JPH0832369B2 - Laser processing equipment - Google Patents
Laser processing equipmentInfo
- Publication number
- JPH0832369B2 JPH0832369B2 JP2132204A JP13220490A JPH0832369B2 JP H0832369 B2 JPH0832369 B2 JP H0832369B2 JP 2132204 A JP2132204 A JP 2132204A JP 13220490 A JP13220490 A JP 13220490A JP H0832369 B2 JPH0832369 B2 JP H0832369B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- light source
- axis table
- laser
- laser light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 31
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 13
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 9
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 6
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はレーザ加工装置に関し、たとえば液晶表示
パネルの欠陥を検査するようなレーザ加工置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus, for example, a laser processing apparatus for inspecting a liquid crystal display panel for defects.
[従来の技術] 最近では各種電子機器に液晶表示パネルが多く用いら
れつつある。しかも、液晶表示パネルに表示される情報
量が多くなってきており、表示密度の高い液晶表示パネ
ルが要求されている。表示密度を高めるためには、液晶
表示器と端子との間の配線パターンを細くし、しかも隣
接するパターンとの間隔を狭くする必要がある。[Related Art] Recently, liquid crystal display panels have been frequently used in various electronic devices. Moreover, the amount of information displayed on the liquid crystal display panel is increasing, and a liquid crystal display panel with high display density is required. In order to increase the display density, it is necessary to make the wiring pattern between the liquid crystal display and the terminal thin and to narrow the gap between the adjacent patterns.
ところが、パターンの密度を高めると、パターンのエ
ッチング工程で、エッチングが不十分なために隣接する
パターン同士が電気的に接続されてしまうことがある。
このような不良を検出し、良品にするために液晶リペア
装置が使用されている。従来の液晶リペア装置は、検査
すべき液晶表示パネルをステージ上に配置しておき、そ
の上をX,Y,Z方向に移動可能なヘッドを設け、このヘッ
ドにCCDカメラとレーザ光源を配置したものである。そ
して、CCDカメラによって配線パターンを撮像し、モニ
ターテレビで監視しながら、隣接するパターン同士が接
続されている部分を見つけ出し、その部分にレーザ光源
から発光されたレーザ光を照射し、パターン間の不要部
分を焼切る。However, when the pattern density is increased, adjacent patterns may be electrically connected to each other due to insufficient etching in the pattern etching process.
A liquid crystal repair device is used to detect such a defect and make it a good product. In a conventional liquid crystal repair device, a liquid crystal display panel to be inspected is arranged on a stage, a head movable on the stage in X, Y, Z directions is provided, and a CCD camera and a laser light source are arranged on this head. It is a thing. Then, the wiring pattern is picked up by a CCD camera, and while monitoring on a monitor TV, a part where adjacent patterns are connected is found, and that part is irradiated with laser light emitted from a laser light source. Burn off the part.
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上述の液晶リペア装置は、CCDカメラ
とレーザ光源を配置したヘッドをX,Y,Z方向に移動でき
るようにしているため、保持剛性が弱いという欠点があ
る。[Problems to be Solved by the Invention] However, the liquid crystal repair device described above has a drawback that the holding rigidity is weak because the head in which the CCD camera and the laser light source are arranged can be moved in the X, Y, and Z directions. is there.
それゆえに、この発明の主たる目的は、ヘッドの保持
剛性を高め、液晶表示パネルのような被加工物の欠陥を
検査し得るレーザ加工装置を提供することである。Therefore, a main object of the present invention is to provide a laser processing apparatus capable of enhancing the holding rigidity of a head and inspecting a defect of a workpiece such as a liquid crystal display panel.
