇降と相俟っ
て取出しアーム9にウエハ4の授受を行わせるベルト1
5が固定されている。そして、ベルト15は、取出しア
ーム9の移動に対応した間隔を以て設置された一対のプ
ーリ14間に懸け回されている。即ち、ベルト15は、
回転によって取出しアーム9を収納箱5に向かって前後
方向、図中X方向に移動させるアーム進退機構を成し、
パルスモータ13からベルト15を介して加えられる回
転力を受けて回転する。The wafer unloading / housing device h also serves as an elevator 2 as an elevating mechanism for taking out the wafer 4 from the housing box 5 or transferring the wafer 4 in the vertical direction for housing the wafer 4 in the housing box 5. There is. The wafer unloading / accommodating device h is provided with a unloading arm 9 having a flat-plate-shaped wafer mounting portion that is inserted into the storage box 5 to unload and store the wafer 4. This take-out arm 9
A belt 1 is supported by a guide shaft 10 so as to be slidable in the horizontal direction. One end of the belt 1 allows the take-out arm 9 to transfer the wafer 4 together with the elevation of the elevator 2.
5 is fixed. The belt 15 is wound around a pair of pulleys 14 arranged at intervals corresponding to the movement of the takeout arm 9. That is, the belt 15 is
An arm advance / retreat mechanism for moving the take-out arm 9 toward the storage box 5 in the front-back direction and in the X direction in the drawing by rotation is formed.
It rotates by receiving the rotational force applied from the pulse motor 13 via the belt 15.
【0011】そして、取出しアーム9のウエハ4の載置
部、即ち、ウエハ4を吸着する吸着面には、ウエハ4を
吸着するためのバキュームをウエハ4に作用させるバキ
ューム穴が設けられている。A vacuum hole is provided in the mounting portion of the take-out arm 9 for mounting the wafer 4, that is, a suction surface for sucking the wafer 4, so that a vacuum for sucking the wafer 4 acts on the wafer 4.
【0012】このような構成によれば、ウエハの有無を
検出した後、図2に示すように、パルスモータ13によ
ってベルト15を駆動して取出しアーム9を前方に移動
させて取り出すべきウエハ4の下面側に挿入する。パル
スモータ13を停止させ、次に、エレベータ2を僅かに
上昇させた後、バキュームを動作して取出しアーム9の
ウエハ載置面にウエハ4を吸着させる。この状態でモー
タ13を逆転させると、ベルト15とともに取出しアー
ム9が後方に移動し、取出しアーム9によってウエハ4
が収納箱5から取り出されることになる。According to this structure, after detecting the presence / absence of the wafer, as shown in FIG. 2, the belt 15 is driven by the pulse motor 13 to move the take-out arm 9 forward to take out the wafer 4 to be taken out. Insert on the bottom side. The pulse motor 13 is stopped, and then the elevator 2 is slightly raised, and then the vacuum is operated to attract the wafer 4 to the wafer mounting surface of the takeout arm 9. When the motor 13 is rotated in the reverse direction in this state, the take-out arm 9 moves backward together with the belt 15, and the take-out arm 9 causes the wafer 4 to move.
Will be taken out from the storage box 5.
【0013】次に、図5は、図1に示したウエハ移送装
置の制御システムを示す。スタートスイッチaは、ウエ
ハ4の検出、取出し又は収納の開始を指令する手段であ
る。記憶手段gには、アドレスとともに位置決め情報が
記憶されている。スタートスイッチaが操作されると、
選択手段bを介してアドレス指定手段fに指定開始命令
が与えられ、ウエハ検出装置eからの位置情報をもとに
収納箱5内にあるウエハ4の位置が決定される。Next, FIG. 5 shows a control system of the wafer transfer device shown in FIG. The start switch a is means for instructing the start of detection, taking-out or storage of the wafer 4. Positioning information is stored in the storage means g together with the address. When the start switch a is operated,
A designation start command is given to the address designating means f through the selecting means b, and the position of the wafer 4 in the storage box 5 is determined based on the position information from the wafer detecting device e.
【0014】取出し制御手段cは、収納箱5からウエハ
4の取出しを制御し、収納制御手段dは取出しアーム9
を通してウエハ4の収納箱5への収納を制御する手段で
ある。これらの制御手段c、dからの制御出力はエレベ
ータ2を駆動するエレベータ駆動装置iに加えられてウ
エハ取出・収納装置hに加えられる。即ち、ウエハ取出
・収納装置hのパルスモータ11及びエレベータ駆動装
置iは取出し制御装置手段c、又は収納制御手段dから
の情報に基づいて位置決め制御が行われ、収納箱5から
のウエハ4の取出し又は収納箱5へウエハ4の収納が行
われる。The take-out control means c controls the take-out of the wafer 4 from the storage box 5, and the take-out control means d controls the take-out arm 9.
