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JPH0819254B2 - Semi-conductive polymer material composition - Google Patents
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JPH0819254B2 - Semi-conductive polymer material composition - Google Patents

Semi-conductive polymer material composition

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JPH0819254B2
JPH0819254B2 JP63097568A JP9756888A JPH0819254B2 JP H0819254 B2 JPH0819254 B2 JP H0819254B2 JP 63097568 A JP63097568 A JP 63097568A JP 9756888 A JP9756888 A JP 9756888A JP H0819254 B2 JPH0819254 B2 JP H0819254B2
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developing roll
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は電子写真複写機の現像ロール等に用いられ
る半導電性高分子材料組成物に関するものである。
The present invention relates to a semiconductive polymer material composition used for a developing roll of an electrophotographic copying machine.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

電子写真複写機における現像法としては、湿式法と乾
式法とがある。最近では湿式法に比べて乾燥法が画像の
定着性の観点から主流を示めるようになつてきている。
この種の乾式法としては、第4図に示すような摩擦帯電
法によるものが用いられている。すなわち、摩擦帯電法
は、図示のように、光導電体表面層付の感光ドラム1の
外周面を一様に帯電させ、ついで被複写体の被複写像を
介してその外周面を露光することにより、上記外周面上
に静電潜像を形成する。ついで、摩擦ロール2と現像ロ
ール3との間にトナー供給装置4からトナーを供給し、
上記ロール2,3の摩擦力によつてトナーを現像ロール3
の外周面に帯電状態で付着させ、これを層形成ブレード
5で一様にならし、感光ドラム1の静電潜像に対して電
気的吸引力で飛翔させ、静電潜像にトナーを付着させて
トナー像を形成し、これを複写紙6に転写した後、定着
するという方法である。トナーを上記のように摩擦帯電
によつて飛翔させる場合には、上記現像ロール3に対す
る電気的特性、特に体積固有抵抗(RV)および表面抵抗
(RS)が均一でかつ温度および湿度によつて変化しない
ことが要求される。これは、複写像の高画質化の要望に
応えるためである。すなわち、先に述べた体積固有抵抗
(RV)および表面抵抗(RS)が均一であることと、それ
らの抵抗が温度および湿度により変化しないことについ
て厳しい要求がなされてきている。
There are a wet method and a dry method as a developing method in an electrophotographic copying machine. Recently, the drying method has become the mainstream from the viewpoint of image fixability as compared with the wet method.
As this type of dry method, a method based on a triboelectric charging method as shown in FIG. 4 is used. That is, in the triboelectric charging method, as shown in the figure, the outer peripheral surface of the photosensitive drum 1 having the photoconductor surface layer is uniformly charged, and then the outer peripheral surface is exposed through the image to be copied of the object to be copied. Thereby, an electrostatic latent image is formed on the outer peripheral surface. Then, toner is supplied from the toner supply device 4 between the friction roll 2 and the developing roll 3,
The toner is developed by the frictional force of the rolls 2 and 3 to the developing roll 3.
The toner is attached to the outer peripheral surface of the photosensitive drum 1 in a charged state, and is evenly spread by the layer forming blade 5 to fly to the electrostatic latent image on the photosensitive drum 1 by an electric attraction force to attach toner to the electrostatic latent image. In this method, a toner image is formed, transferred to the copy paper 6, and then fixed. When the toner is caused to fly by triboelectric charging as described above, the electrical characteristics of the developing roll 3, particularly the volume specific resistance (RV) and surface resistance (RS) are uniform and change depending on temperature and humidity. Not required. This is in order to meet the demand for higher image quality of the copied image. That is, strict requirements have been placed on the uniformity of the volume resistivity (RV) and the surface resistance (RS) described above, and the fact that their resistance does not change with temperature and humidity.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、従来の現像ロール形成用の合成樹脂材
料では、そのような要求特性に応えることができない。
However, conventional synthetic resin materials for forming a developing roll cannot meet such required characteristics.

