Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH0832317B2 - Film forming equipment - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH0832317B2 - Film forming equipment - Google Patents

Film forming equipment

Info

Publication number
JPH0832317B2
JPH0832317B2 JP26643788A JP26643788A JPH0832317B2 JP H0832317 B2 JPH0832317 B2 JP H0832317B2 JP 26643788 A JP26643788 A JP 26643788A JP 26643788 A JP26643788 A JP 26643788A JP H0832317 B2 JPH0832317 B2 JP H0832317B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
drum
spacer
coating liquid
hand
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP26643788A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH02115073A (en
Inventor
中也 中野
均 三竹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP26643788A priority Critical patent/JPH0832317B2/en
Publication of JPH02115073A publication Critical patent/JPH02115073A/en
Publication of JPH0832317B2 publication Critical patent/JPH0832317B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0241Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work for applying liquid or other fluent material to elongated work, e.g. wires, cables, tubes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0525Coating methods

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 イ.産業上の利用分野 本発明は、被膜形成装置に関し、例えば電子写真感光
体の感光層の塗布装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film forming apparatus, for example, an apparatus for coating a photosensitive layer of an electrophotographic photosensitive member.

ロ.従来技術 感光体の層形成に際しては、各層を薄膜でかつ均一に
層形成しなければならない。こうした塗布方法として
は、例えばスプレー塗布、ディップ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布方法等が検討されている。なかでも、円
筒状の導電性基体等に均一な塗膜を塗布形成するには、
ディップ塗布が多用される。
B. 2. Description of the Related Art In forming a layer of a photoreceptor, each layer must be formed as a thin film and uniformly. As such a coating method, for example, spray coating, dip coating, blade coating, roll coating and the like have been studied. Above all, in order to form a uniform coating film on a cylindrical conductive substrate, etc.,
Dip coating is often used.

しかし、かかるディップ塗布方法には以下のような問
題がある。
However, such a dip coating method has the following problems.

(a).塗布液の必要液量が非常に多く、かつ塗布液の
うち塗膜形成に有効に使用される率が低いため塗布液の
無駄が多い。
(A). Since the required amount of the coating liquid is very large and the ratio of the coating liquid effectively used for forming a coating film is low, the coating liquid is wasted a lot.

(b).塗布液液面の上下動により、塗布槽の壁面に塗
布液が付着し、付着した塗布液が乾燥して乾固物が生成
する。このため、塗布欠陥等の不都合が生じている。
(B). By the vertical movement of the liquid level of the coating liquid, the coating liquid adheres to the wall surface of the coating tank, and the adhered coating liquid dries to produce a dry solid. Therefore, inconveniences such as coating defects occur.

(c).いわゆるオーバーフロー方式のディップ塗布装
置においては、ポンプの動力によって塗布槽とタンクと
の間で塗布液を循環させているので、ポンプを塗布液が
通過する際に塗布液に加わる剪断力により塗布液が劣化
する。
(C). In the so-called overflow type dip coating device, the coating liquid is circulated between the coating tank and the tank by the power of the pump, so that the coating liquid is generated by the shearing force applied to the coating liquid when the coating liquid passes through the pump. to degrade.

他の方法として、導電性基体ドラムにスライドホッパ
ー等の塗布手段を通過させ、この通過時に感光液をドラ
ム外周面に塗布するものがある。この場合、基体ドラム
を塗布手段へと一本毎送り込むのが一般的であるが、基
体ドラムを連続的に送り込むことができれば、生産性、
塗布液の経時変化防止、塗布条件の均一化等の点で極め
て有利である。
As another method, there is a method in which a conductive substrate drum is passed through a coating device such as a slide hopper and the photosensitive liquid is coated on the outer peripheral surface of the drum during the passage. In this case, it is common to feed the substrate drums one by one to the coating means, but if the substrate drums can be fed continuously, productivity,
It is extremely advantageous in terms of preventing the coating liquid from changing over time and making the coating conditions uniform.

しかし、従来は、塗布手段への基体ドラム供給時、排
出時等に基体ドラム移送装置(ボールネジ等)の振動、
衝撃等が基体ドラムへと伝わり、塗布の不均一が生じて
いた。基体ドラム接続時に精密な速度制御を行えば、か
かる問題は軽減できるが、代りに複雑な電気的制御が必
要となって煩雑であり、装置が複雑となり、コストも上
昇する。
However, in the past, vibration of the substrate drum transfer device (ball screw or the like) during supply or discharge of the substrate drum to the coating means,
Impact etc. was transmitted to the substrate drum, resulting in uneven coating. If the speed is precisely controlled when the substrate drum is connected, such a problem can be alleviated, but instead, complicated electric control is required, which is complicated, the device is complicated, and the cost is increased.

ハ.発明の目的 本発明の目的は、被膜が均一で品質の安定した製品を
供給でき、かつ複雑な制御を必要としない被膜形成装置
を提供するものである。
C. OBJECT OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a film forming apparatus which can supply a product having a uniform film and stable quality and which does not require complicated control.

ニ.発明の構成 本発明は、ドラム状基体を相対的に移動させることに
よりこのドラム状基体に被膜形成処理を施す被膜形成処
理手段と、被膜形成処理前の前記ドラム状基体を前記被
膜形成処理手段へと供給することと被膜形成処理中の前
記ドラム状基体を移送することと被膜が未乾燥状態であ
るドラム状基体を排出することとのうち少なくとも一つ
の機能を具備する移送手段と、この移送手段に設けられ
た緩衝機構とを有する被膜形成装置に係るものである。
D. According to the present invention, a film forming treatment means for performing a film forming treatment on a drum-shaped substrate by relatively moving the drum-shaped substrate, and the drum-shaped substrate before the film forming treatment to the film forming treatment means. And a transfer means having at least one of the functions of transferring the drum-shaped substrate during the film forming process and discharging the drum-shaped substrate whose film is in an undried state, and the transfer means. The present invention relates to a film forming apparatus having a cushioning mechanism provided in.

上記において、「緩衝機構」とは、衝撃、振動、機構
両端の速度差等のエネルギーを緩和、吸収する機構(機
素の組み合せ)を意味し、コイルバネ、シリンダー(空
気圧、油圧等)、スライドレール、緩衝ゴム等の任意の
緩衝機構を含み、これらの任意の緩衝機構の組み合せを
も含む。
In the above, the "buffer mechanism" means a mechanism (combination of elements) that absorbs and absorbs energy such as shock, vibration, speed difference between both ends of the mechanism, and includes coil springs, cylinders (pneumatic pressure, hydraulic pressure, etc.), slide rails. , A cushioning rubber, etc., and a combination of these cushioning mechanisms.

ホ.実施例 以下、本発明の実施例を説明する。E. Examples Hereinafter, examples of the present invention will be described.

第1図は塗布装置を示す概略正面図である。 FIG. 1 is a schematic front view showing a coating device.

互いに相対向する一組の塗布装置本体20の内側にはそ
れぞれ上下方向に向うボールネジ22が設けられており、
各ボールネジ22にはそれぞれ昇降部材23が取り付けられ
ている。昇降部材23にはスペーサー把持具28A、28Bがそ
れぞれ固定され、駆動用モータ21、ボールネジ22を駆動
させることにより、昇降部材23、スペーサー把持具28
A、28Bを上昇、下降させられるようになっている。スペ
ーサー把持具28A、28Bは、共にコの字型の把持具本体34
の両端部にハンド把持部30が設けられた構成となってお
り、かつ上下側の各ハンド把持部30には共にスペーサー
把持用ハンド29が固定されている。
Ball screws 22 facing up and down are provided inside the pair of coating device main bodies 20 facing each other.
A lifting member 23 is attached to each ball screw 22. Spacer grippers 28A and 28B are fixed to the elevating member 23, and the elevating member 23 and the spacer gripper 28 are driven by driving the drive motor 21 and the ball screw 22.
A and 28B can be raised and lowered. The spacer grippers 28A and 28B are both U-shaped gripper bodies 34.
Each of the upper and lower hand gripping portions 30 is fixed with a spacer gripping hand 29.

把持具本体34の中央部には、コの字状の折曲部34aが
設けられ、各折曲部34aのボールネジ側端部にはそれぞ
れコイルスプリング50が固着され、このコイルスプリン
グ50の他端は昇降部材23に固着されている。
A U-shaped bent portion 34a is provided at the center of the gripping tool body 34, and a coil spring 50 is fixed to each ball screw side end of each bent portion 34a, and the other end of the coil spring 50 is fixed. Is fixed to the lifting member 23.