It is a means for controlling the storage of the wafer 4 in the storage box 5 through. The control output from these control means c and d is added to the elevator drive device i that drives the elevator 2, and is added to the wafer unloading / accommodating device h. That is, the pulse motor 11 and the elevator drive device i of the wafer unloading / accommodating device h are subjected to positioning control based on information from the unloading controller c or the accommodating controller d, and the wafer 4 is ejected from the accommodating box 5. Alternatively, the wafer 4 is stored in the storage box 5.
【0015】検出手段jは、検査の度にウエハ4が何処
に置かれているかの情報を検出する手段であって、その
検出出力は選択手段bに供給され、それによりウエハ4
の取出し、又はウエハ4の収納が選択される。The detection means j is a means for detecting information on where the wafer 4 is placed at each inspection, and the detection output is supplied to the selection means b, whereby the wafer 4 is detected.
Is selected or the wafer 4 is stored.
【0016】そして、図6は、この発明のウエハ移送装
置の制御系統を示す。即ち、このウエハ移送装置には、
移送を制御する制御手段として1ボードのマイクロコン
ピュータからなる制御部20が設置され、この制御部2
0には、ウエハ4の移送制御プログラムを実行するCP
U21、移送制御プログラムを記憶した記憶手段として
のROM22、CPU21の演算途上のデータや検出信
号を格納する記憶手段としてのRAM23とともに入力
ポート24が設置されている。入力ポート24にはウエ
ハ検出装置e、バキューム検出器31及びリミット検出
器32からの検出信号が加えられている。CPU21か
ら得られる制御出力はエレベータ駆動回路33、ウエハ
取出・収納駆動回路34及び固定ピン回路35に加えら
れている。エレベータ駆動回路33の駆動出力はパルス
モータ11、ウエハ取出・収納駆動回路34の駆動出力
はパルスモータ13に加えられている。FIG. 6 shows a control system of the wafer transfer device according to the present invention. That is, in this wafer transfer device,
A control unit 20 including a one-board microcomputer is installed as control means for controlling the transfer.
0 is a CP that executes the transfer control program for the wafer 4.
An input port 24 is provided together with U21, a ROM 22 as a storage means for storing a transfer control program, a RAM 23 as a storage means for storing data in the middle of calculation of the CPU 21 and a detection signal. Detection signals from the wafer detector e, the vacuum detector 31, and the limit detector 32 are applied to the input port 24. The control output obtained from the CPU 21 is applied to the elevator drive circuit 33, the wafer take-out / accommodation drive circuit 34, and the fixed pin circuit 35. The drive output of the elevator drive circuit 33 is applied to the pulse motor 11, and the drive output of the wafer unloading / accommodating drive circuit 34 is applied to the pulse motor 13.
【0017】そして、RAM23に記憶されるアドレス
及びウエハ位置は、表1の通りである。The addresses and wafer positions stored in the RAM 23 are as shown in Table 1.
【0018】[0018]
【表1】 [Table 1]
【0019】このように構成されたウエハ4の検出、取
出し及び収納の制御動作を図7ないし図9に示すフロー
チャートを参照して説明する。図7に示すように、ステ
ップS1では初期設定によりRAM23の記憶内容を消
去し、ステップS2に移行する。ステップS2ではスタ
ートスイッチaがオンかオフかが判断され、スタートス
イッチaがオンの場合、ステップS3に移行する。ステ
ップS3では初期入力か否かが判定され、初期入力の場
合、ステップS4に移行して初期入力処理(図8)の呼
び出し及びその処理が実行される。ステップS3で初期
入力でないと判断された場合にはステップS5に移行
し、ウエハの取出しか収納かが判断され、収納の場合、
ステップS6に移行し、取出しの場合にはステップS9
に移行する。ステップS6では自動か手動かの判断が行
われ、自動の場合にはステップS7に移行してウエハ収
納場所の読み込み処理、手動の場合にはステップS8に
移行してウエハ収納段数の読み込み処理が行われた後、
ステップS12に移行する。The control operation of detecting, taking out and storing the wafer 4 thus constructed will be described with reference to the flow charts shown in FIGS. As shown in FIG. 7, in step S1, the contents stored in the RAM 23 are erased by initialization, and the process proceeds to step S2. In step S2, it is determined whether the start switch a is on or off. If the start switch a is on, the process proceeds to step S3. In step S3, it is determined whether or not the input is the initial input. If the input is the initial input, the process proceeds to step S4, and the initial input process (FIG. 8) is called and the process is executed. If it is determined in step S3 that it is not the initial input, the process proceeds to step S5, it is determined whether the wafer is to be taken out or stored, and if it is stored,
The process moves to step S6, and in the case of taking out, step S9
Move to In step S6, it is determined whether it is automatic or manual. If it is automatic, the process proceeds to step S7 to read the wafer storage location, and if it is manual, the process proceeds to step S8 to read the wafer storage stage number. After being broken
Control goes to step S12.
