JPH0820779B2 - Electrophotographic lithographic printing plate - Google Patents
Electrophotographic lithographic printing plateInfo
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- JPH0820779B2 JPH0820779B2 JP63021354A JP2135488A JPH0820779B2 JP H0820779 B2 JPH0820779 B2 JP H0820779B2 JP 63021354 A JP63021354 A JP 63021354A JP 2135488 A JP2135488 A JP 2135488A JP H0820779 B2 JPH0820779 B2 JP H0820779B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、電子写真方式で製版される電子写真平版印
刷用原版に関するものであり、特に、該平版印刷原版の
光導電層形成用結着樹脂の改良に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electrophotographic lithographic printing plate precursor prepared by an electrophotographic method, and more particularly to a binder for forming a photoconductive layer of the lithographic printing plate precursor. Regarding improvement of resin.
(従来技術) 現在ダイレクト製版用のオフセット原版には多種のも
のが提案され且つ実用化されているが、中でも導電性支
持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子及び結着樹脂を
主成分とした光導電層を設けた感光体において、通常の
電子写真工程を経てその感光体表面に親油性の高いトナ
ー画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言われる
不感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化するこ
とによってオフセット原版を得る技術が広く用いられて
いる。(Prior Art) At present, various types of offset master plates for direct plate making have been proposed and put into practical use. Among them, the main component is a photoconductive particle such as zinc oxide and a binder resin on a conductive support. In the photoconductor provided with the photoconductive layer described above, a highly lipophilic toner image is formed on the photoconductor surface through a normal electrophotographic process, and then the surface is treated with a desensitizing solution called an etchant. A technique for obtaining an offset original plate by selectively making a non-image portion hydrophilic is widely used.
良好な印刷物を得るには、先ず、オフセット原版に、
原画が忠実に複写されると共に、感光体表面が不感脂化
処理液となじみ易く非画像部が充分に親水化されると同
時に耐水性を有し、更に印刷においては、画像を有する
光導電層が離脱しないこと、及び湿し水とのなじみがよ
く、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しない様に充分
に非画像部の親水性が保持されること等の性能を有する
必要がある。In order to obtain a good printed matter, first, on the offset original plate,
The original image is faithfully copied, the surface of the photoconductor is easily compatible with the desensitizing solution, and the non-image area is sufficiently hydrophilic, and at the same time has water resistance. Should not be removed, and it should be well compatible with fountain solution, and the hydrophilicity of the non-image area should be sufficiently maintained so that stains do not occur even when the number of printed sheets increases.
これらの性能には光導電層中の酸化亜鉛と結着樹脂の
比率が影響することは既に知られている。例えば、光導
電層の酸化亜鉛粒子に対する結着樹脂の比率を小さくす
れば、光導電層表面の不感脂化性が向上し、地汚れは少
なくなるが、他方で光導電層自体の内部凝集力が低下
し、機械的強度不足による耐刷力の低下が生じる。逆に
結着樹脂の比率を大きくすると、耐刷力は向上するが、
地汚れが増大する。特に地汚れは、光導電層表面の不感
脂化性の良否に関係する現象であることは言うまでもな
いが、光導電層表面の不感脂化性は光導電層中の酸化亜
鉛と結着樹脂の比率のみによって左右されるものではな
く、結着樹脂の種類によっても大きく左右されることが
明らかになってきている。It is already known that the ratio of zinc oxide to the binder resin in the photoconductive layer affects these performances. For example, if the ratio of the binder resin to the zinc oxide particles of the photoconductive layer is reduced, the desensitizing property of the photoconductive layer surface is improved and the background stain is reduced, but on the other hand, the internal cohesive force of the photoconductive layer itself is reduced. And the printing durability is reduced due to insufficient mechanical strength. On the contrary, if the ratio of the binder resin is increased, the printing durability is improved,
Soil pollution increases. Needless to say, the background stain is a phenomenon related to the quality of the desensitizing property of the surface of the photoconductive layer, but the desensitizing property of the surface of the photoconductive layer is a phenomenon of the zinc oxide and the binder resin in the photoconductive layer. It has become clear that not only the ratio but also the type of binder resin greatly affects.
古くから公知の樹脂として、例えばシリコーン樹脂
(特公昭34-6670)、スチレン−ブタジエン樹脂(特公
昭35-1950)、アルキッド樹脂、マレイン酸樹脂、ポリ
アミド(特公昭35-11219)、酢酸ビニル樹脂(特公昭41
-2425)、酢酸ビニル共重合体(特公昭41-2426)、アク
リル樹脂(特公昭35-11216)、アクリル酸エステル共重
合体(例えば特公昭35-11219、特公昭36-8510、特公昭4
1-13946等)等が知られている。しかし、これらの樹脂
を用いた電子写真感光材料においては、1)光導電層の
帯電性が低い、2)複写画像の画像部の品質(特に網点
再現性・解像力)が悪い、3)露光感度が低い、4)オ
フセットマスターとして用いるために不感脂化処理して
も不感脂化が行なわれず、このためオフセット印刷した
際に印刷物に地汚れを生ずる、5)感光層の膜強度が充
分でなく、オフセット印刷すると感光層の脱離等が生
じ、印刷枚数を多くできない、6)複写画像作成時の環
境(例えば高温高湿)にその画質が影響されやすい、等
のいずれかの問題があった。Known resins have long been known, for example, silicone resin (Japanese Patent Publication Sho 34-6670), styrene-butadiene resin (Japanese Patent Publication 35-1950), alkyd resin, maleic acid resin, polyamide (Japanese Patent Publication 35-11219), vinyl acetate resin ( Japanese Patent Publication 41
-2425), vinyl acetate copolymer (Japanese Patent Publication No. 41-2426), acrylic resin (Japanese Patent Publication No. 35-11216), acrylate copolymer (eg Japanese Patent Publication No. 35-11219, Japanese Patent Publication No. 36-8510, Japanese Patent Publication No. 4).
1-13946 etc.) are known. However, in electrophotographic photosensitive materials using these resins, 1) the photoconductive layer has a low charging property, 2) the quality of the image portion of the copied image (particularly halftone dot reproducibility / resolution) is poor, and 3) exposure. Low sensitivity 4) Desensitization is not performed even when desensitized for use as an offset master. Therefore, background stain occurs on printed matter when offset printing is performed. 5) Photosensitive layer film strength is insufficient. If the offset printing is performed, the photosensitive layer may be detached, and the number of printed sheets cannot be increased. 6) The image quality is easily affected by the environment (for example, high temperature and high humidity) at the time of creating a copy image. It was
特にオフセット原版としては、前記の様に不感脂化性
不充分による地汚れ発生が大きな問題であり、これを改
良するために不感脂化性を向上させる酸化亜鉛結着用樹
脂の開発が種々検討されてきている。例えば、特公昭50
-31011では、フマル酸存在下で(メタ)アクリレート系
モノマーと他のモノマーと共重合させたMw1.8〜10×104
でTg10〜80℃の樹脂と(メタ)アクリレート系モノマー
とフマル酸以外の他のモノマーとから成る共重合体とを
併用したもの、特開昭53-54027では、カルボン酸基をエ
ステル結合から少なくとも原子数7個離れて有する置換
基をもつ(メタ)アクリル酸エステルを含む三元共重合
体を用いるもの、特開昭54-20735・特開昭57-202544で
は、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ートを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、特開昭
58-68046では、炭素数6〜12のアルキル基を置換基とす
る(メタ)アクリル酸エステル及びカルボン酸含有のビ
ニルモノマーを含む3元共重合体を用いるもの等が光導
電層の不感脂化性の向上に効果があると記載されてい
る。しかし、これらの不感脂化性向上に効果があるとさ
れる樹脂であっても、現実に評価してみると地汚れ、耐
刷力等において不充分であった。In particular, as the offset original plate, as described above, the occurrence of scumming due to insufficient desensitizing property is a big problem, and in order to improve this, various development of zinc oxide binder resin for improving desensitizing property has been studied. Is coming. For example, Japanese Examination Shokoku 50
-31011, Mw1.8-10 × 10 4 obtained by copolymerizing (meth) acrylate-based monomer with other monomer in the presence of fumaric acid.
In which a resin having a Tg of 10 to 80 ° C. and a copolymer composed of a (meth) acrylate-based monomer and a monomer other than fumaric acid are used in combination. In JP-A-53-54027, at least a carboxylic acid group is formed from an ester bond. A method using a terpolymer containing a (meth) acrylic acid ester having a substituent having 7 atoms apart, JP-A-54-20735 and JP-A-57-202544 discloses acrylic acid and hydroxyethyl (meth). ) Using quaternary or quaternary copolymers containing acrylates
In 58-68046, one using a terpolymer containing a (meth) acrylic acid ester having an alkyl group having 6 to 12 carbon atoms as a substituent and a vinyl monomer containing a carboxylic acid is a desensitizing agent for the photoconductive layer. It is described that it is effective in improving sex. However, even with these resins that are said to be effective in improving the desensitizing property, when actually evaluated, the background stain and the printing durability were insufficient.
更に、結着樹脂として、分解により親水性基を生成す
る官能基を含有する樹脂を用いるものが検討されてお
り、例えば分解によりヒドロキシル基を生成する官能基
を含有するもの(特開昭62-195684号、特開昭62-210475
号、特開昭62-210476号)や分解によりカルボキシル基
を生成する官能基を含有するもの(特開昭62-21269号)
等が開示されている。Further, as a binder resin, a resin containing a functional group capable of generating a hydrophilic group by decomposition has been studied, for example, a resin containing a functional group capable of generating a hydroxyl group by decomposition (Japanese Patent Laid-Open No. 62- 195684, JP-A-62-210475
No. JP-A-62-210476) or those containing a functional group capable of generating a carboxyl group by decomposition (JP-A-62-21269)
Etc. are disclosed.
これらの樹脂は不感脂化液又は印刷時に用いる湿し水
により加水分解又は加水素分解されて親水性基を生成す
る樹脂であり、これらを平版印刷用原版の結着樹脂とし
て用いると、親水性基自身をはじめから含有する樹脂を
用いた場合に該親水性基と光導電性酸化亜鉛粒子表面と
の強い相互作用によって生ずると思われる種々の問題
(平滑性の悪化、電子写真特性の悪化等)を回避できる
とともに、不感脂化液により親水化される非画像部の親
水性が、樹脂中において分解により生成される上記親水
性基によってより一層高められる為、画像部の親油性と
非画像部の親水性が明確となり、印刷時に非画像部に印
刷インキが付着するのを防止し、その結果として地汚れ
のない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能
となると記載されている。These resins are hydrolyzed or hydrogenolyzed by a desensitizing solution or a fountain solution used for printing to produce a hydrophilic group, and when these are used as a binder resin of a lithographic printing plate precursor, they have a hydrophilic property. Various problems (such as deterioration of smoothness, deterioration of electrophotographic characteristics, etc.) which are considered to be caused by strong interaction between the hydrophilic group and the surface of the photoconductive zinc oxide particles when a resin containing the group itself is used. ) Can be avoided, and the hydrophilicity of the non-image area to be hydrophilized by the desensitizing liquid is further enhanced by the hydrophilic group generated by decomposition in the resin. It is described that the hydrophilicity of the area becomes clear, prevents printing ink from adhering to the non-image area during printing, and as a result, it is possible to print a large number of prints of clear image quality without background smear. .
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、これらの樹脂を用いても地汚れ、耐刷
力において未だ満足できるものではなく、上記の如き親
水性基生成官能基を含有する樹脂を用いた場合でも、非
画像部における親水性を更に向上させるべく、その含有
量を増大させた場合には、分解により生成した親水性基
により親水性が増大するとともに水溶性となってしまう
ため、特にその持続性において問題のあることが判っ
た。(Problems to be Solved by the Invention) However, even if these resins are used, background fouling and printing durability are still unsatisfactory, and when a resin containing a hydrophilic group-forming functional group as described above is used. However, when the content is increased in order to further improve the hydrophilicity in the non-image area, the hydrophilic group generated by the decomposition increases the hydrophilicity and becomes water-soluble, so that the sustainability is particularly high. It turned out that there was a problem in sex.
