JPH0827989B2 - Optical recording medium - Google Patents
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 I 発明の背景 技術分野 本発明は、レーザー光等の熱および光を用いて情報の
記録、再生を行う光磁気記録媒体等の光記録媒体に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium such as a magneto-optical recording medium that records and reproduces information using heat and light such as laser light.
先行技術とその問題点 光記録媒体の一つとして、光磁気メモリ媒体がある。2. Related Art and Problems There is a magneto-optical memory medium as one of optical recording media.
光磁気メモリの記録媒体としては、 MnBi、MnAlGe、MnSb、 MnCuBi、GdFe、TbFe、 GdCo、PtCo、TbCo、 TbFeCo、GdFeCo、 TbFeO3、GdIG、GdTbFe、 GdTbFeCoBi、CoFe2O4 等の材料が知られている。これらは、真空蒸着法やスパ
ッタリング法等の方法で、プラスチックやガラス等の透
明基板上に薄膜として形成される。これらの光磁気記録
媒体に共通している特性としては、磁化容易軸が膜面に
垂直方向にあり、さらに、カー硬化やファラデー効果が
大きいという点をあげることができる。Materials such as MnBi, MnAlGe, MnSb, MnCuBi, GdFe, TbFe, GdCo, PtCo, TbCo, TbFeCo, GdFeCo, TbFeO 3 , GdIG, GdTbFe, GdTbFeCoBi, and CoFe 2 O 4 are known as recording media for magneto-optical memory. ing. These are formed as thin films on a transparent substrate such as plastic or glass by a method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method. The characteristics common to these magneto-optical recording media are that the easy axis of magnetization is in the direction perpendicular to the film surface and that Kerr hardening and the Faraday effect are large.
この性質を利用して、光磁気記録媒体の記録方法とし
て、例えば次の方法がある。As a recording method of a magneto-optical recording medium utilizing this property, there is, for example, the following method.
まず、最初に膜全体を“0"すなわち一様に磁化してお
く(これを消去という)。つぎに、“1"を記録したい部
分にレーザービームを照射する。レーザービームが照射
されたところは温度が上昇し、キューリー点に近づいた
時、そしてさらにキューリー点をこえた時には、保持力
Hcに近づく。そして、レーザービームを消し室温にもど
せば、反磁場のエネルギーにより磁化は反転し、さにら
は、レーザービームの照射の際、外部磁場を初期と反対
の方向に与えて室温にもどすと、磁化反転し、“1"なる
信号が記録される。First, the entire film is "0", that is, uniformly magnetized (this is called erasure). Next, a laser beam is applied to the portion where "1" is to be recorded. When the laser beam is emitted, the temperature rises, and when the Curie point is approached and when the Curie point is exceeded, the holding power is maintained.
Approach Hc. Then, when the laser beam is turned off and returned to room temperature, the magnetization is reversed by the energy of the demagnetizing field, and when the laser beam is irradiated, an external magnetic field is applied in the direction opposite to the initial direction to return to room temperature. It is inverted and the signal "1" is recorded.
また、記録は初期状態が、“0"であるから、レーザー
ビームを照射しない部分に“0"のまま残る。In addition, since the initial state of recording is "0", "0" remains in the portion not irradiated with the laser beam.
記録された光磁気メモリの読み取りは、同じようにレ
ーザービームを用いて、このレーザービーム照射光の磁
化の方向による反射光の偏光面の回転、すなわち磁気光
効果を利用して行われる。Similarly, the reading of the recorded magneto-optical memory is performed by using a laser beam and rotating the polarization plane of the reflected light depending on the direction of magnetization of the laser beam irradiation light, that is, the magneto-optical effect.
このような媒体に要求されることは、第1に、キュー
リー点が100〜200℃程度で補償点が室温付近であるこ
と。The first requirement for such a medium is that the Curie point is about 100 to 200 ° C and the compensation point is near room temperature.
第2に、ノイズとなる結晶粒界などの欠陥が比較的少
ないこと。Second, there are relatively few defects such as grain boundaries that cause noise.
第3に高温成膜や長時間成膜等の方法をとらずに、比
較的台面積にわたって磁気的、機械的に均一な膜が得ら
れることがあげられる。Thirdly, it is possible to obtain a magnetically and mechanically uniform film over a comparatively large platform area without using a method such as high temperature film formation or long time film formation.
このような要求にこたえ、上記材料のなかで、近年、
希土類−遷移金属の非晶質垂直磁性薄膜が大きな注目を
集めている。In response to such demands, in recent years among the above materials,
Amorphous perpendicular magnetic thin films of rare earth-transition metals have received a lot of attention.
しかし、このような希土類−遷移金属非晶質薄膜から
なる光磁気記録媒体は、大気に接したままで保存する
と、基板をとおして侵入する大気中の酸素や水により希
土類が選択的に腐食あるいは参加されてしまい、情報の
記録、再生が不可能となる。However, when the magneto-optical recording medium made of such a rare earth-transition metal amorphous thin film is stored in contact with the atmosphere, the rare earth is selectively corroded or corroded by oxygen or water in the atmosphere penetrating through the substrate. You will not be able to record and play back information because you will be participating.
そこで、一般には、前記磁性薄膜層と基板との間およ
び/または磁性薄膜層上に保護層を設けた構成を有する
ものが多く研究されている。Therefore, in general, much research has been conducted on a structure having a protective layer between the magnetic thin film layer and the substrate and / or on the magnetic thin film layer.
従来、このような防湿性の保護層としては、一酸化ケ
イ素、二酸化ケイ素等の無機系の真空蒸着膜等を設ける
試み(特開昭58−80142号等)が開示されている。これ
らの保護層のうち、例えばSiO、などの無機系の保護層
は、スパッタ法および蒸着法等により形成される。Conventionally, as such a moisture-proof protective layer, there has been disclosed an attempt to provide an inorganic vacuum vapor deposition film of silicon monoxide, silicon dioxide or the like (JP-A-58-80142). Of these protective layers, an inorganic protective layer such as SiO is formed by a sputtering method, a vapor deposition method, or the like.
しかし、これらの方法によっては、均一かつ緻密で一
様におおわれた成膜が難しく、防湿性が十分な保護層は
えられない。そのため、光磁気記録媒体の磁性薄膜層の
経時劣化が改善されない。However, according to these methods, it is difficult to form a uniform, dense, and uniformly coated film, and a protective layer having sufficient moisture resistance cannot be obtained. Therefore, deterioration over time of the magnetic thin film layer of the magneto-optical recording medium is not improved.
また、常温硬化性の樹脂の塗布保護層でも、十分な防
湿性は得られず、保存中に、水分、酸素の透過等の影響
があり、これが劣化をうながす。Even a coating protective layer of a room temperature curable resin does not have sufficient moisture resistance, and is affected by permeation of moisture and oxygen during storage, which promotes deterioration.
また、放射線硬化型化合物の塗膜を紫外線などにより
硬化させた有機保護コート層が提案されており(特開昭
61−133067号)、その中でオリゴエステルアクリレート
と光増感剤としてメチルベンゾイル、フォーメート(ス
トーファージャパン社製バイキュア55)とを含む塗膜を
硬化させたものが開示されている。In addition, an organic protective coating layer has been proposed in which a coating film of a radiation-curable compound is cured by ultraviolet rays or the like (Japanese Patent Laid-Open No. S60-12065).
61-133067), in which a coating film containing an oligoester acrylate, methyl benzoyl as a photosensitizer, and formate (Vicure 55 manufactured by Stofer Japan) is cured.
しかし、これらでは保護層機能および硬化性の点で未
だ十分でない。However, these are still insufficient in terms of protective layer function and curability.
具体的には、硬化速度が小さいこと、薄膜にした際の
硬化膜の強度が十分に得られないこと、膜厚を大きくす
る必要性があること、などの問題が挙げられ、これらの
問題は主に光重合開始剤ないし光増感剤の光吸収性が十
分でなくラジカル開裂が進行しにくいことに起因する。Specifically, there are problems such as low curing speed, insufficient strength of the cured film when formed into a thin film, and necessity of increasing the film thickness. This is mainly due to insufficient photoabsorption of the photopolymerization initiator or the photosensitizer and the difficulty of radical cleavage.
また、硬化が十分でないと、架橋密度が低くなり、未
硬化のモノマーやオリゴマーが記録層の方に浸透して記
録層に悪影響を及ぼす。このような現象は特に高温高湿
の保存によって顕著となる。Further, if the curing is not sufficient, the crosslinking density becomes low, and the uncured monomer or oligomer penetrates into the recording layer and adversely affects the recording layer. Such a phenomenon becomes noticeable especially when stored at high temperature and high humidity.