各塗布装置本体20の間には供給装置24が設置され、供
給装置24にコイルスプリング50を介してドラム昇降用ハ
ンド33が取り付けられている。ハンド33の上側には順に
スペーサー26C、導電性基体ドラム(ドラム)27B、スペ
ーサー26B、ドラム27A、スペーサー26Aが接続されてお
り、スペーサー26Aの上側にはドラム排出用ハンド25が
配置されている。ドラム排出用ハンド25の上側にはコイ
ルスプリング50を介して図示しない昇降装置が設けられ
ている。
A supply device 24 is installed between the coating device bodies 20, and a drum lifting hand 33 is attached to the supply device 24 via a coil spring 50. A spacer 26C, a conductive substrate drum (drum) 27B, a spacer 26B, a drum 27A, and a spacer 26A are sequentially connected to the upper side of the hand 33, and the drum discharge hand 25 is arranged above the spacer 26A. A lifting device (not shown) is provided on the upper side of the drum discharging hand 25 via a coil spring 50.

スペーサー26Aには突起40が設けられ、この突起40が
ドラム27Aの中空部27a内に嵌合せしめられている。同様
に、ドラム27Aとスペーサー26B、スペーサー26Bとドラ
ム27B、ドラム27Bとスペーサー26Cの間もそれぞれ嵌合
固定されている。
A protrusion 40 is provided on the spacer 26A, and the protrusion 40 is fitted in the hollow portion 27a of the drum 27A. Similarly, the drum 27A and the spacer 26B, the spacer 26B and the drum 27B, and the drum 27B and the spacer 26C are also fitted and fixed, respectively.

塗布手段31は塗布手段載置台32の上に載置されてお
り、塗布手段載置台32は図示省略した保持手段により保
持されている。塗布手段31及び塗布手段載置台32は例え
ば後述する塗布装置(第5図〜第7図参照)のようにド
ラム27A、27B上に塗布液を塗布するものであり、第1図
の例においてはドラム27A、27Bが上昇するに従ってドラ
ム27A、27B上に順次塗膜が形成される。
The coating means 31 is mounted on a coating means mounting base 32, and the coating means mounting base 32 is held by holding means (not shown). The coating means 31 and the coating means mounting table 32 are for coating the coating liquid on the drums 27A and 27B like a coating device (see FIGS. 5 to 7) described later, and in the example of FIG. As the drums 27A and 27B rise, coating films are sequentially formed on the drums 27A and 27B.

第2図(a)はスペーサー把持用ハンド及びハンド把
持部を拡大して示す平面図、同図(b)は同図(a)の
右側面図である。
2A is an enlarged plan view showing the spacer gripping hand and the hand gripping portion, and FIG. 2B is a right side view of FIG. 2A.

ハンド把持部30にはピストン30a及びシリンダ30bが設
けられ、スペーサー把持用ハンド本体29cはネジ30eによ
りピストン30a又はシリンダ30bに取り付けられ、またネ
ジ30dによりハンド把持部30の本体に取り付けられてい
る。各本体29cにはそれぞれ2個の調整ユニット29bが固
定され、スペーサー26が相対向する4個の調整ユニット
29b間に挾持されるようになっている。各調整ユニット2
9bはドラム27A、27Bの中心位置が径方向へとずれないよ
う位置調整するものである。各調整ユニット29bの先端
部分にはベアリング29aが設けられ、スペーサー26は4
個のベアリング29aにより押圧され、挾持されることと
なる。
The hand grip 30 is provided with a piston 30a and a cylinder 30b, the spacer gripping hand main body 29c is attached to the piston 30a or the cylinder 30b with a screw 30e, and is attached to the main body of the hand grip 30 with a screw 30d. Two adjustment units 29b are fixed to each body 29c, and four adjustment units have spacers 26 facing each other.
It is supposed to be held between 29b. Each adjustment unit 2
The position 9b is for position adjustment so that the center positions of the drums 27A and 27B are not displaced in the radial direction. A bearing 29a is provided at the tip of each adjusting unit 29b, and the spacer 26 has four
It is pressed and held by the individual bearings 29a.

第2図(a)において、実線で示すようにシリンダ30
bを動作させることにより(この動作は空気圧等公知の
手段により行われる。)、スペーサー26が把持されるこ
ととなる。なお、30cは調整用ネジである。
In FIG. 2 (a), the cylinder 30 is indicated by the solid line.
By operating b (this operation is performed by a known means such as air pressure), the spacer 26 is gripped. Note that 30c is an adjusting screw.

次に、シリンダ30bを一点鎖線で示すように動作させ
ると、本体29cはネジ30dを支点として一点鎖線で示すよ
うに回動し、ベアリング29aとスペーサー26とは引き離
され、スペーサー26の把持は解除される。
Next, when the cylinder 30b is operated as indicated by the alternate long and short dash line, the main body 29c rotates about the screw 30d as the fulcrum as indicated by the alternate long and short dash line, the bearing 29a and the spacer 26 are separated, and the gripping of the spacer 26 is released. To be done.

第3図(a)〜(h)は、上記のような塗布装置を用
いた場合にドラム外周面に塗膜が形成されるプロセスを
示す要部概略正面図である。
FIGS. 3 (a) to 3 (h) are main part schematic front views showing a process of forming a coating film on the outer peripheral surface of the drum when the above coating device is used.

第3図(a)に示す状態では、スペーサー26A、26Bが
スペーサー把持具28Aに設けられたスペーサー把持用ハ
ンド(以下、ハンドと呼ぶことがある。)29により把持
されており、スペーサー26Aと26Bとの間に塗布の終了し
たドラム27Aが嵌合保持されている。なお、第3図にお
いて、矢印Gはスペーサー把持用ハンドによりスペーサ
ーが保持されている状態(以下、保持状態という。)を
表す。スペーサー把持具28B側のハンド29はスペーサー
の保持から解除された状態(以下、解除状態という。)
となっている。ドラム27Bはスペーサー26Cを介してドラ
ム昇降用ハンド33により保持されている。
In the state shown in FIG. 3 (a), the spacers 26A and 26B are gripped by the spacer gripping hand (hereinafter also referred to as a hand) 29 provided on the spacer gripping tool 28A, and the spacers 26A and 26B. The drum 27A for which application has been completed is fitted and held between and. In FIG. 3, an arrow G represents a state in which the spacer is held by the spacer gripping hand (hereinafter referred to as a holding state). The hand 29 on the side of the spacer gripping tool 28B is released from holding the spacer (hereinafter referred to as a released state).
Has become. The drum 27B is held by the drum lifting hand 33 via the spacer 26C.

次いで、第3図(b)に示すように、ドラム排出用ハ
ンド25がスペーサー26Aに嵌合され、かつドラム昇降用
ハンド33が上昇してドラム27Bがスペーサー26Bの下端面
に装着される。
Next, as shown in FIG. 3 (b), the drum discharging hand 25 is fitted to the spacer 26A, and the drum lifting hand 33 is raised to mount the drum 27B on the lower end surface of the spacer 26B.

また、第3図(c)に示すように、スペーサー把持具
28A側のハンド29を解除状態とし、スペーサー把持具28B
側のハンド29を保持状態とする。かつ、ドラム排出用ハ
ンド25を上昇させてスペーサー26A及び塗布の終了した
ドラム27Aを引き上げ、ドラム27Aを塗布装置から排出す
る。この後、排出されたドラム27Aには必要に応じて他
の処理が施される。また、スペーサー26Cのドラム昇降
用ハンド33による把持は解除され、ドラム昇降用ハンド
33は下降する。
Also, as shown in FIG. 3 (c), a spacer gripping tool
28A side hand 29 is released and the spacer gripper 28B
The side hand 29 is held. At the same time, the drum discharge hand 25 is raised to raise the spacer 26A and the drum 27A after coating, and the drum 27A is discharged from the coating device. After that, the discharged drum 27A is subjected to other processing as necessary. Further, the gripping of the spacer 26C by the drum lifting hand 33 is released, and the drum lifting hand 33 is released.
33 descends.

また、第3図(d)に示すように、スペーサー把持具
28Bはスペーサー26B、26Cを把持した状態で上昇し、結
果としてドラム27Bは塗布手段31内を通過し、ドラム27B
の外周面に塗布液が塗布されることとなる。一方、スペ
ーサー把持具28Aは、第3図(c)においてスペーサー
把持具28Bが配置されていた高さにまで下降する。
Also, as shown in FIG. 3 (d), a spacer gripping tool
28B rises while holding the spacers 26B and 26C, and as a result, the drum 27B passes through the inside of the coating means 31 and the drum 27B
The coating liquid is applied to the outer peripheral surface of the. On the other hand, the spacer gripping tool 28A descends to the height at which the spacer gripping tool 28B was disposed in FIG. 3 (c).