[課題を解決するための手段] この発明はレーザ光を照射して被加工物の欠陥を除去
するレーザ加工装置であって、筐体上に設けられ、被加
工物を支持し、その中央部に貫通孔が形成され、水平方
向に移動可能なXY軸テーブルと、XY軸テーブルの上方か
ら被加工物を反射照明するための第1の光源と、XY軸テ
ーブルの下方から貫通孔を介して被加工物を透過照明す
るための第2の光源と、電動で駆動されることによって
レンズの倍率が可変にされ、被加工物の画像を取込むた
めの電動の対物転換器と、対物転換器のレンズによって
取込まれた画像を撮像するため撮像手段と、被加工物に
レーザ光を照射するためのレーザ光源と、門型の支柱を
介して筐体に固定され、対物転換器と撮像手段とレーザ
光源とを保持し、上下方向のみ移動可能なZ軸テーブル
とを備えて構成される。[Means for Solving the Problem] The present invention is a laser processing apparatus for irradiating a laser beam to remove defects in a workpiece, which is provided on a housing and supports the workpiece, and a central portion thereof. A through hole is formed in the XY axis table, which is movable in the horizontal direction, a first light source for reflecting and illuminating the workpiece from above the XY axis table, and a through hole from below the XY axis table. A second light source for transmitting and illuminating a workpiece, an electric objective converter for changing the magnification of a lens when driven electrically, and an electric objective converter for capturing an image of the workpiece, and an objective converter. Image pickup means for picking up an image captured by the lens, a laser light source for irradiating a workpiece with laser light, and a gate-shaped support fixed to the housing, and the objective converter and the image pickup means. Z axis that holds the laser and the laser light source and can move only in the vertical direction And a table.
[作用] この発明に係るレーザ加工装置は、比較的重量の重い
レンズと撮像手段とレーザ光源とをZ軸テーブルで保持
し、XY軸テーブルによって被加工物を水平方向に移動可
能にしたので、Z軸テーブルを水平方向に固定して上下
方向にのみ移動するだけであるため、保持剛性を高める
ことができる。[Operation] In the laser processing apparatus according to the present invention, the relatively heavy lens, the imaging means, and the laser light source are held by the Z-axis table, and the workpiece can be moved in the horizontal direction by the XY-axis table. Since the Z-axis table is fixed in the horizontal direction and moved only in the vertical direction, the holding rigidity can be increased.
[実施例] 第1図はこの発明の一実施例の外観斜視図であり、第
2図は同じく正面図である。Embodiment FIG. 1 is an external perspective view of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a front view of the embodiment.
第1図および第2図を参照して、筐体1のベース2上
には、X,Y方向に移動可能なXYステージ3が配置され
る。このXYステージ3上には、被加工物としての液晶パ
ネルが載置される。XYステージ3上に載置された被加工
物を検査するために、XY方向への移動が禁止され、Z方
向(上下方向)にのみ移動可能なZ軸テーブル4が設け
られる。このZ軸テーブル4には電動リボルバ5と顕微
鏡照明用光源6とCCDカメラ7と欠陥検査装置8とレー
ザヘッド9とが設けられ、Z軸テーブルは門型の支柱60
を介して筐体1に強固に固定されて剛性が高められてい
る。電動リボルバ5は倍率の異なるレンズを切換えるも
のであり、顕微鏡照明用光源6は被加工物を照明する。
CCDカメラ7は電動リボルバ5のレンズを介して被加工
物の表面を撮像する。欠陥検査装置8は被加工物の表面
の欠陥を検査するものであり、リニアイメージセンサに
よって構成される。レーザヘッド9はレーザ光を被加工
物の表面に照射して加工を行なうものである。なお、XY
ステージ3には、第1図に示すように貫通孔50が形成さ
れ、XYステージ3の下部には第2図に示すように、貫通
孔50を介して被加工物を透過照明するための光源10が設
けられている。With reference to FIG. 1 and FIG. 2, an XY stage 3 that can move in the X and Y directions is arranged on a base 2 of a housing 1. A liquid crystal panel as a workpiece is placed on the XY stage 3. In order to inspect a work placed on the XY stage 3, a Z-axis table 4 is provided which is prohibited from moving in the XY direction and is movable only in the Z direction (up and down directions). This Z-axis table 4 is provided with an electric revolver 5, a light source 6 for illuminating a microscope, a CCD camera 7, a defect inspection device 8 and a laser head 9. The Z-axis table is a gate-shaped support 60.