このため、このような硬化膜を用いた光記録媒体では
信頼性が十分とはいえない。Therefore, it cannot be said that the optical recording medium using such a cured film has sufficient reliability.
ところで、光記録媒体は、通常、片面記録型の場合に
は保護板と、両面記録型の場合には基板同志が接着剤層
を介して一体化される。By the way, in an optical recording medium, normally, a protective plate in the case of a single-sided recording type and a substrate in the case of a double-sided recording type are integrated via an adhesive layer.
これらの場合に用いられる接着剤としては、ホットメ
ルト型接着剤あるいは熱硬化型接着剤が一般的である。As the adhesive used in these cases, a hot melt adhesive or a thermosetting adhesive is generally used.
しかし、ホットメルト型接着剤は、接着時に100℃以
上の高温になるため記録層や基板に悪影響を与える他、
接着後に媒体にソリが生じる等の欠点がある。However, the hot-melt adhesive has a bad influence on the recording layer and the substrate because it becomes a high temperature of 100 ° C. or more at the time of adhesion.
There are drawbacks such as warping of the medium after adhesion.
また、熱硬化型接着剤では、迅速な接着を行なう場合
にはやはり100℃以上の高温を必要とし、上記のホット
メルト型接着剤と同様な欠点を有している。Further, the thermosetting adhesive also requires a high temperature of 100 ° C. or higher for quick adhesion, and has the same drawbacks as the above hot-melt adhesive.
このような欠点を解消するため、基板の内周部および
外周部に記録層のない透明部分を設けるとともに、この
ような基板同志を紫外線硬化機能と嫌気性硬化機能との
両機能を有する接着剤で接合して構成した情報記録ディ
スクが提案されている(特開昭61−217944号公報)。In order to eliminate such a defect, a transparent portion having no recording layer is provided on the inner and outer peripheral portions of the substrate, and such a substrate has an adhesive having both a UV curing function and an anaerobic curing function. There has been proposed an information recording disk which is constructed by joining with each other (Japanese Patent Laid-Open No. 61-217944).
このものは、基板同士を重ねあわせ、まず紫外線を照
射して内周部および外周部を接着させ、その後は自然放
置しておいて嫌気性硬化させて残りの部分を接着させる
ため、記録層や基板に熱が加わることがなく、嫌気性硬
化中に基板同士のズレが生じないというものである。This is because the substrates are superposed on each other, and the inner and outer peripheral parts are first irradiated with ultraviolet rays to bond them, and then left to stand naturally to anaerobically cure to bond the remaining parts to each other. No heat is applied to the substrates, and no displacement occurs between the substrates during anaerobic curing.
しかし、このような接着剤によって基板同士を接着す
る際に、記録層上に前述したような有機保護コート層が
設層されている場合、すなわち接着剤層と有機保護コー
ト層が接している場合は、接着後の媒体が高温・高湿等
あるいは温湿度変化の条件下で保存されると接着剤層と
有機保護コート層との間に剥離等を生じ、耐久性の高い
媒体は得られない。However, when the substrates are bonded to each other with such an adhesive, when the organic protective coat layer as described above is formed on the recording layer, that is, when the adhesive layer and the organic protective coat layer are in contact with each other. When the medium after adhesion is stored under conditions of high temperature and high humidity or changes in temperature and humidity, peeling occurs between the adhesive layer and the organic protective coating layer, and a medium with high durability cannot be obtained. .
なお、このような問題は、いわゆる相転移タイプの記
録層を有する光記録媒体においても同様である。Incidentally, such a problem also applies to an optical recording medium having a so-called phase transition type recording layer.
II 発明の目的 本発明の目的は、一対の基板を有し、少なくとも一方
の基板上に記録層を有し、この記録層上に有機保護コー
ト層を有し、これら一対の基板が、記録層が内側になる
ように接着剤層を介して一体化されている光記録媒体に
おいて、両基板の接着時に熱による媒体への悪影響が
く、接着が迅速で接着時に基板同士のズレがなく接着後
の基板のソリがなく、しかも高温・高湿あるいは温湿度
変化の条件下の保存においても有機保護コート層と接着
剤層との剥離がなく、耐久性および耐湿性に優れた光記
録媒体を提供することにある。II Object of the Invention An object of the present invention is to have a pair of substrates, a recording layer on at least one of the substrates, and an organic protective coating layer on the recording layer. In an optical recording medium that is integrated via an adhesive layer so that it is on the inside, there is no adverse effect on the medium due to heat when bonding both substrates, the bonding is quick and there is no gap between the substrates during bonding. Provided is an optical recording medium which is excellent in durability and moisture resistance without warping of the substrate and without peeling between the organic protective coating layer and the adhesive layer even when stored under conditions of high temperature / high humidity or changes in temperature / humidity. Especially.
III 発明の開示 このような目的は、以下の本発明によって達成され
る。III DISCLOSURE OF THE INVENTION Such an object is achieved by the present invention described below.
すなわち本発明は、一対の基板を有し、少なくとも一
方の基板上に基板の内周部および外周部を除いて記録層
を有し、この記録層上に有機保護コート層を有し、これ
ら一対の基板が、記録層が内側になるように接着剤層を
介して一体化されている光記録媒体において、 有機保護コート層が、放射線硬化型化合物および光重
合開始剤を含有する塗膜を放射線硬化したものであり、 接着剤層が、アクリルまたはメタクリル基を有する化
合物を含有する接着剤の塗膜を放射線硬化および嫌気性
硬化したものであって、 有機保護コート層の硬度が接着剤層の硬度よりも大き
く、 光重合開始剤が下記一般式(I)で表わされる化合物を
含有することを特徴とする光記録媒体である。That is, the present invention has a pair of substrates, has a recording layer on at least one of the substrates except the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the substrate, and has an organic protective coating layer on the recording layer. In an optical recording medium in which the substrate is integrated with an adhesive layer so that the recording layer is on the inside, the organic protective coating layer is coated with a radiation-curable compound and a photopolymerization initiator. It is a cured product, and the adhesive layer is a film obtained by radiation-curing and anaerobically curing a coating film of an adhesive containing a compound having an acrylic or methacrylic group, and the hardness of the organic protective coating layer is the same as that of the adhesive layer. An optical recording medium having a hardness higher than that of the photopolymerization initiator and containing a compound represented by the following general formula (I).
一般式(I) {上記一般式(I)においてRはアルキル基を表わし、
Lは、アルキレン基を表わし、Yは複素環基を表わ
す。} IV 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成を、詳細に説明する。General formula (I) {In the above general formula (I), R represents an alkyl group,
L represents an alkylene group and Y represents a heterocyclic group. } IV Specific Structure of the Invention Hereinafter, the specific structure of the present invention will be described in detail.
本発明の光記録媒体は、一対の基板を有し、少なくと
も一方の基板上に基板の内周部および外周部を除いて記
録層を有し、この記録層上に有機保護コート層を有し、
これら一対の基板が、記録層が内側になるように接着剤
層を介して一体化されて構成される。The optical recording medium of the present invention has a pair of substrates, has a recording layer on at least one of the substrates except the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the substrate, and has an organic protective coating layer on the recording layer. ,
The pair of substrates are integrally formed with the recording layer on the inner side through an adhesive layer.
有機保護コート層は、放射線硬化型化合物を含有する
塗膜を放射線硬化したものであり、接着剤層はアクリル
またはメタクリル基を有する化合物を含有する接着剤の
塗膜を、放射線硬化および嫌気性硬化したものである。The organic protective coating layer is a radiation-cured coating containing a radiation-curable compound, and the adhesive layer is a radiation-cured and anaerobic-cured coating of an adhesive containing a compound having an acrylic or methacrylic group. It was done.
そして、有機保護コート層の硬度が接着剤層の硬度よ
りも大きくなるように構成される。The hardness of the organic protective coat layer is higher than the hardness of the adhesive layer.
このように構成することにより、高温・高湿あるいは
温湿度変化条件下の保存においても、有機保護コート層
と接着剤層との剥離が生じない。With this structure, the organic protective coat layer and the adhesive layer are not separated even when stored under high temperature / high humidity or temperature / humidity change conditions.
このような有機保護コート層の硬度は、25℃における
鉛筆硬度(JIS K−5400)で、H〜3H程度が好ましい。
Hより軟らかいと耐久性が不十分であり、3Hより硬くな
ると塗膜がもろくなり、膜形成能が低下する他、基板お
よび記録層等のスパッタ膜との接着力が低下する。The hardness of such an organic protective coating layer is preferably about H to 3H in pencil hardness (JIS K-5400) at 25 ° C.
