JPH0819091B2 - Novel penam compound intermediate or salt thereof - Google Patents
Novel penam compound intermediate or salt thereofInfo
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- JPH0819091B2 JPH0819091B2 JP6281176A JP28117694A JPH0819091B2 JP H0819091 B2 JPH0819091 B2 JP H0819091B2 JP 6281176 A JP6281176 A JP 6281176A JP 28117694 A JP28117694 A JP 28117694A JP H0819091 B2 JPH0819091 B2 JP H0819091B2
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Landscapes
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、グラム陽性菌およびグ
ラム陰性菌に対して強力な抗菌作用を示す、一般式
(2)FIELD OF THE INVENTION The present invention has a general formula (2) showing a strong antibacterial action against Gram-positive and Gram-negative bacteria.
【化3】 [式中、R1 は、水素原子、アミノ保護基またはアシル
基を;R2 は、水素原子または低級アルキル基を;R3
は、置換されていてもよい低級アルキル、低級アルケニ
ル、シクロアルキル、アルアルキル、アリールまたは複
素環式基を;R4は、水素原子またはカルボキシル保護
基を;R5 は、水素原子、低級アルコキシ、低級アルキ
ルチオまたはホルムアミド基を;およびnは、0または
1を示す。]で表わされるペナム化合物またはその塩の
重要な中間体である、一般式(1)Embedded image [Wherein R 1 represents a hydrogen atom, an amino protecting group or an acyl group; R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group; R 3
Is an optionally substituted lower alkyl, lower alkenyl, cycloalkyl, aralkyl, aryl or heterocyclic group; R 4 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group; R 5 is a hydrogen atom, lower alkoxy, A lower alkylthio or formamide group; and n represents 0 or 1. ] The general formula (1), which is an important intermediate of the penam compound represented by
【化4】 [式中、R’がRCONH−(Rは、ベンジルまたはフ
ェノキシメチル基を示す。)のとき、R''は、水素原子
を;またはR’とR''が一緒になって[Chemical 4] [Wherein R'is RCONH- (R represents a benzyl or phenoxymethyl group), R "is a hydrogen atom; or R'and R" are combined.
【化5】 (Rは、ベンジルまたはフェノキシメチル基を示す。)
を形成する基を;R2は、水素原子または低級アルキル
基を示す。]で表わされる化合物またはその塩に関す
る。Embedded image (R represents a benzyl or phenoxymethyl group.)
R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ] The compound or its salt represented by these.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来知られているペナム化合物は比較的
広範囲な抗菌スペクトルを有しているが、耐性菌に対す
る効果が弱く、かならずしも満足すべきものではない。
一般式(2)で表わされるペナム化合物またはその塩
は、特開昭62−228083号において、広範囲な抗菌スペク
トル、すなわち、グラム陽性菌およびグラム陰性菌に対
して優れた抗菌活性を発揮し、特にβ−ラクタマーゼに
対し安定で、耐性菌に対しても優れた抗菌活性を発揮す
るとともに、人および動物に対する医薬として有用な新
規化合物であることが示されている。しかし、これらの
化合物を製造する方法として、一般式(1)で表わされ
る新規な化合物またはその塩を中間体として経由する方
法は全く知られていない。2. Description of the Related Art Penam compounds known in the prior art have a relatively broad antibacterial spectrum, but have a weak effect on resistant bacteria and are not always satisfactory.
The penam compound represented by the general formula (2) or a salt thereof exhibits a broad antibacterial spectrum, that is, excellent antibacterial activity against Gram-positive and Gram-negative bacteria in JP-A-62-228083. It has been shown that the compound is stable against β-lactamase, exhibits excellent antibacterial activity against resistant bacteria, and is useful as a drug for humans and animals. However, as a method for producing these compounds, there is no known method of using a novel compound represented by the general formula (1) or a salt thereof as an intermediate.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、一般
式(2)で表わされるペナム化合物またはその塩を製造
するための新規な中間体を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel intermediate for producing a penam compound represented by the general formula (2) or a salt thereof.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】かかる状況下において、
本発明者らは、鋭意研究を行った結果、一般式(1)で
表わされる化合物またはその塩が、一般式(2)で表わ
される新規な化合物またはその塩の中間体として有用で
あることを見出し、本発明を完成するに至った。In such a situation,
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the compound represented by the general formula (1) or a salt thereof is useful as an intermediate for the novel compound represented by the general formula (2) or a salt thereof. Heading out, the present invention has been completed.
【0005】以下、本発明を詳細に説明する。本明細書
において、特にことわらないかぎり、低級アルキルと
は、たとえば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロ
ピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチ
ル、ペンチルなどの直鎖または分岐鎖状C1〜5 アルキ
ルを;低級アルケニル基とは、たとえば、ビニル、アリ
ル、イソプロペニル、ブテニル、2−ペンテニルなどの
C2〜5 アルケニルを;シクロアルキル基とは、たとえ
ば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシルなどのC3 〜7 シクロアルキルを;アル
アルキル基とは、たとえば、ベンジル、フェネチル、4
−メチルベンジル、ナフチルメチルなどを;アリール基
とは、たとえば、フェニル、ナフチル、インダニルな
ど;複素環式基とは、たとえば、チエニル、フリル、ピ
ロリル、1,2,4−トリアゾリル、オキサゾリル、チ
アゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、テトラゾリ
ル、1,3,4−オキサジアゾリル、ピリジル、ピリミ
ジル、ピラジル、1,2,4−トリアジニル、ベンゾ
[b]チエニルなどの酸素、窒素および硫黄原子から選
択された1〜4の異項原子を含有する5員、6員または
縮合複素環式基を意味し、また、低級とは炭素原子数が
1〜5であることを意味する。The present invention will be described in detail below. In the present specification, unless otherwise specified, lower alkyl is, for example, a straight chain or branched chain such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl and the like. the Jo C 1 ~ 5 alkyl; the lower alkenyl group, for example, vinyl, allyl, isopropenyl, butenyl, C 2 ~ 5 alkenyl such as 2-pentenyl; the cycloalkyl group, for example, cyclopropyl, cyclobutyl, Cyclopentyl,
The C 3 ~ 7 cycloalkyl such as cyclohexyl; and the aralkyl group, e.g., benzyl, phenethyl, 4
-Methylbenzyl, naphthylmethyl and the like; aryl groups such as phenyl, naphthyl, indanyl and the like; heterocyclic groups such as thienyl, furyl, pyrrolyl, 1,2,4-triazolyl, oxazolyl, thiazolyl, 1 selected from oxygen, nitrogen and sulfur atoms such as 1,3,4-thiadiazolyl, tetrazolyl, 1,3,4-oxadiazolyl, pyridyl, pyrimidyl, pyrazyl, 1,2,4-triazinyl and benzo [b] thienyl. It means a 5-membered, 6-membered or fused heterocyclic group containing from 4 to 4 heteroatoms, and lower means that it has from 1 to 5 carbon atoms.
【0006】R1におけるアミノ保護基としては、たと
えば、ホルミル、tert-ブトキシカルボニル、tert-アミ
ルオキシカルボニル、トリチル、トリメチルシリル、ベ
ンジリデン、p−ニトロベンジリデンなどの通常知られ
たアミノ保護基が挙げられ、また、アシル基としては、
ペニシリンおよびセファロスポリン分野で通常知られて
いるもの、たとえば、ホルミル、4−アミノメチルフェ
ニルアセチル、ヒドロキシアセチル、フェノキシアセチ
ル、1−テトラゾリルアセチル、シアノメチルチオアセ
チル、カルボキシエチルチオアセチル、2−チエニルア
セチル、α−ブロモ−2−チエニルアセチル、5−メト
キシ−2−チエニルアセチル、フェニルアセチル、α−
アミノフェニルアセチル、α−ヒドロキシフェニルアセ
チル、α−カルボキシフェニルアセチル、α−スルホフ
ェニルアセチル、3−ブロモフェニルアセチル、α−
(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカル
ボキサミド)フェニルアセチル、α−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)−
p−ヒドロキシフェニルアセチル、α−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)−
3,4−ジヒドロキシフェニルアセチル、α−(4−エ
チル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミ
ド)−3,4−ジアセトキシフェニルアセチル、α−
(4−フェニル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカ
ルボキサミド)フェニルアセチル、α−[4−(o,p
−ジクロロフェニル)−2,3−ジオキソ−1−ピペラ
ジンカルボキサミド]フェニルアセチル、α−(4−オ
キソ−4H−チオピラン−3−イルカルボキサミド)−
α−フェニルアセチルなどが挙げられる。The amino protecting group for R 1 includes, for example, commonly known amino protecting groups such as formyl, tert-butoxycarbonyl, tert-amyloxycarbonyl, trityl, trimethylsilyl, benzylidene and p-nitrobenzylidene. Further, as the acyl group,
Those commonly known in the penicillin and cephalosporin field, such as formyl, 4-aminomethylphenylacetyl, hydroxyacetyl, phenoxyacetyl, 1-tetrazolylacetyl, cyanomethylthioacetyl, carboxyethylthioacetyl, 2-thienyl. Acetyl, α-bromo-2-thienylacetyl, 5-methoxy-2-thienylacetyl, phenylacetyl, α-
Aminophenylacetyl, α-hydroxyphenylacetyl, α-carboxyphenylacetyl, α-sulfophenylacetyl, 3-bromophenylacetyl, α-
(4-Ethyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) phenylacetyl, α- (4-ethyl-
2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide)-
p-hydroxyphenylacetyl, α- (4-ethyl-
2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide)-
3,4-Dihydroxyphenylacetyl, α- (4-ethyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) -3,4-diacetoxyphenylacetyl, α-
(4-phenyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) phenylacetyl, α- [4- (o, p
-Dichlorophenyl) -2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide] phenylacetyl, α- (4-oxo-4H-thiopyran-3-ylcarboxamide)-
Examples include α-phenylacetyl.