次いで、第3図(e)に示すように、スペーサー把持
具28Bが所定の高さ(第3図(a)におけるスペーサー
把持具28Aの高さと同じである。)まで上昇し、またド
ラム昇降用ハンド33上に公知の手段によってスペーサー
26D及びドラム27Cが嵌合装着される。この状態で、ドラ
ム27Bの外周面の塗布は終了し、第3図(a)と全く同
様の状態となる(即ち、第3図(a)と第3図(b)と
は鏡像の関係、即ち左右を入れ換えた状態となる。)。
Then, as shown in FIG. 3 (e), the spacer gripping tool 28B is raised to a predetermined height (the same height as the spacer gripping tool 28A in FIG. 3 (a)), and also for raising and lowering the drum. Spacer on the hand 33 by known means
26D and drum 27C are fitted and mounted. In this state, the coating on the outer peripheral surface of the drum 27B is completed, and the state becomes exactly the same as that in FIG. 3 (a) (that is, the relationship between FIG. 3 (a) and FIG. 3 (b) is a mirror image, That is, the left and right are swapped.)

次いで、第3図(f)に示すように、ドラム排出用ハ
ンド25がスペーサー26Bに嵌合され、かつドラム昇降用
ハンド33が上昇してドラム27Cがスペーサー26Cの下端面
に装着される。
Next, as shown in FIG. 3 (f), the drum discharge hand 25 is fitted to the spacer 26B, and the drum lifting hand 33 is raised to mount the drum 27C on the lower end surface of the spacer 26C.

次いで、第3図(g)に示すように、スペーサー把持
具28B側のハンド29を解除状態とし、スペーサー把持具2
8A側のハンド29を保持状態とする。そして、ドラム排出
用ハンド25を上昇させてスペーサー26B及び塗布の終了
したドラム27Bを引き上げ、ドラム27Bを塗布装置から排
出する。また、スペーサー26Dのドラム昇降用ハンド33
による把持は解除され、ドラム昇降用ハンド33は下降す
る。
Next, as shown in FIG. 3 (g), the hand 29 on the side of the spacer gripping tool 28B is released, and the spacer gripping tool 2
The hand 29 on the 8A side is held. Then, the drum discharge hand 25 is raised to pull up the spacer 26B and the drum 27B for which coating has been completed, and the drum 27B is discharged from the coating device. In addition, the spacer 26D drum lifting hand 33
The grip by is released, and the drum lifting hand 33 is lowered.

次いで、第3図(h)に示すように、スペーサー把持
具28Aはスペーサー26C、26Dを把持した状態で上昇し、
結果としてドラム27Cは塗布手段31内を通過し、ドラム2
7Cの外周面に塗布液が塗布されることとなる。一方、ス
ペーサー把持具28Bは、所定の高さにまで下降する。
Next, as shown in FIG. 3 (h), the spacer gripper 28A moves upward while gripping the spacers 26C and 26D,
As a result, the drum 27C passes through the inside of the coating means 31, and the drum 2C
The coating liquid will be applied to the outer peripheral surface of 7C. On the other hand, the spacer gripping tool 28B descends to a predetermined height.

この後、スペーサー把持具28Aが所定の高さにまで上
昇し、またドラム昇降用ハンド33上にスペーサー及びド
ラムが嵌合装着され、第3図(a)の状態に戻ることと
なる。これにより、塗布プロセスの1サイクルが終了
し、2本のドラムの塗布が行われる。
After that, the spacer gripping tool 28A is raised to a predetermined height, the spacer and the drum are fitted and mounted on the drum lifting hand 33, and the state shown in FIG. 3 (a) is restored. As a result, one cycle of the coating process is completed and the two drums are coated.

本例の塗布装置により、以下の顕著な効果を奏しう
る。
The coating apparatus of this example can exert the following remarkable effects.

(a).基体ドラムを1本毎塗布する従来の塗布装置に
よれば、ドラムを1本塗布するごとに作業を中断し、新
たなドラムの載置、ブレードの洗浄が必要であって、連
続的なドラムの塗布が不可能であった。このため、作業
能率が低下し、また作業を中断している間に塗布液の物
性が変化したり乾固物の生成を招き、このため塗膜の不
均一や塗布欠陥の原因となっていた。
(A). According to the conventional coating apparatus that coats each base drum one by one, the work is interrupted every time one drum is coated, a new drum must be placed, and the blade must be cleaned. It was impossible to apply. For this reason, the work efficiency is lowered, and the physical properties of the coating liquid are changed or dry solids are generated during the interruption of the work, which causes unevenness of the coating film and coating defects. .

これに対し、本例の塗布装置では、2本のスペーサー
把持具を交互に動作させることにより、塗布装置に連続
的にドラムを供給でき、かつドラム外周面に連続的に塗
布層を形成できる。これにより塗布装置を連続して稼動
させられるので生産性が著しく向上すると共に、作業の
中断に伴う塗布液の物性の劣化や乾固物の生成を防止で
き、均一かつ塗布欠陥の防止された良質の塗膜を安定し
て供給できる。
On the other hand, in the coating apparatus of the present example, by alternately operating the two spacer gripping tools, the drum can be continuously supplied to the coating apparatus and the coating layer can be continuously formed on the outer peripheral surface of the drum. As a result, the coating device can be operated continuously, so that productivity is significantly improved, and the deterioration of physical properties of the coating liquid and the production of dry solids due to the interruption of work can be prevented, resulting in a uniform and high-quality coating. Can be stably supplied.

(b).スペーサーを把持しているので、ドラム表面に
把持具が接触せず、塗膜形成前のドラム表面及び既塗布
の塗膜への悪影響を防止できる。
(B). Since the spacer is gripped, the gripper does not come into contact with the drum surface, and it is possible to prevent adverse effects on the drum surface before coating film formation and the coating film already applied.

(c).ドラムの上下端に嵌合固定したスペーサーを共
に把持し、これらのスペーサーを同速度で上昇させるこ
とによりドラムを上昇させ、ドラム外周面の塗布を行っ
ているので、ドラム塗布時にドラムが上下方向から固定
され、特に第3図において左右方向への横揺れを生ずる
ことはなく、位置精度を充分に高めうる。従って、塗布
を安定して行うことができ、周方向に均一な塗布層形成
が可能となる。
(C). The spacers fitted and fixed to the upper and lower ends of the drum are held together, and the drums are raised by raising these spacers at the same speed to coat the outer peripheral surface of the drum. It is fixed, and in particular, horizontal rolling in the left-right direction does not occur in FIG. 3, and the positional accuracy can be sufficiently improved. Therefore, the coating can be stably performed, and the coating layer can be formed uniformly in the circumferential direction.

(d).昇降部材23、ドラム供給用ハンド33、ドラム排
出用ハンド25の駆動時には、駆動源(モータ等)からく
る振動が不可避的にスペーサー、基体ドラムへと伝わ
る。
(D). When the lifting member 23, the drum supply hand 33, and the drum discharge hand 25 are driven, vibrations from a drive source (motor or the like) are inevitably transmitted to the spacer and the base drum.

しかし、本例では、ハンド25、33、基体ドラム把持具
28A、28Bのいずれも駆動源とコイルスプリング50を介し
て連結保持されているために、上記の振動はコイルスプ
リング50の微小振動として吸収され、減衰するので、特
に未乾燥の塗膜を有する基体ドラム27Aと(第3図
(a)〜(c))へとは伝わらないのである。従って塗
膜に乱れが生じず、均一な塗膜を形成できる。
However, in this example, the hands 25 and 33, the base drum gripping tool
Since both 28A and 28B are connected and held to the drive source through the coil spring 50, the above-mentioned vibration is absorbed and attenuated as a minute vibration of the coil spring 50. It does not reach the drum 27A and (Figs. 3 (a) to (c)). Therefore, the coating film is not disturbed and a uniform coating film can be formed.

また、第3図(b)に示すように、ドラム27Bがスペ
ーサー26Bの下端面に装着される際、把持具28Aの上昇速
度よりもドラム把持用ハンド33の上昇速度の方が大きい
ため、装着時の衝撃が不可避的に既塗布の基体ドラム27
Aに伝わる。しかし、この衝撃は、ドラム供給用ハンド3
3に固着されたコイルスプリング50及びドラム把持具28A
側のコイルスプリング50により吸収、緩和される。同様
に、ドラム排出用ハンド25をスペーサー26Aに装着する
際(第3図(b))の衝撃も、ドラム排出用ハンド25
の、ドラム把持具28Aにそれぞれ固着されたコイルスプ
リング50により吸収、緩和される。
As shown in FIG. 3 (b), when the drum 27B is mounted on the lower end surface of the spacer 26B, the rising speed of the drum gripping hand 33 is higher than the rising speed of the gripping tool 28A. Inevitably the impact of time, the already applied base drum 27
It is transmitted to A. However, this shock is due to the drum supply hand 3
Coil spring 50 fixed to 3 and drum gripping tool 28A
It is absorbed and relaxed by the coil spring 50 on the side. Similarly, when the drum discharge hand 25 is attached to the spacer 26A (FIG. 3 (b)), the impact of the drum discharge hand 25 is also reduced.
Are absorbed and relaxed by the coil springs 50 fixed to the drum grippers 28A.