It is firmly fixed to the housing 1 via the to increase the rigidity. The electric revolver 5 switches between lenses having different magnifications, and the microscope illumination light source 6 illuminates the workpiece.
The CCD camera 7 images the surface of the workpiece through the lens of the electric revolver 5. The defect inspection device 8 is for inspecting defects on the surface of the workpiece and is composed of a linear image sensor. The laser head 9 irradiates the surface of the workpiece with laser light to perform processing. XY
A through hole 50 is formed in the stage 3 as shown in FIG. 1, and a light source for transmitting and illuminating a workpiece through the through hole 50 is formed in a lower portion of the XY stage 3 as shown in FIG. Ten are provided.
第3図はこの発明の一実施例の概略ブロック図であ
る。次に、第3図を参照して、この発明の一実施例の電
気的構成について説明する。CPU21は内蔵のメモリに記
憶されているプログラムに従って全体の制御を行なう。
すなわち、CPU21はXYステージ3をX方向に移動させる
ための指令信号を、I/O22を介してXパルスコントロー
ラ23に与える。Xパルスコントローラ23は指令信号に応
じてXパルスを発生させる。このXパルスはXモータド
ライバ24に与えられる。Xモータドライバ24は与えられ
たパルスの数だけXモータ25を回転させる。Xモータ25
はXYテーブル3をX方向に移動させる。Xモータ25の回
転数はXエンコーダ26によって検出される。Xエンコー
ダ26はXモータ25の回転に応じたパルス信号を発生して
Xカウンタ27に与える。Xカウンタ27はそのパルス信号
を計数し、その計数出力はXカウンタ回路28,I/O22を介
してCPU21に与える。FIG. 3 is a schematic block diagram of one embodiment of the present invention. Next, an electrical configuration of an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The CPU 21 controls the whole according to the program stored in the built-in memory.
That is, the CPU 21 gives a command signal for moving the XY stage 3 in the X direction to the X pulse controller 23 via the I / O 22. The X pulse controller 23 generates an X pulse according to the command signal. This X pulse is given to the X motor driver 24. The X motor driver 24 rotates the X motor 25 by the given number of pulses. X motor 25
Moves the XY table 3 in the X direction. The rotation speed of the X motor 25 is detected by the X encoder 26. The X encoder 26 generates a pulse signal according to the rotation of the X motor 25 and gives it to the X counter 27. The X counter 27 counts the pulse signal, and the count output is given to the CPU 21 via the X counter circuit 28 and I / O 22.
同様にして、CPU21はXYステージ3をY方向に移動さ
せるための指令信号を、I/O29を介してYパルスコント
ローラ30に与える。Yパルスコントローラ30は指令信号
に応じてYパルスを発生し、Yモータドライバ31に与え
る。Yモータドライバ31はYパルスの数だけYモータ32
を回転させる。Yモータ32はXYステージ3をY方向に移
動させるために設けられている。このYモータ32の回転
数はYエンコーダ33によって検出され、その回転数に応
じたパルス信号がYカウンタ34に与えられる。Yカウン
タ34はパルス信号を計数し、その計数出力を、Yカウン
タ回路35およびI/O29を介してCPU21に与える。CPU21は
Xカウンタ回路28およびYカウンタ回路35の計数出力に
よって、XYステージ3のX方向およびY方向の位置を判
別する。Similarly, the CPU 21 gives a command signal for moving the XY stage 3 in the Y direction to the Y pulse controller 30 via the I / O 29. The Y pulse controller 30 generates a Y pulse in response to the command signal and supplies the Y pulse to the Y motor driver 31. The Y motor driver 31 has Y motors 32 corresponding to the number of Y pulses.
To rotate. The Y motor 32 is provided to move the XY stage 3 in the Y direction. The rotation speed of the Y motor 32 is detected by a Y encoder 33, and a pulse signal corresponding to the rotation speed is supplied to a Y counter. The Y counter 34 counts the pulse signals, and supplies the count output to the CPU 21 via the Y counter circuit 35 and the I / O 29. The CPU 21 determines the positions of the XY stage 3 in the X and Y directions based on the count outputs of the X counter circuit 28 and the Y counter circuit 35.