When it is softer than H, the durability is insufficient, and when it is harder than 3H, the coating film becomes brittle and the film forming ability is deteriorated, and also the adhesive force to the sputtered film such as the substrate and the recording layer is deteriorated.
また、接着剤層の硬度は、鉛筆硬度で2B〜H程度が好
ましい。2Bより軟らかいと耐久性が不十分であり、Hよ
り硬くなると基板の反り等のディスクの歪の緩和力が低
下する。The hardness of the adhesive layer is preferably about 2B to H in terms of pencil hardness. If it is softer than 2B, the durability is insufficient, and if it is harder than H, the ability to relax the distortion of the disk such as the warp of the substrate decreases.
有機保護コート層および接着剤層の硬度は、このよう
な範囲内で、上記のような関係とされる。The hardnesses of the organic protective coat layer and the adhesive layer are in the above-described relationship within such a range.
なお、有機保護コート層および接着剤層を例えばスピ
ンコートにより塗設した場合、これらは内周部および外
周部で膜厚差をもつことがあり、この膜厚差により硬度
のちがいが生じることもある。このような場合にも、本
発明では両層とも全領域において上記の硬度をもつこと
が必要である。When the organic protective coating layer and the adhesive layer are applied by, for example, spin coating, they may have a film thickness difference between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion, and this difference in film thickness may cause difference in hardness. is there. Even in such a case, the present invention requires that both layers have the above hardness in the entire region.
このような有機保護コート層形成に用いる放射線硬化
型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含まれる
ことが好ましい。The radiation-curable compound used for forming such an organic protective coat layer preferably contains an oligoester acrylate.
オリゴエステルアクリレートは、アクリレート基また
はメタクリレート基を複数有するオリゴエステル化合物
である。そして好ましいオリゴエステルアクリレートと
しては、分子量1000〜10000、好ましくは2000〜7000で
あって、重合度2〜10、好ましくは、3〜5のものが挙
げられる。また、これらのうちアクリレート基またはメ
タクリレート基を2〜6個、好ましくは3〜6個有する
多官能オリゴエステルアクリレートが好ましい。The oligoester acrylate is an oligoester compound having a plurality of acrylate groups or methacrylate groups. The preferred oligoester acrylates include those having a molecular weight of 1,000 to 10,000, preferably 2,000 to 7,000, and a degree of polymerization of 2 to 10, preferably 3 to 5. Further, among these, polyfunctional oligoester acrylates having 2 to 6, and preferably 3 to 6 acrylate groups or methacrylate groups are preferable.
多官能オリゴエステルアクリレートとしてはアロニッ
クスM−7100、M−5400、M−5500、M−5700、M−62
50、M−6500、M−8030、M−8060、M−8100等(東亜
合成化学社製)とし市販されているものを用いることが
でき、これらは下記式(A)、(B)で示されるもので
ある。As a polyfunctional oligoester acrylate, Aronix M-7100, M-5400, M-5500, M-5700, M-62
Commercially available products such as 50, M-6500, M-8030, M-8060, M-8100 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) can be used, and these are represented by the following formulas (A) and (B). It is what is done.
(B) A−M−Nn−M−A A:アクリレート基またはメタクリレート基、 M:2価アルコール(例えば、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、1,6−ヘキサングリコール、ビスフ
ェノールA等)残基、 N:2塩基酸(例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ア
ジピン酸、コハク酸等)残基、 n:1〜10、好ましくは2〜5 これらのうちでは(A)で示されるものが好ましい。 (B) A-M-N n -M-A A: acrylate or methacrylate groups, M: 2 dihydric alcohols (such as ethylene glycol, diethylene glycol, 1,6-hexane glycol, bisphenol A, etc.) residues, N: Dibasic acid (eg, terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, succinic acid, etc.) residue, n: 1 to 10, preferably 2 to 5 Of these, those represented by (A) are preferred.
このようなオリゴエステルアクリレートは単独で使用
してもよい。Such oligoester acrylate may be used alone.
また、他の放射線硬化型化合物を併用してもよい。そ
のような場合、オリゴエステルアクリレートは、放射線
硬化型化合物中20wt%以上存在することが好ましい。Also, other radiation-curable compounds may be used in combination. In such a case, the oligoester acrylate is preferably present in the radiation curable compound in an amount of 20 wt% or more.
上記のオリゴエステルアクリレートには、他の放射線
硬化型化合物を併用することができ、このようなものと
しては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結
合等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を分子
中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポ
リマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に
3官能以上であることが好ましい。The above-mentioned oligoester acrylate may be used in combination with other radiation-curable compounds, such as acrylic acid or methacrylic acid having an unsaturated double bond which is sensitive to ionization energy and exhibits radical polymerizability. Radical crosslinkable or polymerizable groups such as acids or acrylic double bonds such as ester compounds thereof, allylic double bonds such as diallyl phthalate, unsaturated double bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives, etc. Examples thereof include monomers, oligomers and polymers containing or introduced in the molecule. It is preferable that these are polyfunctional, especially trifunctional or more.
放射線硬化型モノマーとしては、分子量2000未満の化
合物が、オリゴマーとしては分子量2000〜10000のもの
が用いられる。A compound having a molecular weight of less than 2000 is used as the radiation-curable monomer, and a compound having a molecular weight of 2000 to 10,000 is used as the oligomer.
これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレング
リコールジアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールメタクリレート、1,6−ヘキサングリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサングリコールジメ
タクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとし
ては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(メタ
クリレート)、ペンタエリスリトールアクリレート(メ
タクリレート)、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート(メタクリレート)、トリメチロールプロパンジア
クリレート(メタクリレート)、ウレタンエラストマー
(ニッポラン4040)のアクリル変性体、あるいはこれら
のものにCOOH等の官能基が導入されたもの、フェノール
エチレンオキシド付加物のアクリレート(メタクリレー
ト)、下記一般式で示されるペンタエリスリトール縮合
環にアクリル基(メタクリル基)またはε−カプロラク
トン−アクリル基のついた化合物、 1)(CH2=CHCOOCH2)3-CCH2OH (特殊アクリレートA) 2)(CH2=CHCOOCH2)3-CCH2OH3 (特殊アクリレートB) 3)〔CH2=CHOC(OC3H6)n-OCH2〕3-CCH2CH3 (特殊アクリレートC) 式中、m=1、a=2、b=4の化合物(以下、特殊
ペンタエリスリトール縮合物Aという)、 m=1、a=3、b=3の化合物(以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Bという)、 m=1、a=6、b=0の化合物(以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Cという)、 m=2、a=6、b=0の化合物(以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Dという)、 および下記一般式で示される特殊アクリレート類等が
挙げられる。These include styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol methacrylate, 1,6-hexane glycol diacrylate, 1,6-hexane glycol dimethacrylate, etc., but particularly preferred ones Examples include pentaerythritol tetraacrylate (methacrylate), pentaerythritol acrylate (methacrylate), trimethylolpropane triacrylate (methacrylate), trimethylolpropane diacrylate (methacrylate), acrylic modified urethane elastomer (Nipporan 4040), or these Products with functional groups such as COOH introduced, phenol ethylene oxide adducts Acrylate (methacrylate), pentaerythritol fused ring acrylic group (methacryl group) represented by the following general formula or ε- caprolactone - compound with a acryl group, 1) (CH 2 = CHCOOCH 2 ) 3 -CCH 2 OH (special acrylate A) 2) (CH 2 = CHCOOCH 2 ) 3 -CCH 2 OH 3 (special acrylate B) 3) [CH 2 = CHOC (OC 3 H 6 ) n -OCH 2 ] 3- CCH 2 CH 3 (special acrylate C) In the formula, a compound of m = 1, a = 2, b = 4 (hereinafter referred to as a special pentaerythritol condensate A), a compound of m = 1, a = 3, b = 3 (hereinafter referred to as a special pentaerythritol condensate B) , M = 1, a = 6, b = 0 compound (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate C), m = 2, a = 6, b = 0 compound (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate D) ,) And special acrylates represented by the following general formula.
8)CH2=CHCOO−(CH2CH2O)4-COCH=CH2(特殊アクリレ
ートH) また、放射線硬化型オリゴマーとしては、ウレタンエ
ラストマーのアクリル変性体、あるいはこれらのものに
COOH等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。 8) CH 2 = CHCOO- (CH 2 CH 2 O) 4 -COCH = CH 2 ( special acrylate H) Further, as the radiation-curable oligomer, acrylic modified urethane elastomer, or these
Examples thereof include those into which a functional group such as COOH has been introduced.