【0020】また、ステップS5で取出しと判断された
場合には、ステップS9に移行して自動か手動かの判断
が行われ、自動の場合にはステップS10に移行して取
出しウエハの読み込み処理、手動の場合にはステップS
11に移行して取出しウエハの段数読み込み処理が行わ
れた後、ステップS12に移行する。If it is determined in step S5 that the wafer is to be taken out, the process proceeds to step S9 to determine whether it is automatic or manual. If it is automatic, the process proceeds to step S10 to read the wafer to be taken out. Step S if manual
After shifting to 11 and reading the number of wafers to be taken out, the process proceeds to step S12.
【0021】ステップS12ではエレベータ2の移動量
の算出が行われた後、ステップS13に移行する。ステ
ップS13ではエレベータ2の位置に補正量を加算する
処理が行われた後、ステップS14に移行する。ステッ
プS14ではウエハの取出しか収納かの判断が行われ、
収納の場合にはステップS15に移行し、取出しの場合
にはステップS16に移行する。ステップS15では収
納処理の呼び出し及びその処理(図9)が行われた後、
ステップS17に移行する。また、ステップS16では
ウエハの取出し処理の呼び出し及びその処理(図10)
が行われた後、ステップS17に移行する。ステップS
17では処理すべきウエハが終了したか否かが判断さ
れ、処理すべきウエハがある場合にはステップS3に戻
り、前述したステップS3〜S17の処理が再び行わ
れ、また、処理すべきウエハが終了した場合には総ての
処理を完了する。After the moving amount of the elevator 2 is calculated in step S12, the process proceeds to step S13. In step S13, the process of adding the correction amount to the position of the elevator 2 is performed, and then the process proceeds to step S14. In step S14, it is determined whether the wafer is taken out or stored,
If it is stored, the process proceeds to step S15, and if it is taken out, the process proceeds to step S16. In step S15, after the storage process is called and the process (FIG. 9) is performed,
Control goes to step S17. Further, in step S16, a wafer unloading process is called and its process (FIG. 10).
After that, the process proceeds to step S17. Step S
In step 17, it is judged whether or not the wafer to be processed is completed. If there is a wafer to be processed, the process returns to step S3, the above-described steps S3 to S17 are performed again, and the wafer to be processed is When the processing is completed, all processing is completed.
【0022】次に、図8は、初期入力処理を示す。即
ち、ステップS18では取出しアーム9をエレベータ2
のステージの原点位置に設定し、ステップS19に移行
する。ステップS19では取出しアーム9をエレベータ
2の初期設定値に設定し、ステップS20に移行する。
ステップS20では固定ピンが下がり、ステップS21
に移行する。ステップS21で自動と判断された場合に
はステップS22に移行してウエハの出し入れ設定を行
った後、ステップS23に移行し、手動と判断された場
合には、ステップS22を省略してステップS23に移
行する。Next, FIG. 8 shows an initial input process. That is, in step S18, the takeout arm 9 is moved to the elevator 2
The origin position of the stage is set, and the process proceeds to step S19. In step S19, the take-out arm 9 is set to the initial setting value of the elevator 2, and the process proceeds to step S20.
In step S20, the fixing pin is lowered, and in step S21
Move to If it is determined to be automatic in step S21, the process proceeds to step S22 to set the wafer loading / unloading, and then the process proceeds to step S23. If it is determined to be manual, step S22 is omitted and the process proceeds to step S23. Transition.
