JPH0818469B2 - Method for producing lithographic printing plate support - Google Patents
Method for producing lithographic printing plate supportInfo
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- JPH0818469B2 JPH0818469B2 JP63012568A JP1256888A JPH0818469B2 JP H0818469 B2 JPH0818469 B2 JP H0818469B2 JP 63012568 A JP63012568 A JP 63012568A JP 1256888 A JP1256888 A JP 1256888A JP H0818469 B2 JPH0818469 B2 JP H0818469B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、印刷版用支持体の粗面化方法に関し、特
に、マンガンを含有するアルミニウム板からなる印刷版
用支持体の粗面化方法に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a roughening method for a printing plate support, and more particularly to a roughening method for a printing plate support made of an aluminum plate containing manganese. It is about.
印刷版用支持体、特に平板印刷版支持体としては、ア
ルミニウム板が用いられ、ユーザーの多様化から、アル
ミニウム支持体も極少量鉄分,珪素が含有された純アル
ミニウムに近いものからマンガンを添加した支持体など
多岐にわたっている。またマンガンを添加した支持体は
純アルミニウムに比べて引張強度が大幅に増加し、今後
更に増加の傾向にある。An aluminum plate is used as a printing plate support, particularly a lithographic printing plate support, and manganese is added to the aluminum support from a material close to pure aluminum containing a very small amount of iron and silicon due to diversification of users. There are a wide variety of support materials. Further, the tensile strength of the support to which manganese is added is greatly increased as compared with that of pure aluminum, and the tendency is to increase further in the future.
印刷版用アルミニウム支持体の粗面化方法としては、
機械的な砂目立て法,電気化学的な砂目立て法などがあ
り、又それらを適時組合せた形で粗面化を行っている。As a roughening method of the aluminum support for printing plates,
There are mechanical graining methods, electrochemical graining methods, etc., and the roughening is performed by combining them in a timely manner.
機械的な砂目立て法としては、例えばボールグレイ
ン,ワイヤーグレイン,ブラッシングレイン,液体ホー
ニング法などがある。また電気化学的砂目立て法として
は、交流電解エッチング法が一般的に採用されており、
電流としては、普通の正弦波交流電流あるいは矩形波な
ど、特殊交番電流が用いられている。またこの電気化学
的砂目立ての前処理として、苛性ソーダなどでエッチン
グ処理をしても良い。Mechanical graining methods include, for example, ball graining, wire graining, brushing rain, and liquid honing. As the electrochemical graining method, the alternating current electrolytic etching method is generally adopted,
As the current, a special alternating current such as an ordinary sine wave alternating current or a rectangular wave is used. Further, as a pretreatment for this electrochemical graining, etching treatment with caustic soda may be performed.
この様にして粗面化されたアルミニウム支持体を陽極
酸化処理して、平版印刷版支持体としている(例えば特
公昭57-16918号公報)。The thus roughened aluminum support is anodized to obtain a lithographic printing plate support (for example, Japanese Patent Publication No. 57-16918).
近年マンガンなどを含有したアルミニウム支持体が増
加しているが、マンガン,銅,鉄などがアルミニウム支
持体に含有されている為、電気化学的砂目立てで出来る
ピットは、このような不純物の影響で、ピット径が大き
いという特徴があった、ピット径が大きく、深い砂目
は、耐刷性は良いが、現像後感光層が残りやすく汚れ性
能の悪い平板印刷版支持体となっていた。In recent years, the number of aluminum supports containing manganese has increased, but since manganese, copper, iron, etc. are contained in the aluminum supports, the pits formed by electrochemical graining are affected by such impurities. The pit diameter was large, and the pit diameter was large and the deep grain had good printing durability, but it was a lithographic printing plate support with poor photosensitive performance because the photosensitive layer was likely to remain after development.
