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JPH0821663B2 - Lead frame manufacturing method - Google Patents
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JPH0821663B2 - Lead frame manufacturing method - Google Patents

Lead frame manufacturing method

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JPH0821663B2
JPH0821663B2 JP1267502A JP26750289A JPH0821663B2 JP H0821663 B2 JPH0821663 B2 JP H0821663B2 JP 1267502 A JP1267502 A JP 1267502A JP 26750289 A JP26750289 A JP 26750289A JP H0821663 B2 JPH0821663 B2 JP H0821663B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明はリードフレームの製造方法に係り、特にリー
ドフレームの部分めっきにおける位置決め方法に関す
る。
The present invention relates to a lead frame manufacturing method, and more particularly to a positioning method for partial plating of a lead frame.

(従来の技術) 例えば通常のICは、第3図に示すように、リードフレ
ーム1のダイパッド2に、半導体素子3を固着し、この
半導体素子3のボンディングパッドとリードフレームの
インナーリード4とを金線あるいはアルミ線のボンディ
ングワイヤ5によって結線し、更にこれらを樹脂6で封
止することにより製造されている。
(Prior Art) For example, in a normal IC, a semiconductor element 3 is fixed to a die pad 2 of a lead frame 1 and a bonding pad of the semiconductor element 3 and an inner lead 4 of the lead frame are attached as shown in FIG. It is manufactured by connecting with a bonding wire 5 of a gold wire or an aluminum wire and further sealing them with a resin 6.

ここで用いられるリードフレームは、第4図に1例を
示す如く、半導体素子を搭載するためのダイパッド2
と、先端が該ダイパッドをとり囲むように延在せしめら
れた多数のインナーリード4と、該インナーリードとほ
ぼ直交する方向に延びこれらインナーリードを一体的に
支持するタイバー7と、該タイバーの外側に前記各イン
ナーリードに接続するように配設せしめられたアウター
リード8とダイパッド2を支持するサポートバー9とか
ら構成されている。
The lead frame used here is a die pad 2 for mounting a semiconductor element, as shown in FIG. 4 as an example.
A number of inner leads 4 whose tips extend to surround the die pad, a tie bar 7 extending in a direction substantially orthogonal to the inner leads and integrally supporting the inner leads, and an outer side of the tie bar. The outer lead 8 and the support bar 9 supporting the die pad 2 are arranged so as to be connected to the inner leads.

ところで、インナーリードの先端にはボンディング性
の向上のために貴金属めっきが施されている。
By the way, the tips of the inner leads are plated with a noble metal in order to improve the bonding property.

通常、このようなリードフレームは、金属板または金
属条件をフォトエッチングまたはプレス打抜きによりリ
ードおよび素子搭載部を形成した後、所定の領域に貴金
属めっきを施したものが一般的である。
In general, such a lead frame is generally one in which a lead and an element mounting portion are formed by photoetching or press punching a metal plate or metal conditions, and then a predetermined region is plated with a noble metal.

このような部分めっきを施す際、各リード間の若干の
間隙にめっき液が侵入しリードの両側面にめっきもれが
生じることがある。これが樹脂と外界との境界付近に達
すると、外界の湿気の影響を受けてリード間にエレクト
ロマイグレーションが起きて短絡するという問題があ
る。
When such partial plating is performed, the plating solution may penetrate into a slight gap between the leads, resulting in plating leakage on both sides of the leads. When this reaches the vicinity of the boundary between the resin and the outside world, there is a problem in that electromigration occurs between the leads under the influence of moisture in the outside world and a short circuit occurs.

特に、最近半導体素子の集積度の向上に従って素子搭
載部の大きさも大きくなり、樹脂封止領域の端部とリー
ド先端部のめっきエリアとの間隔およびインナーリード
間の間隔も狭くなりめっき洩れにより短絡が避けられな
い問題となってきている。
In particular, as the degree of integration of semiconductor devices has recently increased, the size of the device mounting area has also increased, and the distance between the edge of the resin sealing area and the plating area at the lead tip and the distance between the inner leads have also become narrow, causing short circuits due to plating leakage. Has become an unavoidable problem.