欠陥検査装置8としてのリニアイメージセンサ8は被
加工物の欠陥画素情報として出力して画像処理回路36に
与える。画像処理回路36は欠陥検査装置8の出力を画像
処理し、I/O37を介して欠陥画素情報をCPU21に与える。
CPU21は欠陥画素情報とYカウンタ回路35の計数出力を
演算し、欠陥位置情報を算出して記憶装置38に記憶させ
る。なお、この欠陥位置情報はモニタ40にも表示され
る。The linear image sensor 8 as the defect inspection device 8 outputs as defect pixel information of the workpiece and supplies it to the image processing circuit 36. The image processing circuit 36 performs image processing on the output of the defect inspection device 8 and supplies defective pixel information to the CPU 21 via the I / O 37.
The CPU 21 calculates the defective pixel information and the count output of the Y counter circuit 35, calculates the defect position information, and stores it in the storage device 38. The defect position information is also displayed on the monitor 40.
第4図はこの発明の一実施例の具体的な動作を説明す
るためのフロー図であり、第5図はこの発明の一実施例
によって欠陥を検査する方法を説明するための図であ
る。FIG. 4 is a flowchart for explaining a specific operation of one embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a diagram for explaining a method of inspecting a defect according to one embodiment of the present invention.
次に、第1図ないし第5図を参照して、この発明の一
実施例の具体的な動作について説明する。第4図におけ
るステップ(図示ではSPと略称する)SP1において、CPU
21はXYステージ3をX方向,Y方向に移動させるための指
令信号を出力し、被加工物を測定開始位置に移動させ
る。このとき、欠陥検査装置8は被加工物の表面の画像
を読取る。この画像信号は画像処理回路36によって画像
処理され、I/O37を介してCPU21に与えられる。CPU21は
ステップSP2において第5図(a)に示すように、被加
工物11上のX方向1ライン分の画像データを読込む。Next, the specific operation of the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In step (abbreviated as SP in the figure) SP1 in FIG. 4, the CPU
Reference numeral 21 outputs a command signal for moving the XY stage 3 in the X and Y directions, and moves the workpiece to the measurement start position. At this time, the defect inspection device 8 reads an image on the surface of the workpiece. This image signal is subjected to image processing by the image processing circuit 36, and is provided to the CPU 21 via the I / O 37. In step SP2, the CPU 21 reads image data for one line in the X direction on the workpiece 11 as shown in FIG.
CPU21はステップSP3において、読込んだ画像データに
基づいて、1ライン中に欠陥箇所があるか否かを判別す
る。もし、欠陥がなければCPU21はステップSP6におい
て、被加工物を1ライン分移動させるための指令信号を
出力する。CPU21はもし1ライン中に欠陥箇所のあるこ
とを判別すると、ステップSP4において、リニアイメー
ジセンサにおけるセンサ上での欠陥箇所の画素位置を記
憶する。すなわち、第5図(b)に示すように、欠陥検
査装置8が被加工物11上の欠陥12を検出すると、その位
置に対応した箇所の画素81が変化する。CPU21はその画
素81の位置から欠陥位置のX座標を認識する。In step SP3, the CPU 21 determines whether or not there is a defective portion in one line based on the read image data. If there is no defect, in step SP6, the CPU 21 outputs a command signal for moving the workpiece by one line. If the CPU 21 determines that there is a defective portion in one line, in step SP4, it stores the pixel position of the defective portion on the linear image sensor. That is, as shown in FIG. 5 (b), when the defect inspection device 8 detects the defect 12 on the workpiece 11, the pixel 81 at the position corresponding to that position changes. The CPU 21 recognizes the X coordinate of the defect position from the position of the pixel 81.