すなわち、従来の現像ロール形成用の合成樹脂材料
は、高分子マトリツクス中にイオン性導電材粒子を分散
したタイプと高分子マトリツクス中にカーボン,金属粉
(必要により繊維)を分散した分散タイプの2種類のも
のがある。前者の合成樹脂材料を用いて得られた現像ロ
ールでは、第5図に示すように、温度変化があると、マ
トリツクスX中に分散したイオン性導電材粒子Yが図示
の矢印のように移動する。このように、イオン性導電材
粒子Yの移動が起こると、現像ロールの体積固有抵抗お
よび表面抵抗が変化し、その結果、それら抵抗の温度依
存性が大になり、それを用いた電子写真複写機において
は、温度により複写像の画質が左右されるという難点を
生じる。また、湿度変化によつても上記のような難点を
生じる。他方、後者の合成樹脂材料を用いて現像ロール
を構成する場合には、上記のような抵抗の温度および湿
度依存性の問題は生じないものの、それら抵抗値を所定
の値に制御することが困難である。すなわち、カーボ
ン,金属粉等の充填状態等により微妙に体積固有抵抗等
がばらつくため、実際の製造工程において、それらを制
御して現像ロールを所定の体積固有抵抗に設定すること
は極めて困難である。例えば、第6図に示すように、カ
ーボン,金属粉等の導電材粒子Yの充填状態の変化(図
では一部が連鎖状態になつている)による体積固有抵抗
等の変動が大きく、またマトリツクスXの変形による体
積固有抵抗等の変動も大きい。導電材粒子Yの連鎖状態
等による体積固有抵抗等の変動についてより詳しく説明
すると、第6図の中央部におけるように、マトリツクス
X中に導電材粒子Yが連鎖状に連なる態様が多いときに
は、体積固有抵抗等が小さくなり、また図示の右側にお
いて、導電材粒子Yが矢印で示す小空隙をおいて配列す
る場合には、両者間にトンネル効果を生じ、体積固有抵
抗等の低下要因となる。導電材粒子Yのこのような状態
の適正化制御は実質的に不可能であり、必然的に体積固
有抵抗等のばらつきを生じる。
That is, conventional synthetic resin materials for forming a developing roll are classified into two types: a type in which ionic conductive material particles are dispersed in a polymer matrix; and a dispersion type in which carbon and metal powder (fiber if necessary) are dispersed in a polymer matrix. There are different types. In the developing roll obtained by using the former synthetic resin material, as shown in FIG. 5, when the temperature changes, the ionic conductive material particles Y dispersed in the matrix X move as shown by arrows. . In this way, when the ionic conductive material particles Y move, the volume resistivity and surface resistance of the developing roll change, and as a result, the temperature dependence of those resistances becomes large, and electrophotographic copying using it. In the machine, there is a problem in that the quality of the copied image depends on the temperature. Moreover, the above-mentioned problems also occur due to changes in humidity. On the other hand, when the developing roll is formed using the latter synthetic resin material, although the above-described problem of the dependency of the resistance on temperature and humidity does not occur, it is difficult to control the resistance to a predetermined value. It is. That is, since the volume resistivity and the like slightly vary depending on the filling state of carbon, metal powder, etc., it is extremely difficult to control them and set the developing roll to a predetermined volume resistivity in the actual manufacturing process. . For example, as shown in FIG. 6, a change in the filling state of the conductive material particles Y such as carbon and metal powder (a part of the figure is in a chain state) greatly changes the volume resistivity and the like. The variation of the volume resistivity and the like due to the deformation of X is large. The variation of the volume resistivity and the like due to the chain state of the conductive material particles Y will be described in more detail. When there are many modes in which the conductive material particles Y are connected in a chain in the matrix X as in the central portion of FIG. When the conductive material particles Y are arranged in the small voids shown by the arrows on the right side of the drawing, the specific resistance and the like are reduced, and a tunnel effect occurs between them, which causes a reduction in the volume specific resistance and the like. It is substantially impossible to optimize the conductive material particles Y in such a state, and inevitably variations in volume resistivity and the like occur.