また、上記の化合物に加えて、あるいはこれにかえて
熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによって得られ
る放射線硬化型化合物を用いてもよい。Further, in addition to or instead of the above compounds, a radiation curable compound obtained by subjecting a thermoplastic resin to radiation-sensitive modification may be used.
このような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジ
カル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、
メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなア
リル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不
飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する
基を熱可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂
である。Specific examples of such a radiation curable resin include acrylic acid having an unsaturated double bond exhibiting radical polymerizability,
Groups that crosslink or polymerize upon irradiation, such as acrylic double bonds such as methacrylic acid or their ester compounds, allyl double bonds such as diallyl phthalate, and unsaturated bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives. Is contained or introduced in the molecule of the thermoplastic resin.
放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例とし
ては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。Examples of thermoplastic resins that can be modified into radiation-curable resins include vinyl chloride copolymers, saturated polyester resins, polyvinyl alcohol resins, epoxy resins, phenoxy resins, fibrin derivatives and the like.
その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂と
しては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステ
ル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PVP
オレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有
効である。Other resins that can be used for radiation-sensitive modification include polyfunctional polyester resins, polyetherester resins, polyvinylpyrrolidone resins and derivatives (PVP
Olefin copolymers), polyamide resins, polyimide resins, phenol resins, spiro acetal resins, acrylic resins containing at least one hydroxyl group-containing acrylic ester and methacrylic ester as a polymerization component are also effective.
このような放射線硬化型化合物の有機保護コート層の
膜厚は0.1〜30μm、より好ましくは1〜10μmであ
る。The film thickness of the organic protective coating layer of such a radiation-curable compound is 0.1 to 30 μm, more preferably 1 to 10 μm.
この膜厚が0.1μm未満になると、一様な膜を形成で
きず、湿度が高い雰囲気中での防湿硬化が十分でなく、
記録層の耐久性が向上しない。また、30μmをこえる
と、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反り
や保護膜中のクラックが生じ、実用に耐えない。If this film thickness is less than 0.1 μm, a uniform film cannot be formed, and moisture-proof curing in an atmosphere with high humidity is insufficient,
The durability of the recording layer is not improved. If it exceeds 30 μm, warpage of the recording medium or cracks in the protective film may occur due to shrinkage during curing of the resin film, which is not practical.
このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビ
ア塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々の公知
の方法を組み合わせて設層すればよい。この時の塗膜の
設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的とする塗膜
厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。Such a coating film may be usually formed by combining various known methods such as spinner coating, gravure coating, spray coating and dipping. The layer forming conditions of the coating film at this time may be appropriately determined in consideration of the viscosity of the mixture of the coating film composition, the target coating film thickness, and the like.
本発明において塗膜に照射する放射線としては、紫外
線が好ましい。In the present invention, the radiation applied to the coating film is preferably ultraviolet light.
紫外線を用いる場合には、前述したような放射線硬化
型化合物の中には、光重合増感剤が加えられる。When ultraviolet rays are used, a photopolymerization sensitizer is added to the above radiation-curable compounds.
本発明に用いる光重合開始剤(後述のように「光重合
増感剤」ともいう。)は、下記一般式(I)で表わされ
る化合物である。The photopolymerization initiator used in the present invention (also referred to as "photopolymerization sensitizer" as described later) is a compound represented by the following general formula (I).
このものを多官能オリゴエステルアクリレートと用い
ることにより前記の硬度が容易に得られ、膜物性も良好
となる。そして接着剤層との剥離も少なくなり、耐久
性、耐湿性も良好となる。By using this with a polyfunctional oligoester acrylate, the hardness described above can be easily obtained and the physical properties of the film can be improved. Further, peeling from the adhesive layer is reduced, and durability and moisture resistance are improved.
一般式(I) 上記一般式(I)において、Rは炭素数1〜4の置換
もしくは非置換のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等を表わし、なかでもメチル
基、エチル基等が好ましい。General formula (I) In the above general formula (I), R represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group or the like, and among them, a methyl group, an ethyl group or the like is preferable. .
Lは炭素数1〜3の置換もしくは非置換のアルキレン
基、例えば−CH2−、 等を表わし、なかでも が好ましい。L is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, for example -CH 2 -, Etc., among other things Is preferred.
Yは、複素環基、例えばモルホリノ基、2−モルホリ
ニル基、、ピペリジノ基、4−ピペリジニル基、2−ピ
リジル基、2−キノリル基、1−ピロリジニル基、1−
ピロリル基、2−チエニル基、2−フリル基等を表わ
し、なかでもモルホリノ基が好ましい。Y is a heterocyclic group, for example, a morpholino group, a 2-morpholinyl group, a piperidino group, a 4-piperidinyl group, a 2-pyridyl group, a 2-quinolyl group, a 1-pyrrolidinyl group, 1-
It represents a pyrrolyl group, a 2-thienyl group, a 2-furyl group or the like, and among them, a morpholino group is preferable.
RS−は、一般式(I)中のベンゼン環の置換可能ない
ずれの位置でベンゼン環と結合してもよいが、 のp位であることが好ましい。RS- may be bonded to the benzene ring at any substitutable position of the benzene ring in the general formula (I), Is preferably the p-position.
本発明において、一般式(I)で表わされる化合物の
うちで、最も好ましいものは以下のものである。In the present invention, the most preferable compounds among the compounds represented by the general formula (I) are as follows.
この化合物Aは、IRGACURE907(日本チバガイギー社
製)として市販されているものである。 This compound A is commercially available as IRGACURE907 (manufactured by Japan Ciba Geigy).
一般式(I)で表わされる化合物は、放射線硬化の際
光重合開始剤ないし光重合増感剤として作用するもので
ある。The compound represented by formula (I) acts as a photopolymerization initiator or a photopolymerization sensitizer during radiation curing.
このような化合物の有機保護コート層における含有量
は、0.1〜20wt%、好ましくは1〜10wt%とするのがよ
い。The content of such a compound in the organic protective coating layer is 0.1 to 20 wt%, preferably 1 to 10 wt%.
0.1wt%未満では光重合開始剤ないし光重合増感剤と
しての作用が十分ではないからであり、20wt%をこえる
と残存する光重合開始剤ないし光重合増感剤が記録層に
浸透し、記録層に悪影響を与えるからである。This is because if it is less than 0.1 wt%, the action as a photopolymerization initiator or photosensitizer is insufficient, and if it exceeds 20 wt%, the remaining photopolymerization initiator or photopolymerization sensitizer penetrates into the recording layer, This is because it adversely affects the recording layer.
また、光重合開始剤としては、必要に応じ前記の一般
式(I)で表わされる化合物の他に、次のような公知の
ものが併用できる。Further, as the photopolymerization initiator, the following known compounds can be used in combination with the compound represented by the general formula (I), if necessary.
例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシ
ベンゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセト
フェノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケ
トン類、アセトラキノン、フェナントラキノン等のキノ
ン類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモ
ノスルフィド等のスルフィド類等を挙げることができ
る。For example, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, α-methylbenzoin, α-chlordeoxybenzoin and other benzoin compounds, benzophenone, acetophenone, bisdialkylaminobenzophenone and other ketones, acetolaquinone, phenanthraquinone and other quinones, benzyl disulfide. And sulfides such as tetramethylthiuram monosulfide.
そして、このような光重合増感剤と放射線硬化型化合
物を含有する塗膜を紫外線によって硬化させるには、公
知の種々の方法に従えばよい。Then, in order to cure the coating film containing such a photopolymerization sensitizer and the radiation-curable compound by ultraviolet rays, various known methods may be used.
たとえば、キセノン放電管、水素放電管などの紫外線
電球等を用いればよい。For example, a UV bulb such as a xenon discharge tube or a hydrogen discharge tube may be used.
また、場合によっては電子線を用いることもできる。 An electron beam can also be used depending on the case.
次に接着剤層について説明する。 Next, the adhesive layer will be described.
本発明の接着剤層は、前述のように、アクリルまたは
メタクリル基を有する化合物を含有する接着剤の塗膜を
放射線硬化および嫌気性硬化したものである。The adhesive layer of the present invention is, as described above, a radiation-cured and anaerobically-cured coating of an adhesive containing a compound having an acrylic or methacrylic group.
(メタ)アクリル基を有する化合物としては、オリゴ
エステルアクリレートが好ましい。The compound having a (meth) acrylic group is preferably oligoester acrylate.
オリゴエステルアクリレートとしては、有機保護コー
ト層の説明にて前述したものと同様なものが好ましい。As the oligoester acrylate, the same ones as described above in the explanation of the organic protective coat layer are preferable.