従って、非画像部の親水性による効果がより向上し、
更に持続性が向上する技術の出現が望まれる。Therefore, the effect by the hydrophilicity of the non-image portion is further improved,
The emergence of a technology that further improves sustainability is desired.
より具体的にいえば、全結着樹脂中における上記の如
き親水性基生成官能基を含有する樹脂の含有量を減少さ
せても親水性向上の効果が変わらず維持でき、ないしは
向上し、あるいは印刷機の大型化又は印圧の変動等の如
き印刷条件が厳しくなった場合でも、地汚れのない鮮明
な画質の印刷物を多数枚印刷することのできる技術の出
現が望まれる。More specifically, even if the content of the resin containing a hydrophilic group-forming functional group as described above in the entire binder resin is reduced, the effect of improving hydrophilicity can be maintained unchanged or is improved, or The advent of a technique capable of printing a large number of printed matter with clear image quality without background stains is desired even when printing conditions such as a large-sized printing machine or fluctuations in printing pressure become severe.
(問題点を解決するための手段) 上記問題点は、導電性支持体上に、少なくとも光導電
性酸化亜鉛、下記樹脂(A)、下記樹脂(B)及びトル
エンを含む液を塗布して光導電層を設けてなる電子写真
感光体を利用した平版印刷用原版により解決されること
が見出された。(Means for Solving Problems) The above problems are caused by applying a liquid containing at least photoconductive zinc oxide, the following resin (A), the following resin (B) and toluene onto a conductive support and applying light. It has been found that the problem can be solved by a lithographic printing plate precursor using an electrophotographic photosensitive member provided with a conductive layer.
(i)樹脂(A):分解により少なくとも1つのカルボ
キシル基を生成する官能基を少なくとも1種含有する共
重合成分及び樹脂〔B〕と架橋反応する官能基を少なく
とも1種含有する共重合成分をそれぞれ少なくとも1種
含有するメタクリレート系共重合体、 (ii)樹脂(B):熱及び/又は光で硬化反応する官能
基を少なくとも1種含有する成分を少なくとも1種含有
するメタクリレート系共重合体。(I) Resin (A): a copolymerization component containing at least one functional group capable of generating at least one carboxyl group by decomposition and a copolymerization component containing at least one functional group capable of undergoing a crosslinking reaction with the resin [B]. (Ii) Resin (B): a methacrylate copolymer containing at least one component containing at least one functional group capable of undergoing a curing reaction with heat and / or light.
本発明は平版印刷用原版の光導電層の結着樹脂の少なく
とも1部に、分解して少なくとも1個のカルボキシル基
を生成する官能基を少なくとも1種含有する樹脂と熱及
び/又は光硬化樹脂とを用いる事を特徴としている。こ
れにより本発明による平版印刷用原版は、原画に対して
忠実な複写画像を再現し、非画像部の親水性が良好であ
るため地汚れも発生せず、光導電層の平滑性及び静電特
性が良好であり、更に耐刷力が優れているという利点を
有する。The present invention relates to a resin containing at least one functional group capable of decomposing to produce at least one carboxyl group in at least a part of a binder resin of a photoconductive layer of a lithographic printing plate, and a heat and / or photocurable resin. It is characterized by using and. As a result, the lithographic printing plate precursor according to the present invention reproduces a copy image faithful to the original image, and since the non-image area has good hydrophilicity, scumming does not occur, and the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer are reduced. It has the advantages of good characteristics and excellent printing durability.
更に、本発明の平版印刷用原版は製版処理時の環境に
左右されず、また処理前の保存性に優れているという特
徴を有する。Further, the lithographic printing plate precursor of the invention is characterized by being unaffected by the environment at the time of plate making processing and being excellent in preservability before processing.
以下に、本発明において用いられる分解して少なくと
も1個のカルボキシル基を生成する官能基(以下単に、
カルボキシル基生成官能基と称することもある)につい
て詳しく説明する。Hereinafter, a functional group used in the present invention, which decomposes to form at least one carboxyl group (hereinafter simply referred to as
(Also referred to as a carboxyl group-forming functional group) will be described in detail.
本発明のカルボキシル基生成官能基は分解によってカ
ルボキシル基を生成するが、1つの官能基から生成する
カルボキシル基は1個でも2個以上でもよい。The carboxyl group-forming functional group of the present invention generates a carboxyl group by decomposition, but the number of carboxyl groups generated from one functional group may be one or two or more.
本発明の1つの好ましい態様によれば、カルボキシル
基生成官能基含有樹脂は、一般式(I)〔−COO−L1〕
で示される官能基を少なくとも1種含有する樹脂であ
る。According to one preferred embodiment of the present invention, the carboxyl group-forming functional group-containing resin has the general formula (I) [—COO-L 1 ]
Is a resin containing at least one functional group represented by.
一般式(I)〔−COO−L1〕において、 L1は、 −N=CH−Q1, −NH−OH, を表わす。In the general formula (I) [-COO-L 1 ], L 1 is -N = CH-Q 1 , -NH-OH, Represents
但し、R1,R2は互いに同じでも異なっていてもよく、水
素原子又は脂肪族基を表わし、Xは、芳香族基を表わ
し、Zは、水素原子、ハロゲン原子,トリハロメチル
基,アルキル基,−CN,−NO2,−SO2R1′(但し、R1′
は炭化水素基を示す)、−COOR2′(但しR2′は炭化水
素基を示す)、又は、−O−R3′(但しR3′は炭化水素
基を示す)を表わし、n,mは、0,1,又は2を表わす。However, R 1 and R 2, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom or an aliphatic group, X represents an aromatic group, Z is a hydrogen atom, a halogen atom, a trihalomethyl group or an alkyl group. , -CN, -NO 2, -SO 2 R 1 '( where, R 1'
Represents a hydrocarbon group), —COOR 2 ′ (wherein R 2 ′ represents a hydrocarbon group), or —O—R 3 ′ (wherein R 3 ′ represents a hydrocarbon group), n, m represents 0, 1, or 2.
R3,R4,R5は、互いに同じでも異なっていてもよく、炭
化水素基又は−O−R4′(但し、R4′は炭化水素基を示
す)を表わし、Mは、Si,Sn又はTiを表わす。R 3 , R 4 and R 5, which may be the same or different, each represents a hydrocarbon group or —O—R 4 ′ (provided that R 4 ′ represents a hydrocarbon group), M represents Si, Represents Sn or Ti.
Q1,Q2は、各々、炭化水素基を表わす。Q 1 and Q 2 each represent a hydrocarbon group.
Y1は酸素原子又はイオウ原子を表わし、R6、R7、R8は
同じでも異なってもよく、各々水素原子又は脂肪族基を
表わし、pは3または4の整数を表わす。Y2は環状イミ
ド基を形成する有機残基を表わす。Y 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or an aliphatic group, and p represents an integer of 3 or 4. Y 2 represents an organic residue forming a cyclic imide group.
一般式〔−COO−L1〕の官能基は、分解によってカル
ボキシル基を生成するものであり、以下更に詳しく説明
する。The functional group of the general formula [-COO-L 1 ] generates a carboxyl group by decomposition, and will be described in more detail below.
L1が を表わす場合において、 R1,R2は、互いに同じでも異なっていてもよく好ましく
は水素原子、又は置換されてもよい炭素数1〜12の直鎖
状又は分枝状アルキル基(例えばメチル基,エチル基,
プロピル基,クロロメチル基,ジクロロメチル基,トリ
クロロメチル基,トリフルオロメチル基,ブチル基,ヘ
キシル基,オクチル基,デシル基,ヒドロキシエチル
基,3−クロロプロピル基等)を表わし、Xは好ましくは
置換されてもよいフェニル基又はナフチル基(例えばフ
ェニル基,メチルフェニル基,クロロフェニル基,ジメ
チルフェニル基,クロロメチルフェニル基,ナフチル基
等)を表わし、Zは好ましくは水素原子、ハロゲン原子
(例えば塩素原子、フッ素原子等)、トリハロメチル基
(例えばトリクロロメチル基,トリフルオロメチル基
等)、炭素数1〜12の置換されてもよい直鎖状又は分枝
状アルキル基(例えば、メチル基,クロロメチル基,ジ
クロロメチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ヘ
キシル基,テトラフルオロエチル基,オクチル基,シア
ノエチル基,クロロエチル基等)、−CN,−NO2,−SO2R
1′〔R1′は脂肪族基(例えば炭素数1〜12の置換され
てもよいアルキル基:具体的にはメチル基,エチル基,
プロピル基,ブチル基,クロロエチル基,ペンチル基,
オクチル基等、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基:具体的にはベンジル基、フェネチル基、クロロ
ベンジル基、メトキシベンジル基、クロロフェネチル
基、メチルフェネチル基等)又は芳香族基(例えば置換
基を含有してもよいフェニル基又はナフチル基:具体的
には、フェニル基,クロロフェニル基,ジクロロフェニ
ル基,メチルフェニル基,メトキシフェニル基,アセチ
ルフェニル基,アセトアミドフェニル基,メトキシカル
ボニルフェニル基,ナフチル基,等)を表わす〕、−CO
OR2′(R2′は上記R1′と同義である)又は−O−R3′
(R3′は上記R1′と同義である)を表わす。n,mは0,1又
は2を表わす。L 1 is In the case of representing, R 1 and R 2 may be the same or different from each other, preferably a hydrogen atom, or an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group). , Ethyl group,
Propyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, hydroxyethyl group, 3-chloropropyl group, etc., and X is preferably Represents a phenyl group or naphthyl group which may be substituted (eg, phenyl group, methylphenyl group, chlorophenyl group, dimethylphenyl group, chloromethylphenyl group, naphthyl group, etc.), and Z is preferably a hydrogen atom or a halogen atom (eg, chlorine Atom, fluorine atom, etc.), trihalomethyl group (eg, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, etc.), and optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, methyl group, chloro group) Methyl group, dichloromethyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, tetrafluor Roechiru group, octyl group, cyanoethyl group, chloroethyl group, etc.), - CN, -NO 2, -SO 2 R
1 '[R 1' represents an aliphatic group (e.g. an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms: for example, methyl group, ethyl group,
Propyl group, butyl group, chloroethyl group, pentyl group,
Aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms and optionally substituted such as octyl group: specifically, benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, chlorophenethyl group, methylphenethyl group, etc.) or aromatic group ( For example, a phenyl group or naphthyl group which may contain a substituent: specifically, a phenyl group, a chlorophenyl group, a dichlorophenyl group, a methylphenyl group, a methoxyphenyl group, an acetylphenyl group, an acetamidophenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, Naphthyl group, etc.], -CO
OR 2 ′ (R 2 ′ has the same meaning as R 1 ′ above) or —O—R 3 ′
(R 3 ′ has the same meaning as R 1 ′ above). n and m represent 0, 1 or 2.
以上記述したL1が を表わす場合について、より具体的に説明すると、以下
の様な置換基例を挙げることができる。Is L 1 described above When the case of is described more specifically, the following examples of substituents can be given.
例えば、β,β,β−トリクロロエチル基,β,β,
β−トリフルオロエチル基,ヘキサフルオロ−i−プロ
ピル基,−CH2CF2CF2 n′H基(n′は1〜5を示
す)、2−シアノエチル基,2−ニトロエチル基,2−メタ
ンスルホニルエチル基,2−エタンスルホニルエチル基,2
−ブタンスルホニルエチル基,ベンゼンスルホニルエチ
ル基,4−ニトロベンゼンスルホニルエチル基,4−シアノ
ベンゼンスルホニルエチル基、4−メチルベンゼンスル
ホニルエチル基、置換基を含有してもよいベンジル基
(例えばベンジル基,メトキシベンジル基,トリメチル
ベンジル基,ペンタメチルベンジル基,ニトロベンジル
基等)、置換基を含有してもよいフェナシル基(例えば
フェナシル基,ブロモフェナシル基等)、置換基を含有
してもよいフェニル基(例えばフェニル基,ニトロフェ
ニル基,シアノフェニル基,メタンスルホニルフェニル
基,トリフルオロメチルフェニル基,ジニトロフェニル
基,等)を表わす。For example, β, β, β-trichloroethyl group, β, β,
β- trifluoroethyl group, a hexafluoro -i- propyl, -CH 2 CF 2 CF 2 n 'H group (n' represents 1 to 5), 2-cyanoethyl, 2-nitroethyl group, 2-methane Sulfonylethyl group, 2-ethanesulfonylethyl group, 2
-Butanesulfonylethyl group, benzenesulfonylethyl group, 4-nitrobenzenesulfonylethyl group, 4-cyanobenzenesulfonylethyl group, 4-methylbenzenesulfonylethyl group, benzyl group which may contain a substituent (for example, benzyl group, methoxy group) A benzyl group, a trimethylbenzyl group, a pentamethylbenzyl group, a nitrobenzyl group, etc.), a phenacyl group which may contain a substituent (for example, phenacyl group, bromophenacyl group, etc.), and a phenyl group which may contain a substituent (for example, Phenyl, nitrophenyl, cyanophenyl, methanesulfonylphenyl, trifluoromethylphenyl, dinitrophenyl, etc.).