【0023】ステップS23ではエレベータ2のステー
ジが駆動され、ステップS24に移行してウエハの有無
が判定される。即ち、ステップS24でウエハ検出装置
の検出出力に基づいてウエハが存在していると判断され
た場合には、ステップS25に移行し、ウエハが存在し
ていない場合にはステップS27に移行する。ステップ
S25ではウエハ位置の計算が行われた後、ステップS
26に移行する。ステップS26ではウエハナンバーと
ウエハ位置よりアドレステーブルが作成され、ステップ
S27に移行する。ステップS27では上限であるか否
かが判定され、上限でない場合には再びステップS23
に戻り、また、上限である場合には、図7のステップS
3に戻り、初期入力処理を完了する。In step S23, the stage of the elevator 2 is driven, and the process proceeds to step S24 to determine the presence / absence of a wafer. That is, if it is determined in step S24 that a wafer is present based on the detection output of the wafer detection device, the process proceeds to step S25, and if no wafer is present, the process proceeds to step S27. After the wafer position is calculated in step S25, step S25 is performed.
Move to 26. In step S26, an address table is created from the wafer number and wafer position, and the process proceeds to step S27. In step S27, it is determined whether or not it is the upper limit, and if it is not the upper limit, step S23 is performed again.
, And if it is the upper limit, step S in FIG.
Returning to step 3, the initial input process is completed.
【0024】次に、図9はウエハ4の収納処理を示す。
この収納処理では、ステップS30でエレベータ2のス
テージが収納箱5のウエハ収納位置まで駆動し、ステッ
プS31に移行する。ステップS31では固定ピンバキ
ュームをオフ状態とし、ウエハ取出しバキュームをオン
状態とする。次に、ステップS32では固定ピンが下が
り、ステップS33では取出しアーム9をウエハ収納位
置まで駆動する。次に、ステップS34では取出しアー
ム9のバキュームを解除し、取出しアーム9上のウエハ
4は収納箱5の収納位置に収納される。次に、ステップ
S35ではエレベータ2のステージが下がり、ステップ
S36では取出しアーム9は原点位置に復帰し、収納処
理を完了し、図7に示すステップS17に移行する。Next, FIG. 9 shows a process of storing the wafer 4.
In this storage process, the stage of the elevator 2 is driven to the wafer storage position of the storage box 5 in step S30, and the process proceeds to step S31. In step S31, the fixed pin vacuum is turned off and the wafer take-out vacuum is turned on. Next, in step S32, the fixing pin is lowered, and in step S33, the takeout arm 9 is driven to the wafer storage position. Next, in step S34, the vacuum of the take-out arm 9 is released, and the wafer 4 on the take-out arm 9 is stored in the storage position of the storage box 5. Next, in step S35, the stage of the elevator 2 is lowered, and in step S36, the take-out arm 9 is returned to the origin position, the storage process is completed, and the process proceeds to step S17 shown in FIG.
【0025】次に、図10はウエハ4の取出し処理を示
す。この取出し処理では、ステップS37でエレベータ
2のステージが収納箱5のウエハ収納位置まで駆動し、
ステップS38に移行する。ステップS38では収納箱
5に収納されているウエハ4の中心位置まで取出しアー
ム9を駆動し、ステップS39に移行する。ステップS
39では取出しアーム9のバキュームをオン状態とし、
取出しアーム9に取り出すべきウエハ4を吸着させる。
ステップS40ではエレベータ2のステージを上昇させ
た後、ステップS41に移行する。ステップS41では
取出しアーム9をエレベータ2のステージの原点位置に
復帰させた後、ステップS42に移行し、取出しアーム
9に対するバキュームを解除するとともに固定ピンのバ
キュームを動作させ、ステップS43に移行する。ステ
ップS43では固定ピンが上がり、ウエハ4の取出し処
理を完了し、図7に示すステップS17に移行する。Next, FIG. 10 shows a process for taking out the wafer 4. In this take-out process, the stage of the elevator 2 is driven to the wafer storage position of the storage box 5 in step S37,
Control goes to step S38. In step S38, the take-out arm 9 is driven to the center position of the wafer 4 stored in the storage box 5, and the process proceeds to step S39. Step S
At 39, the vacuum of the take-out arm 9 is turned on,
The wafer 4 to be taken out is adsorbed to the taking-out arm 9.
In step S40, after raising the stage of the elevator 2, the process proceeds to step S41. In step S41, the take-out arm 9 is returned to the origin position of the stage of the elevator 2, and then the process proceeds to step S42, the vacuum for the take-out arm 9 is released, the vacuum of the fixing pin is operated, and the process proceeds to step S43. In step S43, the fixing pin is raised, the process of taking out the wafer 4 is completed, and the process proceeds to step S17 shown in FIG.