【0007】上述のアシル基が、アミノ基、ヒドロキシ
ル基、カルボキシル基などの活性な基を有している場
合、これらの基は、通常知られている保護基で保護され
ていてもよい。アミノ基の保護基としては、たとえば、
前述したアミノ基の保護基が挙げられ、ヒドロキシル基
の保護基としては、たとえば、テトラヒドロピラニル、
ベンジルオキシカルボニル、トリメチルシリル基などが
挙げられる。また、カルボキシル保護基としては、後述
するR4のカルボキシル保護基と同様のものが挙げられ
る。When the above-mentioned acyl group has an active group such as an amino group, a hydroxyl group and a carboxyl group, these groups may be protected by a commonly known protecting group. Examples of the amino-protecting group include, for example,
Examples of the protecting group for the amino group described above include, as the protecting group for the hydroxyl group, for example, tetrahydropyranyl,
Examples thereof include benzyloxycarbonyl and trimethylsilyl groups. The carboxyl protecting group may be the same as the carboxyl protecting group for R 4 described later.
【0008】R2は、水素原子または低級アルキル基を
示す。R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
【0009】R3における各基は、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子;低級アルキル基;−O
−低級アルキル基で表わされる低級アルコキシ基;−S
−低級アルキル基で表わされる低級アルキルチオ基;−
O−CO−低級アルキル基で表わされる低級アルカノイ
ルオキシ基;−CO−O−低級アルキル基で表わされる
低級アルコキシカルボニル基;ヒドロキシメチル、2−
ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピルなどのヒド
ロキシ低級アルキル基;アミノメチル、2−アミノエチ
ル、3−アミノプロピルなどのアミノ低級アルキル基;
カルボキシメチル、2−カルボキシエチル、3−カルボ
キシプロピルなどのカルボキシ低級アルキル基;メトキ
シカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、2−
エトキシカルボニルエチルなどの低級アルコキシカルボ
ニル−低級アルキル基;シアノメチルアミノメチル、2
−シアノエチルアミノメチルなどのシアノ低級アルキル
アミノ低級アルキル基;N,N−ジメチルアミノエチ
ル、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチルなどのN,
N−ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基;スルファモ
イルメチル、2−スルファモイルエチルなどのスルファ
モイル低級アルキル基;カルボキシル基;ニトロ基;シ
アノ基;アミノ基;メチレンジオキシ基などから選ばれ
る1つ以上の置換基で置換されていてもよい。Each group in R 3 is a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine or iodine; a lower alkyl group;
-A lower alkoxy group represented by a lower alkyl group; -S
-A lower alkylthio group represented by a lower alkyl group;-
Lower alkanoyloxy group represented by O-CO-lower alkyl group; lower alkoxycarbonyl group represented by -CO-O-lower alkyl group; hydroxymethyl, 2-
Hydroxy lower alkyl groups such as hydroxyethyl and 3-hydroxypropyl; amino lower alkyl groups such as aminomethyl, 2-aminoethyl and 3-aminopropyl;
Carboxy lower alkyl groups such as carboxymethyl, 2-carboxyethyl, 3-carboxypropyl; methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylmethyl, 2-
Lower alkoxycarbonyl-lower alkyl groups such as ethoxycarbonylethyl; cyanomethylaminomethyl, 2
Cyano lower alkylamino lower alkyl groups such as cyanoethylaminomethyl; N, N-dimethylaminoethyl, N such as 2- (N, N-dimethylamino) ethyl,
N-di lower alkylamino lower alkyl group; sulfamoyl lower alkyl group such as sulfamoylmethyl, 2-sulfamoylethyl; carboxyl group; nitro group; cyano group; amino group; one selected from methylenedioxy group, etc. It may be substituted with the above substituents.
【0010】R4のカルボキシル基の保護基としては、
従来ペニシリンおよびセファロスポリン系化合物の分野
で通常知られているものが挙げられ、たとえば、接触還
元、化学的還元またはその他の緩和な条件で処理する事
により脱離するエステル形成基、または、生体内におい
て容易に脱離するエステル形成基、または水もしくはア
ルコ―ルで処理することにより容易に脱離する有機シリ
ル基、有機リン基もしくは有機スズ基などのエステル形
成基が挙げられる。これらの保護基のうち、好適な保護
基としては、具体的には、たとえば、メチル、プロピ
ル、tert-ブチルなどの低級アルキル基;ベンジル、4
−メトキシベンジル、4−ニトロベンジル、3,4−ジ
メトキシベンジル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ(tert
- ブチル)ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、ト
リチル、ビス(メトキシフェニル)メチルなどのアルア
ルキル基;フタリジル基;2−ヨードエチル、2,2,
2−トリクロロエチルなどのハロ低級アルキル基;アセ
トキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオ
キシメチル、イソブチリルオキシメチル、ピバロイルオ
キシメチル、バレリルオキシメチル、1−アセトキシエ
チル、1−ピバロイルオキシエチル、1−アセトキシ−
n-プロピル、1−ピバロイルオキシ−n-プロピルなどの
アシルオキシ−低級アルキル基;5−メチル−2−オキ
ソ−1,3−ジオキソール−4−イル−メチルなどの低
級アルキル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−
イル−低級アルキル基;メトキシメチル、エトキシメチ
ル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチルなどのア
ルコキシ−低級アルキル基;メトキシカルボニルオキシ
メチル、1−メトキシカルボニルオキシエチル、1−エ
トキシカルボニルオキシエチル、1−プロポキシカルボ
ニルオキシエチルなどのアルコキシカルボニルオキシ−
低級アルキル基などが挙げられる。As the protecting group for the carboxyl group of R 4 ,
Examples thereof include those conventionally known in the field of penicillin and cephalosporin compounds, for example, an ester-forming group that is eliminated by treatment with catalytic reduction, chemical reduction, or other mild conditions, or Examples thereof include ester-forming groups that are easily eliminated in the body, and ester-forming groups such as organic silyl groups, organic phosphorus groups, and organic tin groups that are easily eliminated by treatment with water or alcohol. Of these protecting groups, suitable protecting groups are specifically, for example, lower alkyl groups such as methyl, propyl and tert-butyl; benzyl, 4
-Methoxybenzyl, 4-nitrobenzyl, 3,4-dimethoxybenzyl, 4-hydroxy-3,5-di (tert
-Butyl) benzyl, phenethyl, benzhydryl, trityl, bis (methoxyphenyl) methyl, etc. alalkyl groups; phthalidyl groups; 2-iodoethyl, 2,2,2
Halo lower alkyl groups such as 2-trichloroethyl; acetoxymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl, isobutyryloxymethyl, pivaloyloxymethyl, valeryloxymethyl, 1-acetoxyethyl, 1-pivaloyl. Oxyethyl, 1-acetoxy-
Acyloxy-lower alkyl groups such as n-propyl and 1-pivaloyloxy-n-propyl; lower alkyl-2-oxo-1,3 such as 5-methyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-methyl -Dioxole-4-
Alkyl-lower alkyl group; alkoxy-lower alkyl group such as methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, isopropoxymethyl; methoxycarbonyloxymethyl, 1-methoxycarbonyloxyethyl, 1-ethoxycarbonyloxyethyl, 1-propoxycarbonyloxy Alkoxycarbonyloxy such as ethyl
Examples include lower alkyl groups.
【0011】R5の低級アルコキシ基および低級アルキ
ルチオ基としては、R3の置換基で説明したと同様の低
級アルコキシおよび低級アルキルチオ基が挙げられる。As the lower alkoxy group and lower alkylthio group for R 5, the same lower alkoxy and lower alkylthio groups as those described for the substituent for R 3 can be mentioned.