電気化学的砂目立て方法に関しては、近年各種検討さ
れており、例えば米国特許第4,482,434号明細書では、
1.5〜10Hzの交流で、電解液にて粗面化すると、均一な
ピットが生成することが開示されている。しかし10Hz以
下では、ピット径が大きなものしか出来ず汚れ性能の悪
い印刷版しか出来ないという問題があった。また、米国
特許第4,297,184号,同第4,279,714号,同第4,279,715
号各明細書は、塩酸を主体とした液で、20Hz程度の周波
数で行うことを示しているが、浴が塩酸主体である為、
ピット径の小さな砂目を得ることは難しかった。また、
米国特許第4,548,683号明細書では、交流で140〜400Hz,
7〜22A/dm2の電流密度で酸性電解液中にて粗面化するこ
とで、スマットを生成せず均一なピットが生成している
ことを示しているが、周波数が140Hz以上と高いと、
銅,マンガン,鉄などの不純物が多くなると、均一なピ
ットが生成しないという問題があった。Regarding the electrochemical graining method, various studies have been made in recent years, for example, in U.S. Pat.No. 4,482,434,
It is disclosed that uniform pits are generated when the surface is roughened with an electrolytic solution at an alternating current of 1.5 to 10 Hz. However, at 10 Hz or less, there was a problem that only a large pit diameter could be produced and only a printing plate with poor stain performance could be produced. In addition, U.S. Pat. Nos. 4,297,184, 4,279,714, and 4,279,715.
Each specification indicates that the solution is mainly hydrochloric acid, and the frequency is about 20 Hz, but since the bath is mainly hydrochloric acid,
It was difficult to get a grain with a small pit diameter. Also,
In U.S. Pat.No. 4,548,683, the alternating current is 140 to 400 Hz,
It is shown that roughening in an acidic electrolyte at a current density of 7 to 22 A / dm 2 produces uniform pits without producing smut, but when the frequency is as high as 140 Hz or higher. ,
When impurities such as copper, manganese, and iron increase, there is a problem that uniform pits are not formed.
しかしながら、近年汚れ性能の良い印刷版用支持体の
提供が求められており、アルミニウム以外の不純物が含
有されていても均一でピット径が小さい砂目を大量生産
可能な方法で製造することが望まれていた。However, in recent years, it has been desired to provide a printing plate support having a good stain performance, and it is desired to produce a grain having a uniform and small pit diameter even if it contains impurities other than aluminum by a method capable of mass production. It was rare.
本発明の目的は、上記要望に応じアルミニウム以外の
不純物が含有されていてもピット径が小さな砂目を均一
に生成出来、汚れ性能の良い印刷版用支持体を大量生産
するに適した平版印刷版支持体の製造方法を提供するこ
とにある。An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate suitable for mass-producing a printing plate support having a small pit diameter even if it contains impurities other than aluminum according to the above demand, and can evenly generate a small pit diameter. It is to provide a method for producing a plate support.
本発明者らは、電気化学的な砂目立て方法において、
周波数,浴組成,温度など鋭意研究を行った結果、本発
明に到った。In the electrochemical graining method, the present inventors have
As a result of earnest research on frequency, bath composition, temperature and the like, the present invention has been achieved.
即ち、本発明の上記目的はアルミニウム支持体を、硝
酸を主体とした電解液中で、10〜20Hzの範囲内の周波数
を有する交流を使用して粗面化することを特徴とする平
版印刷版支持体の製造方法によって達成される。That is, the above-mentioned object of the present invention is a planographic printing plate characterized by roughening an aluminum support using an alternating current having a frequency in the range of 10 to 20 Hz in an electrolytic solution containing nitric acid as a main component. This is accomplished by the method of manufacturing the support.
本発明はアルミニウム板、特に0.3%以上のマンガン
を含有するアルミニウム支持体において有効である。The present invention is effective for an aluminum plate, particularly an aluminum support containing 0.3% or more of manganese.
以下本発明を詳細に説明する。アルミニウム支持体
は、まずアルカリエッチングされる。好ましいアルカリ
剤は、苛性ソーダ,苛性カリ,メタ珪酸ソーダ,炭酸ソ
ーダ,マルミン酸ソーダ,グルコン酸ソーダ等である。
濃度0.01〜20%,温度は20〜90℃,時間は5秒〜5分間
の範囲から選択されるのが適当であり、好ましいエッチ
ング量としては、0.01〜5g/m2である。Hereinafter, the present invention will be described in detail. The aluminum support is firstly alkali-etched. Preferred alkaline agents are caustic soda, caustic potash, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium marminate, sodium gluconate and the like.
