JPH08229477A - Method for correcting coating position in paste coating device - Google Patents
Method for correcting coating position in paste coating deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば液晶表示装置の
製造工程に使用される銀ペースト塗布装置におけるペー
スト塗布方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a paste applying method in a silver paste applying apparatus used for manufacturing a liquid crystal display device, for example.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示装置として、TFT(thin fil
m transistor)アレイ基板などを用いたものが知られて
いる。例えばTFTアレイ基板においては、その各電極
への通電のためのトランスファー電極は、当該TFTア
レイ基板上に形成された塗布対象箇所(トランスファー
パッド)への銀ペーストの塗布により形成される。2. Description of the Related Art As a liquid crystal display device, a TFT (thin fil
Those using an array substrate or the like are known. For example, in a TFT array substrate, transfer electrodes for energizing the respective electrodes are formed by applying silver paste to the application target portion (transfer pad) formed on the TFT array substrate.
【0003】銀ペーストの塗布に際しては、加工対象と
なるTFTアレイ基板を機械的に位置決め保持した後、
基板上の所定の位置に形成された位置決めマークをモニ
タカメラで撮影し、これを所定の基準位置と比較するこ
とによりTFTアレイ基板の位置ずれ量(変位量)を求
め、この変位量を低減させるように、塗布機構と塗布対
象箇所との相対位置を制御する制御機構の座標データを
補正するようにしているのが一般的である。In applying the silver paste, after the TFT array substrate to be processed is mechanically positioned and held,
A positioning mark formed at a predetermined position on the substrate is photographed by a monitor camera, and the displacement amount (displacement amount) of the TFT array substrate is obtained by comparing this with a predetermined reference position to reduce the displacement amount. As described above, it is common to correct the coordinate data of the control mechanism that controls the relative position between the application mechanism and the application target location.
【0004】TFTアレイ基板に位置決めマークを設け
るのは、当該基板の切断精度、基板外形に対するパター
ンの印刷位置精度、位置決め機構の繰り返し精度などの
要因によって、外形基準で位置決めしただけでは基板上
の塗布対象箇所がばらつく可能性があるためである。但
し、位置決めマークと塗布対象箇所とは同じスクリーン
にて製版されているため、これらの位置関係については
ばらつきが生じない。そこで、従来は、外形基準で位置
決めした後に位置決めマークの変位量を求めれば、その
変位量から基板上の塗布対象箇所のパターンがどれだけ
基準位置から相対的にずれているかが判るという観点か
ら前記座標データの補正を行うものである。The positioning mark is provided on the TFT array substrate because of the factors such as the cutting accuracy of the substrate, the printing position accuracy of the pattern with respect to the outer shape of the substrate, and the repeatability of the positioning mechanism. This is because the target location may vary. However, since the positioning mark and the application target portion are made on the same screen, there is no variation in their positional relationship. Therefore, conventionally, if the displacement amount of the positioning mark is obtained after the positioning based on the outer shape reference, it is possible to know from the displacement amount how much the pattern of the application target portion on the substrate is relatively displaced from the reference position. The coordinate data is corrected.
