JPH0830940B2 - Image forming device - Google Patents
Image forming deviceInfo
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- JPH0830940B2 JPH0830940B2 JP61178664A JP17866486A JPH0830940B2 JP H0830940 B2 JPH0830940 B2 JP H0830940B2 JP 61178664 A JP61178664 A JP 61178664A JP 17866486 A JP17866486 A JP 17866486A JP H0830940 B2 JPH0830940 B2 JP H0830940B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、電子線を用いた画像形成装置に関し、更に
詳しくは、複数の電子ビーム発生部を具備する電子ビー
ム発生装置を用いた画像形成装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image forming apparatus using an electron beam, and more specifically, image forming using an electron beam generating apparatus having a plurality of electron beam generating units. Regarding the device.
［従来の技術］ 近年、例えば特公昭54−30274号、特開昭54−111272
号（米国特許第4259678号と対応）、同56−15529号（米
国特許第4303930号と対応）、特開昭57−38528号等に示
されるように、所謂冷陰極を用いた電子ビーム発生装置
が開発されている。[Prior Art] In recent years, for example, Japanese Examined Patent Publication No. 54-30274 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 54-111272.
No. 4259678 (corresponding to U.S. Pat. No. 4259678), No. 56-15529 (corresponding to U.S. Pat. No. 4303930), Japanese Patent Laid-Open No. 57-38528, etc., so-called electron beam generator using a cold cathode. Is being developed.
上記電子ビーム発生装置における冷陰極は、現在電子
ビーム発生装置に最も一般的に用いられている熱陰極
が、耐久性上の問題から、電子放出面の面積を小さくす
るのに大きな制約を受けるのに対し、このような制約を
ほとんど受けない利点がある。また、熱陰極は、複数個
を、均一な特性を持たせて高い位置精度で配列するのが
困難であるのに対し、冷陰極は、フォトリソグラフィー
や電子線リソグリフィーといった製造プロセスで形成す
ることにより、複数個を、均一な特性を持たせて高い位
置精度で配列できる利点がある。従って、かかる技術又
はその類似技術によれば、多数の電子ビーム発生部を具
備する電子ビーム発生装置を得ることが可能で、表示装
置をはじめとする各種の画像形成装置を大容量化するこ
とが可能となる。As for the cold cathode in the electron beam generator, the hot cathode which is most commonly used in the electron beam generator at present has a large limitation in reducing the area of the electron emission surface due to the durability problem. On the other hand, there is an advantage that such restrictions are scarcely received. In addition, it is difficult to arrange a plurality of hot cathodes with uniform characteristics with high positional accuracy, whereas cold cathodes must be formed by a manufacturing process such as photolithography or electron beam lithography. Thus, there is an advantage that a plurality of them can be arranged with uniform characteristics with high positional accuracy. Therefore, according to such a technique or a technique similar thereto, it is possible to obtain an electron beam generator having a large number of electron beam generators, and it is possible to increase the capacity of various image forming apparatuses including a display device. It will be possible.
［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、上記複数の電子ビーム発生部を二次元
配列した電子ビーム発生装置によって画像形成装置の大
容量化を図る場合次のような問題がある。即ち、上記電
子ビーム発生装置から出射された電子ビーム群を偏向走
査して画像を形成するときに、偏向角が大きくなるにつ
れて画像が歪んでしまう問題がある。この歪は、電子ビ
ーム群が二次元的な大きさを有することから、従来の点
電子源の歪を補正する電子光学系では補正が困難であ
る。[Problems to be Solved by the Invention] However, the following problems occur when the capacity of the image forming apparatus is increased by the electron beam generator in which the plurality of electron beam generators are two-dimensionally arranged. That is, when an electron beam group emitted from the electron beam generator is deflected and scanned to form an image, the image is distorted as the deflection angle increases. This distortion is difficult to correct by the conventional electron optical system that corrects the distortion of the point electron source because the electron beam group has a two-dimensional size.
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、そ
の目的とするところは、前記冷陰極もしくはその類似技
術によって複数の電子ビーム発生部を二次元配列した固
体電子ビーム発生装置を好適に用いた画像形成装置を実
現することである。更に詳しくは、かかる固体電子ビー
ム発生装置の放射する電子ビーム群を偏向走査した際に
生じる画像の歪を未然に防止する手段を提供することに
ある。The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to suitably use a solid-state electron beam generator in which a plurality of electron beam generators are two-dimensionally arranged by the cold cathode or a technique similar thereto. To realize the image forming apparatus. More specifically, it is an object of the present invention to provide a means for preventing the distortion of the image that occurs when the electron beam group emitted by the solid-state electron beam generator is deflected and scanned.