It is appropriate that the concentration is 0.01 to 20%, the temperature is 20 to 90 ° C., and the time is 5 seconds to 5 minutes, and the preferable etching amount is 0.01 to 5 g / m 2 .
特にマンガン等不純物の多いアルミニウム支持体の場
合、エッチング量としては0.01〜1g/m2が適当である。Particularly, in the case of an aluminum support having a large amount of impurities such as manganese, the amount of etching is suitably 0.01 to 1 g / m 2 .
引き続き、アルカリエッチングしたアルミニウム板の
表面にアルカリに不溶な物質(スマット)が残存するの
で、必要に応じてデスマット処理を行っても良い。Subsequently, an alkali-insoluble substance (smut) remains on the surface of the alkali-etched aluminum plate, and therefore a desmut treatment may be performed if necessary.
前処理は上記の通りであるが、引き続き、本発明とし
て硝酸を主体とする電解液中で交流電解エッチングされ
る。交流電界電流の周波数としては、10〜20Hzであり、
硝酸濃度として3〜150g/l、より好ましくは5〜50g/l,
電解浴内のアルミ濃度としては50g/l以下が適当であ
り、より好ましくは2〜20g/lであり、この硝酸に必要
においては添加物を入れても良いが、大量生産をする場
合は、液濃度制御などが難しくなる。The pretreatment is as described above, but subsequently, according to the present invention, AC electrolytic etching is performed in an electrolytic solution containing nitric acid as a main component. The frequency of the alternating electric field current is 10 to 20 Hz,
The nitric acid concentration is 3 to 150 g / l, more preferably 5 to 50 g / l,
The aluminum concentration in the electrolytic bath is preferably 50 g / l or less, more preferably 2 to 20 g / l, and if necessary, an additive may be added to this nitric acid, but in the case of mass production, It becomes difficult to control the liquid concentration.
また、交流電解電流の電流密度は、5〜100A/dm2が適
当であるが10〜80A/dm2がより好ましい。また、この様
な条件は、電気量と共に求める品質,使用されるアルミ
ニウム支持体の成分などによって適時選択される。The current density of the alternating current electrolysis current, 5~100A / dm 2 but is appropriate and more preferably 10~80A / dm 2. In addition, such conditions are appropriately selected depending on the quality required along with the quantity of electricity, the components of the aluminum support used, and the like.
この様な条件で、ピット径0.5〜3μm,ピット深さ0.3
〜3μmの砂目を生成する。Under these conditions, the pit diameter is 0.5 to 3 μm and the pit depth is 0.3.
Generates ~ 3 μm grain.
電源波形としては、求める品質,使用されるアルミニ
ウム支持体の成分によって適時選択されるが、特公昭56
-19280号,特公昭55-19191号各公報に記載の特殊交番波
形を用いるがより好ましい。The power waveform is properly selected depending on the quality required and the components of the aluminum support used.
It is more preferable to use the special alternating waveform described in each of Japanese Patent Publication No. -19280 and Japanese Patent Publication No. 55-19191.
粗面化されたアルミニウムは、引続き、酸又はアルカ
リ溶液で処理されることが好ましい。具体的には特公昭
56-11316号公報に記載されている硫酸の他に、リン酸ま
たはリン酸とクロム酸の混液が用いられる。また、特公
昭48-28123号公報に記載されているような苛性ソーダな
どのアルカリ性溶液で軽くエッチング処理を行って、表
面に付着しているスマットを除去する。アルカリ溶液で
付着したスマットを除去する場合、アルミニウム表面を
エッチングするので、アルカリに不溶成分が残存する。
それ故に、酸性溶液(硫酸、リン酸、クロム酸等)によ
り再度デスマットする必要がある。Preferably, the roughened aluminum is subsequently treated with an acid or alkali solution. Specifically,
In addition to the sulfuric acid described in Japanese Patent Laid-Open No. 56-11316, phosphoric acid or a mixed liquid of phosphoric acid and chromic acid is used. Further, a light etching treatment is carried out with an alkaline solution such as caustic soda as described in JP-B-48-28123 to remove the smut adhering to the surface. When removing the smut adhered with an alkali solution, the aluminum surface is etched, so that components insoluble in alkali remain.