【0012】一般式(2)の化合物の塩としては、通常
知られているアミノ基などの塩基性基またはカルボキシ
ル基などの酸性基における塩を挙げることができる。塩
基性基における塩としては、たとえば、塩酸、硫酸など
の鉱酸との塩;ギ酸、クエン酸、トリクロロ酢酸、トリ
フルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩;メタンスル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン
酸、メシチレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸など
のスルホン酸類との塩を、また、酸性基における塩とし
ては、たとえば、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ
金属との塩;カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ
土類金属との塩;アンモニウム塩;トリメチルアミン、
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N,
N−ジメチルアニリン、N−メチルピペリジン、N−メ
チルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルア
ミン、プロカイン、ジベンジルアミン、N−ベンジル−
β−フェネチルアミン、1−エフェナミン、N,N´−
ジベンジルエチレンジアミンなどの含窒素有機塩基との
塩を挙げることができる。Examples of the salt of the compound represented by the general formula (2) include salts of a generally known basic group such as amino group or acidic group such as carboxyl group. Examples of the salt in the basic group include salts with mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid; salts with organic carboxylic acids such as formic acid, citric acid, trichloroacetic acid and trifluoroacetic acid; methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p -Toluene sulfonic acid, mesitylene sulfonic acid, naphthalene sulfonic acid, and other salts with sulfonic acids, and as the salt in the acidic group, for example, salts with alkali metals such as sodium and potassium; alkaline earth such as calcium and magnesium. Salts with group metals; ammonium salts; trimethylamine,
Triethylamine, tributylamine, pyridine, N,
N-dimethylaniline, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, diethylamine, dicyclohexylamine, procaine, dibenzylamine, N-benzyl-
β-phenethylamine, 1-ephenamine, N, N′-
Examples thereof include salts with nitrogen-containing organic bases such as dibenzylethylenediamine.
【0013】一般式(2)の化合物において、好ましい
ものとしては、一般式(2a)Among the compounds of the general formula (2), preferred are those of the general formula (2a)
【化6】 [式中、R1、R2、R3およびR4は、前記と同じ意味を
有する。]で表わされる立体配置を有する化合物または
その塩が挙げられ、さらに、一般式(2a)の化合物に
おいて、R3が置換されていてもよいアリールまたは複
素環式基のものが好ましい。[Chemical 6] [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as described above. ] The compound having a steric configuration represented by the formula or a salt thereof is mentioned. Further, in the compound of the general formula (2a), an aryl or heterocyclic group in which R 3 may be substituted is preferable.
【0014】つぎに、本発明化合物の製造法について説
明する。一般式(1)の化合物またはその塩は、たとえ
ば、以下の製造ルートにしたがって製造することができ
る。Next, a method for producing the compound of the present invention will be described. The compound of general formula (1) or a salt thereof can be produced, for example, according to the following production route.
【0015】[0015]
【化7】 [式中、Rは、ベンジルまたはフェノキシメチル基を示
し、R2は、前記したと同様の意味を有する。][Chemical 7] [In the formula, R represents a benzyl or phenoxymethyl group, and R 2 has the same meaning as described above. ]
【0016】(1)ヒドロキシアルキル基の導入 一般式(1a)の化合物は、一般式(3)の化合物に、
塩基の存在下または不存在下、一般式(4)の化合物を
反応させることによって得ることができる。この反応を
溶媒中で行う場合、反応に悪影響をおよぼさないもので
あれば特に限定されないが、たとえば、塩化メチレン、
クロロホルム、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,
N−ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒
が好ましく、これらの溶媒は、2種類以上混合してもよ
い。また、この反応で使用される塩基としては、1,8
−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、
1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エ
ン、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビストリ
メチルシリルアミドなどが挙げられる。一般式(4)の
化合物および塩基の使用量は、それぞれ一般式(3)の
化合物に対して1〜2倍モル、好ましくは1.0〜1.1倍モ
ルである。また、この反応は、0〜50℃、好ましくは室
温で、30分〜5時間実施すればよい。(1) Introduction of Hydroxyalkyl Group The compound of the general formula (1a) is a compound of the general formula (3)
It can be obtained by reacting the compound of general formula (4) in the presence or absence of a base. When this reaction is carried out in a solvent, it is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction. For example, methylene chloride,
Chloroform, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N,
An aprotic polar solvent such as N-dimethylformamide is preferable, and two or more kinds of these solvents may be mixed. The base used in this reaction is 1,8
-Diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene,
1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, lithium diisopropylamide, lithium bistrimethylsilylamide and the like can be mentioned. The amount of the compound of the general formula (4) and the base to be used is 1 to 2 times, preferably 1.0 to 1.1 times the mol of the compound of the general formula (3). Further, this reaction may be carried out at 0 to 50 ° C., preferably room temperature, for 30 minutes to 5 hours.
【0017】(2)開環 一般式(1b)の化合物は、一般式(1a)の化合物
に、水の存在下、酸を反応させることによって得ること
ができる。この反応を溶媒中で行う場合、反応に悪影響
をおよぼさないものであれば特に限定されないが、たと
えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、アセトン、アセトニトリルなどの親水性溶媒が好ま
しく、これらの溶媒は2種類以上混合してもよい。ま
た、この反応で使用される酸としては、塩酸、臭化水素
酸、過塩素酸などの無機酸;p−トルエンスルホン酸、
メタンスルホン酸などの有機酸などが挙げられる。酸の
使用量は、一般式(1a)の化合物に対して0.1〜1倍モ
ル、好ましくは0.2〜0.5倍モルである。また、この反応
は、0〜50℃、好ましくは20〜30℃で、30分〜5時間実
施すればよい。(2) Ring-opening The compound of the general formula (1b) can be obtained by reacting the compound of the general formula (1a) with an acid in the presence of water. When this reaction is carried out in a solvent, it is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, but for example, hydrophilic solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, acetone, acetonitrile are preferable, and these solvents are You may mix 2 or more types. As the acid used in this reaction, inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and perchloric acid; p-toluenesulfonic acid,
Examples thereof include organic acids such as methanesulfonic acid. The amount of the acid used is 0.1 to 1 times mol, preferably 0.2 to 0.5 times mol, of the compound of the general formula (1a). The reaction may be carried out at 0 to 50 ° C, preferably 20 to 30 ° C for 30 minutes to 5 hours.
【0018】つぎに、一般式(2)の化合物の製造法に
ついて説明する。一般式(2)の化合物またはその塩
は、たとえば、以下の製造ルートにしたがって製造する
ことができる。Next, a method for producing the compound of the general formula (2) will be described. The compound of general formula (2) or a salt thereof can be produced, for example, according to the following production route.
【0019】[0019]
【化8】 [式中、XおよびYは、同一または異なって塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子を;R1aは、R1のアシ
ル基を;R3aは、R3の置換基を有していてもよい低級
アルキルまたはアルアルキル基を;R4aは、R4のカル
ボキシル保護基を示し、R、R2、R3、R4およびR
5は、前記したと同様の意味を有する。]Embedded image [Wherein, X and Y are the same or different and each represents a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine; R 1a represents an acyl group of R 1 ; R 3a represents a substituent of R 3 ; A lower alkyl or aralkyl group; R 4a represents a carboxyl protecting group for R 4 , R, R 2 , R 3 , R 4 and R 4 ;
5 has the same meaning as described above. ]
【0020】(1)(1)
【化9】 (R3およびR4aは前記したと同様の意味を有する)で
表わされる基の導入 一般式(6)の化合物は、一般式(1b)の化合物に、
塩基の存在下または不存在下、一般式(5)の化合物を
反応させることによって得ることができる。この反応を
溶媒中で行う場合、反応に悪影響をおよぼさないもので
あれば特に限定されないが、たとえば、塩化メチレン、
クロロホルム、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
などの非プロトン性極性溶媒が好ましく、これらの溶媒
は、2種類以上混合してもよい。また、この反応で使用
される塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセ
ン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−
エンなどが挙げられる。一般式(5)の化合物および塩
基の使用量は、一般式(1b)の化合物に対して1.0〜
1.5倍モル、好ましくは1.05〜1.10倍モルである。ま
た、この反応は、0〜50℃、好ましくは5〜10℃で、5
分〜2時間実施すればよい。[Chemical 9] (Introduction of the group represented by R 3 and R 4a has the same meaning as described above) The compound of the general formula (6) is the compound of the general formula (1b),
It can be obtained by reacting the compound of general formula (5) in the presence or absence of a base. When this reaction is carried out in a solvent, it is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction. For example, methylene chloride,
Chloroform, tetrahydrofuran, acetonitrile,
Aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide and dimethylsulfoxide are preferable, and two or more kinds of these solvents may be mixed. Further, as the base used in this reaction, triethylamine, pyridine,
1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-
En is mentioned. The amount of the compound of the general formula (5) and the base used is 1.0 to 1.0 with respect to the compound of the general formula (1b).