このような問題を解決するため、リードおよび素子搭
載部の形状加工を行う前に、金属条材上の所要部分に貴
金属の部分めっきを施し、しかる後、プレス加工等によ
りリードフレームの形状加工を行うという方法が提案さ
れている。
In order to solve such a problem, before forming the lead and the element mounting part, the required part on the metal strip is partially plated with a noble metal, and then the lead frame is formed by press working. A method of doing so has been proposed.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、この方法では、最終的にリードフレー
ムの形状加工を行わないことには、めっき位置が適切か
どうかを容易に判断できないという欠点がある。
(Problems to be Solved by the Invention) However, this method has a drawback in that it is not possible to easily determine whether or not the plating position is appropriate unless the lead frame is finally shaped.

このため、リードフレームの形状加工を行った後、位
置ずれがあるか否かを判定して、その判定に基づきフィ
ードバックを行い、めっきヘッドの位置の再調整を行う
というプロセスをとらねばならないため、めっき不良が
多発するという問題があった。
For this reason, after the lead frame has been shaped, it is necessary to determine whether or not there is a positional deviation, perform feedback based on that determination, and readjust the position of the plating head. There was a problem that plating defects frequently occurred.

本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、めっき
位置が適切であるか否かを直ちに判定することができ、
位置調整を迅速に行うことのできるリードフレームの部
分めっきを用いたリードフレームの製造方法を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to immediately determine whether or not the plating position is appropriate,
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a lead frame using partial plating of the lead frame, which enables quick position adjustment.

〔発明の構成〕[Structure of Invention]

(課題を解決するための手段) そこで本発明では、形状加工に先立ち部分めっきを行
うリードフレームの製造方法において、金属条材に、基
準位置決め用の基準ピン孔とめっき許容領域の周囲全体
を囲むように形成された凹溝からなる表示部を形成し、
前記表示部および基準ピン孔に基づいてめっき位置を決
定し、選択的にめっきをおこなうようにしている。
(Means for Solving the Problems) Therefore, in the present invention, in the method for manufacturing a lead frame in which partial plating is performed prior to shape processing, a metal strip surrounds the reference pin hole for reference positioning and the entire periphery of the plating permissible region. Forming a display part consisting of a concave groove formed as
The plating position is determined based on the display portion and the reference pin hole, and the plating is selectively performed.

(作用) 本発明の方法によれば、めっき位置に対応して凹溝か
らなる表示部が形成されているため、位置の確認が容易
であり、また、めっきを行った直後にめっき位置ずれが
あるか否かを例えばこの表示部に接触しているか否かで
判定することができる。このため、ずれがある場合は即
時にずれの発生を検知し、めっきヘッドの位置調整をす
ることができる。
(Operation) According to the method of the present invention, since the display portion composed of the concave groove is formed corresponding to the plating position, it is easy to confirm the position, and the displacement of the plating position immediately after plating is performed. It can be determined whether or not there is, for example, whether or not the display unit is in contact. Therefore, when there is a deviation, it is possible to immediately detect the occurrence of the deviation and adjust the position of the plating head.

また、凹溝がめっき溜めの役割を果たし、めっき領域
の超過不良の低減をはかることができる。
In addition, the concave groove serves as a plating reservoir, and it is possible to reduce excess defects in the plating region.

さらにまた、モールド樹脂が凹溝内で硬化し、リード
に抜けが生じるのを防ぐことができる。
Furthermore, it is possible to prevent the molding resin from being hardened in the groove and causing the lead to come off.

(実施例) 以下、本発明の実施例について、図面を参照しつつ詳
細に説明する。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図(a)乃至第1図(d)は、本発明実施例のリ
ードフレームの製造工程を説明するための参考説明図で
ある。
1 (a) to 1 (d) are reference explanatory views for explaining the manufacturing process of the lead frame of the embodiment of the present invention.

まず、第1図(a)に示すように、スタンピング法に
より、銅−鉄合金からなる帯状材料の長手方向に沿って
所定の間隔で位置決め用の基準ピン孔11を窄設する。
First, as shown in FIG. 1A, reference pin holes 11 for positioning are narrowed at predetermined intervals along the longitudinal direction of a strip-shaped material made of a copper-iron alloy by a stamping method.