Therefore, it is necessary to desmut again with an acidic solution (sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, etc.).
陽極酸化皮膜は0.1〜10g/m2、より好ましくは0.3〜5g
/m2表面に形成するのが良い。陽極酸化処理する前にア
ルカリエッチング、デスマット処理するのが好ましい。Anodized layer 0.1 to 10 g / m 2, more preferably 0.3~5g
It is better to form on the / m 2 surface. It is preferable to perform alkali etching and desmut treatment before performing anodizing treatment.
陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によって種
々変化するので一概には決定されないが一般的には、電
解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70%、電流密度0.
5〜60A/cm2、電圧1〜100V、電解時間1秒〜5分の範囲
が適当である。The treatment conditions for anodization are not generally determined because they vary depending on the electrolyte solution used, but generally, the concentration of the electrolyte solution is 1 to 80% by weight, the liquid temperature is 5 to 70%, and the current density is 0.
A range of 5 to 60 A / cm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 1 second to 5 minutes are suitable.
この様にして得られた陽極酸化皮膜を持つ砂目のアル
ミニウム板はそれ自身安定で親水性に優れたものである
から、直ちに感光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必
要により更に表面処理を施す事が出来る。たとえば、先
に記載したアルカリ金属珪酸塩によるシリケート層ある
いは、親水性高分子化合物よりなる下塗層を設けること
ができる。下塗層の塗布量は5〜150mg/m2が好ましい。The thus-obtained aluminum plate having an anodized film is itself stable and excellent in hydrophilicity, so that a photosensitive coating film can be immediately provided on the aluminum plate, but if necessary, the surface can be further improved. Can be processed. For example, a silicate layer made of the alkali metal silicate described above or an undercoat layer made of a hydrophilic polymer compound can be provided. The coating amount of the undercoat layer is preferably 5 to 150 mg / m 2 .
次に、このように処理したアルミニウム支持体上に感
光性塗膜を設け、画像露光、現像して製版した後に、印
刷機にセットし、印刷を開始する。Next, a photosensitive coating film is provided on the aluminum support treated in this way, and after image exposure, development and plate making, it is set in a printing machine and printing is started.
実施例−1 マンガンを1.2%含有するJIS3003材のアルミニウム支
持体を、3%苛性ソーダ水溶液を50℃に温めた溶液中に
浸漬し、アルミニウム溶解量が0.1g/m2になる様にエッ
チングした後、スマットを除去し、水洗した。Example 1 An aluminum support of JIS3003 material containing 1.2% of manganese was immersed in a solution of a 3% aqueous solution of caustic soda warmed to 50 ° C. and etched so that the amount of dissolved aluminum was 0.1 g / m 2. Then, the smut was removed and washed with water.
その後、15g/lの硝酸溶液に5g/lのアルミニウムイオ
ンを混合させ、浴温度50℃にて、特公昭55-19191号公報
に記載の交番波形電流を用いて粗面化した。電解条件は
VA=15.2ボルト,VC=13.1ボルト陽極時電気量が250ク
ローン/dm2となる様にし、周波数を11Hz,15Hz,20Hz,40
Hz,60Hz,80Hz,100Hzの各条件で設定し、それぞれサンプ
ルをA,B,C,D,E,F,Gと名称した。その後、表面のスマッ
トを除去した後、20%硫酸中で陽極酸化皮膜を2.5g/m2
設け、水洗し、乾燥した。これを基板〔A〕,〔B〕,
〔C〕,〔D〕,〔E〕,〔F〕,〔G〕とする。Then, 15 g / l of nitric acid solution was mixed with 5 g / l of aluminum ions, and the surface was roughened at a bath temperature of 50 ° C. using an alternating waveform current described in JP-B-55-19191. Electrolysis conditions
V A = 15.2 V, V C = 13.1 V Anode electricity quantity is set to 250 clones / dm 2, and frequency is 11 Hz, 15 Hz, 20 Hz, 40
It was set under each condition of Hz, 60Hz, 80Hz and 100Hz, and the samples were named A, B, C, D, E, F and G, respectively. Then, after removing the surface smut, the anodic oxide film was 2.5 g / m 2 in 20% sulfuric acid.
