JPH0831512B2 - Substrate clamp mechanism for substrate processing equipment - Google Patents
Substrate clamp mechanism for substrate processing equipmentInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は基板処理装置の基板クラ
ンプ機構に係り、特に、プロセスチャンバ等に設けられ
た基板クランプ機構に対してそのクランプ動作にトルク
制御や速度制御を適用した基板処理装置の基板クランプ
機構に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate clamping mechanism for a substrate processing apparatus, and more particularly to a substrate clamping apparatus which applies torque control or speed control to its substrate clamping mechanism provided in a process chamber or the like. Substrate clamp mechanism of.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の基板クランプ機構の代表的な構成
を図3に示す。31は、基板32を受け、これを支持す
る基板ステージ、33は上側から基板32の周縁部を押
え、固定するクランプリング、34はクランプリング3
3を昇降させるシリンダ機構である。シリンダ機構34
は一例として2組だけ示している。また、その他の細部
の構成の図示は省略する。シリンダ機構34では、エア
ーまたはオイル等35を供給または排出することによ
り、クランプリング33の昇降を行っている。また従来
におけるその他の構成として、クランプリング33の下
降動作について、クランプリングの自重で下降させ、基
板クランプ動作を行わせるように構成したものも存在す
る。2. Description of the Related Art A typical structure of a conventional substrate clamp mechanism is shown in FIG. 31 is a substrate stage that receives the substrate 32 and supports it, 33 is a clamp ring that presses and fixes the peripheral edge of the substrate 32 from above, and 34 is the clamp ring 3.
3 is a cylinder mechanism for moving up and down. Cylinder mechanism 34
Shows only two sets as an example. In addition, illustration of other detailed configurations is omitted. In the cylinder mechanism 34, the clamp ring 33 is moved up and down by supplying or discharging air or oil 35. In addition, as another configuration in the related art, there is also a configuration in which the clamp ring 33 is lowered by its own weight to perform the substrate clamp operation.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】前述した従来の基板ク
ランプ機構は、次のような問題を有する。シリンダ機構
34の駆動にエアーまたはオイルを使用する構成では、
クランプリング33の下降時にその下降速度を正確に制
御することができないため、基板32の周縁部をソフト
タッチでクランプすることができない。このため、基板
の周縁部に傷をつけるおそれがある。最悪の場合には、
基板32を破損することもある。The above-mentioned conventional substrate clamp mechanism has the following problems. In the configuration that uses air or oil to drive the cylinder mechanism 34,
Since the descending speed of the clamp ring 33 cannot be accurately controlled when descending, the peripheral edge of the substrate 32 cannot be clamped by soft touch. Therefore, there is a possibility that the peripheral portion of the substrate may be damaged. In the worst case,
The substrate 32 may be damaged.
【0004】またクランプリング33の自重で基板をク
ランプする構成では、クランプ時の基板の破損を避ける
ことができる。しかし、この構成によれば、クランプ時
の圧力が弱く、クランプ圧力を所要の一定圧力にするこ
とができない。クランプ圧力が弱い場合には基板ステー
ジ31と基板との密着性が悪くなり、このため、基板3
2の温度制御が不完全となって基板32の特性を悪化さ
せるという不具合を有する。Further, in the structure in which the substrate is clamped by its own weight of the clamp ring 33, the substrate can be prevented from being damaged at the time of clamping. However, according to this configuration, the pressure at the time of clamping is weak, and the clamping pressure cannot be set to the required constant pressure. When the clamping pressure is weak, the adhesion between the substrate stage 31 and the substrate deteriorates, so that the substrate 3
There is a problem that the temperature control of No. 2 becomes incomplete and the characteristics of the substrate 32 are deteriorated.