【0005】このような銀ペーストの塗布技術として
は、特開平2−137339号公報に開示されたよう
に、位置決めマークを2組のモニタカメラにより撮像し
た結果から基板の変位量を求める技術、あるいは、特開
平1−122127号公報に開示されたように、ペース
トの塗布ヘッドに搭載したモニタカメラによって位置決
めマークを撮像し、同様にして基板の変位量を求める技
術、などが知られている。なお、これらの技術では、モ
ニタカメラにより位置決めマークを照明するための照明
装置を備えており、それ故に装置構成がやや複雑になっ
ている。As a technique for applying such a silver paste, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-137339, a technique for obtaining the displacement amount of the substrate from the result of imaging the positioning marks with two sets of monitor cameras, or As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-122127, there is known a technique in which a monitor camera mounted on a paste application head captures an image of a positioning mark and similarly obtains a displacement amount of a substrate. It should be noted that these techniques include an illuminating device for illuminating the positioning mark by the monitor camera, and therefore the device configuration is slightly complicated.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
塗布位置の補正方法は、位置決めマークの変位量に基づ
いて前記制御機構の座標データをずらす手法なので、結
果的に全ての塗布対象箇所に対応する塗布位置が一様に
補正される。ところが、従来の補正方法では、例えば回
転ずれがあると、座標原点から距離が離れるほど補正の
誤差が強く影響して全ての塗布位置を正しい方向に補正
しきれない場合がある。また、補正した個々の塗布位置
が本当に所定の位置なのかの確認もできない。そのた
め、全ての塗布対象箇所に正しく銀ペーストを塗布でき
ない場合があり、TFTアレイ基板の歩留まりの向上を
図ることができない問題があった。As described above, the conventional method for correcting the coating position is a method for shifting the coordinate data of the control mechanism based on the displacement amount of the positioning mark, and as a result, all the coating target points are applied. The coating position corresponding to is uniformly corrected. However, in the conventional correction method, if there is a rotation deviation, for example, the correction error may have a stronger influence as the distance from the coordinate origin increases, and all the coating positions may not be corrected in the correct direction. Also, it is not possible to confirm whether the corrected individual coating positions are really predetermined positions. Therefore, there is a case where the silver paste cannot be applied correctly to all the application target portions, and there is a problem that the yield of the TFT array substrate cannot be improved.
【0007】本発明の課題は、上記問題点に鑑み、複数
の塗布対象箇所の全てに対して正確にペーストを塗布す
るための補正方法を提供することにある。In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a correction method for accurately applying paste to all of a plurality of application target portions.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明のペースト塗布装置における塗布位置の補正方法は、
加工対象となる基板を所定部位に位置決めする位置決め
手段,位置決めされた前記基板上の複数の塗布対象箇所
の各々にペーストを塗布するための塗布機構,及び前記
塗布機構と個々の塗布対象箇所に対応する塗布位置との
相対位置を制御する制御機構を備えたペースト塗布装置
に於いて前記基板上の一の塗布対象箇所を撮像する第1
の段階と、撮像された前記塗布対象箇所と予め定めた基
準位置との変位量を検出する第2の段階と、検出された
前記変位量を低減するように前記相対位置を補正する第
3の段階と、を有し、前記第1ないし第3の段階を個々
の塗布対象箇所について実行することを特徴とする。な
お、前記塗布位置の補正後に前記第1及び第2の段階を
再度実行するようにしても良い。A method of correcting a coating position in a paste coating apparatus according to the present invention which solves the above-mentioned problems is described below.
Positioning means for positioning the substrate to be processed at a predetermined portion, a coating mechanism for coating the paste on each of the plurality of positioned coating target portions on the substrate, and corresponding to the coating mechanism and individual coating target portions In a paste coating apparatus having a control mechanism for controlling a relative position with respect to a coating position to be coated
And a second step of detecting a displacement amount between the imaged application target portion and a predetermined reference position, and a third step of correcting the relative position so as to reduce the detected displacement amount. And a step of performing the first to third steps for each application target portion. The first and second steps may be performed again after the correction of the coating position.
【0009】また、塗布の適否を判定する場合は、さら
に、ペースト塗布後の前記塗布対象箇所におけるペース
トの塗布形状を撮像する第4の段階と、前記撮像された
塗布形状と予め定めた基準形状とを比較し、この比較結
果に基づいて前記塗布対象箇所におけるペースト塗布状
態を判定する第5の段階と、を付加する。Further, in the case of judging the suitability of application, a fourth step of imaging the paste application shape at the application target portion after applying the paste, the imaged application shape and a predetermined reference shape. And a fifth step of judging the paste application state at the application target portion based on the comparison result.
【0010】[0010]
【作用】本発明では、位置決めされた基板上の個々の塗
布対象箇所を例えばモニタカメラで撮像し、個々の塗布
対象箇所と予め定めた基準位置との変位量を例えば画像
処理によって求め、この求めた変位量を低減するように
相対位置を補正する。これにより従来のように全ての塗
布対象箇所に対応する塗布位置が一様に補正されるのと
異なり、塗布位置が個々に補正されるので、特定の塗布
位置については正しく補正されるが他の塗布位置につい
ては補正しきれないということがなくなる。そして補正
後に再度変位量の計測を行えば、塗布位置が所定の位置
に補正できたか否かの確認も可能になる。In the present invention, the individual application target locations on the positioned substrate are imaged by, for example, a monitor camera, and the displacement amount between each individual application target location and a predetermined reference position is determined by, for example, image processing, and this determination is performed. The relative position is corrected so as to reduce the amount of displacement. As a result, unlike the prior art in which the coating positions corresponding to all the coating target positions are uniformly corrected, the coating positions are individually corrected, so that the specific coating positions are corrected correctly, but other It is possible to correct the coating position completely. Then, if the displacement amount is measured again after the correction, it becomes possible to confirm whether or not the coating position has been corrected to a predetermined position.