It was provided, washed with water, and dried. This is the substrate [A], [B],
These are [C], [D], [E], [F], and [G].
比較例−1〜7 マンガンを1.2%含有するJIS3003材のアルミニウム支
持体を、3%苛性ソーダ水溶液を50℃に温めた溶液中に
浸漬し、アルミニウム溶解量が0.1g/m2になる様にエッ
チングした後、スマットを除去し、水洗した。Comparative Examples 1 to 7 A JIS 3003 aluminum support containing 1.2% manganese was immersed in a solution of a 3% caustic soda solution heated to 50 ° C. and etched so that the amount of aluminum dissolved was 0.1 g / m 2. After that, the smut was removed and washed with water.
その後、15g/lの硝酸溶液に5g/lのアルミニウムイオ
ンを混合させ、浴濃度50℃にて、特公昭55-19191号公報
に記載の交番波形電流を用いて粗面化した。電解条件
は、VA=15.2ボルト,VC=13.1ボルト,陽極時電気量が
250クーロン/dm2となる様にし、周波数を、0.1Hz,0.3H
z,1.0Hz,5Hz,9Hz,150Hz,400Hzの各条件に設定し、それ
ぞれH,I,J,K,L,M,Nと名称した。その後、表面のスマッ
トを除去した後、20%硫酸中で陽極酸化皮膜を2.5g/m2
設けて水洗し、乾燥した。これを基板〔H〕,〔I〕,
〔J〕,〔K〕,〔L〕,〔M〕,〔N〕とする。Then, 15 g / l nitric acid solution was mixed with 5 g / l aluminum ion, and roughening was performed at a bath concentration of 50 ° C. using an alternating waveform current described in JP-B-55-19191. The electrolysis conditions are V A = 15.2 V, V C = 13.1 V, and the amount of electricity at the anode is
250 coulomb / dm 2 and frequency is 0.1Hz, 0.3H
It was set to each condition of z, 1.0Hz, 5Hz, 9Hz, 150Hz, 400Hz, and named as H, I, J, K, L, M, N, respectively. Then, after removing the surface smut, the anodic oxide film was 2.5 g / m 2 in 20% sulfuric acid.
It was provided, washed with water, and dried. This is the substrate [H], [I],
[J], [K], [L], [M], and [N].
比較例−8 マンガンを1.2%含有するJIS3003材のアルミニウム支
持体を3%苛性ソーダ水溶液を50℃に温めた溶液中に浸
漬し、アルミニウム溶解量が0.1g/m2になる様にエッチ
ングした後、スマットを除去し、水洗した。Comparative Example-8 A JIS3003 aluminum support containing 1.2% of manganese was immersed in a solution of a 3% aqueous solution of caustic soda warmed to 50 ° C. and etched so that the amount of dissolved aluminum would be 0.1 g / m 2 . The smut was removed and washed with water.
その後30g/lの塩酸に5g/lのアルミニウムイオンを混
合させ、15Hzの交流にて、陽極時電気量が250クーロン
/dm2となる様にし、その後、表面のスマットを除去
し、20%硫酸中で陽極酸化皮膜を2.5g/m2設けて水洗
し、乾燥した。これを基板〔O〕とする。After that, 30g / l hydrochloric acid was mixed with 5g / l aluminum ion, and the amount of electricity at the anode was 250 coulomb / dm 2 by alternating current of 15Hz. After that, smut on the surface was removed and 20% sulfuric acid was added. An anodized film was provided therein at 2.5 g / m 2 , washed with water and dried. This is a substrate [O].
この様に作成した基板〔A〕〜〔O〕に、下記組成物
を乾燥後の塗布重量が2.5g/m2になる様に塗布して感光
層を設けた。Substrates [A] to [O] thus prepared were coated with the following composition so that the coating weight after drying was 2.5 g / m 2 to form a photosensitive layer.