オリゴエステルアクリレートは、単独で用いてもよ
く、(メタ)アクリル基を有する他の放射線硬化型化合
物あるいはアクリル基を有さない放射線硬化型化合物と
併用してもよい。他の放射線硬化型化合物と併用する場
合、オリゴエステルアクリレートは、放射線硬化型化合
物中50wt%以上、好ましくは70wt%以上存在することが
好ましい。The oligoester acrylate may be used alone or in combination with another radiation-curable compound having a (meth) acrylic group or a radiation-curable compound having no acrylic group. When used in combination with another radiation-curable compound, the oligoester acrylate is preferably present in the radiation-curable compound in an amount of 50 wt% or more, preferably 70 wt% or more.
他の放射線硬化型化合物としては、有機保護コート層
の説明にて前述したものと同様なものを用いることがで
きる。As the other radiation-curable compound, the same compounds as those described above in the description of the organic protective coat layer can be used.
ただし、前述のモノマーは未硬化のまま残存しやす
く、これが記録層等に悪影響を及ぼす可能性があるの
で、添加量をできるだけ少なくすることが好ましい。However, the above-mentioned monomer is likely to remain uncured, and this may adversely affect the recording layer and the like. Therefore, it is preferable that the addition amount be as small as possible.
このような放射線硬化型化合物を硬化させるために用
いる放射線としては、紫外線、電子線等が挙げられる
が、紫外線を用いることが好ましい。Examples of the radiation used for curing such a radiation-curable compound include ultraviolet rays and electron beams, but it is preferable to use ultraviolet rays.
紫外線源としては、例えばキセノン放電管、水素放電
管等の紫外線電球等を用いればよい。As the ultraviolet light source, for example, an ultraviolet light bulb such as a xenon discharge tube or a hydrogen discharge tube may be used.
紫外線を用いる場合、接着剤には、通常、光重合増感
剤が加えられる。光重合増感剤としては、有機保護コー
ト層の説明にて前述したような化合物が好ましい。When ultraviolet rays are used, a photopolymerization sensitizer is usually added to the adhesive. As the photopolymerization sensitizer, the compounds described above in the explanation of the organic protective coat layer are preferable.
接着剤には、上記の放射線硬化型化合物および光重合
増感剤の他、酸化剤を含有する成分と還元剤を含有する
成分とが含まれることが好ましく、これらの反応により
開始種が発生して上記の(メタ)アクリル基を有する化
合物が嫌気性硬化するように構成することが好ましい。The adhesive preferably contains a component containing an oxidizing agent and a component containing a reducing agent in addition to the above-mentioned radiation-curable compound and photopolymerization sensitizer, and these reactions generate an initiating species. It is preferable that the compound having the (meth) acrylic group is anaerobically cured.
本発明に用いる接着剤は、通常、いわゆる2液型の嫌
気性硬化型接着剤、すなわち酸化剤を含有する成分と還
元剤を含有する成分とが分離されており、これらのうち
少なくとも一方に(メタ)アクリル基を有する化合物が
含有され、接着剤塗布時にこれら2成分を混合して用い
るものが好ましい。The adhesive used in the present invention is usually a so-called two-component type anaerobic curable adhesive, that is, a component containing an oxidizing agent and a component containing a reducing agent are separated, and at least one of these ( A compound containing a (meth) acryl group is preferably used, and these two components are mixed and used when the adhesive is applied.
用いる酸化剤としては、ジアシル過酸化物やジアルキ
ル過酸化物などが有用であり、これらの具体例としては
例えば、過酸化ベンゾイルなどが挙げられる。Diacyl peroxide, dialkyl peroxide and the like are useful as the oxidizing agent to be used, and specific examples thereof include benzoyl peroxide and the like.
また、還元剤としては、3級アミンやメルカプタン化
合物などが有用であり、その具体例としては例えば、
N、N−ジメチルアニリンなどが挙げられる。Further, as the reducing agent, a tertiary amine or a mercaptan compound is useful, and specific examples thereof include, for example,
Examples thereof include N, N-dimethylaniline.
これら酸化剤および還元剤と上記の放射線硬化型化合
物との量比は、放射線硬化型化合物に対し酸化剤および
還元剤は0.1〜10mol%程度が好ましい。The amount ratio of the oxidizing agent and the reducing agent to the radiation-curable compound is preferably about 0.1 to 10 mol% of the oxidizing agent and the reducing agent with respect to the radiation-curable compound.
この値が0.1mol%未満であると酸化還元反応がおこり
にくく、開始種が発生しにくくなり、10mol%を越える
と未反応試薬が記録層に悪影響を与えたり、ポットライ
フが短くなる。If this value is less than 0.1 mol%, the redox reaction is less likely to occur and the initiation species are less likely to occur, and if it exceeds 10 mol%, the unreacted reagent may adversely affect the recording layer or the pot life may be shortened.
このような接着剤は、有機保護コート層の説明にて前
述したような種々の公知の方法で設層すればよい。Such an adhesive may be formed by various known methods as described above in the description of the organic protective coat layer.
また、このような接着剤を放射線硬化および嫌気性硬
化させた接着剤層の厚さは、5〜50μmであることが好
ましい。厚さが5μm未満であると接着性が悪くなり、
50μmを越えると耐久性が低下する。The thickness of the adhesive layer obtained by radiation-curing and anaerobically curing such an adhesive is preferably 5 to 50 μm. If the thickness is less than 5 μm, the adhesiveness will deteriorate,
If it exceeds 50 μm, the durability will decrease.
本発明の光記録媒体に用いられる基板は、樹脂や各種
ガラス等によって形成される。The substrate used in the optical recording medium of the present invention is formed of resin, various kinds of glass, or the like.
好ましい樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、エポキシ樹脂、ポリメチルペンテン樹脂等が
あげられる。Preferred resins include acrylic resins, polycarbonate resins, epoxy resins, polymethylpentene resins and the like.
なお、記録は基板をとおして行うので、書き込み光な
いし読み出し光に対する透過率は86%以上とする。Since recording is performed through the substrate, the transmittance for writing light or reading light is 86% or more.
また、基板は、通常ディスク状とし、1.2〜1.5mm程度
の厚さとする。The substrate is usually disk-shaped and has a thickness of about 1.2 to 1.5 mm.
このようなディスク状基板の記録層形成面には、トラ
ッキング用の溝ないしピットが形成されてもよい。Grooves or pits for tracking may be formed on the recording layer forming surface of such a disc-shaped substrate.
溝の付加は、γ/8n程度、特にγ/6n〜γ/12n(ここ
に、nは基板の屈折率である)とされる。また、溝の巾
は、トラック巾程度とされる。The groove is added to about γ / 8n, particularly γ / 6n to γ / 12n (where n is the refractive index of the substrate). The width of the groove is about the track width.
そして、通常、この溝の凹部に位置する記録層を記録
トラック部として、書き込み光および読み出し光を基板
裏面側から照射することが好ましい。Then, normally, it is preferable to irradiate the writing light and the reading light from the back surface side of the substrate with the recording layer located in the concave portion of the groove as a recording track portion.
このように構成することにより、書き込み感度と読み
出しのC/N比が向上し、しかもトラッキングの制御信号
は大きくなる。With this configuration, the write sensitivity and the read C / N ratio are improved, and the tracking control signal is increased.
又、その他の基板の形状とし、テープ、ドラム等とし
てもよい。Further, the substrate may have another shape, such as a tape or a drum.
本発明に用いる記録層としては磁性薄膜層が挙げられ
る。Examples of the recording layer used in the present invention include a magnetic thin film layer.
磁性薄膜層は、変調された熱ビームあるいは変調され
た磁界により、情報が磁気的に記録されるものであり、
記録情報は磁気−光変換して再生するものである。The magnetic thin film layer is one in which information is magnetically recorded by a modulated heat beam or a modulated magnetic field,
The recorded information is magnetic-optically converted and reproduced.
このような磁性薄膜層の材質としては、Gd、Tb等の希
土類金属とFe、Co等の遷移金属の合金をスパッタ、蒸着
法等により、非晶質膜として形成したものであり、しか
もFeとCoを必須含有成分とするものである。As a material of such a magnetic thin film layer, an alloy of a rare earth metal such as Gd and Tb and a transition metal such as Fe and Co is formed as an amorphous film by sputtering, vapor deposition, etc. Co is an essential component.
この場合、FeとCoの総含有量は、65〜85at%であるこ
とが好ましい。In this case, the total content of Fe and Co is preferably 65 to 85 at%.
そして、残部は実質的に希土類金属、特にGdおよび/
またはTbである。And the balance is substantially rare earth metals, especially Gd and / or
Or Tb.