更に、第3図(b)から同図(c)に示すように、ド
ラム把持具28Bによる把持と把持具28Aの解除が行われる
際、把持具28Aと28Bとの移動速度の差があると、この差
に基づく振動が発生する。これを除くためには、例えば
電気的制御手段を用いて精密に同期を行うことも考えら
れるが、前記したように機構が複雑となる。しかし、こ
の点本例では、上記振動を把持具28Aと28Bとにそれぞれ
固着された各2個毎のコイルスプリング50に吸収させう
る。従って、把持具28Aと28Bとの移動速度を同調させる
ための高度な制御も必要ないのである。
Further, as shown in FIGS. 3 (b) to 3 (c), when gripping by the drum gripping tool 28B and releasing of the gripping tool 28A are performed, there is a difference in moving speed between the gripping tools 28A and 28B. The vibration is generated based on this difference. In order to eliminate this, it is conceivable to perform precise synchronization by using, for example, an electric control means, but the mechanism becomes complicated as described above. However, in this point, in the present example, the above-mentioned vibration can be absorbed by each two coil springs 50 fixed to the grippers 28A and 28B. Therefore, there is no need for sophisticated control for synchronizing the moving speeds of the grippers 28A and 28B.

しかも、本例では、上記の効果をコイルスプリングと
いう極めて簡便な機構により達成できる。
Moreover, in the present example, the above effects can be achieved by a very simple mechanism called a coil spring.

(e).第3図(b)に示すように、ドラム27Bがスペ
ーサー26Bの下端面に装着される際、また、ドラム排出
用ハンド25がスペーサー26Aへと装着される際、共に未
乾燥の基体ドラム27Aと衝撃発生部位の間にはスペーサ
ー26A、26Bが介在している。従って、衝撃をスペーサー
26A、26Bにより緩和する効果もあるので、上記コイルス
プリングの緩衝作用と相まって、衝撃の吸収が一層完全
となる。
(E). As shown in FIG. 3 (b), when the drum 27B is mounted on the lower end surface of the spacer 26B, and when the drum discharge hand 25 is mounted on the spacer 26A, both the undried base drum 27A and Spacers 26A and 26B are interposed between the impact occurrence sites. Therefore, shock the spacer
26A and 26B also have the effect of mitigating the shock, so that the shock absorption becomes more complete in combination with the buffering action of the coil spring.

(f).上記したような衝撃や振動が既塗布の未乾燥基
体ドラムに伝わると、特に電気写真感光体の塗膜(キャ
リア発生層、キャリア輸送層等)形成時には、塗膜の乱
れた部分がそのまま画像として現れてしまう。
(F). When the impact and vibration described above are transmitted to the undried substrate drum that has already been applied, the distorted portion of the coating film remains as an image when the coating film (carrier generation layer, carrier transport layer, etc.) of the electrophotographic photoreceptor is formed. Will appear.

これと反対に、本例では、塗膜を均一とでき、塗膜の
乱れを防止できる結果、画像の乱れを防止でき、高品質
の画像を提供できる。
On the contrary, in this example, the coating film can be made uniform and the disturbance of the coating film can be prevented, so that the disturbance of the image can be prevented and a high quality image can be provided.

第4図は他のスペーサー把持用ハンドを示す概略平面
図である。
FIG. 4 is a schematic plan view showing another spacer holding hand.

スペーサー26を挾んで互いに相対向して設けられた一
組のスペーサー把持用ハンド39A、39Bによりスペーサー
26が保持されている。ここで、39aはベアリング、39bは
調整ユニット、39cはハンド本体である。そして、同じ
くスペーサー26を挾んで設けられたもう一組のハンド39
C、39Dはスペーサー26から離隔され、保持が解除された
状態にある。
The spacer 26 is sandwiched by a pair of spacer holding hands 39A and 39B that are provided to face each other.
26 are held. Here, 39a is a bearing, 39b is an adjusting unit, and 39c is a hand main body. And another set of hands 39, which is also provided with the spacer 26 in between.
C and 39D are separated from the spacer 26, and the holding is released.

スペーサー把持用ハンド39A、39B、39C、39Dはいずれ
も矢印で示す方向へと空気圧で動作するシリンダー、ス
プリング等の公知のアクチュエーターによって作動可能
とされており、第2図のスペーサー把持用ハンド29と同
様、スペーサーを保持している保持状態と保持の解除さ
れた解除状態とを選択できるようになっている。
Each of the spacer gripping hands 39A, 39B, 39C, 39D can be operated by a known actuator such as a cylinder or a spring that is pneumatically operated in a direction indicated by an arrow. Similarly, the holding state in which the spacer is held and the released state in which the holding is released can be selected.

本例においては、第2図のハンド29と異なり、互いに
対向する一組の別体に設けられたハンド39B、39A又は39
C、39Dによりスペーサー26が保持されるようになってお
り、一組のハンド39A及び39B、或いは39C及び39Dにより
第2図のハンド29と同様の機能を営むものである。
In this example, unlike the hand 29 of FIG. 2, a pair of separate hands 39B, 39A or 39 facing each other are provided.
The spacer 26 is held by C and 39D, and the pair of hands 39A and 39B or 39C and 39D perform the same function as the hand 29 of FIG.

本例のハンド39A、39B等を用いた場合には、第1図に
示すような塗布装置において、ハンド39A、39B、39C、3
9Dをそれぞれ上昇、下降させる必要がある。従って、第
7図に示すように、ハンド39A、39B、39C、39Dの背面に
それぞれボールネジ22を設置し、ハンドの上昇、下降を
行わせるようにしている。
When the hands 39A, 39B and the like of this example are used, the hands 39A, 39B, 39C, 3
It is necessary to raise and lower 9D respectively. Therefore, as shown in FIG. 7, ball screws 22 are installed on the back surfaces of the hands 39A, 39B, 39C and 39D, respectively, so that the hands can be raised and lowered.

第5図は本発明に使用可能な塗布手段を例示するもの
であり、同図(a)は導電性基体ドラム27上にスライド
ホッパー装置を用いて塗布液を塗布している状態を示す
断面図、同図(b)はスライドホッパー装置を示す斜視
図である。
FIG. 5 exemplifies a coating means usable in the present invention, and FIG. 5 (a) is a sectional view showing a state in which the coating liquid is coated on the conductive substrate drum 27 by using a slide hopper device. FIG. 1B is a perspective view showing the slide hopper device.

塗布液供給パイプ14へと図示しないポンプにより塗布
に必要な量だけ供給された塗布液Sは、塗布液分配室12
によって円周方向へと均一に分配され、分配スリット13
を通過し、スライド面17を円周方向に均一に流下する。
しかる後、塗布液Sはホッパーエッジ16とドラム27外周
面との間にビードを形成する。このビードとドラム27外
周面とを接触せしめた状態で、導電性基体27を矢印Aの
方向へと駆動すると、ドラム27外周面上に塗布層3が塗
布される。なお、第5図中、15は液受けである。
The coating liquid S supplied to the coating liquid supply pipe 14 by a pump (not shown) in an amount necessary for coating is supplied to the coating liquid distribution chamber 12
Are evenly distributed in the circumferential direction by the distribution slit 13
And flows down the slide surface 17 uniformly in the circumferential direction.
Thereafter, the coating liquid S forms a bead between the hopper edge 16 and the outer peripheral surface of the drum 27. When the conductive substrate 27 is driven in the direction of arrow A with the bead and the outer peripheral surface of the drum 27 in contact with each other, the coating layer 3 is applied onto the outer peripheral surface of the drum 27. In FIG. 5, numeral 15 is a liquid receiver.

かかる塗布装置によれば、導電性基体ドラム上に塗布
液Sを塗布した場合に、一旦塗布された塗布層3から速
やかに溶媒が蒸発する。また、塗布液Sは塗布に必要な
量だけ供給されるので、塗布液の無駄が少なく、材料の
コストダウンを図ることもできる。
According to such a coating device, when the coating liquid S is coated on the conductive substrate drum, the solvent is quickly evaporated from the coating layer 3 which has been once coated. Further, since the coating liquid S is supplied in an amount necessary for coating, waste of the coating liquid is small and the cost of the material can be reduced.

また、本例の装置においては、被塗布体の円周方向に
継ぎ目なく分配スリットが配置されているため、継ぎ目
のない均一な塗膜が得られ、また膜厚は塗布液供給量、
粘度、導電性基体の移動速度により決定されるため、制
御可能であり、迅速塗布が可能で生産性が高い。
Further, in the apparatus of this example, since the distribution slits are arranged seamlessly in the circumferential direction of the object to be coated, a uniform coating film having no seam is obtained, and the film thickness is the coating liquid supply amount,
Since it is determined by the viscosity and the moving speed of the conductive substrate, it is controllable, rapid coating is possible, and productivity is high.