この発明は、このような事情に鑑みなされたもので、
体積固有抵抗等の均一性を備え、しかも温度および湿度
による体積固有抵抗等の変動が少ない現像ロール等を形
成しうる半導電性高分子材料組成物の提供をその目的と
する。
The present invention has been made in view of such circumstances,
An object of the present invention is to provide a semiconductive polymer material composition which has uniformity in volume resistivity and the like and which can form a developing roll or the like in which variation in volume resistivity due to temperature and humidity is small.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記の目的を達成するため、この発明の半導電性高分
子材料組成物は、絶縁性高分子成形材料中に、下記の
(A)成分および(B)成分が含有されて半導電性が付
与されているという構成をとる。
In order to achieve the above object, the semiconductive polymer material composition of the present invention is such that the insulating polymer molding material contains the following components (A) and (B) to impart semiconductivity. It is configured to be.

(A)体積固有抵抗が10-6〜10-1Ω・cmの良導電材粉
末。
(A) A good conductive material powder having a volume resistivity of 10 -6 to 10 -1 Ωcm.

(B)体積固有抵抗が101〜104Ω・cmの導電化亜鉛の疎
水処理粒子。
(B) Hydrophobized particles of conductive zinc having a volume resistivity of 10 1 to 10 4 Ω · cm.

すなわち、本発明者らは、前記従来の2種類の現像ロ
ール形成用の合成樹脂材料のうち、後者、すなわち、高
分子マトリツクス中にカーボン,金属粉等を分散したも
のの改良を中心に研究を重ねた結果、特定の体積固有抵
抗を有する料導電材粉末と、それよりも導電性が劣る導
電化亜鉛を疎水処理した粒子の双方を絶縁性高分子成形
材料中に含有させると、導電材粒子の連鎖状態や分散状
態の変動等が小さくなつて所定の半導電性に制御が容易
になり、かつ温度および湿度による体積固有抵抗等の変
化が小さくなることを見いだしこの発明に到達した。
That is, the inventors of the present invention have conducted researches focusing on the improvement of the latter two types of conventional synthetic resin materials for forming a developing roll, that is, those in which carbon, metal powder or the like is dispersed in a polymer matrix. As a result, when both the material conductive material powder having a specific volume specific resistance and the particles subjected to the hydrophobic treatment of conductive zinc having a lower conductivity than that are contained in the insulating polymer molding material, The inventors have found that the variation in the chain state or the dispersed state is small, the control to a predetermined semiconductivity is easy, and the change in the volume resistivity or the like due to temperature and humidity is small, and the present invention has been reached.

この発明の半導電性高分子材料組成物は、絶縁性高分
子成形材料と体積固有抵抗が10-6〜10-1Ω・cmの良導電
材粉末と、体積固有抵抗が101〜104Ω・cmの導電化亜鉛
の疎水処理粒子とを用いて得られる。
The semiconductive polymer material composition of the present invention comprises an insulating polymer molding material, a volume resistivity of 10 −6 to 10 −1 Ω · cm, and a good conductive material powder, and a volume resistivity of 10 1 to 10 4. It is obtained using hydrophobic treated particles of conductive zinc of Ω · cm.

上記絶縁性高分子成形材料としては、特に限定するも
のではなく現像ロール等に用いる円筒状スリーブ形状に
成形可能な材料であればあらゆるものが使用可能であ
る。例えば、熱硬化性合成樹脂,熱可塑性合成樹脂等の
中から適宜選ぶことができる。しかし、体積固有抵抗の
観点から、フエノール樹脂を使用することが好結果をも
たらす。
The insulating polymer molding material is not particularly limited, and any material can be used as long as it can be molded into a cylindrical sleeve shape used for a developing roll or the like. For example, it can be appropriately selected from a thermosetting synthetic resin, a thermoplastic synthetic resin, and the like. However, from the point of view of volume resistivity, the use of phenolic resins gives good results.