【0005】本発明の目的は、最適な基板クランプ機能
を有する基板処理装置の基板クランプ機構を提供するこ
とにある。An object of the present invention is to provide a substrate clamping mechanism for a substrate processing apparatus having an optimum substrate clamping function.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明に係る基板処理装
置の基板クランプ機構は、基板を支持する基板ステージ
と、この基板ステージ上に配置された基板をクランプす
るためのクランプ部材と、クランプ部材を昇降させる電
動駆動機構とを備え、クランプ部材によって基板の周縁
部を押さえて基板ステージ上にクランプする基板処理装
置の基板クランプ機構であり、電動駆動機構の動作を望
ましい状態に制御し、電動駆動機構によるクランプ部材
の昇降動作においてクランプ部材の速度を制御するため
の速度制御手段を有し、この速度制御手段によって、ク
ランプ部材が基板に接近するとき最初は相対的に速い一
定速度で接近し、クランプする手前で接近速度を低減
し、クランプ時に相対的に遅い速度で基板の周縁部に接
触するようにし、クランプ部材がソフトタッチで基板の
周縁部を押え付け、基板を固定するように構成される。
さらに、クランプ部材による基板のクランプ圧力を調整
するトルク制御手段を備えることにより、クランプ部材
が基板の周縁部をクランプするとき、そのクランプ圧力
を最適な圧力とするように構成される。A substrate clamping mechanism of a substrate processing apparatus according to the present invention includes a substrate stage for supporting a substrate, a clamp member for clamping a substrate arranged on the substrate stage, and a clamp member. and an electric drive mechanism for elevating the peripheral edge of the substrate by the clamp member
Substrate processing equipment that presses the part and clamps it on the substrate stage
A location of the substrate clamping mechanism to control the operation of the electric drive mechanism to the desired state, has a speed control means for controlling the speed of the clamping member in the elevating operation of the clamping member by the electric drive mechanism, the speed control means By
When the ramp member approaches the substrate, it is initially relatively fast.
Approach at constant speed and reduce approach speed before clamping
Contact the peripheral edge of the board at a relatively slow speed during clamping.
The clamp member is configured to softly touch and press the peripheral portion of the substrate so that the substrate is fixed.
Further, by providing the torque control means for adjusting the clamping pressure of the substrate by the clamping member, when the clamping member clamps the peripheral portion of the substrate, the clamping pressure is set to the optimum pressure.
【0007】[0007]
【作用】本発明による基板クランプ機構では、基板を固
定するクランプ部材の昇降動作を電気式サーボモータ等
の電動駆動機構で行うように構成し、さらに速度制御手
段およびトルク制御手段を付加することにより、基板接
触時のクランプ部材の速度や、基板をクランプする圧力
が望ましい状態になるように制御を行う。これにより、
クランプ部材が基板の周縁部にソフトに接触して基板の
破損をなくし、かつ最適な圧力で基板を固定し、基板と
基板ステージを最適な状態で密着させる。In the substrate clamp mechanism according to the present invention, the clamp member for fixing the substrate is configured to be moved up and down by an electric drive mechanism such as an electric servomotor, and a speed control means and a torque control means are added. The control is performed so that the speed of the clamp member at the time of contacting the substrate and the pressure for clamping the substrate are in a desired state. This allows
The clamp member softly contacts the peripheral edge of the substrate to prevent damage to the substrate, fixes the substrate with an optimum pressure, and brings the substrate and the substrate stage into close contact with each other in an optimum state.
【0008】[0008]
【実施例】以下に、本発明の実施例を添付図面に基づい
て説明する。図1は、基板クランプ機構の機械的構成部
分と制御装置を示す。機械的構成部分は、図示しない基
板処理装置の処理容器内に配設される。図1において、
1は基板ステージ、2は基板ステージ上に配置された基
板、3は基板の上方位置にて昇降自在に配設されたクラ
ンプリングである。クランプリング3は、その下降状態
で基板2の周縁部を押え、基板2の周縁部を所要の圧力
で固定(クランプ)する。4はクランプリング3を昇降
させる駆動ユニットである。図示例では2組の駆動ユニ
ット4が示される。図2は、基板ステージ1と基板2と
クランプリング3のクランプ状態における位置関係を示
す要部縦断面図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 shows the mechanical components of the substrate clamping mechanism and the controller. The mechanical components are arranged in a processing container of a substrate processing apparatus (not shown). In FIG.