また、塗布に必要な量の塗布液を供給しているので、
特にキャリア発生層形成用塗布液のように液物性の変化
し易い塗布液を用いた場合にも、塗布液の物性変化を抑
えることができ、有利である。
Also, since the amount of coating liquid required for coating is supplied,
In particular, even when a coating liquid whose liquid properties are easily changed, such as a coating liquid for forming a carrier generating layer, is used, it is possible to suppress the change in physical properties of the coating liquid, which is advantageous.

第6図は押し出しホッパー装置により導電性基体ドラ
ム上に塗布液を塗布している状態を示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing a state in which the coating liquid is applied on the conductive substrate drum by the extrusion hopper device.

塗布液供給パイプ14へと図示しないポンプより塗布に
必要な量だけ供給された塗布液Sは、塗布液分配室12に
よって円周方向へと均一に分配され、分配スリット13内
を押し出され、ホッパーエッジ16より均一かつ連続的に
流出してドラム27外周面との間に塗布液ビードを形成
し、これにより塗布層3が塗布される。
The coating liquid S, which is supplied to the coating liquid supply pipe 14 by a pump (not shown) in an amount necessary for coating, is evenly distributed in the circumferential direction by the coating liquid distribution chamber 12, and is pushed out through the distribution slit 13 to form a hopper. It uniformly and continuously flows out from the edge 16 to form a coating liquid bead with the outer peripheral surface of the drum 27, whereby the coating layer 3 is coated.

ホッパーエッジ16の長さは0.1〜10mm、好ましくは0.5
〜4mmが良い。ホッパーエッジの傾斜角は鉛直下方から3
0度迄の範囲内がよく、鉛直下方から20度迄の範囲内と
するのが更によい。ホッパーエッジの傾斜角が30度を超
えると塗布液の架橋が短くなり、良好な塗膜を得にくく
なる。
Hopper edge 16 length is 0.1-10mm, preferably 0.5
~ 4mm is good. Inclination angle of hopper edge is 3 from below vertically
The range is preferably up to 0 °, more preferably up to 20 ° from below. When the inclination angle of the hopper edge exceeds 30 degrees, the cross-linking of the coating solution becomes short and it becomes difficult to obtain a good coating film.

エンドレスに形成された連続面を有する被塗布体が円
筒形である場合塗布液分配スリットが円形であり、この
円筒形基材直径よりやや大なる直径(0.05〜1mm大なる
直径)の円周状終端部をもち、かつ円錐状斜面をもつ塗
布装置を用いることによって好適に塗布できる。
If the object to be coated having an endless continuous surface is cylindrical, the coating liquid distribution slit is circular, and the diameter is slightly larger than this cylindrical substrate diameter (0.05 to 1 mm larger diameter). The coating can be suitably performed by using a coating device having a conical surface having a terminal end portion.

塗布液分配室に塗布液を供給する塗布液供給手段とし
てパイプを用いることが好ましく、2つ以上のパイプを
用いてもよい。塗布液の安全性、均一性等のためには2
つ以上のパイプを用いてもよい。
A pipe is preferably used as the coating liquid supply means for supplying the coating liquid to the coating liquid distribution chamber, and two or more pipes may be used. 2 for safety and uniformity of coating liquid
One or more pipes may be used.

スライド面終端部の径と被塗布体(円筒状)の外径と
の間隙は0.05〜1mmが好ましく、0.1〜0.6mmがより好ま
しい。スライド面の傾斜角は水平に対して10゜〜70゜が
好ましく、20゜〜45゜が更に好ましい。
The gap between the diameter of the end of the slide surface and the outer diameter of the body to be coated (cylindrical) is preferably 0.05 to 1 mm, more preferably 0.1 to 0.6 mm. The inclination angle of the slide surface is preferably 10 ° to 70 ° with respect to the horizontal, and more preferably 20 ° to 45 °.

塗布液の粘度は0.5〜700Cpの範囲内が良く、1〜500C
pが更に良い。
The viscosity of the coating solution should be in the range of 0.5 to 700 Cp, 1 to 500 C
p is even better.

なお、塗布液が塗布液分配スリットから円周方向に均
一に流出するようにするためには、スライドホッパー装
置にあっては、分配室抵抗(Pc)と塗布液分配スリット
を流れるときのスリット抵抗(Ps)とがPs/Pc≧80で、
より好ましくは100〜100,000の範囲であり、押し出しホ
ッパー装置にあっては、分配室抵抗(Pc)と、塗布液分
配スリットを流れる際のスリット抵抗(Ps)とがPs/Pc
≧40、より好ましくは40〜100,000の範囲内の関係に保
たれる事により、塗布液を安定且つ均一に塗布すること
が可能である。
In order to make the coating liquid flow out uniformly from the coating liquid distribution slit in the circumferential direction, in the slide hopper device, the distribution chamber resistance (Pc) and the slit resistance when flowing through the coating liquid distribution slit. (Ps) is Ps / Pc ≧ 80,
It is more preferably in the range of 100 to 100,000, and in the extrusion hopper device, the distribution chamber resistance (Pc) and the slit resistance (Ps) when flowing through the coating liquid distribution slit are Ps / Pc.
By maintaining the relationship of ≧ 40, more preferably within the range of 40 to 100,000, it is possible to apply the coating solution stably and uniformly.

これら分配室抵抗(Pc)、スリット抵抗(Ps)は、塗
布液供給速度、粘度、供給圧に応じて決定すればよい。
The distribution chamber resistance (Pc) and the slit resistance (Ps) may be determined according to the coating liquid supply speed, viscosity, and supply pressure.

押し出しホッパー装置においては、ホッパーエッジは
被塗布体外径より0.05〜1mm大きく、より好ましくは塗
布膜厚をho mmとすると2ho mmから4ho mmまでの範囲で
あり、塗布方向長さ0.1〜10mm、より好ましくは0.5〜4m
mを有するものであるのが望ましい。また該ホッパーエ
ッジはその上端より鉛直下方及びそれより30度までの範
囲内で前記基材の反対側に傾斜したものであり、より好
ましくは鉛直下方及びそれより20度までの範囲内で傾い
て延びるものがよい。またホッパーエッジの傾斜が30度
を越えると塗布液の架橋が短くなり、ビードが不安定と
なって良好な塗布膜が得にくくなる。
In the extrusion hopper device, the hopper edge is 0.05 to 1 mm larger than the outer diameter of the object to be coated, more preferably in the range of 2 ho mm to 4 ho mm when the coating film thickness is ho mm, and the coating direction length is 0.1 to 10 mm. Preferably 0.5-4m
It is desirable to have m. Further, the hopper edge is inclined vertically downward from the upper end and within 30 degrees from it, and is inclined toward the opposite side of the base material, more preferably vertically downward and inclined within 20 degrees from it. The one that extends is good. If the inclination of the hopper edge exceeds 30 degrees, the cross-linking of the coating solution becomes short, the bead becomes unstable, and it becomes difficult to obtain a good coating film.

塗布装置に供給された各塗布液は一旦各塗布液分配室
に溜められ、これに連結する各々の塗布液分配スリット
に塗布液を均一に分配するようにされるが、前記各塗布
液を前記各々スリットに均一に分配しかつ前記各々スリ
ットに分配された各塗布液を基材面に均一に塗布できる
ようにするには、前記各々塗布液分配スリットに対する
前記各塗布液分配室の圧力損失比はスライド型のもので
80以上であり、好ましくは80〜100,000の範囲内であ
り、また押し出し型のものでは、該圧力損失比は40以上
であり、好ましくは40〜100,000の範囲内である。圧力
損失が80(スライド型)、および40(押し出し型)未満
の場合は、塗布液の均一な分配及び塗布ができにくくな
り、両者共100,000を超えると塗布液分配室を大きくす
るとか、スリットを長くする必要が生じ装置構造上問題
を生ずる。
Each coating liquid supplied to the coating device is temporarily stored in each coating liquid distribution chamber, and the coating liquid is evenly distributed to each coating liquid distribution slit connected thereto. The pressure loss ratio of each coating liquid distribution chamber to each coating liquid distribution slit is set so that each coating liquid evenly distributed to each slit and each coating liquid distributed to each slit can be uniformly coated on the substrate surface. Is a slide type
It is 80 or more, preferably in the range of 80 to 100,000, and in the extrusion type, the pressure loss ratio is 40 or more, preferably in the range of 40 to 100,000. If the pressure loss is less than 80 (slide type) and 40 (extrusion type), it will be difficult to evenly distribute and apply the coating liquid. If both exceed 100,000, the coating liquid distribution chamber will be enlarged or slits will be created. It is necessary to increase the length, which causes a problem in the structure of the device.