【0026】このような移送制御プログラム処理におい
て、収納箱5から指定されたウエハ4を取り出す場合、
収納箱5内のウエハ位置状態をウエハ検出装置eにて検
出した検出データをRAM23から読み出し、CPU2
1からの出力がエレベータ駆動回路33で駆動出力に変
換される。この結果、パルスモータ11が駆動されてボ
ールスクリュー12が回転し、エレベータ2をウエハを
取り出す位置まで上昇させる。In the transfer control program processing as described above, when taking out the designated wafer 4 from the storage box 5,
The detection data obtained by detecting the wafer position state in the storage box 5 by the wafer detection device e is read from the RAM 23, and the CPU 2
The output from 1 is converted into a drive output by the elevator drive circuit 33. As a result, the pulse motor 11 is driven and the ball screw 12 is rotated to raise the elevator 2 to a position where the wafer is taken out.
【0027】収納箱5のウエハ4と取出しアーム9の上
面の関係は、取り出すべきウエハ4より僅かに低い位置
に取出しアーム9の吸着面を位置させている。取出しア
ーム9は、収納箱5におけるウエハ4の収納間隔により
薄く形成されているとともに、その移動位置はウエハ4
の間隔内に設定されるので、収納箱5取出しアーム9を
挿入しても、取り出すべきウエハ4に衝突することはな
い。Regarding the relationship between the wafer 4 in the storage box 5 and the upper surface of the taking-out arm 9, the suction surface of the taking-out arm 9 is located at a position slightly lower than the wafer 4 to be taken out. The take-out arm 9 is formed thinly according to the storage interval of the wafers 4 in the storage box 5, and its moving position is set to the wafer 4
Since it is set within the interval, even if the takeout arm 5 of the storage box 5 is inserted, it does not collide with the wafer 4 to be taken out.
【0028】そして、取出しアーム9は、吸着面の中心
をウエハ4の中心まで挿入する。この状態で取出しアー
ム99の吸着面にウエハ4が載せられると、CPU21
からの指令によってバキュームを作用させると、取出し
アーム9の吸着面にウエハ4が吸着される。このとき、
ウエハ4で取出しアーム9の吸着面の穴が塞がれてバキ
ューム穴の圧力が低くなり、ウエハ4の吸着がバキュー
ム検出器31が検出され、その検出出力によってバキュ
ームスイッチが働き、CPU21にウエハ4の吸着情報
が伝達される。この吸着情報に基づいて、CPU21か
ら取出しアーム9の移動命令が出力され、この結果、ウ
エハ取出・収納駆動回路34から駆動出力が発せられて
パルスモータ13が回転し、取出しアーム9をB点位置
まで移動させる。取出しアーム9を基準の高さの位置ま
でエレベータ2を移動させた後、取出しアーム9に対す
るバキュームを解除する。B点に位置している固定ピン
がバキュームで上昇して、ウエハ4は固定ピンで持ち上
げられ基準の位置にセットされる。このとき、固定ピン
の上面にバキュームが働いており、ウエハ4が吸着され
る。Then, the take-out arm 9 inserts the center of the suction surface to the center of the wafer 4. When the wafer 4 is placed on the suction surface of the take-out arm 99 in this state, the CPU 21
When a vacuum is applied in response to a command from the wafer 4, the wafer 4 is attracted to the attraction surface of the take-out arm 9. At this time,
The hole of the suction surface of the take-out arm 9 is closed by the wafer 4, the pressure of the vacuum hole is lowered, the suction of the wafer 4 is detected by the vacuum detector 31, and the vacuum switch is activated by the detection output to cause the CPU 21 to send the wafer 4 to the wafer 4. Adsorption information is transmitted. Based on this suction information, the CPU 21 outputs a command to move the take-out arm 9, and as a result, a drive output is issued from the wafer take-out / accommodation drive circuit 34 to rotate the pulse motor 13 to move the take-out arm 9 to the B point position. Move to. After the elevator 2 is moved to the position of the reference height, the vacuum for the takeout arm 9 is released. The fixed pin located at the point B rises by vacuum, and the wafer 4 is lifted by the fixed pin and set at the reference position. At this time, the vacuum is acting on the upper surface of the fixed pin, and the wafer 4 is adsorbed.