又L1が を表わす場合において、R3,R4,R5は互いに同じでも異な
っていてもよく、好ましくは炭素数1〜18の置換されて
もよい脂肪族基〔脂肪族基はアルキル基,アルケニル
基,アラルキル基,又は脂環式基を示し、置換基として
は例えばハロゲン原子、−CN基、−OH基、−O−Q′
(Q′はアルキル基,アラルキル基,脂環式基,アリー
ル基を示す)等が挙げられる〕、炭素数6〜18の置換さ
れてもよい芳香族基(例えばフェニル基,トリル基,ク
ロロフェニル基,メトキシフェニル基,アセトアミドフ
ェニル基,ナフチル基等)、又は−O−R4′〔R4′は置
換されてもよい炭素数1〜12のアルキル基、置換されて
もよい炭素数2〜12のアルケニル基、置換されてもよい
炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数5〜18の置換され
てもよい脂環式基、炭素数6〜18の置換されてもよいア
リール基を示す〕を表わす。Also L 1 In the formula, R 3 , R 4 , and R 5 may be the same or different from each other, and are preferably an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted [the aliphatic group is an alkyl group, an alkenyl group, Represents an aralkyl group or an alicyclic group, and examples of the substituent include a halogen atom, a —CN group, a —OH group, and —O—Q ′.
(Q ′ represents an alkyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, an aryl group), etc.], and an optionally substituted aromatic group having 6 to 18 carbon atoms (eg, a phenyl group, a tolyl group, a chlorophenyl group) , methoxyphenyl group, acetamidophenyl group, a naphthyl group, etc.), or -O-R 4 '[R 4' is substituted alkyl group of good 1 to 12 carbon atoms, the carbon atoms which may be substituted 2-12 An alkenyl group, an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an optionally substituted alicyclic group having 5 to 18 carbon atoms, and an optionally substituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms] Represents
MはSi,Ti,又はSnの各原子を表わし、より好ましくは
Si原子を表わす。又L1が−N=CH−Q1又は を表わす場合においては、Q1,Q2は好ましくは各々炭素
数1〜18の置換されてもよい脂肪族基(脂肪族基として
は、アルキル基,アルケニル基,アラルキル基,脂環式
基を示す。置換基としては例えば、ハロゲン原子、CN
基、アルコキシ基等を挙げることができる)又は炭素数
6〜18の置換されてもよいアリール基(例えばフェニル
基,メトキシフェニル基,トリル基,クロロフェニル
基,ナフチル基等)を表わす。M represents each atom of Si, Ti, or Sn, more preferably
Represents a Si atom. The L 1 is -N = CH-Q 1 or In the case of representing, each of Q 1 and Q 2 is preferably an optionally substituted aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms (as the aliphatic group, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, and an alicyclic group are represented. Examples of the substituent include a halogen atom, CN
And an optionally substituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms (for example, a phenyl group, a methoxyphenyl group, a tolyl group, a chlorophenyl group, and a naphthyl group).
L1が、 を表わす場合において、Y1は酸素原子又はイオウ原子を
表わす。R6、R7、R8は互いに同じでも異なっていてもよ
く、好ましくは水素原子、置換されてもよい炭素数1〜
18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基,エ
チル基,プロピル基,ブチル基,ヘキシル基,オクチル
基,デシル基,ドデシル基,オクタデシル基,クロロエ
チル基,メトキシエチル基,メトキシプロピル基,
等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペンチ
ル基,シクロヘキシル基等)、置換されてもよい、炭素
数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基,フェネチ
ル基,クロロベンジル基,メトキシベンジル基,等)又
は、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基,ナ
フチル基,クロロフェニル基,トリル基,メトキシフェ
ニル基,メトキシカルボニルフェニル基,ジクロロフェ
ニル基等)又は−O−R5′(R5′は、炭化水素基を表わ
し、具体的には、上記R6、R7、R8の炭化水素基と同一の
置換基類を示す)を表わす。L 1 is In the formula, Y 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, and may have 1 to 1 carbon atoms which may be substituted.
18 linear or branched alkyl groups (eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl, chloroethyl, methoxyethyl, methoxypropyl,
Etc.), optionally substituted alicyclic group (eg cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group) Group, etc.) or an aromatic group which may be substituted (eg, phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.) or —O—R 5 ′ (R 5 'represents a hydrocarbon group, specifically, shows the same substituents such as hydrocarbon groups of R 6, R 7, R 8 ) represents an.
Pは3又は4の整数を表わす。 P represents an integer of 3 or 4.
L1が、 を表わす場合において、Y2は、環状イミド基を形成する
有機残基を表わす。好ましくは、一般式(II)又は(II
I)で示される有機残基を表わす。L 1 is In the case of representing, Y 2 represents an organic residue forming a cyclic imide group. Preferably, the compound represented by the general formula (II) or (II)
Represents an organic residue represented by I).
一般式(II) 一般式(III) 式(II)中、R9、R10は各々同じでも異なってもよ
く、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭
素原子等)、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル
基(例えばメチル基,エチル基,プロピル基,ブチル
基,ヘキシル基,オクチル基,デシル基,ドデシル基,
ヘキサデシル基,オクタデシル基,2−クロロエチル基,2
−メトキシエチル基,2−シアノエチル基,3−クロロプロ
ピル基,2−(メタンスルホニル)エチル基,2−(エトキ
シオキシ)エチル基,等)、炭素数7〜12の置換されて
もよいアラルキル基(例えば、ベンジル基,フェネチル
基,3−フェニルプロピル基,メチルベンジル基,ジメチ
ルベンジル基,メトキシベンジル基,クロロベンジル
基,ブロモベンジル基,等)、炭素数3〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、アリル基,3−メチル−
2−プロペニル基,2−ヘキセニル基,4−プロピル−2−
ペンテニル基,12−オクタデセニル基,等)、−S−
R6′(R6′は前記R9又はR10のアルキル基,アラルキル
基,アルケニル基と同一の内容を表わす)、又は置換さ
れてもよいアリール基(例えばフェニル基、トリル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニ
ル基,エトキシフェニル基、エトキシカルボニルフェニ
ル基,等)、又は−NHR7′(R7′は前記R6′と同一の内
容を表わす)を表わす。又、R9とR10で環を形成する残
基を表わしてもよい〔例えば5〜6員環の単環(例えば
シクロペンチル環,シクロヘキシル環)、又は5〜6員
環のビシクロ環(例えば,ビシクロヘプタン環,ビシク
ロヘプテン環,ビシクロオクタン環,ビシクロオクテン
環,等)、更には、これらの環は、置換されていてもよ
く、置換基としては、R9、R10で前記した内容と同一の
ものを含む。) qは2又は3の整数を表わす。General formula (II) General formula (III) In formula (II), R 9 and R 10 may be the same or different, and each is a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), or an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms ( For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group,
Hexadecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2,
-Methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group, 2- (methanesulfonyl) ethyl group, 2- (ethoxyoxy) ethyl group, etc., an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (For example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, etc.), alkenyl having 3 to 18 carbon atoms which may be substituted. Group (for example, allyl group, 3-methyl-
2-propenyl group, 2-hexenyl group, 4-propyl-2-
Pentenyl group, 12-octadecenyl group, etc.), -S-
R 6 ′ (R 6 ′ has the same meaning as the alkyl group, aralkyl group, and alkenyl group of R 9 or R 10 ) or an optionally substituted aryl group (for example, phenyl group, tolyl group,
Chlorophenyl group, bromophenyl group, a methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, an ethoxycarbonyl phenyl group, etc.), or -NHR 7 '(R 7' represents the same content as the R 6 '). Alternatively, R 9 and R 10 may represent a residue forming a ring (for example, a 5- or 6-membered monocyclic ring (for example, cyclopentyl ring, cyclohexyl ring), or a 5- or 6-membered bicyclo ring (for example, Bicycloheptane ring, bicycloheptene ring, bicyclooctane ring, bicyclooctene ring, etc.), and these rings may be substituted, and the substituents are the same as those described above for R 9 and R 10 . Including things. ) Q represents an integer of 2 or 3.
式(III)中、R11、R12は、同一でも異なってもよ
く、前記R9、R10と同一の内容のものを表わす。更に
は、R11とR12は、連結して芳香族環を形成する有機残基
を表わしてもよい(例えば、ベンゼン環,ナフタレン
環、等)。In the formula (III), R 11 and R 12 may be the same or different and have the same contents as R 9 and R 10 . Furthermore, R 11 and R 12 may represent an organic residue which is linked to form an aromatic ring (eg, benzene ring, naphthalene ring, etc.).
本発明の好ましい他の1つの態様として、一般式(I
V)〔−CO−L2〕で示される官能基を少なくとも1種含
有する樹脂である。In another preferred embodiment of the present invention, the compound represented by the general formula (I
V) - it is a resin containing at least one functional group represented by [CO-L 2].
一般式(IV)〔−CO−L2〕において L2は を表わす。但し、R13,R14,R15,R16,R17は、各々水素原
子又は脂肪族基を表わす。In the general formula (IV) [-CO-L 2 ], L 2 is Represents Here, R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 each represent a hydrogen atom or an aliphatic group.
脂肪族基としては、好ましくは前記R6、R7、R8の置換
基と同一の内容を表わす。又、R14とR15及びR16、R17は
連結して、縮合環を形成してもよい有機残基を表わす。
好ましくは5〜6員環の単環(例えばシクロペンチル
環、シクロヘキシル環等)、5員〜12員環の芳香族環
(例えば、ベンゼン環,ナフタレン環,チオフェン環,
ピロール環,ピラン環,キノリン環,等)等を表わす。
更に、本発明の好ましい他の1つの態様として、下記一
般式(V)で示されるオキサゾロン環を少なくとも1種
含有する樹脂である。The aliphatic group preferably has the same contents as the substituents of R 6 , R 7 and R 8 . Further, R 14 and R 15 and R 16 and R 17 represent an organic residue which may combine to form a condensed ring.
Preferably, a 5- to 6-membered monocyclic ring (eg, cyclopentyl ring, cyclohexyl ring, etc.), 5- to 12-membered aromatic ring (eg, benzene ring, naphthalene ring, thiophene ring,
Pyrrole ring, pyran ring, quinoline ring, etc.).
Further, another preferred embodiment of the present invention is a resin containing at least one oxazolone ring represented by the following general formula (V).
一般式(V) 一般式(V)において、R18、R19は、互いに同じでも
異なっていてもよく各々水素原子、炭化水素基を表わす
か又は、R18とR19とが一緒に環を形成してもよい。General formula (V) In the general formula (V), R 18 and R 19 may be the same or different from each other, and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, or R 18 and R 19 may form a ring together .
好ましくは、R18、R19は、互いに同じでも異なっても
よく、各々水素原子、置換されていてもよい炭素数1〜
12の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基,プロピル基,ブチル基,ヘキシル基,2−クロロ
エチル基,2−メトキシエチル基,2−メトキシカルボニル
エチル基,3−ヒドロキシプロピル基等)、置換されてい
てもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル
基,4−クロロベンジル基,4−アセトアミドベンジル基,
フェネチル基,4−メトキシベンジル基,等)、置換され
ていてもよい炭素数2〜12のアルケニル基(例えばエチ
レン基,アリル基,イソプロペニル基,ブテニル基,ヘ
キセニル基等)、置換されていてもよい5〜7員環の脂
環式基(例えばシクロペンチル基,シクロヘキシル基,
クロロシクロヘキシル基等)、置換されてもよい芳香族
基(例えばフェニル基,クロロフェニル基,メトキシフ
ェニル基,アセトアミドフェニル基,メチルフェニル
基,ジクロロフェニル基,ニトロフェニル基,ナフチル
基,ブチルフェニル基,ジメチルフェニル基等)を表わ
すか又は、R18とR19とが一緒に環(例えば、テトラメチ
レン基,ペンタメチレン基,ヘキサメチレン基等)を形
成してもよい。Preferably, R 18 and R 19 may be the same or different from each other, and each may be a hydrogen atom, an optionally substituted carbon number 1 to 1.