The molar ratio is 1.5 times, preferably 1.05 to 1.10 times. Further, this reaction is carried out at 0 to 50 ° C., preferably 5 to 10 ° C.
It may be carried out for a minute to 2 hours.
【0021】(2)ハロゲン化 一般式(7)の化合物は、一般式(6)の化合物に、塩
基の存在下または不存在下、ハロゲン化剤を反応させる
ことによって得ることができる。この反応は、無水の条
件下で行うのが好ましく、この反応を溶媒中で行う場
合、反応に悪影響をおよぼさないものであれば特に限定
されないが、たとえば、塩化メチレン、クロロホルム、
テトラヒドロフラン、アセトニトリル、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどの
ような非プロトン性極性溶媒が挙げられ、これらの溶媒
は2種類以上混合してもよい。また、この反応で使用さ
れるハロゲン化剤としては、たとえば、塩化チオニル、
臭化チオニルなどが挙げられ、塩基としては、トリエチ
ルアミン、ピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.
4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ
[4.3.0]ノン−5−エンなどが挙げられる。ハロ
ゲン化剤および塩基の使用量は、一般式(6)の化合物
に対して1〜5倍モル、好ましくは1.05〜1.20倍モルで
ある。また、この反応は、0〜50℃、好ましくは0〜10
℃で、5分〜1時間実施すればよい。(2) Halogenation The compound of the general formula (7) can be obtained by reacting the compound of the general formula (6) with a halogenating agent in the presence or absence of a base. This reaction is preferably carried out under anhydrous conditions, and when this reaction is carried out in a solvent, it is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and for example, methylene chloride, chloroform,
Aprotic polar solvents such as tetrahydrofuran, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like can be mentioned, and two or more kinds of these solvents may be mixed. The halogenating agent used in this reaction is, for example, thionyl chloride,
Examples thereof include thionyl bromide, and examples of the base include triethylamine, pyridine, 1,8-diazabicyclo [5.
4.0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene and the like can be mentioned. The amount of the halogenating agent and the base used is 1 to 5 times mol, preferably 1.05 to 1.20 times mol, of the compound of the general formula (6). Further, this reaction is 0 to 50 ° C., preferably 0 to 10
It may be carried out at 5 ° C. for 5 minutes to 1 hour.
【0022】(3)閉環 一般式(2a)の化合物は、塩基の存在下、一般式
(7)の化合物を閉環反応に付すことによって得ること
ができる。この反応を溶媒中で行う場合、反応に悪影響
をおよぼさないものであれば特に限定されないが、たと
えば、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラ
ン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド
などの非プロトン性極性溶媒が挙げられ、これらの溶媒
は2種類以上混合してもよい。また、この反応で使用さ
れる塩基としては、1,8−ジアザビシクロ[5.4.
0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ[4.
3.0]ノン−5−エン、カリウム tert-ブトキシド、
ジイソプロピルエチルアミン、リチウムジイソプロピル
アミド、リチウムビストリメチルシリルアミドなどが挙
げられる。塩基の使用量は、一般式(7)の化合物に対
して1〜2倍モル、好ましくは1.0〜1.2倍モルである。
また、この反応は、−50〜30℃、好ましくは−10〜5℃
で、5分〜1時間実施すればよい。この反応において使
用される一般式(7)の化合物は、前述のハロゲン化に
おいて単離することなくそのまま使用することもでき
る。(3) Ring-closing The compound of the general formula (2a) can be obtained by subjecting the compound of the general formula (7) to a ring-closing reaction in the presence of a base. When this reaction is carried out in a solvent, it is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and for example, methylene chloride, chloroform, tetrahydrofuran, acetonitrile, N, N-dimethylformamide,
Aprotic polar solvents such as N, N-dimethylacetamide and dimethylsulfoxide may be mentioned, and two or more kinds of these solvents may be mixed. The base used in this reaction is 1,8-diazabicyclo [5.4.
0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo [4.
3.0] Non-5-ene, potassium tert-butoxide,
Examples thereof include diisopropylethylamine, lithium diisopropylamide, lithium bistrimethylsilylamide and the like. The amount of the base used is 1 to 2 times, preferably 1.0 to 1.2 times the mol of the compound of the general formula (7).
Also, this reaction is -50 to 30 ° C, preferably -10 to 5 ° C.
Then, it may be carried out for 5 minutes to 1 hour. The compound of the general formula (7) used in this reaction can also be used as it is without isolation in the above halogenation.
【0023】(4)脱アシル化 一般式(2b)の化合物またはその塩は、一般式(2
a)の化合物を、五塩化リンで処理して、イミノクロリ
ドとし、ついで、アルコールと反応させてイミノエーテ
ルとし、さらに加水分解する通常の脱アシル化に付すこ
とによって得ることができる。この脱アシル化として
は、通常ペニシリンおよびセファロスポリンの分野で用
いられる脱アシル化を用いることができ、具体的方法と
しては、ラキュエ・デ・トラボ・シミク・デ・ペイバ
(Recl.Trav.Chim.Pays-Bas)第89巻、第1081頁(1973
年)、特公昭55−38954号などに記載の方法またはそれ
に準じた方法が挙げられる。(4) Deacylation The compound of the general formula (2b) or a salt thereof has the general formula (2
It can be obtained by treating the compound of a) with phosphorus pentachloride to give an imino chloride, followed by reaction with an alcohol to give an imino ether, and then subjecting to conventional deacylation for further hydrolysis. As this deacylation, deacylation generally used in the fields of penicillin and cephalosporin can be used, and as a specific method, Lacuyé de Travo Simic de Peiba (Recl.Trav.Chim) can be used. Pays-Bas) 89, 1081 (1973
Year), Japanese Patent Publication No. 55-38954 and the like, or a method equivalent thereto.
【0024】(5)アシル化 一般式(2)の化合物は、一般式(2b)の化合物また
はその塩もしくはそれらのアミノ基における反応性誘導
体に、一般式(8)のカルボン酸またはその反応性誘導
体を反応させて得ることができる。また、一般式(2
b)の化合物またはその塩のアミノ基における反応性誘
導体としては、たとえば、イソシアネート、一般式(2
b)の化合物またはその塩とアルデヒド、ケトンなどの
カルボニル化合物との反応により生成するシッフ塩基
(イミノ型もしくはそのエナミン型の異性体)、一般式
(2b)の化合物またはその塩とビス(トリメチルシリ
ル)アセトアミド、トリメチルシリルアセトアミド、ト
リメチルシリルクロリドなどの有機シリル基;(5) Acylation The compound of the general formula (2) is obtained by reacting the compound of the general formula (2b) or a salt thereof or a reactive derivative at the amino group thereof with a carboxylic acid of the general formula (8) or its reactivity. It can be obtained by reacting a derivative. In addition, the general formula (2
Examples of the reactive derivative at the amino group of the compound b) or a salt thereof include, for example, isocyanate and the general formula (2
Schiff bases (imino-type or enamine-type isomers) formed by the reaction of the compound b) or a salt thereof with a carbonyl compound such as an aldehyde or a ketone, the compound of the general formula (2b) or a salt thereof, and bis (trimethylsilyl). Organic silyl groups such as acetamide, trimethylsilylacetamide, trimethylsilyl chloride;
【化10】 (CH3CH2O)2PCl、(CH3CH2)2PCl、三
塩化リンなどのリン化合物または(C2H5)3SnCl
などのスズ化合物との反応により生成するシリル誘導
体、リン誘導体またはスズ誘導体などのアシル化におい
て繁用されるものはすべて包含される。一般式(8)の
化合物の反応性誘導体としては、具体的には、酸ハロゲ
ン化物、酸無水物、混合酸無水物、活性酸アミド、活性
エステル並びに一般式(8)の化合物のビルスマイヤー
試薬との反応性誘導体などが挙げられる。その混合酸無
水物としては、たとえば、炭酸モノエチルエステル、炭
酸モノイソブチルエステルなどの炭酸モノアルキルエス
テルとの混合酸無水物、ピバリン酸やトリクロロ酢酸な
どのハロゲンで置換されていてもよい低級アルカン酸と
の混合酸無水物などが挙げられる。活性酸アミドとして
は、たとえば、N−アシルイミダゾール、N−アシルベ
ンゾイルアミド、N,N´−ジシクロヘキシル−N−ア
シル尿素、N−アシルスルホンアミドなどが挙げられ
る。つぎに活性エステルとしては、たとえば、シアノメ
チルエステル、置換フェニルエステル、置換ベンジルエ
ステル、置換チエニルエステルなどが挙げられる。ま
た、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体としては、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセ
トアミドなどの酸アミドに、ホスゲン、塩化チオニル、
三塩化リン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化リ
ン、トリクロロメチル−クロロホルメート、塩化オキザ
リルなどのハロゲン化剤を作用させて得られるビルスマ
イヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。一般式