【0029】また、収納箱5の指定された位置にウエハ
4を収納する場合には、固定ピンを取出しアーム9より
下降させることにより、取出しアーム9にバキュームが
働きウエハ4を吸着するため、バキュームスイッチが働
きCPU21に伝達され、CPU21から制御出力が得
られ、ウエハ取出し・収納駆動回路34から駆動出力が
パルスモータ13に加えられ、その回転によって指定さ
れた位置まで取出しアーム9が収納されたウエハ4に衝
突しない高さで移動する。即ち、収納箱5のポケットの
中間部におけるウエハ4が挿入できる高さに取出しアー
ム9を移動させ、その位置にウエハ4を収納し、バキュ
ームを解除した後、前述したウエハ4の取出しの場合と
同様に取出しアーム9を後退させて原位置に復帰させ
る。Further, when the wafer 4 is stored in the designated position of the storage box 5, the fixing pin is lowered from the pick-up arm 9 so that the pick-up arm 9 is vacuumed so that the wafer 4 is sucked. A switch operates and is transmitted to the CPU 21, a control output is obtained from the CPU 21, a drive output is applied from the wafer take-out / accommodation drive circuit 34 to the pulse motor 13, and a wafer in which the take-out arm 9 is accommodated up to a position designated by its rotation. Move at a height that does not collide with 4. That is, the removal arm 9 is moved to a height at which the wafer 4 can be inserted in the middle portion of the pocket of the storage box 5, the wafer 4 is stored at that position, the vacuum is released, and then the above-described removal of the wafer 4 is performed. Similarly, the take-out arm 9 is retracted to return to the original position.
【0030】なお、実施例では、反射鏡3を設置して発
光素子7側に光ビームLrを戻して受光素子8で受光す
るようにしたが、反射鏡3に代えて受光素子を設置し、
収納箱5を通過して光ビームLiを直接受光することに
より、収納箱5内のウエハ4の有無を検出するようにし
てもよい。In the embodiment, the reflecting mirror 3 is installed and the light beam Lr is returned to the light emitting element 7 side to be received by the light receiving element 8. However, instead of the reflecting mirror 3, a light receiving element is installed,
The presence or absence of the wafer 4 in the storage box 5 may be detected by directly receiving the light beam Li after passing through the storage box 5.
【0031】また、実施例では、ウエハ検出手段として
光学的な検出装置を用いたが、ウエハ検出手段としては
光ビーム以外の検出媒体を用いても同様にウエハの検出
を行うことができる。Further, in the embodiment, the optical detecting device is used as the wafer detecting means, but the wafer can be similarly detected by using a detecting medium other than the light beam as the wafer detecting means.
【0032】[0032]
【発明の効果】 本発明のウエハ移送装置によれば、収
納箱に任意の間隔で収納されたウエハの前記収納箱に対
する任意の位置からの選択的な取り出しと、収納箱への
ウエハの前記収納に対する任意の位置への収納とを行う
ウエハ移送装置において、前記収納箱内に収納されたウ
エハの位置又は空位置のデータを前記記憶手段から第1
の制御部が受けとることが可能となり、この第1の制御
部による前記アーム進退機構の進退動作を前記収納箱内
のどの位置にウエハが収納されているかという情報に基
づいて、制御する自動化が可能となる。又、前記収納箱
から前記アーム進退機構へのウエハの移載に際しては、
前記アーム進退機構のアームを前記収納箱内のウエハの
下まで進入させた後に、前記アームを上昇させて前記ウ
エハが前記アームの載置面に設けられたバキューム穴を
確実に塞いだ時のこのバキューム穴の圧力変化をバキュ
ーム検出器を介して第2の制御器が受け取るので、前記
ウエハの前記載置面における位置ずれや、傾き等の移載
不良を検出する確実なウエハの移載が可能となる。又、
前記第2のの制御器が前記アーム進退機構に進退命令を
出すので、前記ウエハの移載不良の発生に際しては、前
記アームの進退動作を未然に防止して、前記ウエハの前
記アームからの取りこぼしによる破損を防止することが
出来る。更に、このウエハの移載を、前記アームの載置
面に設けられたバキューム穴の低下により検出するの
で、仮に前記ウエハの前載置面上での位置ずれ、あるい
は傾き等の異常が有ればこれを発見し、アーム進退機構
の進退動作開始前に制止して、ウエハの落下による破損
あるいはウエハの位置ずれした状態での前記アーム進退
機構によるウエハ搬送に伴う衝突等の事故を未然に防止
することができる。更に、前記ウエハは少なくとも前記
進退機構が進退する間は、前記アームの載置面に吸着さ
れるので、前記進退機構の移動に伴って発生する振動あ
るいは慣性等により前記ウエハが前記載置面上で位置ず
れを起こすことなく、正確に移載される。更に、アーム
の前記収納箱への挿入部は、前記収納箱に収納されたウ
エハの間に挿入され、取り出すべきウエハより僅かに低
い位置に前記アームの前記吸着面を位置させられるの
で、前記収納箱へ任意の間隔で収納された複数のどのウ
エハ対しても、前記アームが前記収納箱に挿入された
後、水平方向への移動を停止された状態で僅かな距離上
昇することにより、前記収納箱から前記アームへのウエ
ハの移載が行われるので、前記ウエハが水平方向に位置
ずれを起こすことなく前記アームへ前記収納箱内の前記
ウエハの載置位置の上方において移載が行われる。According to the wafer transfer device of the present invention, the wafers stored in the storage box at arbitrary intervals are selectively taken out from an arbitrary position with respect to the storage box, and the wafers are stored in the storage box. In a wafer transfer device for storing the wafer in an arbitrary position with respect to the wafer, the data of the position or the empty position of the wafer stored in the storage box is stored in the first storage unit.