感光液組成 ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロ
ライドとピロガロール、アセトン樹脂とのエステル 化合物 (米国特許3,635,709号明細書実施例−1記載のも
の) ・・・0.75g クレゾールノボラック樹脂 ・・・2.00g オイルブルー#603(オリエント化学製)・・・0.04g
エチレンジクロライド ・・・ 16g 2−メトキシエチルアセテート ・・・ 12g この様にして作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠
中で、透明ポジティブフイルムを通して1mの距離から3k
wのメタルハライドランプにより、50秒間露光を行なっ
たのちS1O2/Na2Oのモル比が1.74の珪酸ナトリウムの5.
26%水溶液(PH=12.7)で現像したのち、常法の手順で
印刷した。Photosensitive solution composition Ester compound of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonyl chloride with pyrogallol, acetone resin (as described in US Pat. No. 3,635,709 Example-1) ... 0.75 g cresol novolak resin ... 2.00g Oil Blue # 603 (Orient Chemical) ・ ・ ・ 0.04g
Ethylene dichloride ・ ・ ・ 16g 2-Methoxyethylacetate ・ ・ ・ 12g The photosensitive lithographic printing plate thus produced was passed through a transparent positive film in a vacuum baking frame and passed from a distance of 1m to 3k.
After exposure with a metal halide lamp of w for 50 seconds, the sodium silicate with an S 1 O 2 / Na 2 O molar ratio of 1.74 was 5.
After development with a 26% aqueous solution (PH = 12.7), printing was carried out by the usual procedure.
尚印刷機はスプリント25(小森印刷機社製)を使用し
た。The printing machine used was Sprint 25 (manufactured by Komori Printing Machine Co., Ltd.).
また、砂目の形を電顕写真で観察した。印刷結果(汚
れ)とまとめて第1表に示す。In addition, the shape of the grain was observed with an electron microscope. The print results (dirt) are shown together in Table 1.
以上の結果より、本発明による実施例−1〜7は、汚
れ性能が良く、大量生産に適した印刷版を提供出来る。 From the above results, Examples-1 to 7 according to the present invention can provide a printing plate having a good stain performance and suitable for mass production.
本発明はアルミニウム支持体を、硝酸を主体とした電
解液中で、10〜20Hzの範囲内の周波数を有する交流を使
用して粗面化することを特徴とする平版印刷版支持体の
製造方法により、支持体の中に不純物が含まれていて
も、ピット径が小さい砂目を均一に生成でき、汚れ性能
の良い印刷版用支持体を大量生産に適して製造すること
ができる。The present invention is a method for producing a lithographic printing plate support, which comprises roughening an aluminum support in an electrolytic solution containing nitric acid using an alternating current having a frequency in the range of 10 to 20 Hz. With this, even if the support contains impurities, it is possible to uniformly generate a grain having a small pit diameter, and it is possible to manufacture a support for a printing plate having good stain performance, which is suitable for mass production.
Claims (2)
電解液中で、10〜20Hzの範囲内の周波数を有する交流を
使用して粗面化することを特徴とする平版印刷版支持体
の製造方法。1. A lithographic printing plate support characterized by roughening an aluminum support in an electrolytic solution containing nitric acid using an alternating current having a frequency in the range of 10 to 20 Hz. Production method.
%以上含有していることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の製造方法。2. The aluminum support contains 0.3 manganese.
% Or more is contained, The manufacturing method of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63012568A JPH0818469B2 (en) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | Method for producing lithographic printing plate support |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63012568A JPH0818469B2 (en) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | Method for producing lithographic printing plate support |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01188395A JPH01188395A (en) | 1989-07-27 |
| JPH0818469B2 true JPH0818469B2 (en) | 1996-02-28 |
Family
ID=11808958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP63012568A Expired - Fee Related JPH0818469B2 (en) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | Method for producing lithographic printing plate support |
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|---|---|
| JP (1) | JPH0818469B2 (en) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57192300A (en) * | 1981-05-22 | 1982-11-26 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Electrolytic etching method of aluminum sheet for printing plate |
| JPS608091A (en) * | 1983-06-28 | 1985-01-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of negative type photosensitive sheet printing plate |
| JPS62230946A (en) * | 1986-04-01 | 1987-10-09 | Furukawa Alum Co Ltd | Aluminum alloy support for planographic printing plate |
-
1988
- 1988-01-25 JP JP63012568A patent/JPH0818469B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01188395A (en) | 1989-07-27 |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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