上記絶縁性高分子成形材料中に分散される体積固有抵
抗が10-6〜10-1Ω・cmの良導電材粉末(A成分)として
は、カーボン粉末,グラフアイト粉末,チタンカーバイ
ト粉末,金属粉末等があげられ、単独でもしくは併せて
使用される。このような良導電材粉末は、粒径が1μm
以下であることが効果の点から好ましい。
As the good conductive material powder (component A) having a volume resistivity of 10 −6 to 10 −1 Ω · cm dispersed in the insulating polymer molding material, carbon powder, graphite powder, titanium carbide powder, Examples thereof include metal powders, which may be used alone or in combination. Such a good conductive material powder has a particle size of 1 μm.
The following is preferable in terms of effects.

また、上記(A)成分とともに用いられる(B)成分
は、体積固有抵抗が101〜104Ω・cmの導電化亜鉛の疎水
処理粒子である。このものは、酸化亜鉛粉末に、アルミ
ニウムを主体とする処理剤を入れ攪拌熱処理することに
よつて得られた導電化ZnOに対してチタネート系カツプ
リング剤または脂肪酸系化合物によつて表面処理を施し
たものであり、粒径が0.1〜3μm程度であることが効
果の点で好ましい。ここで、上記導電化ZnOはZnOをAl処
理したものであり、下記のようにZnOの格子欠陥にAlが
配位したものである。
The component (B) used together with the component (A) is a hydrophobically treated particle of conductive zinc having a volume resistivity of 10 1 to 10 4 Ω · cm. This was obtained by subjecting zinc oxide powder to a treatment agent mainly composed of aluminum and stirring and heat-treating it to conductive ZnO, which was subjected to surface treatment with a titanate coupling agent or a fatty acid compound. It is preferable that the particle size is about 0.1 to 3 μm in terms of the effect. Here, the electroconductive ZnO is ZnO treated with Al, and Al is coordinated to the lattice defects of ZnO as described below.

上記導電化ZnOに対して、表面処理を施すチタネート
系カツプリング剤としては、例えば、下記の一般式
(I)で表されるイソプロピルトリイソステアロイルチ
タネート 下記の一般式(II)で表されるビス(ジオクチルパイ
ロホスフエート)エチレンチタネート 下記の一般式(III)で表されるイソプロピルトリス
(ジオクチルパイロホスフエート)チタネート 下記の一般式(IV)で表されるイソプロピルトリ(N
−アミノエチル−アミノエチル)チタネート 下記の一般式(V)で表されるテトラオクチルビス
(ジトリデシルホスフアイト)チタネート 下記の一般式(VI)で表されるテトラ(2,2−ジアリ
ルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシル)ホ
スフアイトチタネート 下記の一般式(VII)で表されるビス(ジオクチルパ
イロホスフエート)オキシアセテートチタネート があげられる。
As the titanate-based coupling agent for subjecting the conductive ZnO to a surface treatment, for example, isopropyl triisostearoyl titanate represented by the following general formula (I): Bis (dioctyl pyrophosphate) ethylene titanate represented by the following general formula (II) Isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate represented by the following general formula (III) An isopropyl tri (N) represented by the following general formula (IV)
-Aminoethyl-aminoethyl) titanate Tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) titanate represented by the following general formula (V) Tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (ditridecyl) phosphite titanate represented by the following general formula (VI) Examples thereof include bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate represented by the following general formula (VII).

このようなチタネート系カツプリング剤を用いての上
記導電化ZnOに対する表面処理は、上記チタネート系カ
ツプリング剤を、n−ヘキサン,ベンゼン,トルエン,
キシレン等の有機溶剤の溶液に溶解し、これに上記導電
化ZnOの粉末を浸漬したり、上記溶液を導電化ZnO粉末に
吹き付ける等したのち乾燥するということ等により行わ
れる。
The surface treatment for the electroconductive ZnO using such a titanate coupling agent is carried out by adding the titanate coupling agent to n-hexane, benzene, toluene,
It is carried out by dissolving in an organic solvent solution such as xylene and immersing the electroconductive ZnO powder in the solution, spraying the solution onto the electroconductive ZnO powder, and then drying.