Can be received by the control unit, and automation of controlling the advance / retreat operation of the arm advance / retreat mechanism by the first control unit can be performed based on the information on which position in the storage box the wafer is stored. Becomes When transferring the wafer from the storage box to the arm advancing / retreating mechanism,
After the arm of the arm advancing / retreating mechanism is advanced to below the wafer in the storage box, the arm is raised to securely cover the vacuum hole provided on the mounting surface of the arm by the wafer. Since the second controller receives the pressure change of the vacuum hole via the vacuum detector, it is possible to reliably transfer the wafer to detect the transfer error such as the positional deviation on the mounting surface of the wafer and the inclination. Becomes or,
Since the second controller issues an advancing / retreating command to the arm advancing / retreating mechanism, when the transfer failure of the wafer occurs, the advancing / retreating operation of the arm is prevented in advance, and the wafer is missed from the arm. It is possible to prevent damage due to. Furthermore, since the transfer of the wafer is detected by the lowering of the vacuum hole provided on the mounting surface of the arm, it is assumed that there is an abnormality such as a positional deviation on the front mounting surface of the wafer or an inclination. If this is found, it will be stopped before the start of the forward / backward movement of the arm forward / backward mechanism to prevent accidents such as damage due to wafer drop or collisions due to wafer transfer by the arm forward / backward mechanism when the wafer is misaligned. can do. Further, since the wafer is attracted to the mounting surface of the arm at least while the advancing / retreating mechanism advances / retracts, the wafer is placed on the mounting surface due to vibration or inertia generated along with the movement of the advancing / retreating mechanism. Accurate transfer without causing positional displacement. Further, the insertion portion of the arm into the storage box is inserted between the wafers stored in the storage box, and the suction surface of the arm is located at a position slightly lower than the wafer to be taken out. For any of a plurality of wafers stored at arbitrary intervals in the box, the arms are inserted into the storage box, and then are moved by a slight distance with the movement in the horizontal direction being stopped, so that the storage is performed. Since the wafers are transferred from the box to the arm, the wafers are transferred to the arm above the mounting position of the wafer in the storage box without causing horizontal displacement of the wafer.
【図1】この発明のウエハ移送装置の実施例を示す斜視
図である。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a wafer transfer device of the present invention.
【図2】図1に示すウエハ移送装置におけるウエハの取
出し状態を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a wafer taking-out state in the wafer transfer device shown in FIG.
【図3】図1に示すウエハ移送装置におけるウエハ検出
装置を示す斜視図である。3 is a perspective view showing a wafer detection device in the wafer transfer device shown in FIG. 1. FIG.
【図4】図3に示すウエハ検出装置によるウエハの検出
を示す斜視図である。4 is a perspective view showing detection of a wafer by the wafer detection apparatus shown in FIG.
【図5】この発明のウエハ移送装置の制御システムを示
すブロック図である。FIG. 5 is a block diagram showing a control system of the wafer transfer device of the present invention.
【図6】図5に示した制御系統における制御装置を示す
ブロック図である。6 is a block diagram showing a control device in the control system shown in FIG.
【図7】ウエハの移送制御プログラムを示すフローチャ
ートである。FIG. 7 is a flowchart showing a wafer transfer control program.
【図8】ウエハの移送制御プログラムを示すフローチャ
ートである。FIG. 8 is a flowchart showing a wafer transfer control program.
【図9】ウエハの移送制御プログラムを示すフローチャ
ートである。FIG. 9 is a flowchart showing a wafer transfer control program.