［問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成するために講じられた手段を、本発明
の一実施例に対応する第１図で説明すると、本発明は、
二次元配列された複数の電子ビーム発生部１を具備する
電子ビーム発生装置２と、入力する画像データに基づい
て電子ビーム発生装置２を駆動する駆動回路（不図示）
と、電子ビーム発生装置２から放出される電子ビームを
偏向し、被照射部材３の部分領域毎に順次照射する偏向
手段４とを有する画像形成装置において、偏向に伴う画
像歪を除去するように、前記駆動回路に入力する画像デ
ータを前記部分領域毎に補正する補正手段５を有する画
像形成装置とするという手段を講じているものである。[Means for Solving the Problems] The means taken to achieve the above object will be described with reference to FIG. 1 corresponding to one embodiment of the present invention.
An electron beam generator 2 having a plurality of two-dimensionally arranged electron beam generators 1, and a drive circuit (not shown) for driving the electron beam generator 2 based on input image data.
And an image forming apparatus having a deflecting means 4 for deflecting the electron beam emitted from the electron beam generating device 2 and sequentially irradiating each partial region of the irradiated member 3 so as to remove the image distortion due to the deflection. The image forming apparatus includes a correction unit 5 that corrects the image data input to the drive circuit for each of the partial areas.
尚、本発明において二次元配列とは、縦横共に複数個配
列されていることをいう。In the present invention, the two-dimensional array means that a plurality of rows and columns are arrayed.
［作用］ 画像データに応じて電子ビーム発生装置２から出射さ
れた電子ビーム群を、偏向手段４により偏向させたとき
の画像データに対する画像の歪は、被照射部材３の各部
分領域毎に固有で再現性のあるものとなる。従って、こ
の各部分領域における画像歪に対応して補正手段５から
出力される補正画像データに応じて電子ビーム発生装置
を駆動させることで、歪のない画像を形成することがで
きる。[Operation] The distortion of the image with respect to the image data when the electron beam group emitted from the electron beam generator 2 according to the image data is deflected by the deflection means 4 is unique to each partial region of the irradiated member 3. It will be reproducible. Therefore, by driving the electron beam generator according to the corrected image data output from the correction unit 5 in correspondence with the image distortion in each of these partial regions, an image without distortion can be formed.
［実施例］ 第１図に示されるように、電子ビーム発生装置２と被
照射部材３とが相対峙して設けられており、この両者間
には偏向手段４が配置されている。[Embodiment] As shown in FIG. 1, an electron beam generator 2 and an irradiated member 3 are provided to face each other, and a deflecting means 4 is arranged between them.
電子ビーム発生装置２は、例えば同一基板上に複数の
陰極を配列することにより、一体に設けられた複数の電
子ビーム発生部１を具備している。電子ビーム発生部１
を形成する陰極としては、冷陰極が最適である。また、
本実施例における電子ビーム発生部１は、各々独立して
駆動可能で、被照射部材３の所定の線領域内に電子ビー
ムを照射すべく、二次元配列されている。The electron beam generator 2 includes a plurality of electron beam generators 1 which are integrally provided by arranging a plurality of cathodes on the same substrate, for example. Electron beam generator 1
A cold cathode is most suitable as the cathode for forming the. Also,
The electron beam generators 1 in this embodiment can be independently driven, and are two-dimensionally arranged so as to irradiate an electron beam within a predetermined line region of the irradiated member 3.
本実施例における偏向手段４は、左右（Ｘ方向）一対
の平板電極4a,4bと上下（Ｙ方向）一対の平板電極4c,4d
によって構成されている。各組の平板電極4aと4b,4cと4
dは、電子ビーム発生部１から発せられる全ビームの軌
道を間に挟んで、各々平行に相対向して配置されてい
る。平板電極4a,4b間及び平板電極4c,4d間には、可変電
圧源（図示されていない）から、各々独立して所要の電
圧を印加できるようになっている。尚、偏向手段４とし
ては、上記平板電極4a〜4dの他、電極コイル等を用いる
ことができる。The deflection means 4 in this embodiment includes a pair of left and right (X direction) flat plate electrodes 4a and 4b and a pair of upper and lower (Y direction) flat plate electrodes 4c and 4d.