塗布装置を用いて被塗布体に形成される塗布膜は、塗
布液ビードによる。即ち、塗布装置を離れる塗布液の層
は、その離れるときと同じ厚さの層で被塗布体に直接塗
布されるのではなくて、一度液溜り(塗布液ビード)を
形成し、このビードから被塗布体が塗布液を引きとって
いくのである。従ってこの塗布液ビードによって形成さ
れる塗布膜は、実際上、塗布装置から被塗布体に直接形
成されるのではなく、塗布装置は単に塗布液ビードを維
持し、被塗布体はそのビードから塗布される。該塗布液
ビードの維持は、塗布液分配スリットを押し出された塗
布液又は液スライド部上を流下してきた塗布液により、
被塗布体とホッパーエッジとの間に架橋して形成され
る。このビードによる塗布では、そのビードを横切って
これと交叉して移動する被塗布体上に塗布される塗布膜
の厚みは、ビードの作用によって決定され且つ被塗布体
が移動する速度、塗布液の供給速度および供給圧、ホッ
パー構造の効率等によって変化する。
The coating film formed on the object to be coated using the coating device is based on the coating liquid bead. That is, the layer of the coating liquid leaving the coating device is not directly applied to the object to be coated with a layer having the same thickness as when the coating device is leaving, but once a liquid pool (coating liquid bead) is formed, and from this bead The object to be coated draws off the coating liquid. Therefore, the coating film formed by this coating liquid bead is not actually formed directly from the coating device to the coating object, but the coating device simply maintains the coating liquid bead and the coating target is coated from the bead. To be done. The coating liquid bead is maintained by the coating liquid extruded from the coating liquid distribution slit or the coating liquid flowing down on the liquid slide portion.
It is formed by bridging between the object to be coated and the hopper edge. In coating with this bead, the thickness of the coating film applied on the object to be moved across the bead and intersecting with the bead is determined by the action of the bead, and the speed at which the object to be moved moves, It changes depending on the feed rate and feed pressure, the efficiency of the hopper structure, etc.

排出パイプより排出された塗布液は、例えば撹拌器に
よる撹拌等の処理を行った後、再び塗布液として供給パ
イプに供給されるように、塗布液を循環させるよう構成
してもよい。
The coating liquid discharged from the discharge pipe may be circulated so that the coating liquid is supplied to the supply pipe again as a coating liquid after being subjected to treatment such as stirring by a stirrer.

塗布液分配室内の塗布液を排出する塗布液排出口また
は排出パイプに、塗布液の排出液量を規制するバルブを
設け、供給側だけによらず、排出側においても液量調節
を行うようにしてもよい。
A valve for regulating the discharge amount of the coating liquid is provided at the coating liquid discharge port or the discharge pipe for discharging the coating liquid in the coating liquid distribution chamber, and the liquid amount is adjusted not only on the supply side but also on the discharge side. May be.

塗布液の供給は、供給パイプから供給され、一部は塗
布液分配スリットを通じて塗布面に流出し、他の一部は
排出パイプにより排出され、この液の流れは連続的に行
われるが、塗布液の凝集時間を考慮して塗布液を一定時
間毎に供給するなど、塗布液供給を間欠的に行ってもよ
い。
The supply of the coating liquid is supplied from the supply pipe, part of which flows out to the coating surface through the coating liquid distribution slit, and the other part of which is discharged by the discharge pipe. The coating liquid may be supplied intermittently, for example, by supplying the coating liquid at regular intervals in consideration of the aggregation time of the liquid.

上記したような、ホッパー装置を用いた塗布の場合に
は、塗膜の膜厚を塗布液ビードの流量で規制するため、
ドラムの移動速度の変化、乱れ、振動がそのまま塗膜の
段状ムラ等となって現れたり、塗膜のタレを生じてしま
う場合すらある。
In the case of coating using the hopper device as described above, in order to regulate the film thickness of the coating film by the flow rate of the coating liquid bead,
In some cases, changes in the moving speed of the drum, turbulence, and vibration may appear as they are in a stepwise unevenness of the coating film, or even sagging of the coating film may occur.

この点、本発明の塗布装置によれば、塗膜形成手段と
してホッパー装置を用いた場合にも、かかる問題が生ぜ
ず、特に効果が顕著である。
In this respect, according to the coating device of the present invention, even when a hopper device is used as the coating film forming means, such a problem does not occur, and the effect is particularly remarkable.

第7図は、他の塗布手段を示す部分断面図である。 FIG. 7 is a partial cross-sectional view showing another coating means.

積載板60に底板62が固定され、底板62の上面と押圧板
63とによりブレード34が挾着されている。塗布液Sは液
槽66に収容され、液槽66に塗布液Sを補給するための液
補給板67が液槽66の上面に取りつけられ、この液補給板
67に一対の液供給口68が設けられている。装置全体は略
円筒状に形成されている。ブレード64は、可撓性を有す
るゴム、合成樹脂等の材質にて形成され、ドラム27を挾
着保持できるよう構成されている。
The bottom plate 62 is fixed to the loading plate 60, and the upper surface of the bottom plate 62 and the pressing plate
The blade 34 is clamped by 63. The coating liquid S is contained in the liquid tank 66, and a liquid supply plate 67 for replenishing the coating liquid S to the liquid tank 66 is attached to the upper surface of the liquid tank 66.
A pair of liquid supply ports 68 is provided at 67. The entire device is formed in a substantially cylindrical shape. The blade 64 is made of a flexible material such as rubber or synthetic resin, and is configured to hold the drum 27 in place.

底板62、押圧板63、液槽66には略同一径の孔部69aが
貫設されると共に、前記液補給板67には孔部69aよりも
小径の孔部69bが貫設され、かつ前記ブレード64には孔
部69bよりもさらに小径の孔部69cが貫設される。そし
て、ドラム27又はスペーサーを嵌挿した状態において、
ブレード64の孔部69c周縁がドラム27及びスペーサーの
外周面に密着すると共に、前記液補給板67の孔部69bの
周縁とドラム27又はスペーサーの外周面とに僅かな間隙
が形成される。
The bottom plate 62, the pressing plate 63, the liquid tank 66 is provided with a hole portion 69a having substantially the same diameter, and the liquid supply plate 67 is provided with a hole portion 69b having a smaller diameter than the hole portion 69a. The blade 64 is provided with a hole portion 69c having a diameter smaller than that of the hole portion 69b. Then, with the drum 27 or the spacer fitted,
The peripheral edge of the hole portion 69c of the blade 64 is in close contact with the outer peripheral surface of the drum 27 and the spacer, and a slight gap is formed between the peripheral edge of the hole portion 69b of the liquid supply plate 67 and the outer peripheral surface of the drum 27 or the spacer.

孔部69bがドラム27又はスペーサーに近接しているた
め、塗布時における溶剤の蒸発を抑制でき、また既塗布
のドラム表面の急激な乾燥を防止できる。
Since the hole portion 69b is close to the drum 27 or the spacer, it is possible to suppress the evaporation of the solvent at the time of coating and also to prevent the abrupt drying of the surface of the already coated drum.

液槽66においては、その下半部に感光液収容部70が設
けられ、上半部に液溜部71が設けられ、液溜部71中の塗
布液Sを流すための複数の連通孔72がそれぞれ周方向に
形成されている。収容部70の外周壁には、オーバーフロ
ー用の環流孔73が設けられ、常に液面を一定高さに保て
るようになっている。収容部40の内周壁には周方向に亘
って複数の空気孔44が設けられ、孔部69bを介して外気
と連通せしめられている。これにより、液溜部71内の感
光液は徐々に連通孔72を通下し、空気孔44の大きさによ
り、徐々に下降するため、液面は静穏な状態で安定す
る。
In the liquid tank 66, a photosensitive liquid storage portion 70 is provided in a lower half portion thereof, a liquid reservoir portion 71 is provided in an upper half portion thereof, and a plurality of communication holes 72 for flowing the coating liquid S in the liquid reservoir portion 72 are provided. Are formed in the circumferential direction. An overflow hole 73 for overflow is provided on the outer peripheral wall of the container 70 so that the liquid surface can always be kept at a constant height. A plurality of air holes 44 are provided in the inner peripheral wall of the housing portion 40 in the circumferential direction, and communicate with the outside air through the hole portions 69b. As a result, the photosensitive liquid in the liquid reservoir 71 gradually passes through the communication hole 72 and gradually descends depending on the size of the air hole 44, so that the liquid surface is stabilized in a calm state.

第1図〜第7図の塗布装置は、有機電子写真感光体の
塗布液の塗布に適用することができる。
The coating apparatus of FIGS. 1 to 7 can be applied to the coating of the coating liquid for the organic electrophotographic photosensitive member.