さらに、CPU21はステップSP5において、現在のXYステ
ージ3の位置をYカウンタ回路35の計数出力に基づいて
判別し、これを記憶する。そして、CPU21はステップSP6
において被加工物を1ライン分Y方向に移動させるため
に、指令信号を出力する。ステップSP7において、CPU21
は測定終了位置までXYステージ3を移動させたか否かを
判別し、終了位置まで移動していなければ再びステップ
SP2に戻り、ステップSP2〜SP7の動作を繰返す。この動
作を繰返し、測定終了位置まで移動したことを判別する
と、ステップSP8において記憶したX方向におけるセン
サ上での欠陥箇所の画素位置とY方向におけるXYステー
ジ3の位置を基にして、欠陥位置座標を演算し、これを
記憶装置38に記憶させるとともに、モニタ40に表示させ
る。この表示を見ながら、レーザヘッド9により被加工
物にレーザ光を照射すれば、たとえば液晶表示ディスプ
レイの不要な欠陥のパターンを除去することができる。Further, in step SP5, the CPU 21 determines the current position of the XY stage 3 based on the count output of the Y counter circuit 35 and stores it. Then, the CPU 21 proceeds to step SP6
Outputs a command signal to move the workpiece by one line in the Y direction. In step SP7, the CPU 21
Determines whether or not the XY stage 3 has been moved to the measurement end position.
Returning to SP2, the operation of steps SP2 to SP7 is repeated. When this operation is repeated and it is determined that the measurement position has been reached, the defect position coordinates are determined based on the pixel position of the defective portion on the sensor in the X direction and the position of the XY stage 3 in the Y direction stored in step SP8. Is stored in the storage device 38 and displayed on the monitor 40. By irradiating the work piece with laser light while observing this display, for example, an unnecessary defect pattern of the liquid crystal display can be removed.
上述のごとく、この実施例によれば、CCDカメラ8,レ
ーザヘッド9などを設けたZ軸テーブル4をZ方向にの
み移動させ、被加工物を載置したXYテーブル3をX方向
およびY方向に移動させて被加工物の欠陥を検査するよ
うにしたので、Z軸テーブル4の保持剛性を高めること
ができる。しかも、XYステージ3を移動させながら、リ
ニアイメージセンサからなる欠陥検査装置により被加工
物上を走査して欠陥位置の画素を検出することにより、
CPU21によってディジタル的に被加工物上の欠陥位置を
検出して記憶することができる。As described above, according to this embodiment, the Z-axis table 4 provided with the CCD camera 8, the laser head 9, and the like is moved only in the Z direction, and the XY table 3 on which the workpiece is placed is moved in the X and Y directions. , The workpiece is inspected for defects, so that the rigidity of holding the Z-axis table 4 can be increased. Moreover, by moving the XY stage 3 and scanning the workpiece with a defect inspection device including a linear image sensor to detect the pixel at the defect position,
The CPU 21 can digitally detect and store the defect position on the workpiece.
[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、被加工物を保持す
るXY軸テーブルを水平方向に移動可能にし、電動の対物
転換器や撮像手段やレーザ光源のように比較的重量の重
い部材をZ軸テーブルによって保持し、Z軸テーブルを
門型の支柱によって筐体に強固に固定するようにしたの
で、液晶表示パネルのような被加工物の欠陥を除去する
際にレーザ光源などが水平方向に動くことがない。した
がって、欠陥の除去のときには、XY軸テーブルによって
被加工物が左右前後に動き、Z軸テーブルの周りに大き
な力が加わることがなく、保持剛性を高めることができ
るので、精度の高い欠陥除去を行なうことができる。さ
らに、被加工物に応じて、上方から反射照明するかある
いは下方から透過照明することができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the XY-axis table that holds the workpiece can be moved in the horizontal direction, and a comparatively heavy weight such as an electric objective converter, an image pickup means, and a laser light source can be obtained. The heavy member is held by the Z-axis table, and the Z-axis table is firmly fixed to the housing by the gate-shaped support. Therefore, the laser light source can be used for removing defects of a workpiece such as a liquid crystal display panel. Does not move horizontally. Therefore, when the defect is removed, the XY-axis table does not move the workpiece left and right and back and forth, and a large force is not applied around the Z-axis table, so that the holding rigidity can be increased, and thus the defect can be removed with high accuracy. Can be done. Further, depending on the work piece, it is possible to perform reflection illumination from above or transmission illumination from below.