It is composed by. Flat plate electrodes 4a and 4b, 4c and 4 of each set
d are arranged parallel to each other with the trajectories of all the beams emitted from the electron beam generator 1 in between. A required voltage can be independently applied from a variable voltage source (not shown) between the plate electrodes 4a and 4b and between the plate electrodes 4c and 4d. As the deflecting means 4, other than the flat plate electrodes 4a to 4d, an electrode coil or the like can be used.
被照射部材３は電子ビームの照射によって、固定画像
又は可変画像を形成するものである。具体的には、本画
像形成装置を表示装置として用いる場合、例えば電子ビ
ームの照射によって発光する螢光体を塗設した螢光スク
リーン等を用いることができる。また、フォトレジスト
装置として用いる場合、フォトレジスト層を有する部材
とすればよい。The irradiated member 3 forms a fixed image or a variable image by irradiation with an electron beam. Specifically, when the present image forming apparatus is used as a display device, for example, a fluorescent screen coated with a fluorescent material that emits light when irradiated with an electron beam can be used. When used as a photoresist device, a member having a photoresist layer may be used.
第１図に示されるように、電子ビーム発生装置２の電
子ビーム発生部１から出射される複数の平行な電子ビー
ムは、偏向手段４により偏向され、被照射部材４上の二
次元状の領域を照射することになる。この照射は、偏向
手段４である平板電極4aと4b間及び4cと4d間に適確な電
圧を印加することにより、被照射部材５上の全領域を、
重複することなく順次走査しながら行われる。その際、
走査位置に応じて、電子ビーム発生装置２の駆動を、後
述する補正手段５で制御し、電子ビーム群のパターンを
適宜変えてやることによって歪のない画像を形成するこ
とができる。As shown in FIG. 1, a plurality of parallel electron beams emitted from the electron beam generator 1 of the electron beam generator 2 are deflected by the deflecting means 4 to form a two-dimensional area on the irradiated member 4. Will be irradiated. In this irradiation, by applying an appropriate voltage between the flat plate electrodes 4a and 4b which are the deflecting means 4 and between 4c and 4d, the whole area on the irradiated member 5 is
It is performed while sequentially scanning without overlapping. that time,
Depending on the scanning position, the driving of the electron beam generator 2 is controlled by the correction means 5 to be described later, and the pattern of the electron beam group is appropriately changed, so that an image without distortion can be formed.
更にこの偏向走査を説明すると、第２図に示されるよ
うに、被照射部材３を、二次元配列された電子ビーム発
生部１と相似な領域（例えばa11〜a33の９領域）に分割
し、この分割された部分領域毎に電子ビーム群を照射し
て画像形成を行なっていく。図に於ては、a11領域を走
査している状況が示されているが、画像データに従って
電子ビーム発生装置２中の各電子ビーム発生部１を駆動
しつつ電子ビームを照射することにより、被照射部材３
上に所望の画像を形成することができる。Further, when describing this deflection scanning, as shown in Figure 2, divides the irradiated member 3, a two-dimensional array of electron beam generating section 1 and the similar region (eg 9 region of a 11 ~a 33) Then, an electron beam group is irradiated to each of the divided partial areas to form an image. In the figure, the situation of scanning the area a 11 is shown. By irradiating the electron beam while driving each electron beam generator 1 in the electron beam generator 2 according to the image data, Irradiated member 3
The desired image can be formed on top.
しかしながら、このような形式の画像形成装置に於て
は、走査用電子光学系の特性等により、画像歪を生ず
る。例えば第３図に示すように、走査する領域により異
なった画像の歪が発生する。図中点線で囲まれる矩形領
域が本来電子ビームが照射されるべき領域で、実線で示
すのが歪んだ結果である。However, in the image forming apparatus of this type, image distortion occurs due to the characteristics of the scanning electron optical system. For example, as shown in FIG. 3, different image distortions occur depending on the scanned area. The rectangular area surrounded by the dotted line in the figure is the area to be originally irradiated with the electron beam, and the solid line shows the distorted result.
ところで、このような歪は、偏向手段４の特性により
あらかじめ決まってしまうものであり、歪の形状や度合
はa11〜a33の各領域毎に固有で、再現性のあるものであ
る。By the way, such distortion is determined in advance by the characteristics of the deflecting means 4, and the shape and degree of the distortion are peculiar to each region of a 11 to a 33 and are reproducible.