【0011】ペースト塗布後においては、同じモニタカ
メラによって、塗布対象箇所におけるペーストの塗布形
状を撮像し、撮像された塗布形状と基準形状との比較を
行うことにより当該塗布対象箇所におけるペーストの塗
布状態の適否を把握することができる。After the paste application, the same monitor camera captures an image of the paste application shape at the application target site and compares the captured application configuration with the reference profile to determine the paste application state at the application target site. The suitability of can be grasped.
【0012】[0012]
【実施例】次に、銀ペーストを使用してTFTアレイ基
板を製造する場合を例に挙げて本発明の実施例を図面を
参照して詳細に説明する。図1は、本発明の一実施例の
ペースト塗布装置の外観斜視図である。このペースト塗
布装置は、位置決め部1、搬送コンベア2、排出コンベ
ア3、位置決め機構4、直交型ロボット5、塗布機構
6、モニタカメラ7、視覚装置8、などから構成され
る。EXAMPLE An example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, taking as an example a case where a TFT array substrate is manufactured using a silver paste. FIG. 1 is an external perspective view of a paste applying apparatus according to an embodiment of the present invention. This paste application device includes a positioning unit 1, a conveyor 2, a discharge conveyor 3, a positioning mechanism 4, an orthogonal robot 5, an application mechanism 6, a monitor camera 7, a visual device 8, and the like.
【0013】位置決め部1及び位置決め機構4は、前工
程から搬送されたTFTアレイ基板を銀ペースト塗布の
ために機械的に位置決めして固定するものであり、搬送
コンベア2は、前工程からのTFTアレイ基板を矢印の
方向に搬送するものである。排出コンベア3は、銀ペー
スト塗布後のTFTアレイ基板を次工程に排出するもの
である。The positioning unit 1 and the positioning mechanism 4 are for mechanically positioning and fixing the TFT array substrate transferred from the previous step for silver paste coating, and the transfer conveyor 2 is a TFT from the previous step. The array substrate is conveyed in the direction of the arrow. The discharge conveyor 3 discharges the TFT array substrate after the silver paste is applied to the next step.
【0014】また、直交型ロボット5は、図示しない制
御機構からの制御により、塗布機構6及びモニタカメラ
7の水平方向(X、Y軸方向)および垂直方向(Z軸方
向)における移動の制御をするものであり、例えば、3
軸直交座標型ロボットとして市販されているものが使用
される。塗布機構6については、後で図2を用いて詳し
く説明する。Further, the orthogonal robot 5 controls the movement of the coating mechanism 6 and the monitor camera 7 in the horizontal direction (X and Y axis directions) and the vertical direction (Z axis direction) under the control of a control mechanism (not shown). For example, 3
A commercially available robot is used as the axis orthogonal coordinate type robot. The coating mechanism 6 will be described later in detail with reference to FIG.
【0015】モニタカメラ7は、例えばCCD(固体撮
像素子)などが用いられ、位置決め部1に載置されたT
FTアレイ基板上の塗布対象箇所と銀ペースト塗布後の
塗布形状とを撮像してそれぞれ画像認識するもので、そ
の信号は視覚装置8に送信される。視覚装置8は、この
送信された信号に基づいて、塗布対象箇所の所定ポイン
ト、例えば中心位置を演算して求めるとともに、銀ペー
スト塗布後は画像認識された塗布形状と予め定められた
基準形状とを比較する。形状の比較は、例えば面積比較
により行う。そして、塗布形状の面積が基準面積よりも
小さい場合には、後述するように、塗布機構6による塗
布処理を行う。As the monitor camera 7, for example, a CCD (solid-state image sensor) is used, and the T mounted on the positioning unit 1 is used.