また、チタネート系カツプリング剤に代えて、脂肪酸
系化合物によつて表面処理を行う場合には、ステアリン
酸、ステアリン酸金属塩等の脂肪酸または脂肪酸金属塩
を、これを溶解する有機溶剤に溶解し、前記同様、浸
漬,吹付処理したのち乾燥する等によつて行うことがで
きる。このように導電化ZnOを表面処理することによ
り、耐湿性の向上効果が得られるようになる。特に、上
記チタネート系カツプリング剤を用いる場合には、前記
一般式(I)で表されるイソプロピルトリイソステアロ
イルチタネートまたは前記一般式(II)で表されるビス
(ジオクチルパイロホスフエート)エチレンチタネート
を用い、n−ヘキサンで溶解した溶液によつて表面処理
することが好結果をもたらす。
Further, instead of the titanate coupling agent, when the surface treatment with a fatty acid compound, stearic acid, fatty acids such as stearic acid metal salts or fatty acid metal salts, dissolved in an organic solvent to dissolve it, Similar to the above, it can be performed by dipping, spraying, and then drying. By surface-treating the conductive ZnO in this way, the effect of improving the moisture resistance can be obtained. In particular, when the titanate-based coupling agent is used, isopropyl triisostearoyl titanate represented by the general formula (I) or bis (dioctyl pyrophosphate) ethylene titanate represented by the general formula (II) is used. Surface treatment with a solution dissolved in n-hexane gives good results.

上記(A)成分は、良導電性を備えているものであ
り、これが多くなりすぎると、例えば現像ロールを製造
する場合において、現像ロールを半導電性の範囲内に収
めることが困難になる。逆に、少なすぎると絶縁性が強
くなりすぎ、やはり半導電性の範囲内に収めることがで
きなくなる。(A)成分と(B)成分は、このような観
点から、通常、上記(A)成分および(B)成分が半導
性高分子材料組成物の全体中に下記の割合(重量%)で
配合される。
The component (A) has good conductivity. If the content of the component (A) is too large, for example, in the case of manufacturing a developing roll, it becomes difficult to keep the developing roll within the semiconductive range. On the other hand, if the amount is too small, the insulating property becomes too strong, so that the insulating property cannot be kept within the semiconductive range. From such a viewpoint, the components (A) and (B) are usually contained in the following proportions (% by weight) in the entire semiconductive polymer material composition. Be compounded.

30≦A+B≦80 A≦B 0≦A≦20 30≦B≦60 すなわち、上記のように、(A)成分と(B)成分の
割合を設定することにより、それを用いて、例えば現像
ロール等を製造した場合において、ロール等の体積固有
抵抗が106〜1012Ω・cm程度の半導電性の範囲内に入る
ようになる。好適には、上記抵抗を108〜1011Ω・cmの
範囲内に収めることである。
30 ≤ A + B ≤ 80 A ≤ B 0 ≤ A ≤ 20 30 ≤ B ≤ 60 That is, by setting the ratio of the component (A) and the component (B) as described above, it is possible to use, for example, a developing roll. And the like, the volume resistivity of the roll or the like falls within a semiconductive range of about 10 6 to 10 12 Ω · cm. Preferably, the resistance is set within a range of 10 8 to 10 11 Ω · cm.

この発明の半導電性高分子材料組成物は、高分子マト
リツクスとなりうる熱硬化性合成樹脂,熱可塑性合成樹
脂成形材料中に、上記(A)成分,(B)成分を上記の
割合で配合混合することにより得ることができる。
The semiconductive polymer material composition of the present invention comprises a thermosetting synthetic resin and a thermoplastic synthetic resin molding material that can be a polymer matrix, and the components (A) and (B) are mixed and mixed in the above proportions. It can be obtained by