【図10】ウエハの移送制御プログラムを示すフローチ
ャートである。FIG. 10 is a flowchart showing a wafer transfer control program.
e ウエハ検出装置(ウエハ検出手段) h ウエハ取出・収納装置 2 エレベータ(昇降機構) 4 ウエハ 5 収納箱 9 取出しアーム 13 パルスモータ(アーム進退機構) 14 プーリ(アーム進退機構) 15 ベルト(アーム進退機構) 20 制御部(制御手段) e Wafer Detecting Device (Wafer Detecting Unit) h Wafer Ejecting / Storing Device 2 Elevator (Elevating Mechanism) 4 Wafer 5 Storage Box 9 Ejecting Arm 13 Pulse Motor (Arm Advance / Retract Mechanism) 14 Pulley (Arm Advance Mechanism) 15 Belt (Arm Advance Mechanism) ) 20 control unit (control means)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B65H 1/28 321 8712−3F 3/44 344 8712−3F G06M 9/00 Z H01L 21/66 G 7514−4M 21/68 L ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location B65H 1/28 321 8712-3F 3/44 344 8712-3F G06M 9/00 Z H01L 21/66 G 7514-4M 21/68 L
Claims (4)
納箱と、 この収納箱内のウエハの有無を検出するウエハ検出手段
と、 前記収納箱内外から移送すべき前記ウエハを載置するア
ームと、 前記アームを前記収納箱の内外で進退させ、前記収納箱
内とこの収納箱外の所定の位置との間で前記ウエハの移
送を行うアーム進退機構と、 このアーム進退機構と前記収納箱との上下方向の相対的
な位置関係を変更させて、前記収納箱とアームとの間で
前記ウエハの授受を行わせる昇降機構と、 前記アームの前記ウエハを載置する載置面に設けられ、
前記ウエハの吸着を行うバキューム穴と、 このバキューム穴の圧力を検出するバキューム検出器
と、 からなり、 前記ウエハ検出手段の検出出力に基づいて、前記収納箱
内のウエハ又は空き位置を表す検出データを記憶手段に
記憶し、そのデータに基づいて前記昇降機構を制御し
て、前記収納箱に対して前記昇降機構の昇降を行う第1
の制御部と、 前記バキューム検出器の出力を入力して前記アーム進退
機構に進退命令を出力する第2の制御部と、 を具備したことを特徴とするウエハ移送装置。1. An accommodating box for accommodating a plurality of wafers at arbitrary intervals, wafer detection means for detecting the presence / absence of wafers in the accommodating box, and an arm for placing the wafer to be transferred from inside or outside the accommodating box. And an arm advancing / retreating mechanism for advancing / retreating the arm inside / outside the storage box to transfer the wafer between the inside of the storage box and a predetermined position outside the storage box, and the arm advancing / retreating mechanism and the storage box. And an elevating mechanism for changing the relative relative position in the up-down direction to transfer the wafer between the storage box and the arm, and a mounting surface of the arm on which the wafer is mounted. ,
A vacuum hole for adsorbing the wafer, and a vacuum detector for detecting the pressure of the vacuum hole. Based on the detection output of the wafer detecting means, detection data indicating a wafer or an empty position in the storage box. A first storing means for storing and storing the storage means in the storage means, and controlling the elevating mechanism based on the data to elevate the elevating mechanism with respect to the storage box.
And a second controller for receiving the output of the vacuum detector and outputting an advance / retreat command to the arm advance / retreat mechanism.
前記アーム上の載置面に設けられた前記バキューム穴を
塞ぐことにより、前記バキューム穴の圧力が低下するこ
とを検出することを特徴とする請求項1記載のウエハ移
送装置。2. The vacuum detector detects that the pressure of the vacuum hole is lowered by closing the vacuum hole provided on the mounting surface on the arm by the wafer. The wafer transfer device according to claim 1.
記アームへの吸着は、少なくとも前記アーム進退機構が
進退する間は前記ウエハの吸着が行われることを特徴と
する請求項1記載のウエハ移送装置。3. The wafer transfer apparatus according to claim 1, wherein the suction of the wafer to the arm by the vacuum hole is performed at least while the arm advancing / retreating mechanism advances and retracts.
前記収納箱に収納されたウエハの収納間隔より薄く形成
され、前記アームは取り出すべきウエハより僅かに低い
位置に前記アームの前記吸着面を位置させられることを
特徴とする請求項1記載のウエハ移送装置。4. The insertion portion of the arm into the storage box,
2. The wafer transfer according to claim 1, wherein the wafer is housed in the housing box to be thinner than the space between the wafers and the suction surface of the arm can be located at a position slightly lower than the wafer to be taken out. apparatus.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP3083600A JPH0817199B2 (en) | 1991-03-23 | 1991-03-23 | Wafer transfer device |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04340245A (en) | 1992-11-26 |
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