The application target portion on the FT array substrate and the application shape after applying the silver paste are imaged to recognize the respective images, and the signal is transmitted to the visual device 8. Based on this transmitted signal, the visual device 8 calculates and obtains a predetermined point, for example, the center position of the application target location, and after applying the silver paste, the application shape recognized by the image and the predetermined reference shape. To compare. The shapes are compared by, for example, area comparison. When the area of the applied shape is smaller than the reference area, the applying mechanism 6 performs the applying process as described later.
【0016】塗布機構6は、図2のように、直交型ロボ
ット5に取り付けられた塗布機構ベース21、並びに塗
布機構ベース21にスライドレール12を介して取り付
けられたシリンジベース13などから構成される。これ
により、シリンジベース13は塗布機構ベース21に対
して垂直方向に移動可能となる。また、シリンジベース
13には、シリンジホルダ14によって、銀ペースト入
りのシリンジ16が保持される。シリンジ16には塗布
ノズル17が装着される。塗布機構ベース21とシリン
ジベース13との間には、引っ張りばね15が取り付け
られている。この引っ張りばね15の作用により、シリ
ンジベース13には常に下向きの荷重がかけられてい
る。塗布機構ベース21には、センサホルダ20によっ
て接触検出センサ19が保持されている。接触センサ1
9の先端はシリンジベース13に接しており、これによ
り、シリンジベース13の変位を検知することができ
る。すなわち、塗布ノズル17がTFTアレイ基板11
に接触した場合には、シリンジベース13がスライドし
て、接触検出センサ19が作動する。As shown in FIG. 2, the coating mechanism 6 comprises a coating mechanism base 21 mounted on the orthogonal robot 5, a syringe base 13 mounted on the coating mechanism base 21 via a slide rail 12, and the like. . As a result, the syringe base 13 can move in the vertical direction with respect to the coating mechanism base 21. A syringe holder 14 holds a syringe 16 containing silver paste on the syringe base 13. A coating nozzle 17 is attached to the syringe 16. A tension spring 15 is attached between the application mechanism base 21 and the syringe base 13. A downward load is constantly applied to the syringe base 13 by the action of the tension spring 15. The contact detection sensor 19 is held by the sensor holder 20 on the application mechanism base 21. Contact sensor 1
The tip of 9 is in contact with the syringe base 13, and thus the displacement of the syringe base 13 can be detected. That is, the coating nozzle 17 is the TFT array substrate 11
When it comes into contact with, the syringe base 13 slides and the contact detection sensor 19 operates.
【0017】次に、本実施例の動作を図3〜5をも参照
して説明する。なお、図3は、位置決め機構4によっ
て、TFTアレイ基板11が位置決め部1上の所定の位
置に位置決めされた状態を示したものである。すなわ
ち、図示しない前工程(上流)からTFTアレイ基板1
1を搬入し(ステップ(以下、Sと略称する)1)、こ
れを位置決め部1の所定部位に導いて外型の位置決めを
行う(S2)。次に、直交型ロボット5に塗布機構6と
共に取り付けられたモニタカメラ7をこの位置決めされ
たTFTアレイ基板11上の一の塗布対象箇所に対応す
る塗布位置まで移動させ、当該箇所を撮像して位置計測
を行う(S3)。そして、この撮像に基づいて、視覚装
置8に於いて塗布対象箇所の中心位置を演算により求め
る。Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIGS. Note that FIG. 3 shows a state in which the TFT array substrate 11 is positioned at a predetermined position on the positioning portion 1 by the positioning mechanism 4. That is, from the pre-process (upstream) not shown, the TFT array substrate 1
1 is carried in (step (hereinafter abbreviated as S) 1), and this is guided to a predetermined portion of the positioning portion 1 to perform positioning of the outer die (S2). Next, the monitor camera 7 attached to the orthogonal robot 5 together with the coating mechanism 6 is moved to a coating position corresponding to one coating target location on the TFT array substrate 11 thus positioned, and the relevant location is imaged and positioned. Measurement is performed (S3). Then, based on this image pickup, the central position of the application target portion is calculated in the visual device 8.