そして、その好適例としては、TbFeCo、GdFeCo、GdTb
FeCo等がある。And, as a preferable example thereof, TbFeCo, GdFeCo, GdTb
FeCo etc.
なお、これら磁性薄膜層中には10at%以下の範囲でC
r、Al、Ti、Pt、Si、Mo、Mn、V、Ni、Cu、Zn、Ge、Au
等が含有されてもよい。In these magnetic thin film layers, C is contained in the range of 10 at% or less.
r, Al, Ti, Pt, Si, Mo, Mn, V, Ni, Cu, Zn, Ge, Au
Etc. may be contained.
また、希土類元素として10at%以下の範囲でSc、Y、
La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu
等を含有してもよい。In addition, as a rare earth element, Sc, Y, and
La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu
Etc. may be contained.
このような磁性薄膜層の膜厚は、0.01〜1μmが好ま
しい。The thickness of such a magnetic thin film layer is preferably 0.01 to 1 μm.
この他記録層の材質としては、いわゆる相転移タイプ
のものとして、例えば、 Te−Se、Te−Se−Sn、 Te−Ge、Te−In、Te−Sn、 Te−Ge−Sb−S、 Te−Ge−As−Si、Te−Si、 Te−Ge−Si−Sb、 Te−Ge−Bi、 Te−Ge−In−Ga、 Te−Si−Bi−Tl、 Te−Ge−Bi−In−S、 Te−As−Ge−Sb、 Te−Ge−Se−S、 Te−Ge−Se、 Te−As−Ge−Ga、 Te−Ge−S−In、 Se−Ge−Tl、Se−Te−As、 Se−Ge−Tl−Sb、 Se−Ge−Bi、Se−S(以上、特公昭54−41902号、特許
第1004835号など) TeOx(特開昭58−54338号、特許第974257号記載のTe
酸化物中に分散されたTe)、 TeOx+PbOx(特許第974258号)、 TeOx+VOx(特許第974257号)、その他、Te−Tl、Te
−Tl−Si、Se−Zn−Sb、Te−Se−Ga、TeNx等のTe、Seを
主体とするカルコゲン系 Ge−Sn、Si−Sn等の非晶質−結晶質転移を生じる合金 Ag−Zn、Ag−Al−Cu、Cu−Al等の結晶構造変化によっ
て色変化を生じる合金、In−Sb等の結晶粒径の変化を生
じる合金などがある。Other materials for the recording layer include so-called phase transition type materials such as Te-Se, Te-Se-Sn, Te-Ge, Te-In, Te-Sn, Te-Ge-Sb-S and Te. -Ge-As-Si, Te-Si, Te-Ge-Si-Sb, Te-Ge-Bi, Te-Ge-In-Ga, Te-Si-Bi-Tl, Te-Ge-Bi-In-S , Te-As-Ge-Sb, Te-Ge-Se-S, Te-Ge-Se, Te-As-Ge-Ga, Te-Ge-S-In, Se-Ge-Tl, Se-Te-As , Se-Ge-Tl-Sb, Se-Ge-Bi, Se-S (above, Japanese Patent Publication No. 54-41902, Japanese Patent No. 1004835, etc.) TeO x (Japanese Patent Laid-Open No. 58-54338, Japanese Patent No. 974257) Te
Te dispersed in oxide), TeO x + PbO x (patent No. 974258), TeO x + VO x (patent No. 974257), others, Te-Tl, Te
-Tl-Si, Se-Zn-Sb, Te-Se-Ga, TeN x and other Te, Se-based chalcogen-based Ge-Sn, Si-Sn and other amorphous-crystalline transition alloy Ag There are alloys such as —Zn, Ag—Al—Cu, and Cu—Al that change color due to a change in crystal structure, and alloys such as In—Sb that cause a change in crystal grain size.
本発明において、このような記録層および必要に応じ
設けられる保護層、中間層等は、基板の内周部および外
周部を除いて設層される。このように設層することによ
り、基板同士を接着する際、前述の接着剤層の放射線硬
化が容易かつ確実に行えるものである。In the present invention, such a recording layer and a protective layer, an intermediate layer, etc., which are provided if necessary, are provided excluding the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the substrate. By providing the layers in this way, when the substrates are adhered to each other, the above-mentioned adhesive layer can be easily and reliably cured by radiation.
本発明においては基板と記録層との間に中間層を設け
てもよい。In the present invention, an intermediate layer may be provided between the substrate and the recording layer.
中間層の材質としては、酸素、炭素、窒素、硫黄等を
含む化合物、例えば、SiO2、SiO、AlN、Al2O3、Si3N4、
ZnS、BN、TiO2、TiN等ないしこれらの混合物などの各種
誘導体物質;ガラス、例えばホウケイ酸ガラス、バリウ
ムホウケイ酸ガラス、アルミニウムホウケイ酸ガラス等
あるいはこのものにSi3N4等を含むものなどを用いれば
よい。なかでも、SiO240〜80wt%のホウケイ酸ガラス、
バリウムホウケイ酸ガラス、アルミニウムホウケイ酸ガ
ラスや、これらのSiO2の一部をSi3N4等で置換したもの
が好ましい。The material of the intermediate layer is a compound containing oxygen, carbon, nitrogen, sulfur, etc., for example, SiO 2 , SiO, AlN, Al 2 O 3 , Si 3 N 4 ,
Various derivative substances such as ZnS, BN, TiO 2 , TiN, etc. or mixtures thereof; glass, such as borosilicate glass, barium borosilicate glass, aluminum borosilicate glass, etc., or those containing Si 3 N 4 etc. You can use it. Above all, borosilicate glass with SiO 2 40-80 wt%,
Barium borosilicate glass, aluminum borosilicate glass, and those obtained by substituting a part of SiO 2 with Si 3 N 4 or the like are preferable.
これらのうちで特に好ましいものとしては、下記のも
のが挙げられる。Among these, the following are particularly preferable.
(1)酸化ケイ素40〜60wt%と、 BaO,CaO,SrO,MgO,ZnO,PbO等の2価金属酸化物50wt%以
下および/またはアルカリ金属酸化物10wt%以下と、酸
化ホウ素および/または酸化アルミニウムとを含有する
もの。(1) 40-60 wt% of silicon oxide, 50 wt% or less of divalent metal oxide such as BaO, CaO, SrO, MgO, ZnO, PbO and / or 10 wt% of alkali metal oxide, boron oxide and / or oxidation Those containing aluminum.
(2)Siと他の金属または半金属元素としてBa,Ca,Sr,M
g,Zn,Pb等の1種以上、Al,Bの1種以上およびアルカリ
金属元素の1種以上のうちの少なくとも1つとを含み、
全金属ないし半金属中のSi原子比が0.3〜0.9であり、さ
らにOおよびNを含み、O/(O+N)が0.4〜0.8である
もの。(2) Ba, Ca, Sr, M as Si and other metals or metalloid elements
at least one of g, Zn, Pb, etc., at least one of Al, B, and at least one of alkali metal elements,
The Si atomic ratio in all metals or semimetals is 0.3 to 0.9, O and N are further contained, and O / (O + N) is 0.4 to 0.8.
このような中間層は、500〜3000Å、好ましくは800〜
2500Åの厚さとするのがよい。Such an intermediate layer is 500 ~ 3000 Å, preferably 800 ~
A thickness of 2500Å is recommended.
500Å未満となると、耐候性が十分でないからであ
り、1500Åをこえると、厚すぎて媒体とした場合感度が
低下してしまうからである。This is because if it is less than 500 Å, the weather resistance is not sufficient, and if it exceeds 1500 Å, the sensitivity is lowered when the medium is too thick.
なお、これら中間層としては、上記のガラス層を中間
層下地として300〜1000Å程度に設層し、この上にSi
O2、SiO、Si3N4、AlN、Al2O3、ZnS等、あるいはこれら
の混合物などを誘電体物質を誘電体層として500〜1500
Å程度に設層したものが好ましい。As these intermediate layers, the above-mentioned glass layer is formed as an intermediate layer base on the order of 300 to 1000 Å, and a Si layer is formed on the glass layer.
O 2, SiO, Si 3 N 4, AlN, Al 2 O 3, ZnS , etc., or a mixture thereof dielectric material as the dielectric layer 500 to 1,500
It is preferable to have a layer of about Å.
この場合、誘電体層は800nmにおける屈折率1.8〜3.0
のものが好ましく、Siと希土類金属および/またはAlと
を含み、OおよびNを含むものが好適である。In this case, the dielectric layer has a refractive index of 1.8 to 3.0 at 800 nm.
Those containing Si and rare earth metals and / or Al, and those containing O and N are preferred.