Reference numeral 1 is a substrate stage, 2 is a substrate arranged on the substrate stage, and 3 is a clamp ring arranged so as to be movable up and down above the substrate. The clamp ring 3 presses the peripheral edge of the substrate 2 in its lowered state and fixes (clamps) the peripheral edge of the substrate 2 with a required pressure. Reference numeral 4 is a drive unit for moving the clamp ring 3 up and down. In the illustrated example, two sets of drive units 4 are shown. FIG. 2 is a longitudinal cross-sectional view of a main part showing a positional relationship between the substrate stage 1, the substrate 2, and the clamp ring 3 in a clamped state.
【0009】駆動ユニット4は、電動式の構成を有し、
例えば電動サーボモータ5と、サーボモータ5の動作量
を計測するエンコーダ6とを備える。駆動ユニット4
は、取付けプレート4aに固定される。クランプリング
3の下側には、所定の位置で複数のシリンダ機構7が設
けられる。シリンダ機構7は、クランプリング3の下面
に取り付けられた上シリンダ7aと、固定された下シリ
ンダ7bとからなる。上シリンダ7aは、下シリンダ7
bに対して嵌合され、その軸方向に上下動自在に取り付
けられる。上シリンダ7aと下シリンダ7bのそれぞれ
にはブラケット8,9が固定され、ブラケット8,9間
には、ネジ式可動機構10が配設される。ネジ式可動機
構10の回転軸が回転することにより、その回転方向に
応じて、上シリンダ7aが昇降する。従って、クランプ
リング3も上シリンダ7aと共に昇降する。The drive unit 4 has an electric structure,
For example, the electric servomotor 5 and the encoder 6 that measures the operation amount of the servomotor 5 are provided. Drive unit 4
Are fixed to the mounting plate 4a. A plurality of cylinder mechanisms 7 are provided below the clamp ring 3 at predetermined positions. The cylinder mechanism 7 includes an upper cylinder 7a attached to the lower surface of the clamp ring 3 and a fixed lower cylinder 7b. The upper cylinder 7a is the lower cylinder 7
It is fitted to b and is attached so as to be vertically movable in the axial direction. Brackets 8 and 9 are fixed to the upper cylinder 7a and the lower cylinder 7b, respectively, and a screw type movable mechanism 10 is disposed between the brackets 8 and 9. When the rotating shaft of the screw type movable mechanism 10 rotates, the upper cylinder 7a moves up and down according to the rotating direction. Therefore, the clamp ring 3 also moves up and down together with the upper cylinder 7a.
【0010】ネジ式可動機構10の回転軸下端には、ギ
ア11が取り付けられる。このギア11は、サーボモー
タ5の駆動軸に取り付けられたギア12に噛み合ってい
る。ネジ式可動機構10の回転軸は、ギア11,12を
介してサーボモータ5から回転力を与えられ、所要の方
向に回転する。A gear 11 is attached to the lower end of the rotary shaft of the screw type movable mechanism 10. The gear 11 meshes with a gear 12 attached to the drive shaft of the servomotor 5. The rotary shaft of the screw-type movable mechanism 10 receives a rotational force from the servomotor 5 via the gears 11 and 12, and rotates in a desired direction.
【0011】上記の駆動ユニット4、シリンダ機構7、
ネジ式可動機構10の各構成に基づいて、駆動ユニット
4のサーボモータ5が回転動作を行うと、その回転方向
および回転速度に従って、対応する方向で、かつ対応す
る速度で上シリンダ7aとクランプリング3を移動させ
る。駆動ユニット4、シリンダ機構7、ネジ式可動機構
10の組は、等間隔で例えば3組程度設けられる。The above-mentioned drive unit 4, cylinder mechanism 7,
When the servomotor 5 of the drive unit 4 rotates based on each configuration of the screw type movable mechanism 10, the upper cylinder 7a and the clamp ring are rotated in the corresponding direction and at the corresponding speed according to the rotation direction and the rotation speed. Move 3 The drive unit 4, the cylinder mechanism 7, and the screw type movable mechanism 10 are provided at equal intervals, for example, about 3 sets.