【0018】この場合、塗布対象箇所の基準位置からの
変位量が補正可能な範囲か否かの判定を行い(S4)、
範囲外であればS2からS4の処理を所定回数繰り返
す。繰り返し後の計測結果が不十分であればエラー停止
する(S6)。一方、S4に於いて補正可能範囲内と判
定したときは、上記演算された中心位置と基準位置との
変位量に基づいて、制御機構による塗布機能の位置補正
(座標補正)を行う(S7)。正しく補正されたか否か
を確認する場合は、上記S3及びS4の処理を実行すれ
ば良い。In this case, it is determined whether the amount of displacement of the application target portion from the reference position is within a correctable range (S4),
If it is out of the range, the processes of S2 to S4 are repeated a predetermined number of times. If the measurement result after the repetition is insufficient, the operation is stopped due to an error (S6). On the other hand, when it is determined in S4 that it is within the correctable range, the position correction (coordinate correction) of the coating function by the control mechanism is performed based on the calculated displacement amount between the center position and the reference position (S7). . In order to confirm whether or not the correction has been made correctly, the processes of S3 and S4 may be executed.
【0019】次いで、上記補正に基づいて、塗布ノズル
17から該当個所への銀ペーストの塗布を行う(S
8)。その後、塗布結果の良否を判定し(S9)、不良
であれば、所定回数だけS8からS9の処理を繰り返
す。そして、所定回数の繰り返し後も塗布結果が不良で
あればエラー停止する(S11)。なお、この塗布不良
の判定については、後述する。Next, based on the above correction, the silver paste is applied from the application nozzle 17 to the corresponding portion (S).
8). After that, the quality of the coating result is determined (S9), and if it is defective, the processes of S8 to S9 are repeated a predetermined number of times. If the coating result is defective even after the predetermined number of repetitions, the error is stopped (S11). The determination of the coating failure will be described later.
【0020】次に、全ての塗布対象箇所について塗布が
終了したかを判定し(S12)、終了した場合には、次
の工程(ポジション)にTFTアレイ基板11を搬出す
る(S14)。未了の場合には、塗布ノズル17を次の
塗布対象箇所に移動し、同様の手順で当該箇所の塗布処
理を行う(S13)。図5に、上記の塗布良否の判定手
順を示す。この図を参照すると、まず、モニタカメラ7
により撮像された塗布形状に基づき、視覚装置8におい
て塗布状態を画像認識し(S15)、この塗布形状の面
積から銀ペーストの塗布の適否を判断し、正常に塗布さ
れているか否かを判定する(S16)。そして、不良と
判定した場合には、塗布機構6によって当該箇所におけ
る銀ペーストの塗布を行う(S17)。その後、再びモ
ニタカメラ7により撮像し(S18)、正常に塗布され
たかを視覚装置8により判定する(S19)。Next, it is judged whether or not the coating has been completed for all the coating target portions (S12), and when it has been completed, the TFT array substrate 11 is carried out to the next step (position) (S14). If the application has not been completed, the application nozzle 17 is moved to the next application target site, and the application process for the site is performed in the same procedure (S13). FIG. 5 shows a procedure for judging whether the coating is good or bad. Referring to this figure, first, the monitor camera 7
An image of the coating state is recognized by the visual device 8 based on the coating shape imaged by (S15), the suitability of the silver paste coating is determined from the area of the coating shape, and it is determined whether the coating is normal. (S16). Then, when it is determined to be defective, the application mechanism 6 applies the silver paste to the relevant portion (S17). Then, the monitor camera 7 again takes an image (S18), and the visual device 8 determines whether the application has been normally performed (S19).
【0021】なお、以上は、本発明をTFTアレイ基板
における銀ペーストの塗布に適用する例についての説明
であるが、同様なペースト塗布を行う他の基板の加工に
ついても本発明を適用できることは勿論である。The above is an explanation of an example in which the present invention is applied to the application of silver paste on a TFT array substrate, but it goes without saying that the present invention can also be applied to the processing of other substrates on which similar paste application is performed. Is.