例えば、矩形の画像をa11領域に形成したい時、第４
図に示すようにあらかじめ偏向手段４で生ずる歪を補正
した形で電子ビーム発生部１から電子ビームを放射して
やれば、結果的に被照射部材３上に於ては所望の矩形画
像を得ることができる。For example, if you want to form a rectangular image in the a 11 area,
As shown in the figure, if an electron beam is emitted from the electron beam generator 1 in a manner in which the distortion generated by the deflecting means 4 is corrected in advance, a desired rectangular image can be obtained on the irradiated member 3 as a result. it can.
このような応射パターンの変換を走査領域毎に行え
ば、被照射部材３上の全面にわたって、歪のない画像形
成を行なうことが可能となる。If such a conversion of the response pattern is performed for each scanning area, it is possible to form an image without distortion over the entire surface of the irradiated member 3.
以上、本発明の基本となる原理を説明したが、次にこ
の原理を用いて歪補正を行なう為の補正手段５の具体的
な構成について第５図を用いて説明する。図中６は、電
子ビーム発生装置２の各電子ビーム発生部１を個別に駆
動する為の駆動回路、７は、偏向手段４に印加する電圧
を発生する為の走査電圧発生回路、８は制御用のマイク
ロプロセッサ、９は歪補正用変換パラメータを記憶する
為のROMである。The principle that is the basis of the present invention has been described above. Next, a specific configuration of the correction means 5 for performing distortion correction using this principle will be described with reference to FIG. In the figure, 6 is a drive circuit for individually driving each electron beam generator 1 of the electron beam generator 2, 7 is a scanning voltage generation circuit for generating a voltage applied to the deflection means 4, and 8 is a control circuit. And a ROM 9 for storing conversion parameters for distortion correction.
マイクロプロセッサ８には前記第２図における部分領
域a11，a12……a33で形成すべき画像のデータが順次入
力される。今、ある部分領域に対する画像データが入力
されたとすると、マイクロプロセッサ８は、ROM9より当
該する部分領域に対する歪補正用変換パラメータを読み
出し、ただちに歪補正の為の変換演算を行なう。演算終
了後、マイクロプロセッサ８は変換結果にもとづく制御
信号を駆動回路６に送り、電子ビームを放射せしめると
同時に走査電圧発生回路７にも制御信号を送り、当該領
域に向けて電子ビームを偏向させる。Data of images to be formed in the partial areas a 11 , a 12 ... A 33 in FIG. 2 are sequentially input to the microprocessor 8. Now, assuming that image data for a certain partial area is input, the microprocessor 8 reads out the distortion correction conversion parameter for that partial area from the ROM 9 and immediately performs a conversion operation for distortion correction. After the calculation is completed, the microprocessor 8 sends a control signal based on the conversion result to the drive circuit 6 to radiate the electron beam and at the same time sends a control signal to the scanning voltage generation circuit 7 to deflect the electron beam toward the area. .
以上の動作を部分領域毎に行ない、電子ビームを照射
していくことにより被照射部材３上には所望の画像を歪
むことなく形成することが可能である。By performing the above operation for each partial area and irradiating the electron beam, it is possible to form a desired image on the irradiated member 3 without distortion.
次に、前記説明中の歪補正の為の変換演算について、
発明者の行なった一例をあげる。発明者は、画像の幾何
学的歪の補正手段として知られる線形変換（アフィン変
換）を行なった。Next, regarding the conversion calculation for distortion correction in the above description,
The following is an example performed by the inventor. The inventor performed a linear transformation (affine transformation) known as a means for correcting geometric distortion of an image.
電子ビーム発生装置２が、Ｘ方向にはｍ列、Ｙ方向に
はｎ列の電子ビーム発生部１で構成されている時、電子
ビーム発生部１の座標を（u,v）として表わす。但し、
１≦ｕ≦ｍ、１≦ｖ≦ｎとする。When the electron beam generator 2 is composed of m rows of electron beam generators 1 in the X direction and n rows in the Y direction, the coordinates of the electron beam generators 1 are represented as (u, v). However,
1 ≦ u ≦ m and 1 ≦ v ≦ n.
今、走査している部分領域上のある点を被照射部材３
上で点灯しようとする時、この点の座標が（x,y）（但
し、１≦ｘ≦ｍ、１≦ｙ≦ｎ）だとすると、もし前述の
ような歪の問題がなければ点灯すべき点の座標と一致す
る電子ビーム発生部１を駆動すればよく、ｕ＝x,v＝ｙ
と表わされる。At a certain point on the partial area which is being scanned now, the irradiated member 3
If the coordinates of this point are (x, y) (where 1 ≦ x ≦ m and 1 ≦ y ≦ n) when trying to light up, if there is no problem of distortion as described above, it should be lighted up. It suffices to drive the electron beam generation unit 1 that coincides with the coordinates of u = x, v = y
Is represented.