【0012】各駆動ユニット4のサーボモータ5の回転
動作は、制御装置13内に設けられたサーボモータ制御
ユニット14と速度制御機構16とクランプ圧力制御機
構18によって制御される。サーボモータ制御ユニット
14等は、サーボモータ5の回転動作を制御するための
制御信号を、サーボモータドライバ15を介してサーボ
モータ5に供給する。この制御信号は速度制御信号とト
ルク制御信号を含む。これらの制御信号によれば、クラ
ンプリング3が下降して基板2の周縁部をクランプする
ときに、その下降速度が所定の速度特性となるように制
御し、かつクランプ圧力が所定の一定圧力になるように
制御することができる。The rotation operation of the servo motor 5 of each drive unit 4 is controlled by a servo motor control unit 14, a speed control mechanism 16 and a clamp pressure control mechanism 18 provided in the controller 13. The servo motor control unit 14 or the like supplies a control signal for controlling the rotation operation of the servo motor 5 to the servo motor 5 via the servo motor driver 15. This control signal includes a speed control signal and a torque control signal. According to these control signals, when the clamp ring 3 descends to clamp the peripheral portion of the substrate 2, the descending speed is controlled so as to have a predetermined speed characteristic, and the clamping pressure becomes a predetermined constant pressure. Can be controlled to be.
【0013】クランプリング3の下降速度の制御では、
最初は速い一定速度で下降し、クランプする手前で下降
速度を低減し、クランプ時に非常に遅い速度で基板周縁
部に接触し、押えるように制御が行われる。すなわち、
速度制御機構16には予め所定の速度特性が設定され
る。制御信号で動作するサーボモータ5の回転速度はエ
ンコーダ6で検出され、速度制御機構16に与えられ
る。速度制御機構16では、予め設定された前記速度特
性と入力された実際の速度とを比較し、所望の速度制御
信号が生成される。この速度制御信号は、サーボモータ
制御ユニット14とサーボモータドライバ15とトルク
検出器17を介してサーボモータ5に供給される。こう
して、サーボモータ5は、設定された速度特性を目標速
度として、その速度が制御される。In controlling the descending speed of the clamp ring 3,
At the beginning, the control is performed such that the substrate descends at a high constant speed, the descending speed is reduced before clamping, and the peripheral edge of the substrate is contacted and pressed at a very slow speed during clamping. That is,
A predetermined speed characteristic is set in advance in the speed control mechanism 16. The rotation speed of the servo motor 5 which operates according to the control signal is detected by the encoder 6 and given to the speed control mechanism 16. The speed control mechanism 16 compares the preset speed characteristic with the input actual speed and generates a desired speed control signal. This speed control signal is supplied to the servo motor 5 via the servo motor control unit 14, the servo motor driver 15, and the torque detector 17. In this way, the servomotor 5 controls the speed with the set speed characteristic as the target speed.
【0014】またクランプリング3のクランプ圧力の制
御では、サーボモータドライバ15の出力部に接続され
たトルク検出器17が使用される。トルク検出器17
は、サーボモータ5に供給される制御信号の電流値を検
出することでクランプリング3によるクランプ圧力を検
知する。トルク検出器17の検出信号は、クランプ圧力
制御機構18に供給される。クランプ圧力制御機構18
では、所定のクランプ圧力を発生させる電流値が設定さ
れ、この設定値と検出電流値とを比較し、最終的な検出
電流値が設定値と一致するようにトルク制御信号を発生
する。トルク制御信号は、サーボモータ制御ユニット1
4とサーボモータドライバ15とトルク検出器17を介
してサーボモータ5に供給される。In controlling the clamp pressure of the clamp ring 3, the torque detector 17 connected to the output of the servo motor driver 15 is used. Torque detector 17
Detects the clamp pressure by the clamp ring 3 by detecting the current value of the control signal supplied to the servo motor 5. The detection signal of the torque detector 17 is supplied to the clamp pressure control mechanism 18. Clamp pressure control mechanism 18
Then, a current value for generating a predetermined clamp pressure is set, this set value is compared with the detected current value, and a torque control signal is generated so that the final detected current value matches the set value. The torque control signal is sent to the servo motor control unit 1
4, the servo motor driver 15, and the torque detector 17 are supplied to the servo motor 5.