この際、いわゆる機能分離型感光体におけるキャリア
発生層、キャリア輸送層等は、キャリア発生物質及び/
又はキャリア輸送物質を適当な溶媒若しくは適当なバイ
ンダ樹脂溶媒溶液に溶解若しくは分散懸濁せしめたもの
を塗布して乾燥させる方法により設けることができる。
At this time, the carrier generation layer, the carrier transport layer, and the like in the so-called function-separated type photoreceptor are
Alternatively, it can be provided by a method in which a carrier transporting material is dissolved or dispersed and suspended in a suitable solvent or a solution of a binder resin solvent, and the resulting solution is dried.

前記溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミ
ド、ベンゼン、トルエン、キシレン、モノクロルベンゼ
ン、1,2−ジクロロエタン、ジクロロメタン、1,1,2−ト
リクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケ
トン、酢酸エチル、酢酸ブチル等を挙げることができ
る。
Examples of the solvent include N, N-dimethylformamide, benzene, toluene, xylene, monochlorobenzene, 1,2-dichloroethane, dichloromethane, 1,1,2-trichloroethane, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate and the like. be able to.

キャリア発生物質、キャリア輸送物質を溶媒若しくは
バインダ樹脂溶液に分散懸濁させた塗料を塗布、乾燥し
てキャリア発生層、キャリア輸送層を形成する場合に
は、次の如き方法によって設けることが好ましい。即
ち、キャリア発生物質、キャリア輸送物質をボールミ
ル、ホモミキサ等によって分散媒中で微細粒子とし、バ
インダ樹脂を加えて混合分散して得られる分散液が用い
られる。この方法において超音波の作用下に粒子を均一
分散させることが好ましい。
When the carrier generating layer and the carrier transporting layer are formed by applying and drying a coating material in which the carrier generating substance and the carrier transporting material are dispersed and suspended in a solvent or a binder resin solution, it is preferably provided by the following method. That is, a dispersion liquid obtained by making a carrier generating substance and a carrier transporting substance into fine particles in a dispersion medium by a ball mill, a homomixer or the like, adding a binder resin and mixing and dispersing the fine particles is used. In this method, it is preferable to uniformly disperse the particles under the action of ultrasonic waves.

キャリア発生物質は、電磁波を吸収してフリーキャリ
アを発生するものであれば、無機顔料及び有機顔料の何
れも用いることができる。
As the carrier generating substance, either an inorganic pigment or an organic pigment can be used as long as it absorbs an electromagnetic wave and generates a free carrier.

以下のものが例示される。 The following are exemplified.

(1)無定型セレン、三方晶系セレン、セレン−砒素合
金、セレン−テルル合金、硫化カドミウム、セレン化カ
ドミウム、硫セレン化カドミウム、硫化水銀、硫化鉛、
酸化亜鉛、酸化チタン、無定型シリコン等の無機顔料 (2)モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔
料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾー
ルアゾ顔料等のアゾ系顔料 (3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導
体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導
体、ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導
体等のアントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4)インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイン
ジゴイド系顔料 (5)チタニルフタロシアニン、バナジルフタロシアニ
ン等の各種金属フタロシアニン、及びα型、β型、γ
型、τ型、τ′型、η型、η′型等の無金属フタロシア
ニン等のフタロシアニン系顔料 (6)ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン顔
料、キサンテン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニウ
ム系顔料 (7)アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料等
のキノンイミン系顔料 (8)シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系顔
料 (9)キノリン系顔料 (10)ニトロ系顔料 (11)ニトロソ系顔料 (12)ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料 (13)ナフタルイミド系顔料 (14)ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノン系顔
料 (15)フルオレノン系顔料 (16)スクアリリウム顔料 (17)アズレニウム化合物 (18)ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等のペリ
レン系顔料 キャリア輸送物質は、カルバゾール誘導体、オキサゾ
ール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導
体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミ
ダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン
誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、
ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサゾロン誘
導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘
導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリ
ジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導
体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘
導体、スチルベン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアント
ラセン等から選ばれた一種又は二種以上であってよい。
(1) amorphous selenium, trigonal selenium, selenium-arsenic alloy, selenium-tellurium alloy, cadmium sulfide, cadmium selenide, cadmium sulfate selenide, mercury sulfide, lead sulfide,
Inorganic pigments such as zinc oxide, titanium oxide, and amorphous silicon (2) Monoazo pigments, polyazo pigments, metal complex azo pigments, pyrazolone azo pigments, azo pigments such as stilbene azo and thiazole azo pigments (3) Anthraquinone derivatives, anthanthrone Derivatives, dibenzpyrenequinone derivatives, pyranthrone derivatives, violanthrone derivatives and isoviolanthrone derivatives, etc. Anthraquinone-based or polycyclic quinone pigments (4) Indigoide pigments such as indigo derivatives and thioindigo derivatives (5) Titanyl phthalocyanine, vanadyl phthalocyanine Various metal phthalocyanines such as α-type, β-type, γ
Type, τ type, τ 'type, η type, η' type and other phthalocyanine pigments such as metal-free phthalocyanine (6) Carbonyl pigments such as diphenylmethane pigment, triphenylmethane pigment, xanthene pigment and acridine pigment (7) Quinoneimine pigments such as azine pigments, oxazine pigments and thiazine pigments (8) Methine pigments such as cyanine pigments and azomethine pigments (9) Quinoline pigments (10) Nitro pigments (11) Nitroso pigments (12) Benzoquinone and naphthoquinone Pigments (13) Naphthalimide pigments (14) Perinone pigments such as bisbenzimidazole derivatives (15) Fluorenone pigments (16) Squarylium pigments (17) Azulenium compounds (18) Perylene anhydrides and perylene imides Perylene pigments Carrier transport materials include carbazole derivatives and oxazones. Derivative, oxadiazole derivative, thiazole derivative, thiadiazole derivative, triazole derivative, imidazole derivative, imidazolone derivative, imidazolidine derivative, bisimidazolidine derivative, styryl compound,
Hydrazone compounds, pyrazoline derivatives, oxazolone derivatives, benzothiazole derivatives, benzimidazole derivatives, quinazoline derivatives, benzofuran derivatives, acridine derivatives, phenazine derivatives, aminostilbene derivatives, triarylamine derivatives, phenylenediamine derivatives, stilbene derivatives, poly-N-vinyl It may be one or more selected from carbazole, poly-1-vinylpyrene, poly-9-vinylanthracene and the like.

キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層等のいずれ
か、若しくはそれらの複数層には、電子受容性物質、表
面改質剤、耐久性向上剤、酸化防止剤(ヒンダードフェ
ノール、ヒンダードアミン等)、高分子有機半導体等を
含有させてよい。
Any one of the carrier generation layer, the carrier transport layer, the protective layer, or a plurality of layers thereof may include an electron accepting substance, a surface modifier, a durability improver, an antioxidant (hindered phenol, hindered amine, etc.), A polymer organic semiconductor or the like may be contained.

感光体の製造に使用可能なバインダ樹脂としては、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエ
ステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、
シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹脂、重付
加型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれらの樹脂の繰り返し
単位のうち2つ以上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹脂の他、
ポリ−N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が
挙げられる。
Examples of the binder resin that can be used for manufacturing the photoconductor include polyethylene, polypropylene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, epoxy resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, polycarbonate resin,
Addition polymerization resins such as silicone resins and melamine resins, polyaddition resins, polycondensation resins and copolymer resins containing two or more of the repeating units of these resins, for example vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins. Insulating resin such as vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer resin,
Examples include polymer organic semiconductors such as poly-N-vinylcarbazole.

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上記の
態様のものに限られるわけではなく、種々変形が可能で
ある。
Although the present invention has been illustrated above, the embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made.

緩衝機構は、上記のものに限られない。緩衝機構はド
ラム把持具、ドラム供給用(昇降用)ハンド、ドラム排
出用ハンドのうちいずれに設けてあってもよい。例え
ば、第1図において、一対のドラム把持具28A、28Bにの
みコイルスプリング50を設けることができる。緩衝機構
の形状、寸法、個数等も自由に変えうる。
The buffer mechanism is not limited to the above. The buffer mechanism may be provided in any of the drum gripping tool, the drum supply (elevation) hand, and the drum discharge hand. For example, in FIG. 1, the coil spring 50 can be provided only on the pair of drum grippers 28A and 28B. The shape, size, number, etc. of the buffer mechanism can be freely changed.

塗布手段は第5図〜第7図のものに限られない。 The coating means is not limited to those shown in FIGS.

また、第1図〜第4図において、スペーサー把持用ハ
ンドの構造、個数、寸法、形状等は種々変更でき、スペ
ーサー把持具についても同様である。また、スペーサー
把持具を上昇、下降させる手段もボールネジに限定され
ない。また、第1図のスペーサー把持具28Aにみられる
ように、上側のハンド29と下側のハンド29とを把持具本
体34によって連結する必要はなく、両者を別体に形成し
てもよい。
In addition, in FIGS. 1 to 4, the structure, number, size, shape, etc. of the spacer gripping hand can be variously changed, and the spacer gripping tool is also the same. Further, the means for raising and lowering the spacer gripping tool is not limited to the ball screw. Further, as seen in the spacer gripping tool 28A in FIG. 1, it is not necessary to connect the upper hand 29 and the lower hand 29 by the gripping tool body 34, and both may be formed separately.