しかしながら、実際には前述のような歪の問題が発生
するわけである。ただし、前記原理説明に於ては説明の
便宜上、歪を誇張して曲線的な非等辺の形状で示したが
（第３図）、実際には平行四辺形で近似しても差し支え
ない程度の場合が多い。However, in reality, the problem of distortion as described above occurs. However, in the above description of the principle, the distortion is exaggerated and shown as a curved non-isosceles shape for convenience of description (FIG. 3), but in reality, it may be approximated by a parallelogram. In many cases.
そこで発明者は（１）式で示される線形変換（アフィ
ン変換）を行ない歪を補正した。Therefore, the inventor performed a linear transformation (affine transformation) represented by the equation (1) to correct the distortion.
ここでa,b,c,d,e,fは、走査する部分領域ごとに値の
異なる歪の性質を表わす係数であり、あらかじめ測定に
より求められているものである（前記第５図中、ROM9に
記憶されている歪補正用変換パラメータとは、このa,b,
c,d,e,fのことをさす）。 Here, a, b, c, d, e, f are coefficients representing the property of distortion having different values for each partial area to be scanned, and are obtained by measurement in advance (in the above FIG. 5, The distortion correction conversion parameters stored in ROM9 are the a, b,
c, d, e, f).
以上の説明から明らかなように、マイクロプロセッサ
８は画像データが入力されると、当該する部分領域に対
するａ〜ｆの値をROM9から読み出し、（１）式に従って
演算し、駆動すべき電子ビーム発生部１を決定していく
わけである。As is apparent from the above description, when the image data is input, the microprocessor 8 reads the values of a to f for the relevant partial area from the ROM 9, calculates them according to the equation (1), and generates an electron beam to be driven. Part 1 will be decided.
尚、歪の補正式としては、前記（１）式の如きアフィ
ン変換以外でも、当該する画像形成装置の発生する歪の
性質に適合するものでさえあればよく、場合によって
は、たとえば（２）式に示す二次等角写像変換や、
（３）式に示す射影変換を用いても差し支えない。As the distortion correction formula, other than the affine transformation such as the formula (1), it is sufficient that it is compatible with the property of the distortion generated by the image forming apparatus. In some cases, for example, (2) The quadratic conformal mapping transformation shown in the equation,
The projective transformation shown in equation (3) may be used.
また、前記第２図の原理説明に於ては、被照射部材Ｓ
を９つの部分領域に分割して照射する例を示したが、分
割の方法も、前記９分割の例に限定するものではもちろ
んない。一般には、二次元配列された電子ビーム発生部
１の面積に対して被照射部材３の面積がはるかに大きな
場合が多く、分割数も９を超えることが多いが、本発明
は分割数によらず適用が可能である。 Further, in the explanation of the principle of FIG.
Although an example of radiating and dividing the light into nine partial regions has been shown, the dividing method is not limited to the above-described nine divided regions. In general, the area of the irradiated member 3 is much larger than the area of the electron beam generators 1 arranged two-dimensionally, and the number of divisions often exceeds 9. However, the present invention depends on the number of divisions. It is possible to apply without.
［発明の効果］ 以上説明したように、微細なピッチで多数個を二次元
的に配列できるという冷陰極の特性と、偏向手段により
発生する歪の特性に着目した結果、発明者は従来全く行
なわれていなかった新規な歪補正方式による画像形成装
置を発明するに至った。[Effects of the Invention] As described above, as a result of paying attention to the characteristic of the cold cathode that a large number can be two-dimensionally arranged at a fine pitch and the characteristic of the distortion generated by the deflecting means, the inventor has performed completely. The present invention has led to the invention of an image forming apparatus using a new distortion correction method that has not been adopted.
本発明によれば、従来電子光学系で補正することが困
難であった歪の補正を極めて簡単な装置構成で行なうこ
とができ、その結果、高精細、大容量で画像品位の極め
て優れた画像形成装置を安価に提供することが可能とな
る。According to the present invention, it is possible to perform distortion correction, which has been difficult to correct by an electron optical system in the related art, with an extremely simple apparatus configuration, and as a result, an image with high definition, large capacity, and extremely excellent image quality The forming apparatus can be provided at low cost.