【0015】上記のサーボモータ5の回転速度およびト
ルクの制御は、複数のサーボモータ5のそれぞれについ
て同じ条件で行われる。電動サーボモータ5の速度制御
により、クランプリング3は、基板2に対して平行に保
持された状態で、所定の速度特性で基板2に接近し、遅
い速度で基板2に接触する。これにより、ソフトタッチ
の基板接触を行うことができる。また、電動サーボモー
タ5のトルク制御により、所要の一定のクランプ圧力で
基板2の周縁部を押える。これにより基板2と基板ステ
ージ1との間で十分な密着性を得ることができる。The control of the rotation speed and the torque of the servomotor 5 is performed under the same condition for each of the plurality of servomotors 5. By the speed control of the electric servomotor 5, the clamp ring 3 approaches the substrate 2 with a predetermined speed characteristic while being held parallel to the substrate 2, and contacts the substrate 2 at a slow speed. As a result, soft touch substrate contact can be performed. Further, by controlling the torque of the electric servomotor 5, the peripheral edge of the substrate 2 is pressed with a required constant clamping pressure. As a result, sufficient adhesion can be obtained between the substrate 2 and the substrate stage 1.
【0016】なお、クランプのためのクランプリング3
の移動ストロークに応じてクランプ圧力を制御するよう
に構成することも可能である。すなわち、クランプリン
グ3がクランプを行うまでは設定した速度で動作し、ク
ランプの後トルク制御で動作し、設定したトルクでクラ
ンプを保持するように構成できる。また、位置制御を行
っているため、設定した位置よりクランプに応じてクラ
ンプ圧力を徐々に変化させることによってクランプを行
うこともできる。この場合において、クランプ圧力を弱
くするとソフトクランプになり、クランプ圧力を強くす
るとハードクランプになる。The clamp ring 3 for clamping
It is also possible to control the clamping pressure according to the moving stroke of the. That is, the clamp ring 3 can be configured to operate at a set speed until the clamp is performed, operate by torque control after the clamp, and hold the clamp at the set torque. Further, since the position control is performed, the clamping can be performed by gradually changing the clamping pressure according to the clamping from the set position. In this case, weakening the clamp pressure results in a soft clamp, and increasing the clamping pressure results in a hard clamp.
【0017】サーボモータ制御ユニット14には警報機
構を設けることができる。この警報機構によれば、基板
2をクランプする時に、クランプ圧力またはクランプの
ための移動ストロークが、設定値に比較して異常な値に
なったときには、警報を発生するように構成される。ま
た警報を発生すると同時に、クランプ動作を停止するよ
うに構成することもできる。The servo motor control unit 14 can be provided with an alarm mechanism. According to the alarm mechanism, when the substrate 2 is clamped, the alarm is generated when the clamping pressure or the moving stroke for clamping becomes an abnormal value compared with the set value. Further, the clamp operation can be stopped at the same time when the alarm is issued.
【0018】サーボモータ制御ユニット14には、さら
に、予防保全機構を設けることができる。この予防保全
機構によれば、例えばクランプ圧力を連続的に検知する
ことにより、基板クランプ機構に故障が発生するおそれ
があるとき、故障発生を事前に予測し、装置全体を保全
する。The servo motor control unit 14 can be further provided with a preventive maintenance mechanism. According to this preventive maintenance mechanism, for example, by continuously detecting the clamp pressure, when a failure may occur in the substrate clamp mechanism, the failure occurrence is predicted in advance and the entire apparatus is maintained.