(8)の化合物を遊離酸の状態で使用する場合は、適当
な縮合剤を用いる。このような縮合剤としては、たとえ
ば、N,N´−ジシクロヘキシルカルボジイミドのよう
なN,N´−ジ置換カルボジイミド;カルボニルジイミ
ダゾール;N−エトキシカルボニル−2−エトキシ−
1,2−ジヒドロキシキノリン、オキシ塩化リン、アル
コキシアセチレンのような脱水剤;および2−クロロピ
リジニウムメチルアイオダイド、2−フルオロピリジニ
ウムメチルアイオダイドのような2−ハロゲノピリジニ
ウム塩などが挙げられる。このアシル化は、一般に適当
な溶媒中、塩基の存在下または不存在下で実施される。
溶媒としては、たとえば、塩化メチレン、クロロホル
ム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、アセ
トン、水などが挙げられ、これらの溶媒は2種類以上混
合してもよい。この反応で使用される塩基としては、水
酸化アルカリ、炭酸水素アルカリ、炭酸アルカリ、酢酸
アルカリ、トリエチルアミン、ピリジン、N−メチルピ
ペリジン、N−メチルモルホリン、ルチジン、コリジ
ン、ジシクロヘキシルアミン、ジエチルアミンなどが挙
げられる。一般式(8)の化合物の使用量は、一般式
(2b)の化合物に対して、1.0〜1.5倍モルである。ま
た、この反応は、−50〜40℃で10分〜48時間実施すれば
よい。[Chemical 10] (CH 3 CH 2 O) 2 PCl, (CH 3 CH 2) 2 PCl, phosphorus compounds such as phosphorus trichloride or (C 2 H 5) 3 SnCl
Included are all those commonly used in acylation such as silyl derivatives, phosphorus derivatives or tin derivatives formed by reaction with tin compounds such as. Specific examples of the reactive derivative of the compound of the general formula (8) include acid halides, acid anhydrides, mixed acid anhydrides, active acid amides, active esters, and Vilsmeier reagents of the compound of the general formula (8). And a reactive derivative thereof. Examples of the mixed acid anhydride include mixed acid anhydrides with carbonic acid monoalkyl esters such as carbonic acid monoethyl ester and carbonic acid monoisobutyl ester, and lower alkanoic acids optionally substituted with halogen such as pivalic acid and trichloroacetic acid. And mixed acid anhydrides thereof. Examples of the activated acid amide include N-acylimidazole, N-acylbenzoylamide, N, N'-dicyclohexyl-N-acylurea, and N-acylsulfonamide. Next, examples of the active ester include cyanomethyl ester, substituted phenyl ester, substituted benzyl ester, substituted thienyl ester and the like. In addition, as a reactive derivative with Vilsmeier reagent,
Acid amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, phosgene, thionyl chloride,
Examples thereof include reactive derivatives with a Vilsmeier reagent obtained by acting a halogenating agent such as phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, trichloromethyl-chloroformate and oxalyl chloride. When the compound of the general formula (8) is used in the free acid state, a suitable condensing agent is used. Examples of such condensing agents include N, N'-disubstituted carbodiimides such as N, N'-dicyclohexylcarbodiimide;carbonyldiimidazole; N-ethoxycarbonyl-2-ethoxy-
Examples thereof include dehydrating agents such as 1,2-dihydroxyquinoline, phosphorus oxychloride and alkoxyacetylene; and 2-halogenopyridinium salts such as 2-chloropyridinium methyl iodide and 2-fluoropyridinium methyl iodide. This acylation is generally carried out in a suitable solvent in the presence or absence of a base.
Examples of the solvent include methylene chloride, chloroform, tetrahydrofuran, dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, acetone, water and the like, and two or more kinds of these solvents may be mixed. Examples of the base used in this reaction include alkali hydroxide, alkali hydrogen carbonate, alkali carbonate, alkali acetate, triethylamine, pyridine, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, lutidine, collidine, dicyclohexylamine and diethylamine. .. The amount of the compound of the general formula (8) used is 1.0 to 1.5 times the mol of the compound of the general formula (2b). Further, this reaction may be carried out at -50 to 40 ° C for 10 minutes to 48 hours.
【0025】以上説明した各工程において得られる(2
a)、(2b)、(2)、(6)または(7)の化合物
もしくはそれらの塩に異性体などが存在する場合、通常
の方法でそれぞれ単離および精製することができる。さ
らに、R4がカルボキシル保護基である一般式(2)の
化合物またはその塩は、R4が水素原子である一般式
(2)の化合物またはその塩に、R4が水素原子である
一般式(2)の化合物またはその塩は、R4がカルボキ
シル保護基である一般式(2)の化合物またはその塩
に、それぞれ常法にしたがって変換することができる。
また、R1がアミノ保護基である一般式(2)の化合物
またはその塩は、R1が水素原子である一般式(2)の
化合物またはその塩に、R1が水素原子である一般式
(2)の化合物またはその塩は、R1がアミノ保護基で
ある一般式(2)の化合物またはその塩に、それぞれ常
法にしたがって変換することができる。また、脱アシル
化またはアシル化において、R1a、R3およびR4aの基
中に反応に活性な基が存在するときは、反応に際し、通
常の保護基で保護しておくこともでき、反応後常法によ
りその保護基を脱離させることもできる。また、R5が
アルコキシ基である一般式(2)の化合物またはその塩
は、常法にしたがって変換することができる。R5が低
級アルキルチオ基である一般式(2)の化合物またはそ
の塩は、一般式(2b)の化合物のアミノ基を、たとえ
ば、前述したアミノ基の保護基で保護した後、低級アル
キルチオ基を導入し、ついで、脱保護し、前述したアシ
ル化反応を行うことによって得ることができる。R5が
ホルムアミド基である一般式(2)の化合物またはその
塩は、R5が低級アルキルチオ基である一般式(2)の
化合物またはその塩をホルムアミド化することによって
得ることができる。低級アルキルチオ基の導入およびホ
ルムアミド化の具体的な方法としては、たとえば、特開
昭58−38288号に記載の方法またはそれに準じた方法が
挙げられる。Obtained in each step described above (2
When an isomer or the like exists in the compound of a), (2b), (2), (6) or (7) or a salt thereof, it can be isolated and purified by a usual method. Further, the compound of the general formula (2) in which R 4 is a carboxyl protecting group or a salt thereof is the same as the compound of the general formula (2) in which R 4 is a hydrogen atom or a salt thereof, in which the R 4 is a hydrogen atom. The compound of (2) or a salt thereof can be converted into a compound of the general formula (2) or a salt thereof in which R 4 is a carboxyl protecting group according to a conventional method.
The compound of the general formula (2) in which R 1 is an amino protecting group or a salt thereof is the same as the compound of the general formula (2) in which R 1 is a hydrogen atom or a salt thereof, in which R 1 is a hydrogen atom. The compound of (2) or a salt thereof can be converted into a compound of the general formula (2) in which R 1 is an amino-protecting group or a salt thereof according to a conventional method. Further, in the deacylation or acylation, when a group active in the reaction is present in the groups of R 1a , R 3 and R 4a , it may be protected with an ordinary protecting group during the reaction. The protecting group can be removed by a conventional method. Further, the compound of the general formula (2) or a salt thereof in which R 5 is an alkoxy group can be converted according to a conventional method. The compound of the general formula (2) or a salt thereof in which R 5 is a lower alkylthio group is obtained by protecting the amino group of the compound of the general formula (2b) with, for example, the above-mentioned amino-protecting group, and then converting the lower alkylthio group to It can be obtained by introducing, then deprotecting, and carrying out the acylation reaction described above. The compound of the general formula (2) in which R 5 is a formamide group or a salt thereof can be obtained by formamidating the compound of the general formula (2) in which R 5 is a lower alkylthio group or a salt thereof. Specific examples of the method of introducing the lower alkylthio group and the formamidation include the method described in JP-A-58-38288 or a method analogous thereto.