12 linear or branched alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-hydroxypropyl group) Etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-acetamidobenzyl group,
Phenethyl group, 4-methoxybenzyl group, etc.), optionally substituted alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms (eg ethylene group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, etc.), substituted May be a 5- to 7-membered alicyclic group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group,
Chlorocyclohexyl group, etc.), optionally substituted aromatic group (eg, phenyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, acetamidophenyl group, methylphenyl group, dichlorophenyl group, nitrophenyl group, naphthyl group, butylphenyl group, dimethylphenyl group) or represents a group, etc.), ring and R 18 and R 19 are together (e.g., tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, etc.) may be formed.
本発明に用いられる一般式(I)〜(V)で示される
官能基の群から選択される官能基を少なくとも1種含有
する樹脂は、重合体に含有されるカルボキシル基を反応
によって一般式〔−COO−L1〕あるいは〔−CO−L2〕の
官能基に変換する、いわゆる高分子反応による方法、又
は、一般式〔−COO−L1〕あるいは〔−CO−L2〕の官能
基を1種又はそれ以上含有する1種又はそれ以上の単量
体の又は、該単量体及びこれと共重合し得る他の単量体
の重合反応により重合体とする方法により得られる。The resin containing at least one functional group selected from the group of functional groups represented by the general formulas (I) to (V) used in the present invention is prepared by reacting a carboxyl group contained in a polymer with a general formula [ converting the functional group -COO-L 1] or [-CO-L 2], the method according to the so-called polymer reaction, or the functional group of the general formula [-COO-L 1] or [-CO-L 2] Is obtained by a method of forming a polymer by a polymerization reaction of one or more monomers containing one or more of the above, or the monomer and another monomer copolymerizable therewith.
これらの方法は、例えば、日本化学会編、「新実験化
学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第2535
頁(丸善株式会社刊)、岩倉義男:栗田恵輔著、「反応
性高分子」第170頁(講談社刊)等の総説引例の公知文
献等に詳細に記載されている。These methods are described, for example, in “New Experimental Chemistry Course, Volume 14, Synthesis and Reaction of Organic Compounds [V]”, 2535, edited by The Chemical Society of Japan.
Pages (published by Maruzen Co., Ltd.), Yoshio Iwakura: Keisuke Kurita, "Reactive Polymers", page 170 (published by Kodansha), etc.
重合体中の一般式〔−COO−L1〕あるいは〔−CO−
L2〕の官能基を任意に調整し得ることあるいは、不純物
を混入しないこと等の理由から、一般式〔−COO−L1〕
あるいは〔−CO−L2〕の官能基を1種又はそれ以上含有
する単量体から重合反応により製造する方法が好まし
い。具体的には重合性の二重結合を含むカルボン酸類あ
るいはその酸ハライド類を、例えば前記した公知文献等
に記載された方法に従って、そのカルボキシル基を一般
式〔−COO−L1〕あるいは〔−CO−L2〕の官能基に変換
した後、重合反応を行ない製造することができる。The general formula [-COO-L 1 ] or [-CO-
For the reason that the functional group of L 2 ] can be arbitrarily adjusted or that impurities are not mixed, the general formula [-COO-L 1 ]
Alternatively, a method of producing a monomer containing one or more functional groups of [—CO-L 2 ] by a polymerization reaction is preferable. Specifically, a carboxylic acid containing a polymerizable double bond or an acid halide thereof is converted to a carboxyl group of the general formula [-COO-L 1 ] or [- After conversion into a functional group of [CO-L 2 ], polymerization can be carried out to produce the compound.
また、一般式(V)で示されるオキサゾロン環を含有
する樹脂は、該オキサゾロン環を含有する1種又はそれ
以上の単量体又は該単量体及びこれと共重合し得る他の
単量体の重合反応により重合体とする方法により得られ
る。The oxazolone ring-containing resin represented by the general formula (V) may be one or more monomers containing the oxazolone ring, or the monomer and another monomer copolymerizable therewith. To a polymer by a polymerization reaction of
このオキサゾロン環を含有する単量体は、重合性不飽
和結合を含有するN−アシロイル−α−アミノ酸類の脱
水閉環反応により製造することができる。具体的には、
岩倉義男.栗田恵輔、「反応性高分子」第3章(講談社
刊)の総説引例の文献記載の方法によって製造すること
ができる。The oxazolone ring-containing monomer can be produced by a dehydration ring-closing reaction of N-acylloyl-α-amino acids having a polymerizable unsaturated bond. In particular,
Iwakura Yoshio. It can be produced by the method described in the literature in Keiretsu Kurita, “Reactive Polymers”, Chapter 3 (published by Kodansha).
これらの単量体と共重合しうる他の単量体としては、
例えば、酢酸ビニル,プロピオン酸ビニル,酢酸ビニ
ル,酢酸アリル,プロピオン酸アリル等の如き脂肪族カ
ルボン酸ビニルあるいはアリルエステル類,アクリル
酸,メタクリル酸,クロトン酸,イタコン酸,マレイン
酸,フマール酸等の如き不飽和カルボン酸のエステル類
又はアミド類、スチレン,ビニルトルエン,α−メチル
スチレンの如きスチレン誘導体,α−オレフィン類,ア
クリロニトリル,メタクロニトリル,N−ビニルピロリド
ンの如きビニル基置換のヘテロ環化合物等が挙げられ
る。Other monomers that can be copolymerized with these monomers include:
For example, aliphatic vinyl carboxylates such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl acetate, allyl acetate, allyl propionate or allyl esters, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc. Such as unsaturated carboxylic acid esters or amides, styrene derivatives such as styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, α-olefins, acrylonitrile, methacrylonitrile, and vinyl group-substituted heterocyclic compounds such as N-vinylpyrrolidone Is mentioned.
前記した如く、重合反応で所望の樹脂を製造する方法
において用いられる一般式(I)〜(V)の官能基を含
有する共重合体成分について更に具体的に述べると、例
えば下記一般式(VI)の如き成分が挙げられる。但しこ
れらの共重合体成分に限定されるものではない。As described above, the copolymer component containing a functional group represented by any one of the general formulas (I) to (V) used in the method for producing a desired resin by a polymerization reaction is more specifically described, for example, by the following general formula (VI) And the like. However, it is not limited to these copolymer components.
一般式(VI) 式(VI)中、X′は−O−,−CO−,−COO−,−OCO
−, −SO2−, −CH2COO−,−CH2OCO−, 芳香族基,又はヘテロ環基を示す〔但し、d1,d2,d3,d4
は、各々水素原子,炭化水素基,又は式(VI)中の
Y′−W〕を表わし、b1,b2は同じでも異なっていても
よく、水素原子、炭化水素基又は式(VI)中のY′−
W〕を表わし、lは0〜18の整数を示す〕。General formula (VI) In the formula (VI), X ′ represents —O—, —CO—, —COO—, —OCO
-, −SO 2 −, -CH 2 COO -, - CH 2 OCO-, Represents an aromatic group or a heterocyclic group (provided that d 1 , d 2 , d 3 , d 4
Each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or Y'-W] in formula (VI), b 1 and b 2 may be the same or different, and a hydrogen atom, a hydrocarbon group or formula (VI) Y'- in
W], and l represents an integer of 0 to 18].
Y′は、結合基X′と結合基〔W〕を連結する、ヘテ
ロ原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わし(ヘ
テロ原子としては、酸素原子,イオウ原子,窒素原子を
示す)、 CH=CH,−O−,−S−, −COO−,−CONH−,−SO2−,−SO2NH−,−NHCOO−,
−NHCONH−,等の結合単位の単独又は組合せの構成より
成るものである(但しb3,b4,b5は、各々前記b1,b2と同
義である。) Wは式(I)〜(V)で表わされる官能基を表わす。Y'represents a carbon-carbon bond which connects the bonding group X'and the bonding group [W] and may be bonded via a hetero atom (the hetero atom represents an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom), CH = CH, -O-, -S-, -COO -, - CONH -, - SO 2 -, - SO 2 NH -, - NHCOO-,
-NHCONH-, which has the constitution alone or in combination of binding units equal (although b 3, b 4, b 5 are each the same meaning as the b 1, b 2.) W is formula (I) ~ Represents a functional group represented by (V).
a1,a2は同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ
基,炭化水素基(例えば,メチル基,エチル基,プロピ
ル基,ブチル基,メトキシカルボニル基,エトキシカル
ボニル基,プロポキシカルボニル基,ブトキシカルボニ
ル基,ヘキシルオキシカルボニル基,メトキシカルボニ
ルメチル基,エトキシカルボニルメチル基,ブトキシカ
ルボニルメチル基,等の置換されてもよい炭素数1〜12
のアルキル基,ベンジル基,フェネチル基等のアラルキ
ル基,フェニル基,トリル基,キシリル基,クロロフェ
ニル基等のアリール基等)、又は式(VI)中の−W基を
含む置換基で置換されていてもよい、炭素数1〜18のア
ルキル基,アルケニル基,アラルキル基,脂環式基,芳
香族基を示す)を表わす。a 1 and a 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), a cyano group, a hydrocarbon group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 1 to 12 carbon atoms which may be substituted, such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, butoxycarbonylmethyl group.
Alkyl group, benzyl group, phenethyl group and other aralkyl groups, phenyl group, tolyl group, xylyl group, chlorophenyl group, and other aryl groups), or a substituent containing -W group in formula (VI) Which represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group or an aromatic group).
又、式(VI)中の〔−X′−Y′−〕結合残基は 部と−Wを直接連結させてもよい。Further, the [-X'-Y'-] bonding residue in the formula (VI) is You may directly connect a part and -W.
Wは、一般式(I)〜(V)で表わされる記号内容を
表わす。W represents the symbol content represented by the general formulas (I) to (V).
本発明の一般式(I)〜(V)で表わされる官能基
〔式(VI)中のW基〕について具体的例を以下に述べ
る。但し、本発明の範囲はこれらに限定されるものでは
ない。Specific examples of the functional groups [W group in formula (VI)] represented by formulas (I) to (V) of the present invention are described below. However, the scope of the present invention is not limited to these.
(12)−COOCH2CF3 (48)−COOCH2OCH3 (50)−COOC(C6H5)3 (51)−COOCH(C6H5)2 本発明の樹脂〔A〕におけるカルボキシル基生成官能
基を含有する重合体成分は、樹脂〔A〕が共重合体であ
る場合には、全重合体中の0.1〜95重量%、特に0.5〜70
重量%,であることが好ましい。また、樹脂〔A〕の重
合体の分子量は103〜106、特に5×103〜5×105、であ
ることが好ましい。 (12) -COOCH 2 CF 3 (48) -COOCH 2 OCH 3 (50) -COOC (C 6 H 5) 3 (51) -COOCH (C 6 H 5) 2 When the resin [A] is a copolymer, the polymer component containing a carboxyl group-forming functional group in the resin [A] of the present invention is 0.1 to 95% by weight, particularly 0.5 to 70% by weight based on the whole polymer.
%, By weight. Further, the molecular weight of the polymer of the resin [A] is preferably 10 3 to 10 6 , and particularly preferably 5 × 10 3 to 5 × 10 5 .
更に、本発明の樹脂〔A〕は、樹脂〔B〕と加熱又は
光照射等によって、架橋反応をする官能基を含有する。
それらの官能基としては、後述の樹脂〔B〕中に含有さ
れる架橋反応を示す官能基と同様の官能基を挙げること
ができる。Furthermore, the resin [A] of the present invention contains a functional group that undergoes a crosslinking reaction with the resin [B] when heated or irradiated with light.