【0019】[0019]
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、基板クラ
ンプ時のクランプ部材の接近速度、およびクランプ圧力
を最適に制御する構成を設けたため、基板をソフトタッ
チでクランプし、かつ最適な圧力で基板をクランプする
ことができる。これによって基板の破損を防止し、かつ
基板と基板ステージの密着性を良好にし、基板の温度特
性を良好にすることができる。As is apparent from the above description, since the structure for optimally controlling the approaching speed of the clamp member and the clamp pressure at the time of substrate clamping is provided, the substrate is clamped by the soft touch and the optimum pressure is applied. The substrate can be clamped. This can prevent damage to the substrate, improve the adhesion between the substrate and the substrate stage, and improve the temperature characteristics of the substrate.
【図1】本発明に係る基板クランプ機構の機械的構成部
分と制御装置を示す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing a mechanical configuration portion and a control device of a substrate clamp mechanism according to the present invention.
【図2】図1中の要部縦断面図である。FIG. 2 is a longitudinal sectional view of a main part in FIG.
【図3】従来の基板クランプ機構を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a conventional substrate clamp mechanism.
1 …基板ステージ 2 …基板 3 …クランプリング 4 …電動駆動装置 5 …サーボモータ 6 …エンコーダ 7 …シリンダ機構 10 …ネジ式可動機構 11,12 …ギア 13 …制御装置 14 …サーボモータ制御ユニット 15 …サーボモータドライバ 16 …速度制御機構 17 …トルク検出器 18 …クランプ圧力制御機構 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate stage 2 ... Substrate 3 ... Clamp ring 4 ... Electric drive device 5 ... Servo motor 6 ... Encoder 7 ... Cylinder mechanism 10 ... Screw type movable mechanism 11, 12 ... Gear 13 ... Control device 14 ... Servo motor control unit 15 ... Servo motor driver 16 Speed control mechanism 17 Torque detector 18 Clamp pressure control mechanism
Claims (1)
板ステージ上に配置された前記基板をクランプするため
のクランプ部材と、前記クランプ部材を昇降させる電動
駆動機構を備え、前記クランプ部材によって前記基板の
周縁部を押さえて前記基板ステージ上にクランプする基
板処理装置の基板クランプ機構において、 前記 電動駆動機構を制御し前記電動駆動機構による前記
クランプ部材の昇降動作において前記クランプ部材の速
度を、前記クランプ部材が前記基板に接近するとき最初
は相対的に速い一定速度で接近し、クランプする手前で
接近速度を低減し、クランプ時に相対的に遅い速度で前
記基板の周縁部に接触するように、制御するための速度
制御手段と、前記クランプ部材による前記基板のクラン
プ圧力が所定の一定圧力になるように調整するトルク制
御手段を備えることを特徴とする基板処理装置の基板ク
ランプ機構。1. A substrate stage for supporting a substrate, a clamp member for clamping the substrate arranged on the substrate stage, and an electric drive mechanism for moving the clamp member up and down, the substrate being provided by the clamp member. of
A base for holding the peripheral edge and clamping it on the substrate stage.
First when the substrate clamping mechanism of the plate processing apparatus, the speed of the clamping member in the elevating operation of the clamping member by the electric drive mechanism controls the electric drive mechanism, the clamping member approaches the substrate
Approaches at a relatively fast constant speed, and before clamping
Reduce the approach speed, and move at a relatively slow speed during clamping.
The speed control means for controlling so as to contact the peripheral portion of the substrate, and the clamp member clamps the substrate.
Torque control to adjust the pump pressure to a predetermined constant pressure.
A substrate clamping mechanism for a substrate processing apparatus, comprising a control means .
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP30036492A JPH0831512B2 (en) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | Substrate clamp mechanism for substrate processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP30036492A JPH0831512B2 (en) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | Substrate clamp mechanism for substrate processing equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06124997A JPH06124997A (en) | 1994-05-06 |
| JPH0831512B2 true JPH0831512B2 (en) | 1996-03-27 |
Family
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP30036492A Expired - Lifetime JPH0831512B2 (en) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | Substrate clamp mechanism for substrate processing equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0831512B2 (en) |
Families Citing this family (7)
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