【0026】一般式(5)の化合物は、それぞれ対応す
る保護されていてもよいカルボン酸またはケトンをハロ
ゲン化、たとえば、オーガニックシンセシス(Organic S
ynthses)第1巻、第115頁(1944年)および第3巻、第6
23頁(1955年)に記載の方法またはそれに準じた方法な
ど;酸化、たとえば、ジャーナル・オブ・メディシナル
・ケミストリー(Journal of Medicinal Chemistry)第
16巻、第978頁(1973年)に記載の方法またはそれに準
じた方法など;エステル化、たとえば、テトラヘドロン
・レターズ(Tetrahedron Letters)第4475頁(1978年)
に記載の方法またはそれに準じた方法など;還元、たと
えば、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティ(Journ
al of Chemical Society) 第520頁(1954年)に記載の
方法またはそれに準じた方法あるいは自体公知の方法を
組み合わせることによって製造することができる。以上
のようにして得られた一般式(2)の化合物またはその
塩は、常法によって単離することができる。The compound of the general formula (5) is obtained by halogenating a corresponding optionally protected carboxylic acid or ketone, for example, organic synthesis (Organic S
ynthses) Vol. 1, p. 115 (1944) and Vol. 3, 6
Page 23 (1955) or its equivalents; oxidation, for example, Journal of Medicinal Chemistry
Volume 16, page 978 (1973) or a method analogous thereto; esterification, for example, Tetrahedron Letters, page 4475 (1978)
Or a method equivalent thereto; reduction, for example, the Journal of Chemical Society (Journ
al of Chemical Society) page 520 (1954) or a method analogous thereto or a method known per se can be combined to produce. The compound of general formula (2) or a salt thereof obtained as described above can be isolated by a conventional method.
【0027】[0027]
【実施例】つぎに本発明を実施例および参考例を挙げて
説明するが、本発明はこれに限定されるものでない。な
お、実施例および参考例で使用されている記号は、つぎ
の意味を有する。Me;メチル基、PNB;p−ニトロ
ベンジル基 また、カラムクロマトグラフィーにおける担体は、キー
ゼルゲル60、アート7734(Kieselgel60,Art.7734) (メ
ルク社製)を用いた。さらに混合溶媒における混合比
は、容量比による。EXAMPLES Next, the present invention will be explained with reference to examples and reference examples, but the present invention is not limited thereto. The symbols used in the examples and reference examples have the following meanings. Me; methyl group, PNB; p-nitrobenzyl group Further, as a carrier for column chromatography, Kieselgel 60, Art. 7734 (manufactured by Merck) was used. Furthermore, the mixing ratio in the mixed solvent depends on the volume ratio.
【0028】実施例1 (1)(1R,5R)−3−ベンジル−4−チア−2,
6−ジアザビシクロ[3.2.0]−2−ヘプテン−7
−オン1.00gを塩化メチレン10mlに懸濁させ、無水パラ
ホルムアルデヒド140mgおよび1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]−7−ウンデセン0.14mlを順次加え、室
温で30分間反応させる。反応液を水10ml中に1N塩酸で
pHを3.0〜6.0に保持しながら導入し、導入後pHを3.0に
調整する。有機層を分取した後、水層を塩化メチレン10
mlで2回抽出し、抽出液を有機層と合わせ、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物をジエチルエーテルで処理し、結晶
を濾取すれば、(1R,5R)−3−ベンジル−6−ヒ
ドロキシメチル−4−チア−2,6−ジアザビシクロ
[3.2.0]−2−ヘプテン−7−オン1.00g(収率8
7.9%)を得る。 融点;135〜136 ℃( イソプロピルアルコールから再結
晶) IR(KBr)cm-1;3460,1735 NMR(CDCl3)δ値;3.97(2H,s),4.25〜5.10(3H,m),5.64(1
H,d,J=4Hz),5.88(1H,d,J=4Hz),7.27(5H,s) (2)(1R,5R)−3−ベンジル−6−ヒドロキシ
メチル−4−チア−2,6−ジアザビシクロ[3.2.
0]−2−ヘプテン−7−オン1.00gをイソプロピルア
ルコール7mlに懸濁させ、1N塩酸0.81mlを加え、室温
で1.2時間反応させる。析出晶を濾取し、イソプロピル
アルコールで洗浄し、乾燥すれば、(3R,4R)−1
−ヒドロキシメチル−4−メルカプト−3−フェニルア
セタミドアゼチジン−2−オン880mg(収率82.1%)を得
る。 融点;137〜138 ℃( 分解) IR(KBr)cm-1;3450,3260,2540,1750,1650 NMR(d6-DMSO-D2O)δ値;3.56(2H,s),4.38,4.72(2H,ABq,
J=12Hz),5.05〜5.42(2H,m),7.26(5H,s)Example 1 (1) (1R, 5R) -3-benzyl-4-thia-2,
6-diazabicyclo [3.2.0] -2-heptene-7
1.0 g of -one is suspended in 10 ml of methylene chloride, 140 mg of anhydrous paraformaldehyde and 0.14 ml of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene are added successively, and the mixture is reacted at room temperature for 30 minutes. The reaction solution was diluted with 1N hydrochloric acid in 10 ml of water.
It is introduced while maintaining the pH at 3.0 to 6.0, and the pH is adjusted to 3.0 after the introduction. After separating the organic layer, the aqueous layer was washed with methylene chloride.
Extract twice with ml, combine the extract with the organic layer and dry over anhydrous magnesium sulfate. Then, the solvent was distilled off under reduced pressure, the obtained residue was treated with diethyl ether, and the crystals were collected by filtration to give (1R, 5R) -3-benzyl-6-hydroxymethyl-4-thia-2. , 6-diazabicyclo [3.2.0] -2-hepten-7-one 1.00 g (yield 8
7.9%). Melting point: 135 to 136 ° C. (recrystallized from isopropyl alcohol) IR (KBr) cm −1 ; 3460,1735 NMR (CDCl 3 ) δ value; 3.97 (2H, s), 4.25 to 5.10 (3H, m), 5.64 ( 1
H, d, J = 4Hz), 5.88 (1H, d, J = 4Hz), 7.27 (5H, s) (2) (1R, 5R) -3-benzyl-6-hydroxymethyl-4-thia-2, 6-diazabicyclo [3.2.
0] -2-Hepten-7-one (1.00 g) is suspended in isopropyl alcohol (7 ml), 1N hydrochloric acid (0.81 ml) is added, and the mixture is reacted at room temperature for 1.2 hours. The precipitated crystals are collected by filtration, washed with isopropyl alcohol, and dried to give (3R, 4R) -1.
880 mg (yield 82.1%) of -hydroxymethyl-4-mercapto-3-phenylacetamidoazetidin-2-one are obtained. Melting point: 137-138 ° C (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; 3450,3260,2540,1750,1650 NMR (d 6 -DMSO-D 2 O) δ value; 3.56 (2H, s), 4.38,4.72 (2H, ABq,
J = 12Hz), 5.05-5.42 (2H, m), 7.26 (5H, s)
【0029】参考例1 p−メチルフェニル酢酸5.0gを無水ベンゼンに溶解さ
せ、塩化チオニル3.54mlを加え、2時間還流下に反応さ
せた後、減圧下に溶媒を留去する。得られた油状物を30
mlの無水ベンゼンに溶解させ、臭素1.71mlを加え、6時
間還流下に反応させる。減圧下に溶媒を留去した後、得
られた残留物を50mlの塩化メチレンに溶解させ、氷冷
下、p−ニトロベンジルアルコール3.57gおよびトリエ
チルアミン4.18mlを加え、30分間反応させる。反応液に
水100mlを加え、6N塩酸でpH2.0に調整し、有機層を分
取する。分取した有機層に水100mlを加え、2N水酸化
ナトリウム水溶液でpH9.0に調整し、有機層を分取す
る。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒;ベンゼン)で精製すれば、結晶状の2
−ブロモ−2−(p−メチルフェニル)酢酸p−ニトロ
ベンジルエステル3.2g(収率26.3%)を得る。 融点;79〜80℃( メタノールより再結晶) IR(KBr)cm-1;1740 NMR(CDCl3)δ値;2.35(3H,s),5.28(2H,s),5.43(1H,s),
7.00 〜7.60(6H,m),8.13(2H,d,J=8Hz) 同様にして、表−1の化合物を得る。Reference Example 1 5.0 g of p-methylphenylacetic acid is dissolved in anhydrous benzene, 3.54 ml of thionyl chloride is added, the mixture is reacted under reflux for 2 hours, and then the solvent is distilled off under reduced pressure. The oil obtained is 30
Dissolve in 1 ml of anhydrous benzene, add 1.71 ml of bromine, and react under reflux for 6 hours. After distilling off the solvent under reduced pressure, the obtained residue is dissolved in 50 ml of methylene chloride, and under ice cooling, 3.57 g of p-nitrobenzyl alcohol and 4.18 ml of triethylamine are added and reacted for 30 minutes. 100 ml of water was added to the reaction solution, the pH was adjusted to 2.0 with 6N hydrochloric acid, and the organic layer was separated. 100 ml of water is added to the separated organic layer, the pH is adjusted to 9.0 with a 2N sodium hydroxide aqueous solution, and the organic layer is separated. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by column chromatography (eluting solvent: benzene) to give crystalline 2
3.2 g (yield 26.3%) of p-nitrobenzyl ester of -bromo-2- (p-methylphenyl) acetic acid is obtained. Melting point: 79-80 ° C (recrystallized from methanol) IR (KBr) cm -1 ; 1740 NMR (CDCl 3 ) δ value; 2.35 (3H, s), 5.28 (2H, s), 5.43 (1H, s),
7.00 to 7.60 (6H, m), 8.13 (2H, d, J = 8Hz) In the same manner, the compounds in Table-1 are obtained.