Examples of those functional groups include functional groups similar to the functional groups showing a crosslinking reaction contained in the resin [B] described later.
これらの官能基を含有する共重合体成分に相当する単
量体としては、樹脂〔A〕におけるカルボキシル基生成
官能基を含有する重合体成分(例えば一般式(VI)の化
合物)と共重合し得る、該架橋性官能基を含有するビニ
ル系化合物を挙げることができる。Examples of the monomer corresponding to the copolymer component containing these functional groups include those copolymerized with the polymer component containing a carboxyl group-forming functional group in the resin [A] (for example, the compound of the general formula (VI)). The vinyl compound containing the crosslinkable functional group to be obtained can be mentioned.
例えば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブック
〔基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。具
体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−(2−アミノメチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シア
ノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−
メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、
イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半ア
ミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例
えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2
−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチ
ル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エ
ステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカル
ボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン
酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はア
リル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又
はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基
中に該官能基を含有する化合物等が挙げられる。For example, it is described in "Polymer Data Handbook [Basic Edition]", edited by Japan Society of Polymer Science, Baifukan (1986). Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form,
α- (2-aminomethyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β −
Methoxy, α, β-dichloro, etc.), methacrylic acid,
Itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid,
-Octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half-esters, maleic acid half-amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinyl Examples thereof include a half-ester derivative of a vinyl group or an allyl group of a sulfonic acid, a vinylphosphonic acid, a dicarboxylic acid, an ester derivative of these carboxylic acids or sulfonic acids, and a compound having the functional group in the substituent of an amide derivative.
以上の如き、本発明の樹脂〔A〕において、前記した
架橋性官能基を含有する場合「該架橋性官能基を含有す
る共重合体成分の含有量」は、樹脂〔A〕中の好ましく
は1〜20重量%、より好ましくは3〜10重量%である。As described above, when the resin [A] of the present invention contains the above-mentioned crosslinkable functional group, the “content of the copolymer component containing the crosslinkable functional group” is preferably in the resin [A]. It is 1 to 20% by weight, more preferably 3 to 10% by weight.
一方、本発明に供せられる樹脂〔B〕は、熱及び/又
は光によって架橋反応を行なう硬化性樹脂であり、好ま
しくは、前記した樹脂〔A〕中の官能基と架橋反応を行
なうものである。On the other hand, the resin [B] used in the present invention is a curable resin which undergoes a crosslinking reaction by heat and / or light, and preferably a resin which undergoes a crosslinking reaction with the functional groups in the above resin [A]. is there.
好ましくは熱硬化性樹脂として、具体的には、遠藤剛
「熱硬化性高分子の精密化」(C.M.C.(株)、1986年
刊)、原崎勇次「最新バインダー技術便覧」第II-1章
(総合技術センター、1985年刊)、大津隆行「アクリル
樹脂の合成・設計と新用途開発」(中部経営開発センタ
ー出版部、1985年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹
脂」(テクノシステム 1985年刊)等の総説に引例され
た熱硬化性樹脂として従来公知のメタクリレート系共重
合体からなる樹脂が用いられる。Preferred thermosetting resins are, specifically, Takeshi Endo "Refinement of Thermosetting Polymers" (CMC Co., Ltd., 1986), Yuji Harazaki "Latest Binder Technology Handbook", Chapter II-1 (General Technology Center, 1985), Takayuki Otsu "Synthesis and design of acrylic resin and new application development" (Chubu Business Development Center Publishing Department, 1985), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" (Techno System 1985), etc. As the thermosetting resin cited in the above review, a resin made of a conventionally known methacrylate copolymer is used.
光硬化性樹脂として具体的には、乾英夫,永松元太
郎,「感光性高分子」(講談社、1977年刊)、角田隆
弘,「新感光性樹脂」(印刷学会出版部、1981年刊)、
G.E.Green and B.P,Strark,J.Macro.Sci.Reas.Macro Ch
em.,C21(2),187〜273(1981〜82)、C.G.Rattey,「P
hotopolymirization of Surface Cootings」(A.Wiley
InterScience Pub.1982年刊)、等の総説に引例された
光硬化性樹脂として従来公知の感光性樹脂等が用いられ
る。Specific examples of the photocurable resin include Hideo Inui, Mototaro Nagamatsu, “Photosensitive Polymer” (Kodansha, published in 1977), Takahiro Tsunoda, “New Photosensitive Resin” (published by the Printing Society, published in 1981),
GEGreen and BP, Strark, J.Macro.Sci.Reas.Macro Ch
em., C21 (2), 187-273 (1981-82), CGRattey, "P
hotopolymirization of Surface Cootings "(A.Wiley
InterScience Pub. 1982), a conventionally known photosensitive resin or the like is used as the photocurable resin cited in the review article.
更に具体的には、例えば加熱又は光照射等によって架
橋反応をする官能基を含有する重合体を挙げることがで
き該架橋性官能基の例としては、下記の如く異なる官能
基間の化学結合によるタイプ(例えば下表の官能基A群
及びB群が各々少なくとも1種を組合せて反応する) 又は、自己架橋性官能基によるタイプ〔具体的には、−
CONHCH2OR20(R20は水素原子又はメチル基,エチル基,
プロピル基、ブチル基,ヘキシル基等の炭素数1〜6の
アルキル基、下記式(A)で示される重合反応性を有す
る二重結合性基等〕が挙げられる。More specifically, there can be mentioned, for example, a polymer containing a functional group that undergoes a crosslinking reaction by heating or light irradiation. Examples of the crosslinkable functional group include chemical bonds between different functional groups as described below. Type (for example, the functional groups A and B in the table below react with each other in combination of at least one kind) Alternatively, a type having a self-crosslinking functional group (specifically, −
CONHCH 2 OR 20 (R 20 is a hydrogen atom or a methyl group, an ethyl group,
A C1-C6 alkyl group such as a propyl group, a butyl group and a hexyl group, and a double bond group having a polymerization reactivity represented by the following formula (A)].
一般式(A) 式(A)中X″は、−COO−,−OCO−,−CO−,−SO2
−,−CONH−,−SO2NH−,−O−,−S−,芳香族基
又はヘテロ環基を表わし、x1,x2は同じでも異なっても
よく、それぞれ水素原子又は置換されてもよい炭化水素
基(例えば、メチル基,エチル基,プロピル基、ブチル
基,ヘキシル基,カルボキシメチル基,メトキシカルボ
ニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基,ブトキシ
カルボニルメチル基,2−クロロエチル基,2−メトキシエ
チル基,エトキシメチル基,ベンジル基,フェネチル
基,3−フェニルプロピル基,クロロベンジル基,ブロモ
ベンジル基,メチルベンジル基、メトキシベンジル基,
フェニル基、トリル基,キシリル基,メトキシフェニル
基,クロロフェニル基,ブロモフェニル基等)を表わ
し、rは0又は1の整数を表わす。General formula (A) In the formula (A), X ″ represents —COO—, —OCO—, —CO—, —SO 2
-, - CONH -, - SO 2 NH -, - O -, - S-, represents an aromatic group or a heterocyclic group, x 1, x 2 can be the same or different, are each a hydrogen atom or a substituent Hydrocarbon groups (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, carboxymethyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, butoxycarbonylmethyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxy group) Ethyl group, ethoxymethyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group,
Phenyl group, tolyl group, xylyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group and the like), and r represents an integer of 0 or 1.
これらの官能基を含有する共重合体成分に相当する単
量体としては、例えば、該架橋性官能基を含有するビニ
ル系化合物(具体的には樹脂〔A〕で記載のものと同
様)を挙げることができる。また、該架橋性官能基を含
有する共重合成分と共重合し得る他の各成分に相当する
単量体の具体的な例は、樹脂〔A〕と同様のものが挙げ
られる。As the monomer corresponding to the copolymer component containing these functional groups, for example, a vinyl compound containing the crosslinkable functional group (specifically, the same as that described in the resin [A]) is used. Can be mentioned. Specific examples of the monomer corresponding to each of the other components that can be copolymerized with the copolymerization component containing the crosslinkable functional group are the same as those of the resin [A].
樹脂〔B〕における「架橋し得る官能基を含有する共
重合体成分の含有量」は、1〜80重量%が特に好まし
い。The "content of the copolymer component containing a crosslinkable functional group" in the resin [B] is particularly preferably 1 to 80% by weight.
樹脂〔B〕の重量平均分子量は好ましくは103〜5×1
05、より好ましくは5×103〜5×105である。The weight average molecular weight of the resin [B] is preferably 10 3 to 5 × 1.
0 5 , more preferably 5 × 10 3 to 5 × 10 5 .
本発明において樹脂〔B〕である熱及び/又は光硬化
性樹脂を併用することにより樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の
架橋及び/又は樹脂〔B〕同志の架橋が形成されるもの
である。In the present invention, the resin [B], which is a heat-curable and / or photo-curable resin, is used in combination to form a crosslink between the resin [A] and the resin [B] and / or a crosslink between the resins [B]. .
本発明に用いる樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用量の割
合は、一般に5〜80対95〜20(重量比)であり、好まし
くは15〜60対85〜40(重量比)である。The ratio of the amounts of the resin [A] and the resin [B] used in the present invention is generally 5 to 80:95 to 20 (weight ratio), preferably 15 to 60:85 to 40 (weight ratio). .
本発明では、必要に応じて反応促進剤を添加してもよ
い。例えば、樹脂〔B〕が熱硬化性の官能基を含有する
樹脂の場合には、酸(例えば酢酸,プロピオン酸,酪酸
等の有機酸等)あるいは架橋剤を添加してもよい。In the present invention, a reaction accelerator may be added if necessary. For example, when the resin [B] is a resin containing a thermosetting functional group, an acid (for example, an organic acid such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, etc.) or a crosslinking agent may be added.
用いられる架橋剤としては、通常架橋剤として用いら
れる化合物を使用することができる。具体的には、山下
晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(19
81年)高分子学会編「高分子データハンド・ブック基礎
編」培風館(1986年)等に記載されている化合物を用い
ることができる。例えば、有機シラン系化合物(例え
ば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリブトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング
剤等)、ポリイソシアナート系化合物(例えば、トルイ
レンジイソシアナート,O−トルイレンジイソシアナー
ト,ジフェニルメタンジイソシアナート,トリフェニル
メタントリイソシアナート,ボリメチレンフェニルイソ
シアナート,ヘキサメチレンジイソシアナート,イソホ
ロンジイソシアナート,高分子ポリイソシアナート
等)、ポリオール系化合物(例えば、1,4−ブタンジオ
ール,ポリオキシプロピレングリコール,ポリオキシア
ルキレングリコール,1,1,1−トリメチロールプロパン
等)、ポリアミン系化合物(例えば、エチレンジアミ
ン,γ−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン,フェ
ニレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン,N−アミノエ
チルピペラジン,変性脂肪族ポリアミン類等)ポリエポ
キシ基含有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘編
著「新エポキシ樹脂」、昭晃堂(1985年刊)、橋本邦之
編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に
記載された化合物類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一
郎,松永英夫編著「ユリア・メラミン樹脂」日刊工業新
聞社(1969年刊)等に記載された化合物類)、重合性二
重結合基を2個以上含有する多官能性単量体化合物(例
えば、大河原信,三枝武夫,東村敏延編「オリゴマー」
講談社(1976年刊),大森英三「機能性アクリル系樹
脂」テクノシステム(1985年刊)等に記載された化合物
類が挙げられ具体的にはジビニルベンゼン,ジビニルグ
ルタコン酸ジエステル,メタクリル酸ビニル,メタクリ
ル酸アクル,エチレングリコールジメタクリラート,ポ
リエチレングリコールジアクリラート,ネオペンチルグ
リコールジアクリラート,1,6−ヘキサンジオールジアク
リラート,トリメチロールプロパントリアクリラート,
ペンタエリスリトールポリアクリラート,ビスフェノー
ルA−ジグリシジルエーテルジアクリラート,オリゴエ
ステルアクリラート:これらのメタクリラート体等)が
ある。As the crosslinking agent to be used, a compound usually used as a crosslinking agent can be used. Specifically, Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, "Handbook for Crosslinking Agents," published by Taiseisha (19
81) The compounds described in "Polymer Data Handbook Basic Edition" edited by the Society of Polymer Science, Baifukan (1986) and the like can be used. For example, organic silane compounds (for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane,
γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane and other silane coupling agents), polyisocyanate compounds (for example, toluylene diisocyanate, O-toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, tri Phenyl methane triisocyanate, boli methylene phenyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, high molecular weight polyisocyanate, etc.), polyol compounds (eg 1,4-butanediol, polyoxypropylene glycol, poly Oxyalkylene glycol, 1,1,1-trimethylolpropane, etc., polyamine compounds (eg, ethylenediamine, γ-hydroxypropylated ethylenediamine, phenylenediamine, hexamethylenediene) Min, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.) Polyepoxy group-containing compounds and epoxy resins (for example, Hiroshi Kakiuchi's "New Epoxy Resin", Shokoido (1985), Kuniyuki Hashimoto's "Epoxy Resin") Compounds described in Nikkan Kogyo Shimbun (1969), etc.), melamine resins (eg, compounds described in "Uria Melamine Resin" edited by Ichiro Miwa and Hideo Matsunaga, Nikkan Kogyo Shimbun (1969)) , Polyfunctional monomer compounds containing two or more polymerizable double bond groups (eg, Ogawara Shin, Saegusa Takeo, Higashimura Toshinobu "Oligomer")
The compounds described in Kodansha (Published in 1976), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" Techno System (published in 1985) and the like are specifically listed as divinylbenzene, divinylglutaconate diester, vinyl methacrylate and methacryl. Acid acrylate, ethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate,
There are pentaerythritol polyacrylate, bisphenol A-diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylate: these methacrylates, etc.).