このようにして得られた半導電性高分子材料組成物
(例えば、絶縁性高分子成形材料としてノボラツク型フ
エノール樹脂を用いたもの)を押出成形,射出成形,圧
縮成形等して形成した円筒品を現像ロールのスリーブと
して用いた現像ロール3を第1図に示す。図において、
9は半導電性高分子材料組成物の押出成形により形成さ
れたスリーブ、10は金属製のエンドキヤツプである。こ
の現像ロール3においては、スリーブ9が上記半導電性
高分子材料組成物で形成されているため、電気特性(体
積固有抵抗および表面抵抗)の均一性を備え、しかも温
度変化ならびに湿度変化により上記体積固有抵抗等が変
動しない。これは、つぎのような理由によるものと考え
られる。すなわち、上記半導電性高分子材料組成物中
に、上記(A),(B)両成分を用いた場合には、第2
図に示すように、(A)成分のミセルを(B)成分の粒
子が取り囲んだ形になり、それによつて(A)成分を適
正な間隔でマトリツクスX中に分布させるようになる。
その結果、電気特性の均一性が備わようになると同時
に、温度による体積固有抵抗等の変化も小さくなる。し
かも上記(A)成分を取り囲む(B)成分が、先に述べ
たように、チタネート系カツプリング剤,脂肪酸系化合
物によつて疎水処理されているため、湿度変化による抵
抗、特に表面抵抗の変化も小さくなる。
A cylindrical article formed by extrusion molding, injection molding, compression molding or the like of the semiconductive polymer material composition thus obtained (for example, one using a novolak type phenol resin as an insulating polymer molding material) FIG. 1 shows a developing roll 3 in which is used as a sleeve of the developing roll. In the figure,
Reference numeral 9 is a sleeve formed by extrusion molding a semiconductive polymer material composition, and 10 is a metal end cap. In the developing roll 3, since the sleeve 9 is formed of the above semiconductive polymer material composition, the developing roll 3 has uniform electric characteristics (volume specific resistance and surface resistance), and moreover, due to temperature change and humidity change, Volume resistivity etc. does not change. This is considered to be due to the following reasons. That is, when both the components (A) and (B) are used in the semiconductive polymer material composition,
As shown in the figure, the micelles of the component (A) are surrounded by the particles of the component (B), so that the components (A) are distributed in the matrix X at appropriate intervals.
As a result, the electrical characteristics become uniform, and at the same time, the change in volume resistivity or the like due to temperature becomes small. Moreover, since the component (B) surrounding the component (A) has been subjected to the hydrophobic treatment with the titanate coupling agent and the fatty acid compound as described above, the resistance, especially the surface resistance change due to the humidity change can be also improved. Get smaller.

第3図は上記のような半導電性高分子材料組成物を用
いて得られたスリーブを組み込んだ現像ロール3の他の
例を示している。すなわち、この現像ロール3は、金属
製エンドキヤツプ1の外周にステンレス,アルミニウム
等の金属製の円筒状芯金11を設け、その外周に上記スリ
ーブ9を導電性接着剤層12を介して取り付けている。こ
の例においても上記スリーブ9は、第1図のスリーブ9
と同様の構造になつており、電気特性が安定し、しかも
温度変化により体積固有抵抗等の変化が少なくなつてい
る。
FIG. 3 shows another example of the developing roll 3 incorporating the sleeve obtained by using the above semiconductive polymer material composition. That is, in the developing roll 3, a metal-made end cap 1 is provided with a cylindrical core metal 11 made of metal such as stainless steel or aluminum, and the sleeve 9 is attached to the outer circumference thereof with a conductive adhesive layer 12 interposed therebetween. There is. Also in this example, the sleeve 9 is the sleeve 9 of FIG.
The structure is the same as that described above, the electrical characteristics are stable, and the change in volume resistivity and the like due to temperature change is reduced.

つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。 Next, examples will be described together with comparative examples.