【化11】 [Chemical 11]
【表1】 [Table 1]
【0030】参考例2 (1)(3R,4R)−1−ヒドロキシメチル−4−メ
ルカプト−3−フェニルアセタミドアゼチジン−2−オ
ン2.00gおよび2−ブロモ−2−(p−クロロフェニ
ル)酢酸p−ニトロベンジルエステル3.04gをN,N−
ジメチルホルムアミド10mlに溶解させ、氷冷下、トリエ
チルアミン1.05mlを3分間を要して滴下する。同温度で
20分間反応させた後、酢酸エチル70mlおよび水70mlを加
え、3N塩酸でpH2.5に調整する。有機層を分取した
後、水層を酢酸エチル30mlで抽出し、抽出液を有機層と
合わせ、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物をクロロホルムで処理し、結晶を濾取す
れば、(3R,4R)−4−[p−クロロフェニル−
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)メチル]チオ
−1−ヒドロキシメチル−3−フェニルアセタミドアゼ
チジン−2−オン(化合物A)1.72g(収率40.2%)を得
る。 融点;180〜181 ℃ IR(KBr)cm-1;1755,1740,1645 NMR(d6-DMSO-D2O)δ値;3.46(2H,s),4.35,4.64(2H,ABq,
J=12Hz),4.90〜5.40(5H,m),7.10〜7.70(11H,m),8.18(2
H,d,J=9Hz) 一方、減圧下に瀘液を濃縮し、得られた残留物をカラム
クロマトグラフィー(溶出溶媒;ベンゼン:酢酸エチル
=2:1〜1:1)で精製すれば、無定形晶の(3R,
4R)−4−[p−クロロフェニル−(p−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)メチル]チオ−1−ヒドロキシ
メチル−3−フェニルアセタミドアゼチジン−2−オン
(化合物B)1.92g(収率44.8%)を得る。 IR(KBr)cm-1;1760,1740,1650 NMR(CDCl3-D2O)δ値;3.57(2H,s),4.42,4.54(2H,ABq,J=
12Hz),4.75(1H,s),4.96(1H,d,J=4Hz),5.18(2H,s),5.28
(1H,d,J=4Hz),7.00〜7.48(11H,m),8.12(2H,d,J=9Hz)Reference Example 2 (1) (3R, 4R) -1-Hydroxymethyl-4-mercapto-3-phenylacetamido azetidin-2-one 2.00 g and 2-bromo-2- (p-chlorophenyl) 3.04 g of acetic acid p-nitrobenzyl ester was added to N, N-
It is dissolved in 10 ml of dimethylformamide, and 1.05 ml of triethylamine is added dropwise over 3 minutes under ice cooling. At the same temperature
After reacting for 20 minutes, 70 ml of ethyl acetate and 70 ml of water are added and the pH is adjusted to 2.5 with 3N hydrochloric acid. After separating the organic layer, the aqueous layer is extracted with 30 ml of ethyl acetate, the extract is combined with the organic layer, washed successively with water and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Then, the solvent was distilled off under reduced pressure,
The obtained residue was treated with chloroform and the crystals were collected by filtration to give (3R, 4R) -4- [p-chlorophenyl-
1.72 g (yield 40.2%) of (p-nitrobenzyloxycarbonyl) methyl] thio-1-hydroxymethyl-3-phenylacetamido azetidin-2-one (Compound A) is obtained. Melting point: 180-181 ° C IR (KBr) cm -1 ; 1755,1740,1645 NMR (d 6 -DMSO-D 2 O) δ value; 3.46 (2H, s), 4.35,4.64 (2H, ABq,
J = 12Hz), 4.90-5.40 (5H, m), 7.10-7.70 (11H, m), 8.18 (2
H, d, J = 9Hz) On the other hand, if the filtrate was concentrated under reduced pressure and the obtained residue was purified by column chromatography (elution solvent; benzene: ethyl acetate = 2: 1 to 1: 1), Amorphous (3R,
4R) -4- [p-chlorophenyl- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) methyl] thio-1-hydroxymethyl-3-phenylacetamido azetidin-2-one (Compound B) 1.92 g (yield 44.8% ) Get. IR (KBr) cm -1 ; 1760, 1740, 1650 NMR (CDCl 3 -D 2 O) δ value; 3.57 (2H, s), 4.42,4.54 (2H, ABq, J =
12Hz), 4.75 (1H, s), 4.96 (1H, d, J = 4Hz), 5.18 (2H, s), 5.28
(1H, d, J = 4Hz), 7.00 ~ 7.48 (11H, m), 8.12 (2H, d, J = 9Hz)
【0031】(2)(3R,4R)−4−[p−クロロ
フェニル−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)メ
チル]チオ−1−ヒドロキシメチル−3−フェニルアセ
タミドアゼチジン−2−オン(化合物A)1.75gを無水
テトラヒドロフラン35mlに溶解させ、氷冷下、塩化チオ
ニル0.24mlを加え、0〜5℃でトリエチルアミン0.47ml
を2分間を要して滴下し、同温度で30分間反応させる。
ついで、反応液に無水ベンゼン10mlを加え、不溶部を濾
去し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をN,
N−ジメチルホルムアミド10mlに溶解させ、氷冷下、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセ
ン0.44mlを2分間を要して滴下する。同温度で10分間反
応させた後、反応液を水50mlおよび酢酸エチル50mlの混
合溶液中に3N塩酸でpHを2.0〜7.0に保持しながら導入
し、導入後pHを2.0に調整する。有機層を分取した後、
水層を酢酸エチル20mlで抽出し、抽出液を有機層と合わ
せ、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;n-
ヘキサン:酢酸エチル=3:2〜2:3)で精製すれ
ば、無定形晶の(3R,5R,6R)−3−(p−クロ
ロフェニル)−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)−7−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チ
ア−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタン1.26g
(収率75.0%)を得る。 IR(KBr)cm-1;1770,1725,1660 NMR(CDCl3)δ値;3.24(1H,d,J=12Hz),3.61(2H,s),4.93
(1H,d,J=12Hz),5.05(2H,s),5.41(1H,d,J=4Hz),5.66(1H,
dd,J=4Hz,J=10Hz),6.60〜7.50(12H,m),8.08(2H,d,J=9H
z) 一方、化合物Bを用いて同様に反応を行っても同じ生成
物(収率71.0%)が得られる。(2) (3R, 4R) -4- [p-chlorophenyl- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) methyl] thio-1-hydroxymethyl-3-phenylacetamido azetidin-2-one (compound A) 1.75 g was dissolved in anhydrous tetrahydrofuran 35 ml, thionyl chloride 0.24 ml was added under ice cooling, and triethylamine 0.47 ml was added at 0-5 ° C.
Is added dropwise over 2 minutes, and the mixture is reacted at the same temperature for 30 minutes.
Then, 10 ml of anhydrous benzene is added to the reaction solution, the insoluble portion is filtered off, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue obtained is N,
Dissolve in 10 ml of N-dimethylformamide, and under ice cooling,
0.44 ml of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene is added dropwise over 2 minutes. After reacting for 10 minutes at the same temperature, the reaction solution is introduced into a mixed solution of 50 ml of water and 50 ml of ethyl acetate while maintaining the pH at 2.0 to 7.0 with 3N hydrochloric acid, and the pH is adjusted to 2.0 after the introduction. After separating the organic layer,
The aqueous layer is extracted with 20 ml of ethyl acetate, the extract is combined with the organic layer, washed successively with water and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Then, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was subjected to column chromatography (elution solvent; n-
If purified with hexane: ethyl acetate = 3: 2 to 2: 3), amorphous (3R, 5R, 6R) -3- (p-chlorophenyl) -3- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -7 is obtained. -Oxo-6-phenylacetamido-4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane 1.26 g
(Yield 75.0%) is obtained. IR (KBr) cm -1 ; 1770, 1725, 1660 NMR (CDCl 3 ) δ value; 3.24 (1H, d, J = 12Hz), 3.61 (2H, s), 4.93
(1H, d, J = 12Hz), 5.05 (2H, s), 5.41 (1H, d, J = 4Hz), 5.66 (1H,
dd, J = 4Hz, J = 10Hz), 6.60 ~ 7.50 (12H, m), 8.08 (2H, d, J = 9H
z) On the other hand, the same product (yield: 71.0%) can be obtained by carrying out the same reaction using the compound B.