【0022】[0022]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、塗布対象箇所に対応する塗布位置の補正が各
々個別的に行われるため、基板上に複数の塗布対象箇所
が存在してもペーストを各箇所に正確に塗布することが
可能となる効果がある。また、塗布結果の判定も行われ
るので、ペースト塗布後の基板の歩留まり率が格段に向
上する効果もある。As is apparent from the above description, according to the present invention, since the coating positions corresponding to the coating target positions are individually corrected, there are a plurality of coating target positions on the substrate. However, there is an effect that the paste can be accurately applied to each place. Moreover, since the determination of the coating result is also performed, there is an effect that the yield rate of the substrate after the paste coating is significantly improved.
【図1】本発明の一実施例に係るペースト塗布装置の構
成を示す外観斜視図。FIG. 1 is an external perspective view showing the configuration of a paste coating apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】(a)は図1のペースト塗布装置を構成する塗
布機構の正面図、(b)は同じく側面図。2A is a front view of a coating mechanism that constitutes the paste coating apparatus of FIG. 1, and FIG. 2B is a side view of the same.
【図3】本実施例のペースト塗布装置によりペースト塗
布をするTFTアレイ基板の一例を示した説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example of a TFT array substrate on which paste is applied by the paste applying apparatus of this embodiment.
【図4】本実施例における全体的な処理手順を示したフ
ローチャート。FIG. 4 is a flowchart showing an overall processing procedure in this embodiment.
【図5】本実施例におけるにおける塗布良否の処理手順
を示したフローチャート。FIG. 5 is a flow chart showing a processing procedure of quality of coating in the present embodiment.
1 位置決め部 4 位置決め機構 5 直交型ロボット 6 塗布機構 7 モニタカメラ 8 視覚装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Positioning part 4 Positioning mechanism 5 Cartesian robot 6 Coating mechanism 7 Monitor camera 8 Visual device
Claims (3)
めする位置決め手段,位置決めされた前記基板上の複数
の塗布対象箇所の各々にペーストを塗布するための塗布
機構,及び前記塗布機構と個々の塗布対象箇所に対応す
る塗布位置との相対位置を制御する制御機構を備えたペ
ースト塗布装置に於いて前記基板上の一の塗布対象箇所
を撮像する第1の段階と、 撮像された前記塗布対象箇所と予め定めた基準位置との
変位量を検出する第2の段階と、 検出された前記変位量を低減するように前記相対位置を
補正する第3の段階と、を有し、 前記第1ないし第3の段階を個々の塗布対象箇所につい
て実行することを特徴とするペースト塗布装置における
塗布位置の補正方法。1. A positioning means for positioning a substrate to be processed at a predetermined portion, a coating mechanism for coating paste on each of a plurality of coating target portions on the positioned substrate, and the coating mechanism and individual coating mechanisms. A first step of capturing an image of one application target location on the substrate in a paste application apparatus having a control mechanism that controls the relative position to the application position corresponding to the application target location, and the imaged application target A second step of detecting an amount of displacement between the location and a predetermined reference position; and a third step of correcting the relative position so as to reduce the detected amount of displacement, the first step To the third step are executed for each application target portion, a method for correcting the application position in the paste application device.
2の段階を再度実行することを特徴とする請求項1記載
の補正方法。2. The correction method according to claim 1, wherein the first and second steps are performed again after the correction of the coating position.
けるペーストの塗布形状を撮像する第4の段階と、 前記撮像された塗布形状と予め定めた基準形状とを比較
し、この比較結果に基づいて前記塗布対象箇所における
ペースト塗布状態を判定する第5の段階と、 を有することを特徴とする請求項1又は2記載の補正方
法。3. A fourth step of imaging a paste application shape at the application target portion after applying the paste, and the imaged application shape and a predetermined reference shape are compared, and based on a result of the comparison. 5. The correction method according to claim 1, further comprising: a fifth step of determining a paste application state at the application target portion.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3535095A JP2949562B2 (en) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | Method of correcting coating position in paste coating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3535095A JP2949562B2 (en) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | Method of correcting coating position in paste coating device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08229477A true JPH08229477A (en) | 1996-09-10 |
| JP2949562B2 JP2949562B2 (en) | 1999-09-13 |
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ID=12439422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3535095A Expired - Fee Related JP2949562B2 (en) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | Method of correcting coating position in paste coating device |
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|---|---|
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