このような中間層と同材質の層は、記録層と前記した
保護層との間に保護中間層として設層してもよい。厚さ
も同程度とすればよい。A layer made of the same material as the intermediate layer may be provided as a protective intermediate layer between the recording layer and the protective layer. The thickness may be about the same.
本発明の光記録媒体は、以上のような記録層、有機保
護コート層等を有する基板をさらに1セット用いて、両
記録層を内側にして対向させて、前記の接着剤層を用い
て貼り合せて、両基板の裏面側から書き込みを行なう、
いわゆる両面記録タイプとすることができる。The optical recording medium of the present invention is prepared by further using one set of substrates having the recording layer, the organic protective coating layer and the like as described above, facing each other with both recording layers facing inward, and pasted using the adhesive layer. Together, write from the back side of both boards,
A so-called double-sided recording type can be used.
また、記録層を一方の基板のみに設けたいわゆる片面
記録タイプの場合にも、本発明は適用できる。The present invention can also be applied to a so-called single-sided recording type in which the recording layer is provided on only one substrate.
記録層を設けない方の基板の樹脂材質は特別に透明性
等を要求されることはなく、種々の樹脂、例えば、ポリ
エチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリビニルアルコール、メタクリル樹脂、ポリア
ミド、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリア
セタール、ふっ素樹脂等の各種熱可塑性樹脂、フェノー
ル樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウ
レタン、アルキド樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、
ケイ素樹脂等の各種熱可塑性樹脂等が使用可能である。The resin material of the substrate on which the recording layer is not provided is not particularly required to have transparency, and various resins such as polyethylene, polyvinyl chloride, polystyrene, polypropylene, polyvinyl alcohol, methacrylic resin, polyamide, poly Vinylidene chloride, polycarbonate, polyacetal, various thermoplastic resins such as fluorine resin, phenol resin, urea resin, unsaturated polyester resin, polyurethane, alkyd resin, melamine resin, epoxy resin,
Various thermoplastic resins such as silicon resin can be used.
なお、ガラス、セラミック等の各種無機材質を用いて
もよい。Various inorganic materials such as glass and ceramics may be used.
このものの形状、寸法等は記録層を設けた基板のそれ
とほぼ同様とされる。The shape and dimensions of this product are almost the same as those of the substrate provided with the recording layer.
さらに、これらの基板の裏面(記録層を設けていない
側の面)には各種保護膜としてのハードコート層を設け
ることが好ましい。Further, it is preferable to provide a hard coat layer as various protective films on the back surface (the surface on the side where the recording layer is not provided) of these substrates.
ハードコート層の材質としては、前述した有機保護コ
ート層の材質と同様なものとしてよい。The material of the hard coat layer may be the same as the material of the organic protective coat layer described above.
V 発明の具体的作用効果 本発明の光記録媒体は、一対の基板を有し、少なくと
も一方の基板上に基板の内周部および外周部を除いて記
録層を有し、この記録層上に有機保護コート層を有し、
これら一対の基板が記録層が内側になるように接着剤層
を介して一体化されている。V. Specific Action and Effect of the Invention The optical recording medium of the present invention has a pair of substrates, and has a recording layer on at least one of the substrates excluding the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the substrate. It has an organic protective coat layer,
The pair of substrates are integrated with each other with an adhesive layer so that the recording layer faces inside.
そして、上記の接着剤層は、アクリルまたはメタクリ
ル基を有する接着剤の塗膜を放射線硬化および嫌気性硬
化させるものであるため、両基板を一体化するに際し
て、まず、紫外線等の放射線を照射して基板の内周部お
よび外周部同士を接着させ、次いで嫌気性硬化により残
りの部分を接着することができる。このため、接着時に
媒体に熱が加わることがなく、記録層や基板への悪影響
がない。また、接着後に基板のソリが生じることもな
い。さらに、接着が迅速で接着時に基板同士のズレが生
じることもなく、しかも、最終的に、基板の全面が強固
に接着される。Since the adhesive layer is used for radiation-curing and anaerobic-curing a coating film of an adhesive having an acrylic or methacrylic group, when the two substrates are integrated, first, radiation such as ultraviolet rays is applied. The inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the substrate can be adhered to each other, and then the remaining portions can be adhered by anaerobic curing. Therefore, heat is not applied to the medium at the time of adhesion, and the recording layer and the substrate are not adversely affected. Further, the warp of the substrate does not occur after the bonding. Furthermore, the bonding is quick and there is no gap between the substrates during bonding, and finally the entire surface of the substrate is firmly bonded.
また、上記の有機保護コート層が、放射線硬化型化合
物を含有する塗膜を放射線硬化させたものであり、この
有機保護コート層の硬度が上記の接着剤層の硬度よりも
大きくなるように構成しているため、高温・高湿あるい
は温湿度変化の条件下の保存においても有機保護コート
層と接着剤層との剥離や特性・外観の変化がなく、耐久
性および耐湿性に優れた光記録媒体が実現する。Further, the organic protective coat layer is a coating film containing a radiation-curable compound that is radiation-cured, and the hardness of the organic protective coat layer is higher than the hardness of the adhesive layer. Therefore, even when stored under conditions of high temperature / high humidity or changes in temperature / humidity, there is no peeling between the organic protective coating layer and the adhesive layer and changes in characteristics / appearance, and optical recording with excellent durability and humidity resistance The medium is realized.
VI 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに
詳細に説明する。VI Specific Examples of the Invention Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing specific examples of the invention.
[実施例1] 直径13cm、厚さ1.2mmのビスフェノールA系のポリカ
ーボネート樹脂(分子量15000)からなる基板上にガラ
ス(SiO2 48w%、Al2O3 15wt%、B2O3 14wt%,Na2O
3wt%,K2O 2wt%、BaO 5wt%,CaO 9wt%,MgO 4w
%)の中間層を高周波マグネトロンスパッタによって膜
厚900Åに設層した。Example 1 Glass (SiO 2 48w%, Al 2 O 3 15wt%, B 2 O 3 14wt%, Na on a substrate made of bisphenol A-based polycarbonate resin (molecular weight 15000) having a diameter of 13cm and a thickness of 1.2mm. 2 O
3wt%, K 2 O 2wt%, BaO 5wt%, CaO 9wt%, MgO 4w
%) Intermediate layer was formed to a film thickness of 900 Å by high frequency magnetron sputtering.
この中間層の上に21at%Tb、68at%Fe、7at%Co、4at
%Cr合金薄膜をスパッタリングによって、厚さ800Åに
設層し、磁性薄膜層とした。な、磁性薄膜層は、基板の
内周部および外周部を除いて設層した。また、ターゲッ
トは、FeターゲットにTb、Co、Crチップをのせたものを
用いた。21at% Tb, 68at% Fe, 7at% Co, 4at on this intermediate layer
A% Cr alloy thin film was sputtered to a thickness of 800Å to form a magnetic thin film layer. The magnetic thin film layer was formed except for the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the substrate. The target used was an Fe target on which Tb, Co, and Cr chips were placed.
この磁性薄膜層上にガラス(中間層の場合と同じ)の
保護中間層を膜厚1000Åにスパッタリングで設層し、こ
の保護中間層の上に下記の放射線硬化型化合物および光
重合増感剤を含む塗布組成物を有機保護コート層として
スピンナーコートで設層した。On this magnetic thin film layer, a protective interlayer of glass (same as the case of the intermediate layer) is formed by sputtering to a film thickness of 1000Å, and the following radiation-curable compound and photopolymerization sensitizer are placed on this protective intermediate layer. The coating composition containing the same was applied by spinner coating as an organic protective coating layer.
(塗布組成物) 多官能オリゴエステルアクリレート[オリゴエステル
アクリレート(3官能以上)30重量%、トリメチルプロ
パアクリレート70重量%、商品名アロニックスM−803
0;東亜合成社製] 100重量部 光重合増感剤(前記化合物A:商品名IRGACURE907;日本
チバガイギー社製) 5重量部 このような塗布組成物を設層後、120w/cmの紫外線を1
5sec照射した架橋硬化させ、硬化膜とした この時の膜厚は5μmであった。(Coating composition) Polyfunctional oligoester acrylate [Oligoester acrylate (trifunctional or more) 30% by weight, trimethylpropaacrylate 70% by weight, trade name Aronix M-803
0; manufactured by Toagosei Co., Ltd.] 100 parts by weight Photopolymerization sensitizer (the compound A: trade name IRGACURE907; manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd. Japan) 5 parts by weight After applying such a coating composition, 120 w / cm of ultraviolet light is applied to 1
The film was cured by cross-linking and irradiating for 5 seconds to form a cured film. The film thickness at this time was 5 μm.