【0032】(3)(i)(3R,5R,6R)−3−
(p−クロロフェニル)−3−(p−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−7−オキソ−6−フェニルアセタミ
ド−4−チア−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタ
ン300mgを塩化メチレン5mlに溶解させ、−70℃に冷却
した後、N,N−ジメチルアニリン0.21mlおよび五塩化
リン150mgを加える。−40〜−30℃で1時間反応させた
後、−20℃まで昇温し、無水メタノール1.54mlを加え、
氷冷下で30分間反応させる。ついで、反応液に水3mlを
加え、氷冷下で10分間反応させ、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液でpH7.5に調整する。有機層を分取し、水、飽
和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せれば、(3R,5R,6R)−6−アミノ−3−(p
−クロロフェニル)−3−(p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシク
ロ[3.2.0]ヘプタンの塩化メチレン溶液を得る。(3) (i) (3R, 5R, 6R) -3-
(P-Chlorophenyl) -3- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -7-oxo-6-phenylacetamido-4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane 300 mg was dissolved in methylene chloride 5 ml. After cooling to −70 ° C., 0.21 ml of N, N-dimethylaniline and 150 mg of phosphorus pentachloride are added. After reacting at -40 to -30 ° C for 1 hour, the temperature was raised to -20 ° C, 1.54 ml of anhydrous methanol was added,
Incubate for 30 minutes under ice cooling. Then, 3 ml of water is added to the reaction solution, the mixture is reacted for 10 minutes under ice cooling, and the pH is adjusted to 7.5 with a saturated sodium hydrogen carbonate aqueous solution. The organic layer was separated, washed successively with water and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate to give (3R, 5R, 6R) -6-amino-3- (p
-Chlorophenyl) -3- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -7-oxo-4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane in methylene chloride is obtained.
【0033】(ii)一方、D−α−(4−エチル−2,
3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニ
ル酢酸140mgを塩化メチレン3mlに溶解させ、氷冷下、
N,N−ジメチルホルムアミド触媒量および塩化オキサ
リル0.05mlを加え、室温で30分間反応させる。ついで、
減圧下に反応液を乾固すれば、D−α−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フ
ェニル酢酸クロリドを得る。これを塩化メチレン3mlに
溶解させ、(i)で調製した溶液に−30〜−20℃で滴下
する。同温度で15分間、氷冷下で20分間反応させ、反応
液を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;ク
ロロホルム:アセトン=9:1)で精製すれば、無定形
晶の(3R,5R,6R)−3−(p−クロロフェニ
ル)−6−[D−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ
−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニルアセタミ
ド]−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3.2.
0]ヘプタン300mg(収率75.0%)を得る。 IR(KBr)cm-1;1775,1705,1675 NMR(CDCl3)δ値;1.16(3H,t,J=7Hz),3.10〜4.30(7H,m),
4.80〜5.80(4H,m),5.14(2H,s),6.70 〜7.75(12H,m),8.1
0(2H,d,J=9Hz),9.98(1H,d,J=7Hz)(Ii) On the other hand, D-α- (4-ethyl-2,
3-dioxo-1-piperazinecarboxamido) phenylacetic acid (140 mg) was dissolved in methylene chloride (3 ml), and the mixture was cooled with ice.
A catalytic amount of N, N-dimethylformamide and 0.05 ml of oxalyl chloride are added, and the mixture is reacted at room temperature for 30 minutes. Then,
The reaction mixture was dried under reduced pressure to give D-α- (4-ethyl-
2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamido) phenylacetic acid chloride is obtained. This is dissolved in 3 ml of methylene chloride and added dropwise to the solution prepared in (i) at -30 to -20 ° C. The reaction is carried out at the same temperature for 15 minutes and under ice-cooling for 20 minutes. The reaction solution is washed with water and saturated saline solution in that order, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Then, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by column chromatography (elution solvent; chloroform: acetone = 9: 1) to give amorphous (3R, 5R, 6R) -3. -(P-chlorophenyl) -6- [D-α- (4-ethyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) phenylacetamide] -3- (p-nitrobenzyloxycarbonyl)-
7-oxo-4-thia-1-azabicyclo [3.2.
0] Heptane 300 mg (yield 75.0%) is obtained. IR (KBr) cm −1 ; 1775,1705,1675 NMR (CDCl 3 ) δ value; 1.16 (3H, t, J = 7Hz), 3.10 to 4.30 (7H, m),
4.80 ~ 5.80 (4H, m), 5.14 (2H, s), 6.70 ~ 7.75 (12H, m), 8.1
0 (2H, d, J = 9Hz), 9.98 (1H, d, J = 7Hz)
【0034】(4)(3R,5R,6R)−3−(p−
クロロフェニル)−6−[D−α−(4−エチル−2,
3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニ
ルアセタミド]−3−(p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ
[3.2.0]ヘプタン300mgおよび5%パラジウム炭
素200mgを酢酸エチル10mlおよび水10mlの混合溶液中に
加え、水素雰囲気下、室温で1.5時間反応させる。つい
で、不溶物を濾去し、瀘液を1N塩酸でpH2.0に調整す
る。有機層を分取し、水10mlを加え、2〜3%炭酸水素
ナトリウム水溶液でpH7.0に調整する。水層を分取し、
凍結乾燥させれば、無定形晶の(3R,5R,6R)−
3−カルボキシ−3−(p−クロロフェニル)−6−
[D−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペ
ラジンカルボキサミド)フェニルアセタミド]−7−オ
キソ−4−チア−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプ
タンのナトリウム塩170mg(収率67.1%)を得る。 IR(KBr)cm-1;1765,1710,1670,1600 NMR(D2O)δ値;1.15(3H,t,J=7Hz),3.20〜4.10(7H,m),5.
17(1H,d,J=4Hz),5.40(1H,s),5.50(1H,d,J=4Hz),6.80〜
7.50(9H,m)(4) (3R, 5R, 6R) -3- (p-
Chlorophenyl) -6- [D-α- (4-ethyl-2,
3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) phenylacetamide] -3- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -7-oxo-4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane 300 mg and 5% palladium Carbon (200 mg) is added to a mixed solution of ethyl acetate (10 ml) and water (10 ml), and the mixture is reacted under a hydrogen atmosphere at room temperature for 1.5 hours. Then, the insoluble matter is filtered off, and the filtrate is adjusted to pH 2.0 with 1N hydrochloric acid. The organic layer is separated, 10 ml of water is added, and the pH is adjusted to 7.0 with a 2-3% aqueous sodium hydrogen carbonate solution. Separate the aqueous layer,
If freeze-dried, amorphous (3R, 5R, 6R)-
3-carboxy-3- (p-chlorophenyl) -6-
170 mg of [D-α- (4-ethyl-2,3-dioxo-1-piperazinecarboxamide) phenylacetamide] -7-oxo-4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane sodium salt (Yield 67.1%) is obtained. IR (KBr) cm −1 ; 1765,1710,1670,1600 NMR (D 2 O) δ value; 1.15 (3H, t, J = 7Hz), 3.20 to 4.10 (7H, m), 5.
17 (1H, d, J = 4Hz), 5.40 (1H, s), 5.50 (1H, d, J = 4Hz), 6.80〜
7.50 (9H, m)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 才川 勇 富山県富山市大泉中町7−52 審査官 星野 紹英 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Isamu Saikawa 7-52 Oizumi Nakamachi, Toyama City, Toyama Prefecture Examiner Shoei Hoshino
Claims (1)
ェノキシメチル基を示す。)のとき、R''は、水素原子
を;またはR’とR''が一緒になって 【化2】 (Rは、ベンジルまたはフェノキシメチル基を示す。)
を形成する基を;R2は、水素原子または低級アルキル
基を示す。]で表わされる化合物またはその塩。1. A general formula: [Wherein R ′ is RCONH— (R represents a benzyl or phenoxymethyl group), R ″ represents a hydrogen atom; or R ′ and R ″ together form (R represents a benzyl or phenoxymethyl group.)
R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ] The compound or its salt represented by these.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6281176A JPH0819091B2 (en) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | Novel penam compound intermediate or salt thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6281176A JPH0819091B2 (en) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | Novel penam compound intermediate or salt thereof |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61034813A Division JPH0735384B2 (en) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | Novel penam derivative or salt thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07278102A JPH07278102A (en) | 1995-10-24 |
| JPH0819091B2 true JPH0819091B2 (en) | 1996-02-28 |
Family
ID=17635415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6281176A Expired - Lifetime JPH0819091B2 (en) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | Novel penam compound intermediate or salt thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0819091B2 (en) |
-
1994
- 1994-10-20 JP JP6281176A patent/JPH0819091B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07278102A (en) | 1995-10-24 |
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