ついで、第1図(b)に示すように、めっき許容領域
13を示す凹部からなるめっき位置表示部14を形成する。
Next, as shown in Fig. 1 (b), the plating allowable area
A plating position display portion 14 including a concave portion showing 13 is formed.

この後、第1図(c)に示すように、めっき位置表示
部および基準ピン孔に基づいて、めっきを行う。ここで
は、短冊状リードフレーム用のバッチ方式あるいは連続
体リードフレームの連続方式の部分めっき法を用い、め
っき液としては、銀めっき液(ジャナンロール製のシル
バージェット220)を用いてスポットめっきを行い、ダ
イパッドおよびインナーリード先端部に膜厚約3μmの
銀めっき層12を形成する。このとき、めっき後、目視に
よりめっき位置がめっき許容領域内にあるか否かを判定
する。そしてめっき位置がめっき位置表示部に接触して
いる場合は、ただちにめっきヘッドを調整する。
Thereafter, as shown in FIG. 1 (c), plating is performed based on the plating position display portion and the reference pin hole. Here, the spot plating is performed by using a partial plating method of a batch method for a strip-shaped lead frame or a continuous method of a continuous body lead frame, and using a silver plating solution (silver jet 220 manufactured by Janan Roll) as a plating solution. A silver plating layer 12 having a film thickness of about 3 μm is formed on the tips of the die pad and the inner leads. At this time, after plating, it is visually determined whether or not the plating position is within the plating allowable area. Then, when the plating position is in contact with the plating position display portion, the plating head is adjusted immediately.

そして、第1図(d)に示すように、スタンピング法
により、半導体素子を搭載するためのダイパッド2と、
先端が該ダイパッドをとり囲むように延在せしめられた
多数のインナーリード4と、該インナーリードとほぼ直
交する方向に延びこれらインナーリードを一体的に支持
するタイバー7と、該タイバーの外側に前記各インナー
リードに接続するように配設せしめられたアウターリー
ド8とダイパッド2を支持するサポートバー9とを含む
リードフレームを成型する。
Then, as shown in FIG. 1D, a die pad 2 for mounting a semiconductor element is formed by a stamping method,
A large number of inner leads 4 having their tips extending so as to surround the die pad, a tie bar 7 extending in a direction substantially orthogonal to the inner leads and integrally supporting the inner leads, and an outer side of the tie bar. A lead frame including an outer lead 8 arranged so as to be connected to each inner lead and a support bar 9 supporting the die pad 2 is molded.

このように、本発明の方法によれば、めっき許容領域
を示すめっき位置表示部が設けられており、めっき後直
ちに、目視によりめっき位置が内にあるか否かを判定す
ることができる。そして、めっき位置がめっき位置表示
部に接触している場合は、ただちにめっきヘッドを調整
することにより、めっき位置の位置ずれによる不良を最
小限度に維持することができる。
As described above, according to the method of the present invention, the plating position display portion showing the plating permissible region is provided, and immediately after plating, it is possible to visually determine whether or not the plating position is inside. Then, when the plating position is in contact with the plating position display portion, the defect due to the displacement of the plating position can be minimized by adjusting the plating head immediately.

このようにして、インナーリード側面にめっき層が形
成されることなく、膜質が良好でボンデイング性の良好
な銀めっき層を有するリードフレームが形成される。
In this way, a lead frame having a silver plating layer with good film quality and good bondability is formed without forming a plating layer on the side surfaces of the inner leads.

このようにして形成されたリードフレームによれば、
高精度に位置決めがなされ、製造歩留まりが高く、信頼
性の高い半導体装置を得ることが可能となる。
According to the lead frame formed in this way,
It is possible to obtain a highly reliable semiconductor device which is positioned with high accuracy, has a high manufacturing yield, and is highly reliable.

次に、第1図で説明した参考例に基づいて、本発明実
施例について説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described based on the reference example described in FIG.

第2図は、本発明実施例のリードフレームの製造工程
を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a manufacturing process of the lead frame of the embodiment of the present invention.

この工程では前記参考例で、めっき許容領域13を示す
めっき位置表示部14として凹部を点在させたのに対し、
本発明実施例の方法では、めっき許容領域13全体を囲む
ように連続して形成した凹溝を配設したことを特徴とす
る。
In this step, in the reference example, while the recesses are scattered as the plating position display portion 14 showing the plating permissible area 13,
The method according to the embodiment of the present invention is characterized in that the continuously formed concave groove is provided so as to surround the entire plating permissible region 13.