〔実施例1,2、比較例〕 半導電性高分子材料組成物を得るために、後記の第1
表に示す原料を同表に示す割合で配合した。この場合に
おける(A)成分および(B)成分の組成物全体中にお
ける割合を第2表に示した。なお、(A)成分として
は、平均粒径0.05μmのカーボン粉末を用い、(B)成
分としては、実施例1が味の素(株)製,プレンアクト
KRTTS〔前記一般式(I)で表されるイソプロピルトリ
イソステアロイルチタネートからなる〕を用い、実施例
2が同じく味の素(株)製,プレンアクトKR238S〔前記
一般式(II)で表されるビス(ジオクチルパイロホスフ
エート)エチレンチタネートからなる〕を用いている。
[Examples 1, 2 and Comparative Examples] In order to obtain a semiconductive polymer material composition, the following first
The raw materials shown in the table were blended in the proportions shown in the table. Table 2 shows the proportions of the components (A) and (B) in the whole composition in this case. As the component (A), carbon powder having an average particle size of 0.05 μm was used, and as the component (B), Example 1 manufactured by Ajinomoto Co., Inc.
Using KRTTS (comprising isopropyl triisostearoyl titanate represented by the general formula (I)), Example 2 was also manufactured by Ajinomoto Co., Inc. (Pyrophosphate) ethylene titanate].

つぎに、上記組成物を用い、押出成形により円筒状ス
リーブをつくり、これを用いて第1図に示すような現像
ロール3を製造した。この場合におけるスリーブ9の電
気特性の均一性および温度変化における体積固有抵抗VR
ならびに表面抵抗RSの変化度合を調べると同時に、湿度
変化による体積固有抵抗VRおよび表面抵抗RSの変化度合
を調べた。この測定は上記スリーブ9の中央部および左
右両端部についてそれぞれ体積固有抵抗VRおよび表面抵
抗RSを調べ、その最大値と最小値とを下記の第3表およ
び第4表に示している。第3表は上記RV,RSの温度依存
性を示しており、第4表は上記RV,RSの湿度依存性を示
している。
Next, using the above composition, a cylindrical sleeve was formed by extrusion molding, and a developing roll 3 as shown in FIG. 1 was manufactured using this. In this case, the uniformity of the electrical characteristics of the sleeve 9 and the volume resistivity VR due to temperature changes
Moreover, the degree of change of the surface resistance RS and the degree of change of the volume resistivity VR and the surface resistance RS due to the change of humidity were also examined. In this measurement, the volume resistivity VR and the surface resistance RS of the central portion and the left and right end portions of the sleeve 9 are examined, and the maximum value and the minimum value thereof are shown in Tables 3 and 4 below. Table 3 shows the temperature dependence of the above RV and RS, and Table 4 shows the humidity dependence of the above RV and RS.

第3表および第4表から明らかなように、実施例品は
VRおよびVSがスリーブ9の各部分において1桁以内の変
化の範囲内にとどまつているのに対し、比較例品は5桁
ないしは6桁も値がばらついており、電気特性の均一性
の点から実施例品が著しく優れていることがわかる。ま
た、RV,RSの温度依存性についても、第3表から明らか
なように、実施例品の変化度合が比較例品に比べて極め
て小さく優れていることがわかる。さらに、RV,RSの湿
度依存性についても実施例品の変化度合が極めて小さい
のに対し、比較例品は大きな変化値を示している。
As is clear from Tables 3 and 4, the example products
While VR and VS remain within the range of change within 1 digit in each part of the sleeve 9, the value of the comparative example product varies by 5 digits or 6 digits, and in terms of uniformity of electrical characteristics. It can be seen that the example products are remarkably excellent. Also, as is clear from Table 3, the degree of change of the RV and RS is extremely small compared to the comparative example and is superior to the comparative example. Further, regarding the humidity dependence of RV and RS, the degree of change of the example product is extremely small, while the comparative example product shows a large change value.