又,樹脂〔B〕が光架橋反応性の官能基を含有する樹
脂の場合には増感剤、光重合性単量体等を添加してもよ
い。具体的には前記した感光性樹脂に関する総説に引例
された化合物等を用いることができる。When the resin [B] is a resin containing a photocrosslinking functional group, a sensitizer, a photopolymerizable monomer or the like may be added. Specifically, compounds and the like cited in the above-mentioned review on photosensitive resins can be used.
本発明の結着樹脂は、感光層形成物をトルエンを用い
て塗布した後架橋される。架橋を行なうためには、例え
ば、乾燥条件を高温度及び/又は長時間とするか又は塗
布溶剤の乾燥後、更に加熱処理することが好ましい。例
えば、60℃〜120℃で5〜120分間処理する。The binder resin of the present invention is crosslinked after the photosensitive layer forming material is applied using toluene. In order to carry out the cross-linking, for example, it is preferable that the drying condition is set to a high temperature and / or a long time, or the coating solvent is dried and then further heat-treated. For example, the treatment is performed at 60 ° C to 120 ° C for 5 to 120 minutes.
又光架橋性樹脂を併用した感光層形成物の場合は、塗
布した後に、電子線、X線、紫外線あるいはプラズマ光
照射をすることにより架橋され乾燥中のみならず、その
前あるいは後でもいずれでもよく、上記乾燥条件の加熱
により反応はより促進する。上述の反応促進剤を併用す
ると、より穏やかな条件で処理することができる。Further, in the case of a photosensitive layer-forming product in which a photo-crosslinkable resin is used in combination, it may be cross-linked by being irradiated with electron beams, X-rays, ultraviolet rays or plasma light after coating, not only during drying but also before or after it. Well, the reaction is further promoted by heating under the above drying conditions. When the above reaction accelerator is used in combination, the treatment can be performed under milder conditions.
本発明に供される樹脂とともに従来公知の樹脂も併用
することができる。例えば、前記した如きシリコーン樹
脂,アルキッド樹脂、酢酸ビニル樹脂,ポリエステル樹
脂、スチレン−ブタジエン樹脂,アクリル樹脂等があげ
られ、具体的には、栗田隆治・石渡次郎,高分子,第17
巻,第278頁(1968年),宮本晴視,武井秀彦,イメー
ジング,1973(No.8)第9頁等の総説引例の公知材料等
が挙げられる。Conventionally known resins can be used together with the resin used in the present invention. For example, the above-mentioned silicone resin, alkyd resin, vinyl acetate resin, polyester resin, styrene-butadiene resin, acrylic resin and the like can be mentioned. Specifically, Ryuji Kurita and Jiro Ishiwatari, Polymer, No. 17
Volume, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging, 1973 (No.8) p. 9, etc.
本発明に供される樹脂と公知の樹脂とは任意の割合で
混合することができるが、全樹脂量中のカルボキシル基
生成官能基含有樹脂の含有量が0.5〜70重量%程度含有
されていることが適当である。The resin used in the present invention and a known resin can be mixed at any ratio, but the content of the carboxyl group-forming functional group-containing resin in the total amount of the resin is about 0.5 to 70% by weight. Is appropriate.
全樹脂量中の上記含有量が0.5重量%より少ないと、
得られた平版印刷用原版は、不感脂化液・湿し水による
不感脂化処理により生ずる親水性が充分でなく、印刷時
の汚れが発生する。When the above content in the total amount of resin is less than 0.5% by weight,
The obtained lithographic printing plate precursor is not sufficiently hydrophilic due to the desensitizing treatment with a desensitizing solution / fountain solution, and stains are generated during printing.
一方、70重量%より多いと、複写時の画像形成性が良
くなく且つ、印刷時の光導電層の被膜強度が弱くなり耐
久性が劣化する。On the other hand, if it is more than 70% by weight, the image formability at the time of copying is not good, and the film strength of the photoconductive layer at the time of printing is weakened and the durability is deteriorated.
本発明のカルボキシル基生成官能基を少なくとも1種
含有する樹脂〔A〕は、不感脂化液あるいは印刷時用い
る湿し水により加水分解あるいは加水素分解されてカル
ボキシル基を生成する。従って、前述の如く該樹脂を平
版印刷用原版の結着樹脂として用いると、不感脂化液に
より親水性される非画像部の親水性が、樹脂中に生成さ
れる上記カルボキシル基によってより一層高められる
為、画像部の親油性と非画像部の親水性が明確となり、
印刷時に非画像部に印刷インキが付着するのを防止す
る。The resin [A] containing at least one carboxyl group-forming functional group of the present invention is hydrolyzed or hydrogenolyzed by a desensitizing solution or a fountain solution used for printing to form a carboxyl group. Therefore, when the resin is used as the binder resin of the lithographic printing plate precursor as described above, the hydrophilicity of the non-image area which is made hydrophilic by the desensitizing solution is further enhanced by the carboxyl group generated in the resin. Therefore, the lipophilicity of the image area and the hydrophilicity of the non-image area become clear,
Prevents printing ink from adhering to non-image areas during printing.
かかる樹脂〔A〕に更に、本発明の樹脂〔B〕を併用
することで、本発明の樹脂〔A〕と架橋反応が起きる。When the resin [A] of the present invention is further used in combination with the resin [A], a crosslinking reaction occurs with the resin [A] of the present invention.
一方、エッチング処理及び印刷機上で印刷中の湿し水
により、分解して生成したカルボキシル基含有の樹脂
〔A〕は、親水性となり、その含有量が多い場合には通
常水溶性となる。On the other hand, the carboxyl group-containing resin [A], which is generated by being decomposed by the dampening water during the etching treatment and printing on the printing machine, becomes hydrophilic, and when the content is large, it is usually water-soluble.
この際、樹脂〔A〕は本発明に従い併用された非水性
である樹脂〔B〕と架橋構造を形成していることによ
り、親水性を保持したまま水への溶解性が著しく低下し
難溶性もしくは不溶性となる。At this time, since the resin [A] forms a crosslinked structure with the non-aqueous resin [B] used in combination according to the present invention, the solubility in water is significantly reduced while the hydrophilicity is maintained, and the poor solubility Or it becomes insoluble.
従って、非画像部の親水性が樹脂中に生成されるカル
ボキシル基によって、より一層高められる効果が向上し
且つ持続性が向上することとなると推察される。Therefore, it is assumed that the hydrophilicity of the non-image area is further enhanced by the carboxyl group generated in the resin, and the durability is improved.
より具体的な効果で言うならば、全結着樹脂中に含有
させる樹脂〔A〕を減量しても、親水性向上の効果が変
わらず維持できること、あるいは印刷機の大型化あるい
は印圧の変動等印刷条件が厳しくなった場合でも地汚れ
のない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能
となる。More specifically, even if the amount of the resin [A] contained in the entire binder resin is reduced, the effect of improving the hydrophilicity can be maintained without change, or the size of the printing machine can be increased or the printing pressure can be changed. Even when the printing conditions are severe, it is possible to print a large number of prints with clear image quality without scumming.
本発明の平版印刷用原版は、光導電性亜鉛100重量部
に対して上記した結着用樹脂を10〜60重量部なる割合、
好ましくは15〜40重量部なる割合で使用する。The lithographic printing plate precursor of the present invention has a ratio of 10 to 60 parts by weight of the above-mentioned binder resin to 100 parts by weight of photoconductive zinc,
It is preferably used in a proportion of 15 to 40 parts by weight.
本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる。例えば、宮本晴視,武井秀
彦、イメージング1973(No.8)第12頁,C.J.Young等,RCA
Review15,469(1954)、清田航平等,電気通信学会論
文誌J 63-C(No2),97(1980)、原崎勇次等,工業化学
雑誌66 78 及び188(1963)、谷忠昭,日本写真学会誌3
5,208(1972)等の総説引例のカーボニウム系色素、ジ
フェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、キサン
テン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例え
ば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色
素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フタロシア
ニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられる。In the present invention, various dyes can be used together as a spectral sensitizer, if necessary. For example, Harumiya Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (No.8) Page 12, CJ Young, etc., RCA
Review 15 , 469 (1954), Kyohei Kiyota, Journal of The Institute of Electrical Communication J 63-C (No2), 97 (1980), Yuji Harazaki, etc., Journal of Industrial Chemistry 66 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Nihon Photography Journal 3
5 , 208 (1972) and the like, carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (eg, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes) And the like, and phthalocyanine dyes (which may contain metals).
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニル
メタン色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素を中
心に用いたものとしては、特公昭51-452号、特開昭50-9
0334号、特開昭50-114227号、特開昭53-39130号、特開
昭53-82353号、米国特許第3,052,540号、米国特許第4,0
54,450号、特開昭57-16456号等の記載のものが挙げられ
る。More specifically, examples of those mainly using a carbonium dye, a triphenylmethane dye, a xanthene dye, and a phthalein dye are described in JP-B-51-452 and JP-A-50-9.
0334, JP-A-50-114227, JP-A-53-39130, JP-A-53-82353, U.S. Pat.No. 3,052,540, U.S. Pat.No. 4,0
54,450, those described in JP-A-57-16456, and the like.
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色
素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F.
M.Harmmer「The Cyanine Dyes and Related Compound
s」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許第3,047,384号、米国特許第3,110,591号、
米国特許第3,121,008号、米国特許第3,125,447号、米国
特許第3,128,179号、米国特許第3,132,942号、米国特許
第3,622,317号、英国特許第1,226,892号、英国特許第1,
309,274号、英国特許第1,405,898号、特公昭48-7814
号、特公昭55-18892号等に記載の色素が挙げられる。As polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes, F.
M. Harmmer `` The Cyanine Dyes and Related Compound
s '' and the like can be used, and more specifically, U.S. Pat.No. 3,047,384, U.S. Pat.No.3,110,591,
U.S. Patent 3,121,008, U.S. Patent 3,125,447, U.S. Patent 3,128,179, U.S. Patent 3,132,942, U.S. Patent 3,622,317, U.K. Patent 1,226,892, U.K. Patent 1,
No. 309,274, UK Patent No. 1,405,898, JP-B-48-7814
And the dyes described in JP-B-55-18892.