まず、アロイ42と指称されている42%ニッケル鋼から
なる帯状材料を加工し、前記実施例1において第1図
(a)および第1図(b)に示したのと同様に、スタン
ピング法により、形状加工を行う。ここでは第2図
(a)および第2図(b)に示すように(第2図(b)
は第2図(a)のA−A断面図)、めっき許容領域23の
周り全体を溝状の表示部24で囲み、この表示部24の位置
に基づいてめっき層22を形成するようにしたもので、他
部については前記参考例と全く同様に形成する。
First, a band-shaped material made of 42% nickel steel, which is called alloy 42, is processed and processed by the stamping method in the same manner as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b) in the first embodiment. , Shape processing. Here, as shown in FIG. 2 (a) and FIG. 2 (b) (FIG. 2 (b))
Is a sectional view taken along the line AA in FIG. 2A), and the entire plating permissible area 23 is surrounded by a groove-shaped display portion 24, and the plating layer 22 is formed based on the position of the display portion 24. The other parts are formed in exactly the same manner as in the reference example.

そして前記参考例とまったく同様にしてスタンピング
工程を経てリードフレームが完成する。
Then, a lead frame is completed through a stamping process in exactly the same manner as the reference example.

本発明の方法によれば、めっき許容領域を示すめっき
位置表示部が設けられており、めっき後直ちに、目視に
よりめっき位置が内にあるか否かを判定することができ
る。そして、めっき位置がめっき位置表示部に接触して
いる場合は、ただちにめっきヘッドを調整することによ
り、めっき位置の位置ずれによる不良を最小限度に維持
することができる。
According to the method of the present invention, the plating position display portion showing the plating permissible region is provided, and immediately after plating, it is possible to visually determine whether or not the plating position is inside. Then, when the plating position is in contact with the plating position display portion, the defect due to the displacement of the plating position can be minimized by adjusting the plating head immediately.

このようにして、インナーリード側面にめっき層が形
成されることなく、膜質が良好でボンディング性の良好
な銀めっき層を有するリードフレームが形成される。
In this way, a lead frame having a silver plating layer with good film quality and good bonding properties is formed without forming a plating layer on the side surfaces of the inner leads.

このようにして形成されたリードフレームによれば、
高精度に位置決めがなされ、製造歩留まりが高く、信頼
性の高い半導体装置を得ることが可能となる。
According to the lead frame formed in this way,
It is possible to obtain a highly reliable semiconductor device which is positioned with high accuracy, has a high manufacturing yield, and is highly reliable.

また、上記効果に加え、凹溝がめっき許容領域のまわ
り全体を囲むように連続して形成されているため、凹溝
がめっき溜めの役割を果たし、めっき領域の超過不良の
低減をはかることができる。
Further, in addition to the above effects, since the recessed groove is continuously formed so as to surround the entire plating permissible region, the recessed groove serves as a plating reservoir and may reduce excess defects in the plating region. it can.

さらにまた、インナーリード先端部に形成された凹溝
が封止樹脂を係止し、封止樹脂との結合を強固にするた
め、アウターリードの曲げ等による引っ張りによるイン
ナーリード先端部の位置ずれを防止すると言う効果があ
る。従って、素子搭載部が大きくなり、封止樹脂の端部
とリード先端部のめっきエリアとの間隔が狭くなって
も、アウターリードの曲げ等による引っ張りがボンディ
ングエリアに影響を与えることはない。
Furthermore, since the groove formed in the tip of the inner lead locks the encapsulation resin and strengthens the bond with the encapsulation resin, the position of the inner lead tip is displaced due to pulling due to bending of the outer lead. It has the effect of preventing it. Therefore, even if the element mounting portion becomes large and the distance between the end of the sealing resin and the plating area at the tip of the lead becomes narrow, the pulling due to bending of the outer lead does not affect the bonding area.

なお、上記実施例では貴金属めっきとして銀めっきを
用いた場合について説明したが、金めっきを用いる場合
にも適用可能であることはいうまでもない。
In addition, although the case where silver plating is used as the noble metal plating is described in the above-mentioned embodiment, it is needless to say that the present invention can be applied to the case where gold plating is used.