第１図は本発明の一実施例の説明図、第２図は電子ビー
ム群による走査状態の説明図、第３図は画像歪の説明
図、第４図は歪補正の原理説明図、第５図は補正手段の
一実施例を示す説明図である。 1:電子ビーム発生部、2:電子ビーム発生装置、3:被照射
部材、4:偏向手段、4a〜4d:平板電極、5:補正手段。FIG. 1 is an explanatory diagram of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram of a scanning state by an electron beam group, FIG. 3 is an explanatory diagram of image distortion, FIG. 4 is an explanatory diagram of the principle of distortion correction, and FIG. FIG. 5 is an explanatory view showing an embodiment of the correction means. 1: electron beam generator, 2: electron beam generator, 3: irradiated member, 4: deflecting means, 4a to 4d: flat plate electrodes, 5: correcting means.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野村 一郎 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−208796（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−187849（ＪＰ，Ａ) 特公 昭51−29742（ＪＰ，Ｂ２) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Ichiro Nomura 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (56) Reference JP-A-60-208796 (JP, A) JP-A-57 -187849 (JP, A) JP-B-51-29742 (JP, B2)
Claims (7)
を具備する電子ビーム発生装置と、入力する画像データ
に基づいて前記電子ビーム発生装置を駆動する駆動回路
と、前記電子ビーム発生装置から放出される電子ビーム
を偏向し、被照射部材の部分領域毎に順次照射する偏向
手段とを有する画像形成装置において、前記偏向に伴う
画像歪を除去するように、前記駆動回路に入力する画像
データを前記部分領域毎に補正する補正手段を有するこ
とを特徴とする画像形成装置。1. An electron beam generator having a plurality of two-dimensionally arranged electron beam generators, a drive circuit for driving the electron beam generator based on input image data, and an electron beam generator. In an image forming apparatus having a deflecting unit that deflects an emitted electron beam and sequentially irradiates each partial region of a member to be irradiated, image data input to the drive circuit so as to remove image distortion caused by the deflection. An image forming apparatus, comprising: a correction unit that corrects each of the partial areas.
画像データを幾何学的に変換する手段である特許請求の
範囲第１項に記載の画像形成装置。2. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the correction means is a means for geometrically converting the image data input to the drive circuit.
画像データを線形変換する手段である特許請求の範囲第
２項に記載の画像形成装置。3. The image forming apparatus according to claim 2, wherein the correction means is means for linearly converting image data input to the drive circuit.
画像データを二次等角写像変換する手段である特許請求
の範囲第２項に記載の画像形成装置。4. The image forming apparatus according to claim 2, wherein the correction means is means for performing second-order conformal mapping conversion of image data input to the drive circuit.
画像データを射影変換する手段である特許請求の範囲第
２項に記載の画像形成装置。5. The image forming apparatus according to claim 2, wherein the correction means is a means for projectively converting image data input to the drive circuit.
用変換パラメータを記憶したメモリを有する特許請求の
範囲第１項に記載の画像形成装置。6. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the correction unit has a memory that stores conversion parameters for distortion correction for each of the partial areas.
生部は、冷陰極よりなる特許請求の範囲第１項に記載の
画像形成装置。7. The image forming apparatus according to claim 1, wherein each electron beam generator of the electron beam generator is a cold cathode.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61178664A JPH0830940B2 (en) | 1986-07-31 | 1986-07-31 | Image forming device |
| US07/545,115 US5025196A (en) | 1986-06-02 | 1990-06-26 | Image forming device with beam current control |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61178664A JPH0830940B2 (en) | 1986-07-31 | 1986-07-31 | Image forming device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6336295A JPS6336295A (en) | 1988-02-16 |
| JPH0830940B2 true JPH0830940B2 (en) | 1996-03-27 |
Family
ID=16052410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61178664A Expired - Fee Related JPH0830940B2 (en) | 1986-06-02 | 1986-07-31 | Image forming device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0830940B2 (en) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5129742A (en) * | 1975-06-24 | 1976-03-13 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Koshuhakanetsusochi |
| JPS60208796A (en) * | 1984-03-31 | 1985-10-21 | 株式会社東芝 | Convergence adjustment of color crt unit and color crt unit with convergence adjusting function |
-
1986
- 1986-07-31 JP JP61178664A patent/JPH0830940B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6336295A (en) | 1988-02-16 |
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