更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチン色素として、特開昭47-840号、特開
昭47-44180号、特公昭51-41061号、特開昭49-5034号、
特開昭49-45122号、特開昭57-46245号、特開昭56-35141
号、特開昭57-157254号、特開昭61-26044号、特開昭61-
27551号、米国特許第3,619,154号、米国特許第4,175,95
6号、「Research Disclosure」1982年、216、第117〜11
8頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体は種
々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素によ
り変動しにくい点において優れている。更には、必要に
応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真感光
層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、前記
した総説:イメージング1973(No.8)第12頁等の総説引
例の電子受容性化合物(例えばハロゲン、ベンゾキノ
ン、クロラニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門
宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第
4章〜第6章:日本科学情報(株)出版部(1986年)の
総説引例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダートフ
ェノール化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙
げられる。Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing the near-infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-47-840, JP-A-47-44180, JP-B-51-41061, Sho 49-5034,
JP-A-49-45122, JP-A-57-46245, JP-A-56-35141
No., JP-A-57-157254, JP-A-61-26044, JP-A-61-26044
27551, U.S. Pat.No. 3,619,154, U.S. Pat.No. 4,175,95
No. 6, "Research Disclosure", 1982, 216, Nos. 117-11
Those described on page 8 and the like can be mentioned. The photoconductor of the present invention is excellent in that the performance thereof hardly changes depending on the sensitizing dye even when various sensitizing dyes are used in combination. Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers can be used in combination. For example, the above-mentioned review article: Imaging 1973 (No. 8), page 12, etc. review electron-accepting compounds (eg halogen, benzoquinone, chloranil, acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.), Hiroshi Komon, et al. Development and Practical Use of Photoconductive Materials and Photoconductors "Chapters 4 to 6: Review of Japanese Science Information Co., Ltd. (1986), polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylene Examples thereof include diamine compounds.
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではない
が、通常光導電体100重量部に対して、0.0001〜2.0重量
部である。The addition amount of these various additives is not particularly limited, but is usually 0.0001 to 2.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photoconductor.
光導電層の厚さは1〜100μ,特には10〜50μが好適
である。The thickness of the photoconductive layer is preferably from 1 to 100 μm, particularly preferably from 10 to 50 μm.
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷
発生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚
さは0.01〜1μ,特には0.05〜0.5μが好適である。When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of the photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is preferably from 0.01 to 1 μm, particularly preferably from 0.05 to 0.5 μm.
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設け
ることができる。一般に云って電子写真感光層の支持体
は、導電性であることが好ましく、導電性支持体として
は、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチック
シート等の基体に低抵抗性分質を含浸させるなどして導
電処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対
面)に導電性を付与し、更にカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、Al等を蒸着した基体導電化プラスチック
を紙にラミネートしたもの等、が使用できる。The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive, and as the conductive support, just as in the conventional case, for example, a metal, paper, a plastic sheet or the like substrate having a low resistance property is used. Conductive treated by impregnating, coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) and further preventing curling, Water-resistant adhesive layer provided on the surface of the body, at least one precoat layer provided on the surface layer of the support, if necessary, laminate of electroconductive plastic substrate onto which Al or the like is vapor-deposited on paper It can be used.
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例とし
て、坂本幸男,電子写真,14,(No1),p2〜11(1975),
森賀弘之,「入門特殊紙の化学」高分子刊行会(197
5),M.F.Hoover,J.Macromol.Sci.Chem.A−4(6),第
1327〜1417頁(1970)等に記載されているもの等を用い
る。Specifically, as an example of a conductive substrate or a conductive material, Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No1), p2 ~ 11 (1975),
Hiroyuki Moriga, “Chemistry of Introductory Special Papers” Polymer Publishing Association (197
5), MFHoover, J. Macromol. Sci. Chem. A-4 (6), No.
Those described on pages 1327 to 1417 (1970) and the like are used.
(実施例) 以下に本発明の実施例を例証するが、本発明の内容が
これらに限定されるものではない。(Examples) Examples of the present invention will be illustrated below, but the contents of the present invention are not limited thereto.
実施例1 n−プロピルメタクリレート64g,下記化合物(A)45
g,アクリル酸1.0g及びトルエン400gの混合溶液を、窒素
気流下70℃の温度に加温した後、2,2′−アゾビス(2,4
−ジメチルバレロニトリル)(V-65)1.5gを加え8時間
反応した。得られた共重合体〔A〕−1の重量平均分子
量(w)は43,000であった。Example 1 64 g of n-propyl methacrylate, the following compound (A) 45
After heating a mixed solution of g, 1.0 g of acrylic acid and 400 g of toluene to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream, 2,2′-azobis (2,4
-Dimethylvaleronitrile) (V-65) (1.5 g) was added and the reaction was carried out for 8 hours. The weight average molecular weight (w) of the obtained copolymer [A] -1 was 43,000.
続いて、固形分量としてこの共重合物15g及び〔ブチ
ルメタクリレート/アリルメタクリレート(80/20)重
量比〕共重合体〔B〕−1(w 36,000)25g、酸化亜
鉛200g、ローズベンガル0.03g、テトラブロムフェノー
ルブルー0.01g及び無水マレイン酸0.01g及びトルエン30
0gの混合物を、ボールミル中で2時間分散し、更に、こ
の分散物にアリルメタクリレート10g及びA.I.B.N.0.5g
を添加し、ボールミルで10分間分散して感光層形成物を
調整し、これを導電処理した紙に乾燥付着量が20g/m2と
なるようにワイヤーバーで塗布し、100℃で1時間乾燥
した。ついで暗所で20℃、65%RHの条件下で24時間放置
することにより、電子写真感光材料を作製した。 Subsequently, 15 g of this copolymer as a solid content and [butyl methacrylate / allyl methacrylate (80/20) weight ratio] copolymer [B] -1 (w 36,000) 25 g, zinc oxide 200 g, rose bengal 0.03 g, tetra Bromphenol blue 0.01g and maleic anhydride 0.01g and toluene 30
0 g of the mixture was dispersed in a ball mill for 2 hours, and the dispersion was further mixed with 10 g of allyl methacrylate and 0.5 g of AIBN.
Was added and dispersed by a ball mill for 10 minutes to prepare a photosensitive layer-formed product, which was coated on a conductive-treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g / m 2, and dried at 100 ° C for 1 hour. did. Then, by leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours, an electrophotographic photosensitive material was prepared.
上記製造例において、感光層形成物を以下の共重合体
に代えて、比較用の感光材料A,B,Cの3種を作製した。In the above Production Example, three kinds of comparative photosensitive materials A, B and C were prepared by replacing the photosensitive layer forming material with the following copolymers.
比較用感光材料A: n−プロピルメタクリレート54g,前記化合物(A)45
g,アクリル酸1.0g及びトルエン400gの混合溶液を窒素気
流下70℃の温度に加温した後、V-65 1.5gを加え8時間
反応した。得られた共重合体〔A〕−2のwは40,000
であった。続いて固形分量としてこの共重合物40g,酸化
亜鉛200g、ローズベンガル0.03g、テトラブロムフェノ
ールブルー0.01g及び無水マレイン酸0.01g及びトルエン
300gの混合物をボールミル中で2時間分散して感光層形
成物を調整し、これを導電処理した紙に乾燥付着量が20
g/m2となる様にワイヤーバーで塗布し、100℃で1分間
乾燥した。ついで暗所で20℃、65%RHの条件下で24時間
放置することにより、電子写真感光材料を作製した。Comparative photosensitive material A: n-propyl methacrylate 54 g, the compound (A) 45
A mixed solution of g, 1.0 g of acrylic acid and 400 g of toluene was heated to a temperature of 70 ° C. under a nitrogen stream, 1.5 g of V-65 was added, and the mixture was reacted for 8 hours. The obtained copolymer [A] -2 had a w of 40,000.
Met. Subsequently, 40 g of this copolymer as solid content, 200 g of zinc oxide, 0.03 g of rose bengal, 0.01 g of tetrabromophenol blue and 0.01 g of maleic anhydride and toluene.
300 g of the mixture was dispersed in a ball mill for 2 hours to prepare a photosensitive layer-forming material, which was dried on a conductive paper to give a dry adhesion amount of 20.
It was coated with a wire bar so as to be g / m 2 and dried at 100 ° C. for 1 minute. Then, by leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours, an electrophotographic photosensitive material was prepared.
比較用感光材料B: 比較例Aにおいて、樹脂〔A〕−2の代わりに、
〔A〕−1,15g及び〔ブチルメタクリレート/n−プロピ
ルメタクリレート(80/20)重量比〕共重合体〔B−
2〕w40,000)25gを用いた他は、比較例Aと同様にし
て感光材料を作製した。Comparative Photosensitive Material B: In Comparative Example A, instead of Resin [A] -2,
[A] -1,15 g and [butyl methacrylate / n-propyl methacrylate (80/20) weight ratio] copolymer [B-
2] A light-sensitive material was prepared in the same manner as in Comparative Example A except that 25 g of w40,000) was used.
比較用感光材料C: 比較例Aにおいて、樹脂〔A〕−2の代わりに、〔ブ
チルメタクリレート/n−プロピルメタクリレート/アク
リル酸(80/19/1)重量比〕共重合体〔B〕−3(w3
8,000)40gを用いた他は、比較例Aと同様にして感光材
料を作製した。Comparative photosensitive material C: In Comparative Example A, instead of the resin [A] -2, [butyl methacrylate / n-propyl methacrylate / acrylic acid (80/19/1) weight ratio] copolymer [B] -3 (W3
A light-sensitive material was prepared in the same manner as in Comparative Example A except that 40 g of 8,000) was used.
これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特
性、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理後の光導電層
の水との接触角で表わす)及び印刷性を調べた。印刷性
は、全自動製版機ELP404V(富士写真フイルム(株)
製)に現像剤ELP-Tを用いて露光・現像処理して画像を
形成し、不感脂化液ELP-Eを用いてエッチングプロセッ
サーでエッチングして得られた平版印刷版を用いて調べ
た(なお、印刷機にはハマダスター(株)製ハマダスタ
ー800SX型を用いた)。The film properties (surface smoothness), electrostatic properties, desensitization property of the photoconductive layer (expressed by the contact angle of the photoconductive layer with water after desensitization treatment) and printability of these photosensitive materials are examined. Was. Printability is fully automatic plate making machine ELP404V (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
(Manufactured) was exposed and developed with a developer ELP-T to form an image, and the desensitizing liquid ELP-E was used to perform etching with an etching processor. The printing machine used was a Hamada Star 800SX type manufactured by Hamada Star Co., Ltd.).
以上の結果をまとめて表−1に示す。 Table 1 summarizes the above results.
表−1に記した評価項目の実施の態様は以下の通りで
ある。 The embodiments of the evaluation items described in Table 1 are as follows.
注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料を、ベック平滑度試験機(熊谷理工
(株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑
度(sec/cc)を測定した。Note 1) Smoothness of photoconductive layer: Using the Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.), the smoothness (sec / cc) of the obtained photosensitive material was measured under the condition of an air capacity of 1 cc. It was measured.
注2)静電特性: 温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料にペーパー
アナライザー(川口電機(株)製ペーパーアナライザー
SP-428型)を用いて−6KVで20秒間コロナ放電をさせた
後10秒間放置し、この時の表面電位Voを測定し、ついで
光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で照射し、表
面電位Voが1/10に減衰するまでの時間を求め、これから
露光量E1/10(ルックス・秒)を算出する。Note 2) Electrostatic characteristics: A paper analyzer (Kawaguchi Electric Co., Ltd. paper analyzer) was applied to each photosensitive material in a dark room at a temperature of 20 ° C and 65% RH.
(SP-428 type) was used for corona discharge at −6 KV for 20 seconds and then left for 10 seconds, the surface potential V o at this time was measured, and then the surface of the photoconductive layer was irradiated with visible light with an illuminance of 2.0 lux. , The time until the surface potential V o decays to 1/10 is obtained, and the exposure amount E1 / 10 (lux · sec) is calculated from this.
注3)水との接触角: 各感光材料を、不感脂化処理液ELP-E(富士写真フイ
ルム(株)製)を用いてエッチングプロセッサーに1回
通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留水
2μlの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニオ
メーターで測定する。Note 3) Contact angle with water: Each photosensitive material was passed through an etching processor once with a desensitizing solution ELP-E (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) to desensitize the photoconductive layer surface. After that, a drop of distilled water (2 μl) is put on this, and the contact angle with the formed water is measured with a goniometer.