第3図のプロセスにおいて、塗布装置の動作手順を変
更することもできる。
In the process of FIG. 3, the operating procedure of the coating device can be changed.

また、第4図に示すようなスペーサー把持用ハンドを
有する塗布装置を用い、第3図のプロセスを実行するこ
ともできる。
It is also possible to execute the process of FIG. 3 by using a coating device having a spacer gripping hand as shown in FIG.

ドラム基体を1本ずつ被膜形成手段に供給する被膜形
成装置でも、ドラム移送時の振動を緩衝機構により吸収
することができる。
Even in the film forming apparatus that supplies the drum bases to the film forming means one by one, the vibration during the transfer of the drum can be absorbed by the buffer mechanism.

なお、本発明の被膜形成装置は、各種の塗布装置とし
て適用可能であり、また他の被膜形成手段、例えば真空
蒸着により導電性基体上に蒸着膜を形成する装置にも適
用可能である。
The coating film forming apparatus of the present invention can be applied as various coating apparatuses, and can also be applied to other coating film forming means, for example, an apparatus for forming a vapor deposition film on a conductive substrate by vacuum vapor deposition.

ヘ.発明の効果 本発明の被膜形成装置によれば、処理前のドラム状基
体の被膜形成手段への供給と、処理中のドラム状基体の
移送と、未乾燥のドラム状基体の排出とのうち少なくと
もいずれかを行う移送手段に、緩衝機構を設けている。
従って、被膜形成手段で処理中のドラム状基体、未乾燥
のドラム状基体に対する振動、衝撃を緩衝機構により吸
収、緩和できる。よって、被膜の乱れを防止でき、均一
な被膜を形成できる。
F. EFFECTS OF THE INVENTION According to the coating film forming apparatus of the present invention, at least one of supplying the drum-shaped substrate before the treatment to the coating film forming means, transferring the drum-shaped substrate during the treatment, and discharging the undried drum-shaped substrate. A buffer mechanism is provided in the transfer means that performs either of the above.
Therefore, the cushioning mechanism can absorb and mitigate vibrations and impacts on the drum-shaped substrate that is being processed by the film forming means and the undried drum-shaped substrate. Therefore, the disorder of the coating can be prevented and a uniform coating can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図〜第7図は実施例を示すものであって、 第1図は塗布装置を示す概略正面図、 第2図(a)はスペーサー把持用ハンド周辺を拡大して
示す平面図、同図(b)は同図(a)の右側面図、 第3図(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、
(f)、(g)、(h)はドラム外周面に塗膜が形成さ
れるプロセスを示す要部概略正面図、 第4図は他のスペーサー把持用ハンドを示す概略平面
図、 第5図(a)は基体ドラムにスライドホッパー装置を用
いて塗布液を塗布している状態を示す断面図、同図
(b)はスライドホッパー装置を一部切り欠いて示す斜
視図、 第6図は押し出しホッパー装置により基体ドラム上に塗
布液を塗布している状態を示す断面図、 第7図は更に他の塗布手段により基体ドラム上に塗布液
を塗布している状態を示す部分断面図である。 なお、図面に示す符号において、 16……ホッパーエッジ 17……スライド面 20……塗布装置本体 22……ボールネジ 23……昇降部材 25……ドラム排出用ハンド 26、26A、26B、26C、26D……スペーサー 27、27A、27B、27C……導電性基体ドラム 28A、28B……スペーサー把持具 29、39A、39B、39C、39D……スペーサー把持用ハンド 29a、39a……ベアリング 30……ハンド把持部 30a……ピストン 30b……シリンダ 33……ドラム供給用ハンド 34……スペーサー把持具本体 34a……折曲部 50……コイルスプリング G……保持状態 S……塗布液 である。
1 to 7 show an embodiment, FIG. 1 is a schematic front view showing a coating device, and FIG. 2 (a) is an enlarged plan view showing the periphery of a spacer gripping hand. FIG. 3 (b) is a right side view of FIG. 3 (a), and FIGS. 3 (a), (b), (c), (d), (e),
(F), (g), and (h) are schematic front views of a main part showing a process of forming a coating film on the outer peripheral surface of the drum, and FIG. 4 is a schematic plan view showing another spacer holding hand, and FIG. (A) is a sectional view showing a state in which a coating liquid is applied to a substrate drum by using a slide hopper device, (b) is a perspective view showing a slide hopper device with a part thereof cut away, and FIG. FIG. 7 is a sectional view showing a state in which the coating liquid is applied onto the substrate drum by the hopper device, and FIG. 7 is a partial sectional view showing a state in which the coating liquid is applied onto the substrate drum by another coating means. In the reference numerals shown in the drawings, 16 ... Hopper edge 17 ... Sliding surface 20 ... Coating device main body 22 ... Ball screw 23 ... Lifting member 25 ... Drum discharging hand 26, 26A, 26B, 26C, 26D ... ... Spacer 27, 27A, 27B, 27C ... Conductive substrate drum 28A, 28B ... Spacer gripping tool 29, 39A, 39B, 39C, 39D ... Spacer gripping hand 29a, 39a ... Bearing 30 ... Hand gripping part 30a ...... Piston 30b ...... Cylinder 33 ...... Drum supply hand 34 ...... Spacer gripping tool body 34a ...... Bent part 50 ...... Coil spring G ...... Holding state S ...... It is coating liquid.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ドラム状基体を相対的に移動させることに
よりこのドラム状基体に被膜形成処理を施す被膜形成処
理手段と、被膜形成処理前の前記ドラム状基体を前記被
膜形成処理手段へと供給することと被膜形成処理中の前
記ドラム状基体を移送することと被膜が未乾燥状態であ
るドラム状基体を排出することとのうち少なくとも一つ
の機能を具備する移送手段と、この移送手段に設けられ
た緩衝機構とを有する被膜形成装置。
1. A film-forming treatment means for performing a film-forming treatment on a drum-shaped substrate by relatively moving the drum-shaped substrate, and supplying the drum-shaped substrate before the film-forming treatment to the film-forming treatment means. And a transfer means having at least one of the functions of transferring the drum-shaped substrate during the film forming process and discharging the drum-shaped substrate whose film is not dried. Forming apparatus having a shock absorbing mechanism.
JP26643788A 1988-10-21 1988-10-21 Film forming equipment Expired - Lifetime JPH0832317B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26643788A JPH0832317B2 (en) 1988-10-21 1988-10-21 Film forming equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26643788A JPH0832317B2 (en) 1988-10-21 1988-10-21 Film forming equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02115073A JPH02115073A (en) 1990-04-27
JPH0832317B2 true JPH0832317B2 (en) 1996-03-29

Family

ID=17430924

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26643788A Expired - Lifetime JPH0832317B2 (en) 1988-10-21 1988-10-21 Film forming equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0832317B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02115073A (en) 1990-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6562135B2 (en) Coating apparatus
JP2525654B2 (en) Film forming method
JP2673800B2 (en) Coating method
JPH0832317B2 (en) Film forming equipment
US7132125B2 (en) Processes for coating photoconductors
US6214419B1 (en) Immersion coating process
US7645491B2 (en) Venting assembly for dip coating apparatus and related processes
JPH0829284B2 (en) Film forming equipment
CN105824203B (en) The painting film removing method and electrophotographic photosensitive element manufacturing method of cylindrical substrate
JP2623119B2 (en) Electrophotographic photoreceptor manufacturing equipment
JP2909665B2 (en) Photoconductor and method of manufacturing the same
JPH10174922A (en) Coating apparatus and coating method
JP4134540B2 (en) Electrophotographic photosensitive member manufacturing system, manufacturing method, and electrophotographic photosensitive member manufactured by the manufacturing method
JP2000221707A (en) Electrophotographic photoreceptor manufacturing method and electrophotographic photoreceptor manufacturing apparatus
JP3556353B2 (en) Manufacturing method of electrophotographic photoreceptor
JPH0214770A (en) Applicator
JPH06236048A (en) Production of photosensitive body
JP2022148912A (en) Coating device and method
JP2013246391A (en) Coated film removal device, method of manufacturing photosensitive drum, photosensitive drum, and image forming device equipped with photosensitive drum
JPH01127072A (en) Coating apparatus
JPH09299867A (en) Dip coating method for circular cylindrical substrate
JPH10156256A (en) Coating apparatus and method
JPH01119365A (en) Coating applicator
JPH10286504A (en) Coating device and coating method
JPH01158452A (en) Production of photosensitive body

Legal Events

Date Code Title Description
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090329

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090329

Year of fee payment: 13