この有機保護コート層上に、アクリル基を有する化合
物と光重合増感剤とを含有し、それに加え、一方は酸化
剤を、他方は還元剤を含有する下記の2種の接着剤を等
量混合した後スピンナーコートで塗布し、この上に上記
の基板と同材質、同サイズの保護板を貼りあわせた。そ
して、下記の条件にて、放射線硬化および嫌気性硬化を
行なった。On this organic protective coat layer, a compound having an acrylic group and a photopolymerization sensitizer are contained, and in addition thereto, an equal amount of the following two kinds of adhesives containing an oxidizing agent and a reducing agent. After mixing, they were applied by spinner coating, and a protective plate of the same material and size as the above-mentioned substrate was stuck on this. Then, radiation curing and anaerobic curing were performed under the following conditions.
接着剤(オリゴエステルアクリレート系) アロンタイトLA−7 アロンタイトLB−8 (いずれも東亜合成製) 硬化条件 放射線硬化:120W/cmの紫外線を15sec照射 嫌気性硬化:室温にて10分間放置 このようにして形成された接着剤層の厚さは、30μm
であった。Adhesive (oligoester acrylate type) Arontite LA-7 Arontite LB-8 (both manufactured by Toa Gosei) Curing conditions Radiation curing: 120 W / cm UV irradiation for 15 seconds Anaerobic curing: leaving at room temperature for 10 minutes The thickness of the formed adhesive layer is 30 μm
Met.
以上のようにして片面記録型の光記録媒体を得、これ
にサンプルNo.1とした。A single-sided recording type optical recording medium was obtained as described above, and was designated as sample No. 1.
サンプルNo.1の有機保護コート層に用いた多官能オリ
ゴエステルアクリレートを、アロニックスM−400(6
官能以上のモノマー)50重量部とアロニックスM−309
(3官能のモノマー)50重量部との混合物とし、その他
はサンプルNo.1と同様にしてサンプルNo.2を作製した。The polyfunctional oligoester acrylate used for the organic protective coating layer of Sample No. 1 was mixed with Aronix M-400 (6
Monofunctional or higher monomer) 50 parts by weight and Aronix M-309
Sample No. 2 was prepared in the same manner as Sample No. 1 except that it was mixed with 50 parts by weight of (trifunctional monomer).
また、多官能オリゴエステルアクリレートを、アロニ
ックスM−6100(2官能オリゴエステルアクリレート)
50重量部とアロニックスM−111(単官能モノマー)50
重量部とに替え、その他はサンプルNo.1と同様にして、
サンプルNo.3を作製した。In addition, polyfunctional oligoester acrylate, Aronix M-6100 (bifunctional oligoester acrylate)
50 parts by weight and Aronix M-111 (monofunctional monomer) 50
Replaced with parts by weight, and others in the same manner as sample No. 1,
Sample No. 3 was prepared.
さらに、1液型のエポキシ樹脂系のアラルダイトAT−
1(日本チバガイギー社製)をスピンナーコートで層厚
5μmに設層して有機保護コート層とした他はサンプル
No.1と同様にしてサンプルNo.4を作製した。Furthermore, one-pack type epoxy resin-based Araldite AT-
Samples except that 1 (manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) was applied as a spinner coat to a layer thickness of 5 μm to form an organic protective coat layer.
Sample No. 4 was prepared in the same manner as No. 1.
さらにまた、サンプルNo.1のオリゴエステルアクリレ
ートをウレタンアクリレート(アロニックス M−110
0)100重量部に替え、その他はサンプルNo.1と同様にし
てサンプルNo.5を作製した。Furthermore, sample No. 1 oligoester acrylate was replaced with urethane acrylate (Aronix M-110
0) Sample No. 5 was prepared in the same manner as Sample No. 1 except for 100 parts by weight.
また、サンプルNo.1において、光重合増感剤をBIQURE
−55(ストーファージャパン製)5重量部に替えた他は
サンプルNo.1と同様にして、サンプルNo.6を作製した。In sample No. 1, the photopolymerization sensitizer was BIQURE.
Sample No. 6 was prepared in the same manner as Sample No. 1 except that 5 parts by weight of -55 (made by Stouffer Japan) was used.
これらのサンプルについて、下記の試験を行なった。 The following tests were performed on these samples.
保存試験 高温・高湿(80℃ 80%RH)で保存し、媒体の特性
(C/N比およびビットエラーレート)および外観変化を
観察した。Storage test It was stored at high temperature and high humidity (80 ℃, 80% RH), and the characteristics of the medium (C / N ratio and bit error rate) and appearance change were observed.
結果を表1に示す。 Table 1 shows the results.
なお、各サンプルの有機保護コート層および接着剤層
の25℃での鉛筆硬度は、表1に示されるものであった。
また、サンプルNo.6の有機保護コート層の鉛筆硬度は、
有機保護コート層の内周部でHB、外周部でHであった。 The pencil hardness of the organic protective coat layer and the adhesive layer of each sample at 25 ° C. is shown in Table 1.
Further, the pencil hardness of the organic protective coat layer of Sample No. 6 is
The inner peripheral portion of the organic protective coat layer was HB, and the outer peripheral portion was H.
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。 From the above results, the effect of the present invention is clear.
なお、このような硬化は、いわゆる相転移型のTe−G
e、TeOx、Te−Se等の記録層でも同様に実現した。Incidentally, such hardening is a so-called phase transition type Te-G.
The same was realized with recording layers such as e, TeO x , and Te-Se.
Claims (4)
上に基板の内周部および外周部を除いて記録層を有し、
この記録層上に有機保護コート層を有し、これら一対の
基板が、記録層が内側になるように接着剤層を介して一
体化されている光記録媒体において、 有機保護コート層が、放射線硬化型化合物および光重合
開始剤を含有する塗膜を放射線硬化したものであり、 接着剤層が、アクリルまたはメタクリル基を有する化合
物を含有する接着剤の塗膜を放射線硬化および嫌気性硬
化したものであって、 有機保護コート層の硬度が接着剤層の硬度よりも大き
く、 光重合開始剤が下記一般式(I)で表わされる化合物を
含有することを特徴とする光記録媒体。 一般式(I) {上記一般式(I)においてRはアルキル基を表わし、
Lは、アルキレン基を表わし、Yは複素環基を表わ
す。}1. A pair of substrates, and a recording layer on at least one of the substrates except an inner peripheral portion and an outer peripheral portion of the substrate,
In an optical recording medium having an organic protective coating layer on this recording layer, and a pair of these substrates being integrated via an adhesive layer so that the recording layer is on the inside, the organic protective coating layer is A radiation-cured coating film containing a curable compound and a photopolymerization initiator, wherein the adhesive layer is a radiation- and anaerobic-cured coating film of an adhesive containing a compound having an acrylic or methacrylic group. Wherein the hardness of the organic protective coat layer is larger than the hardness of the adhesive layer, and the photopolymerization initiator contains a compound represented by the following general formula (I). General formula (I) {In the above general formula (I), R represents an alkyl group,
L represents an alkylene group and Y represents a heterocyclic group. }
が、25℃における鉛筆硬度(JIS K−5400)でそれぞれ
H〜3Hおよび2B〜Hである特許請求の範囲第1項に記載
の光記録媒体。2. The light according to claim 1, wherein the hardness of the organic protective coat layer and the hardness of the adhesive layer are H to 3H and 2B to H in pencil hardness (JIS K-5400) at 25 ° C., respectively. recoding media.
クリレートを含有する特許請求の範囲第1項または第2
項に記載の光記録媒体。3. A radiation-curable compound containing an oligoester acrylate according to claim 1 or 2.
An optical recording medium according to item.
含有する成分とを有し、これらの反応により開始種が発
生してアクリル基またはメタクリル基を有する化合物が
嫌気性硬化するものである特許請求の範囲第1項ないし
第3項のいずれかに記載の光記録媒体。4. An adhesive having an oxidant-containing component and a reducing agent-containing component, and an initiator is generated by these reactions to anaerobically cure a compound having an acrylic group or a methacrylic group. The optical recording medium according to any one of claims 1 to 3, wherein
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62072887A JPH0827989B2 (en) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | Optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62072887A JPH0827989B2 (en) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | Optical recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63239631A JPS63239631A (en) | 1988-10-05 |
| JPH0827989B2 true JPH0827989B2 (en) | 1996-03-21 |
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Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JPH0827989B2 (en) |
Families Citing this family (1)
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|---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61151853A (en) * | 1984-12-26 | 1986-07-10 | Toshiba Corp | Optical disk |
-
1987
- 1987-03-26 JP JP62072887A patent/JPH0827989B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPS63239631A (en) | 1988-10-05 |
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