また、リードフレームの形状についても、ダイパッド
を有するリードフレームに限定されることなく、適宜変
形可能である。
Further, the shape of the lead frame is not limited to the lead frame having the die pad, and can be appropriately modified.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明してきたように、本発明の方法によれば、形
状加工に先立ち部分めっきを行う部分めっき法を用いた
リードフレームの製造に際し、めっき許容位置に対応し
て凹溝からなる表示領域が形成されているため、位置の
確認が容易であり、また、めっきを行った直後に位置ず
れを迅速に修正し、位置ずれ不良の発生を大幅に低減す
ることができ、歩留まりの大幅な向上をはかることがで
きる。
As described above, according to the method of the present invention, when the lead frame is manufactured using the partial plating method in which the partial plating is performed prior to the shape processing, the display area formed of the concave groove is formed corresponding to the plating allowable position. Since it is easy to confirm the position, it is possible to correct the misalignment immediately after plating and to significantly reduce the occurrence of misalignment, thus significantly improving the yield. be able to.

さらにまた、凹溝がめっき許容領域のまわり全体を囲
むように連続して形成されているため、凹溝がめっき溜
めの役割を果たし、めっき領域の超過不良の低減をはか
ることができる上、インナーリード先端部に形成された
凹溝が封止樹脂を係止し、封止樹脂との結合を強固にす
るため、アウターリードの曲げ等による引っ張りによる
インナーリード先端部の位置ずれを防止することができ
る。
Furthermore, since the concave groove is continuously formed so as to surround the entire plating allowable area, the concave groove serves as a plating reservoir, and it is possible to reduce excess defects in the plating area. The groove formed on the tip of the lead locks the sealing resin and strengthens the bond with the sealing resin, so it is possible to prevent the position of the inner lead tip from being displaced due to pulling due to bending of the outer lead. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図(a)乃至第1図(d)は、本発明実施例のリー
ドフレームの製造工程を説明するための参考図、第2図
(a)および第2図(b)は、本発明実施例のリードフ
レームの製造工程を示す図、第3図は通常の半導体装置
を示す図、第4図の同半導体装置のリードフレームを示
す図である。 1……リードフレーム、2……ダイパッド、3……半導
体素子、4……インナーリード、5……ボンディングワ
イヤ、6……樹脂、7……タイバー、8……アウターリ
ード、9……サポートバー、12……銀めっき層、13……
めっき位置許容領域、14……表示部、22……めっき層、
23……めっき位置許容領域、24……表示部。
1 (a) to 1 (d) are reference diagrams for explaining the manufacturing process of the lead frame of the embodiment of the present invention, and FIGS. 2 (a) and 2 (b) are the present invention. FIG. 3 is a diagram showing a manufacturing process of the lead frame of the embodiment, FIG. 3 is a diagram showing a normal semiconductor device, and FIG. 4 is a diagram showing a lead frame of the semiconductor device of FIG. 1 ... Lead frame, 2 ... Die pad, 3 ... Semiconductor element, 4 ... Inner lead, 5 ... Bonding wire, 6 ... Resin, 7 ... Tie bar, 8 ... Outer lead, 9 ... Support bar , 12 …… Silver plating layer, 13 ……
Plating position permissible area, 14 …… Display section, 22 …… Plating layer,
23: Plating position allowable area, 24: Display section.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】金属条材に、基準位置決め用の基準ピン孔
とめっき許容領域の周囲全体を囲むように連続して形成
された凹溝からなる表示部を形成する表示部形成工程
と、 前記表示部および基準ピン孔に基づいてめっき位置を決
定し、選択的にめっきを行う部分めっき工程と、 リードフレームを所望の形状に形状加工する形状加工工
程とを含むようにしたことを特徴とするリードフレーム
の製造方法。
1. A display part forming step of forming, on a metal strip, a display part consisting of a reference pin hole for reference positioning and a groove continuously formed so as to surround the entire periphery of a plating permissible region, It is characterized by including a partial plating step of determining a plating position based on the display section and the reference pin hole and selectively plating, and a shaping step of shaping the lead frame into a desired shape. Lead frame manufacturing method.
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