注4)複写画像の画質: 各感光材料及び全自動製版機ELP404V(富士写真フイ
ルム(株)製)を1昼夜常温・常湿(20℃,65%)に放
置した後、製版して複写画像を形成し、得られた複写原
版の画像(カブリ、画像の画質)を目視で観察する(こ
れをIとする)。複写画像の画質IIは、製版を高温・高
湿(30℃,80%)で行なう他は、前記Iと同様の方法で
試験する。Note 4) Image quality of copied image: Each photosensitive material and fully automatic plate-making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) are left at room temperature and humidity (20 ° C, 65%) for one day, and then plate-made to make a copied image. And an image (fog, image quality) of the obtained copy original plate is visually observed (this is referred to as I). The image quality II of the copied image is tested by the same method as the above I except that the plate making is performed at high temperature and high humidity (30 ° C., 80%).
注5)印刷物の地汚れ: 各感光材料を、全自動製版機ELP404V(富士写真フイ
ルム(株)製)で製版してトナー画像を形成し、上記注
3)と同条件で不感脂化処理し、これをオフセットマス
ターとしてオフセット印刷機(ハマダスター(株)製ハ
マダスター800SX型)にかけ上質紙上に500枚印刷し、全
印刷物の地汚れを目視により判定する。これを印刷物の
地汚れIとする。Note 5) Background stain of printed matter: Each light-sensitive material is subjected to plate-making with a fully automatic plate-making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) to form a toner image, and desensitized under the same conditions as the above-mentioned Note 3). This is used as an offset master in an offset printing machine (Hamada Star 800SX type manufactured by Hamada Star Co., Ltd.) to print 500 sheets on high-quality paper, and the background stain of all prints is visually determined. This is referred to as background smear I of the printed matter.
印刷物の地汚れIIは、不感脂化処理液を5倍に希釈
し、且つ、印刷時の浸し水を2倍に希釈した他は、前記
の地汚れIと同様の方法で印刷機の印圧を強めにして試
験し、印刷物の地汚れの発生するまでの枚数で評価す
る。The background stain II of the printed matter is the same as the background stain I except that the desensitizing treatment liquid is diluted 5 times and the immersion water at the time of printing is diluted 2 times. Is strengthened and the test is performed, and the number of prints until the background stain occurs is evaluated.
IIの場合は、Iよりも厳しい条件で印刷したことに相
当する。The case of II corresponds to printing under more severe conditions than I.
本発明及び比較例A,Bの感光材料を用いて得られた複
写画像はいずれも鮮明な画質であって、比較例Cのそれ
は光導電層表面の平滑性が悪化した。又、各感光材料を
(30℃,80%)の環境下で製版した所比較例Cは、その
複写画像が著しく低下してしまった(地カブリが発生
し、画像濃度が0.6以下となった)。The copied images obtained using the light-sensitive materials of the present invention and Comparative Examples A and B were both clear image quality, and Comparative Example C had deteriorated smoothness of the photoconductive layer surface. Further, in Comparative Example C in which each light-sensitive material was plate-formed in an environment of (30 ° C., 80%), the copied image was remarkably deteriorated (ground fog was generated and the image density was 0.6 or less. ).
更に、不感脂化液で不感脂化処理した各感光材料の水
との接触角は、比較例C以外は15°以下と小さく充分に
親水化されていることを示した。Further, the contact angle with water of each light-sensitive material subjected to the desensitizing treatment with the desensitizing solution was as small as 15 ° or less except for Comparative Example C, which means that it was sufficiently hydrophilized.
又、これらをオフセット印刷用マスタープレートとし
て印刷してみると、非画像部の地汚れの発生しない良好
なものは、本発明、比較例A及び比較例Bのプレートで
あった。更にこれらのプレートを印刷機の印圧条件を強
制にして印刷した所、本発明のプレートは1万枚印刷し
ても印刷物の画質は良好で地汚れも発生しなかったが、
比較例Aのプレートは5000枚、比較例Bのプレートは75
00枚で印刷物に地汚れを発生した。Further, when printing these as master plates for offset printing, the good plates which did not cause background stains in non-image areas were the plates of the present invention, Comparative Example A and Comparative Example B. Further, when these plates were printed by forcing the printing pressure condition of the printing machine, the image quality of the printed matter was good and no scumming occurred even after printing 10,000 plates of the present invention.
The plate of Comparative Example A has 5000 plates and the plate of Comparative Example B has 75 plates.
Print stains occurred on the 00 printed sheet.
又本発明の感光材料を(45℃ 75%RH)の環境条件下
に2週間放置後、前記と同様にして電子写真特性及び印
刷実技特性を測定したが、殆んど変化していなかった。After the photosensitive material of the present invention was left under the environmental condition of (45 ° C. and 75% RH) for 2 weeks, the electrophotographic characteristics and the printing practical characteristics were measured in the same manner as above, but it showed almost no change.
実施例2〜13 実施例1において、用いた樹脂の代わりに本発明の樹
脂〔A〕として表−2の共重合体それぞれ12g及び樹脂
〔B〕として[ベンジルメタクリレート/ビニルメタク
リレート(75/25)重量比]共重合体〔B−1〕′28gを
用いた他は、実施例1と同様に操作して、本発明の各感
光材料を作製した。Examples 2 to 13 In place of the resin used in Example 1, 12 g of each of the copolymers in Table 2 as the resin [A] of the present invention and [benzyl methacrylate / vinyl methacrylate (75/25) as the resin [B]. Weight Ratio] Each light-sensitive material of the present invention was produced in the same manner as in Example 1 except that the copolymer [B-1] ′ 28 g was used.
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られた
オフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更に、エッチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。 When this was subjected to plate making using the same apparatus as in Example 1, the density of the obtained offset printing master plate was 1.0 or more, and the image quality was clear. Furthermore, after etching and printing with a printing machine, the printed matter after printing 10,000 sheets had a clear image quality without fog.
更に、この感光材料を(45℃、75%RH)の環境条件下
に2週間放置した後全く同様の処理を行なったが、経時
前と全く変わらなかった。Further, this light-sensitive material was left under the environmental conditions of (45 ° C., 75% RH) for 2 weeks and then subjected to the same processing, but there was no difference from that before the passage of time.
実施例(14〜16) 樹脂〔A〕として下記の共重合組成比(重量比)から
成る共重合体20g及び 樹脂〔B〕として表−3に示す共重合体を各22gとした
他は、実施例1と同様の組成物でボールミルで2時間分
散して感光層形成物を調製しこれを導電処理した紙に乾
燥付着量が25g/m2となるようにワイヤーバーで塗布し、
105℃で1時間乾燥し、ついで暗所で20℃、65%RHの条
件下で24時間放置することにより、電子写真感光材料を
作製した。Examples (14 to 16) As a resin [A], 20 g of a copolymer having the following copolymerization composition ratio (weight ratio) and As the resin [B], except that the copolymer shown in Table 3 was 22 g each, the composition similar to that of Example 1 was dispersed in a ball mill for 2 hours to prepare a photosensitive layer-formed product, which was subjected to a conductive treatment. Apply it with a wire bar so that the dry adhesion amount will be 25 g / m 2 .
An electrophotographic photosensitive material was prepared by drying at 105 ° C. for 1 hour and then leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours.
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られた
オフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機で
印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない鮮
明な画質であった。 When this was subjected to plate making using the same apparatus as in Example 1, the density of the obtained offset printing master plate was 1.0 or more, and the image quality was clear. Further, after etching and printing with a printing machine, the printed matter after printing 10,000 sheets had clear image quality without fog.
実施例17 樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕として、各々表−4の樹脂
を各々22g及び18gとした他は、実施例14と同様に操作し
て感光材料を作製した。Example 17 A photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 14, except that the resins shown in Table 4 were changed to 22 g and 18 g, respectively, as the resin [A] and the resin [B].
これを、実施例1と同様の装置で製版した所、得られ
たオフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上
で画質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。 When a plate was prepared using the same apparatus as in Example 1, the obtained master plate for offset printing had a density of 1.0 or more and the image quality was clear. Further, after etching and printing with a printing machine, the printed matter after printing 10,000 sheets had clear image quality without fog.
更に、この感光材料を(45℃,75%RH)の環境条件下
に2週間放置した後全く同様の処理を行なったが、経時
前と全く変わらなかった。Further, this light-sensitive material was allowed to stand for 2 weeks under an environmental condition of (45 ° C., 75% RH) and then subjected to the same processing, but there was no difference from that before the passage of time.
実施例18 樹脂〔A〕として、樹脂〔A〕−5 15g及び樹脂
〔B〕として、下記構造の樹脂〔B〕(〔B〕−8)25
gを各々用いた他は、実施例14と同様に操作して、感光
材料を作製した。Example 18 Resin [A] -5 15 g as Resin [A] and Resin [B] ([B] -8) 25 having the following structure as Resin [B] 25
A light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 14 except that g was used.
これを、実施例1と同様の装置で製版した所、得られ
たオフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上
で画質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画像であった。 When a plate was prepared using the same apparatus as in Example 1, the obtained master plate for offset printing had a density of 1.0 or more and the image quality was clear. When the product was further etched and printed by a printing machine, the printed matter after printing 10,000 sheets was a clear image without fog.
更に、この感光材料を(45℃,75%RH)の環境条件下
に2週間放置した後全く同様の処理を行なったが、経時
前と全く変わらなかった。Further, this light-sensitive material was allowed to stand for 2 weeks under an environmental condition of (45 ° C., 75% RH) and then subjected to the same processing, but there was no difference from that before the passage of time.
(発明の効果) 本発明によれば、地汚れ、耐刷力の非常に優れた電子
写真式平版印刷用原版が得られる。(Effects of the Invention) According to the present invention, an original plate for electrophotographic lithographic printing having excellent background stain and printing durability can be obtained.
Claims (1)
化亜鉛、下記樹脂(A)、下記樹脂(B)及びトルエン
を含む液を塗布して光導電層を設けてなる電子写真感光
体を利用した平版印刷用原版。 (i)樹脂(A):分解により少なくとも1つのカルボ
キシル基を生成する官能基を少なくとも1種含有する共
重合成分及び樹脂〔B〕と架橋反応する官能基を少なく
とも1種含有する共重合成分をそれぞれ少なくとも1種
含有するメタクリレート系共重合体、 (ii)樹脂(B):熱及び/又は光で硬化反応する官能
基を少なくとも1種含有する成分を少なくとも1種含有
するメタクリレート系共重合体。1. An electrophotographic photoreceptor comprising a photoconductive layer provided by coating a liquid containing at least photoconductive zinc oxide, the following resin (A), the following resin (B) and toluene on a conductive support. Original plate for lithographic printing using. (I) Resin (A): a copolymerization component containing at least one functional group capable of generating at least one carboxyl group by decomposition and a copolymerization component containing at least one functional group capable of undergoing a crosslinking reaction with the resin [B]. (Ii) Resin (B): a methacrylate copolymer containing at least one component containing at least one functional group capable of undergoing a curing reaction with heat and / or light.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63021354A JPH0820779B2 (en) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | Electrophotographic lithographic printing plate |
| EP89101477A EP0326169B1 (en) | 1988-01-28 | 1989-01-27 | Electrophotographic lithographic printing plate precursor |
| DE68914692T DE68914692D1 (en) | 1988-01-28 | 1989-01-27 | Electrophotographic plate for making a lithographic printing plate. |
| US07/303,220 US4960661A (en) | 1988-01-28 | 1989-01-30 | Electrophotographic lithographic printing plate precursor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63021354A JPH0820779B2 (en) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | Electrophotographic lithographic printing plate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01197765A JPH01197765A (en) | 1989-08-09 |
| JPH0820779B2 true JPH0820779B2 (en) | 1996-03-04 |
Family
ID=12052763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63021354A Expired - Fee Related JPH0820779B2 (en) | 1988-01-28 | 1988-02-02 | Electrophotographic lithographic printing plate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0820779B2 (en) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61193892A (en) * | 1985-02-22 | 1986-08-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Forming film on damping rubber roller in printing press |
| JPH0750338B2 (en) * | 1986-05-02 | 1995-05-31 | 富士写真フイルム株式会社 | Electrophotographic lithographic printing plate |
| JPS62286064A (en) * | 1986-06-04 | 1987-12-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Electrophotographic lithographic plate material |
-
1988
- 1988-02-02 JP JP63021354A patent/JPH0820779B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01197765A (en) | 1989-08-09 |
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