なお、上記の実施例では、この発明の半導電性高分子
材料組成物を用いて電子写真複写機の現像ロールを製造
しているが、この発明の組成物は上記のものに限らず、
例えばワードプロセツサーのプリンター等にも応用可能
である。
In the above example, the developing roll of an electrophotographic copying machine is manufactured using the semiconductive polymer material composition of the present invention, but the composition of the present invention is not limited to the above.
For example, it can be applied to a printer of a word processor.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

この発明の半導電性高分子材料組成物は、以上のよう
に(A)成分の両導電材粉末と(B)成分の導電化亜鉛
の疎水処理粒子とを絶縁性高分子成形材料中に含有させ
ているため、これを用いて例えば現像ロールのスリーブ
等を製造する場合において、電気特性の均一性を備え、
しかも温度,湿度変化による体積固有抵抗,表面抵抗の
変動幅の極めて小さいものを製造することができる。そ
の結果、高画質の複写像を形成することができ、また、
フルカラー型の電子写真複写機にも対応できるようにな
る。
As described above, the semiconductive polymer material composition of the present invention contains both conductive material powders of the component (A) and the hydrophobic treated particles of conductive zinc of the component (B) in the insulating polymer molding material. Therefore, for example, in the case of manufacturing a sleeve of a developing roll or the like using this, it has a uniform electric characteristic,
Moreover, it is possible to manufacture a product in which the fluctuation range of volume resistivity and surface resistance due to temperature and humidity changes is extremely small. As a result, a high quality copy image can be formed, and
It will also be compatible with full-color electrophotographic copying machines.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の半導電性高分子材料組成物製スリー
ブを用いた現像ロールの縦断面図、第2図はそのスリー
ブ内における(A)成分と(B)成分の分布態様の説明
図、第3図は他の現像ロールの部分的断面図、第4図は
従来の摩擦帯電法による現像説明図、第5図はイオン性
導電材粒子を分布した従来の半導電性高分子材料組成物
のイオン性導電材粒子の移動状態の説明図、第6図は導
電材粒子をマトリツクス中に分布させた従来例における
導電材粒子の連鎖状態等の説明図である。 3……現像ロール、9……スリーブ、10……エンドキヤ
ツプ
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view of a developing roll using a sleeve made of a semiconductive polymer material composition of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory view of a distribution mode of components (A) and (B) in the sleeve. FIG. 3 is a partial sectional view of another developing roll, FIG. 4 is an explanatory view of development by a conventional triboelectric charging method, and FIG. 5 is a conventional semiconductive polymer material composition in which ionic conductive material particles are distributed. FIG. 6 is an explanatory view of a moving state of ionic conductive material particles of an object, and FIG. 6 is an explanatory view of a chained state of conductive material particles in a conventional example in which conductive material particles are distributed in a matrix. 3 ... Developing roll, 9 ... Sleeve, 10 ... End cap

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】絶縁性高分子成形材料中に、下記の(A)
成分および(B)成分が含有されて半導電性が付与され
ていることを特徴とする半導電性高分子材料組成物。 (A)体積固有抵抗が10-6〜10-1Ω・cmの良導電材粉
末。 (B)体積固有抵抗が101〜104Ω・cmの導電化亜鉛の疎
水処理粒子。
1. An insulating polymer molding material containing the following (A)
A semiconductive polymer material composition comprising a component and component (B) to impart semiconductivity. (A) A good conductive material powder having a volume resistivity of 10 -6 to 10 -1 Ωcm. (B) Hydrophobized particles of conductive zinc having a volume resistivity of 10 1 to 10 4 Ω · cm.
【請求項2】上記(A)成分および(B)成分が全体中
に下記の割合(重量%)で配合されている請求項(1)
記載の半導電性高分子材料組成物。 30≦A+B≦80 A≦B 0≦A≦20 30≦B≦60
2. The component (A) and the component (B) are blended in the whole in the following proportions (% by weight).
The semiconductive polymer material composition described. 30 ≦ A + B ≦ 80 A ≦ B 0 ≦ A ≦ 20 30 ≦ B ≦ 60
【請求項3】(B)成分の疎水処理が、チタネート系カ
ツプリング剤または脂肪酸系化合物による表面処理であ
る請求項(1)または(2)記載の半導電性高分子材料
組成物。
3. The semiconductive polymer material composition according to claim 1, wherein the hydrophobic treatment of the component (B) is a surface treatment with a titanate coupling agent or a fatty acid compound.
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