第1図はこの発明の一実施例の外観写真図である。第2
図は同じく正面図である。第3図はこの発明の一実施例
の概略ブロック図である。第4図はこの発明の一実施例
の具体的な動作を説明するためのフロー図である。第5
図はこの発明の一実施例による欠陥検査方法を説明する
ための図である。 図において、3はXYステージ、4はZ軸テーブル、5は
電動リボルバ、6は顕微鏡照明用光源、7はCCDカメ
ラ、8は欠陥検査装置、9はレーザヘッド、10は透過照
明用光源、21はCPU、22,29はI/O、23はXパルスコント
ローラ、24はXモータドライバ、25はXモータ、26はX
エンコーダ、27はXカウンタ、28はXカウンタ回路、30
はYパルスコントローラ、31はYモータドライバ、32は
Yモータ、33はYエンコーダ、34はYカウンタ、35はY
カウンタ回路、36は画像処理回路、38は記憶装置を示
す。FIG. 1 is a photograph showing the appearance of an embodiment of the present invention. Second
The figure is also a front view. FIG. 3 is a schematic block diagram of one embodiment of the present invention. FIG. 4 is a flow chart for explaining a specific operation of the embodiment of the present invention. Fifth
FIG. 1 is a diagram for explaining a defect inspection method according to one embodiment of the present invention. In the figure, 3 is an XY stage, 4 is a Z-axis table, 5 is an electric revolver, 6 is a light source for illuminating a microscope, 7 is a CCD camera, 8 is a defect inspection device, 9 is a laser head, 10 is a light source for transmitted illumination, 21 Is a CPU, 22 and 29 are I / O, 23 is an X pulse controller, 24 is an X motor driver, 25 is an X motor, and 26 is an X motor.
Encoder, 27 is X counter, 28 is X counter circuit, 30
Is a Y pulse controller, 31 is a Y motor driver, 32 is a Y motor, 33 is a Y encoder, 34 is a Y counter, 35 is Y
A counter circuit, 36 is an image processing circuit, and 38 is a storage device.
Claims (1)
するレーザ加工装置であって、 筐体上に設けられ、前記被加工物を支持し、その中央部
に貫通孔が形成され、水平方向に移動可能なXY軸テーブ
ルと、 前記XY軸テーブルの上方から前記被加工物を反射照明す
るための第1の光源と、 前記XY軸テーブルの下方から前記貫通孔を介して前記被
加工物を透過照明するための第2の光源と、 電動で駆動されることによってレンズの倍率が可変にさ
れ、前記被加工物の画像を取込むための電動の対物転換
器と、 前記対物転換器のレンズによって取込まれた画像を撮像
するための撮像手段と、 前記被加工物にレーザ光を照射するためのレーザ光源
と、 門型の支柱を介して前記筐体に固定され、前記対物転換
器と前記撮像手段と前記レーザ光源とを保持し、上下方
向のみ移動可能なZ軸テーブルとを備え、 前記XY軸テーブルによって前記被加工物を水平方向に移
動して、前記被加工物の欠陥に前記レーザ光源からレー
ザ光を照射して除去することを特徴とする、レーザ加工
装置。1. A laser processing apparatus for irradiating a laser beam to remove a defect of a workpiece, the laser processing apparatus being provided on a housing, supporting the workpiece, and having a through hole formed in a central portion thereof. A horizontally movable XY-axis table, a first light source for reflecting and illuminating the workpiece from above the XY-axis table, and a target light source from below the XY-axis table through the through hole. A second light source for transmitting and illuminating the work piece; and a motorized objective converter for taking in an image of the work piece, the magnification of the lens being variable by being driven electrically, and the objective conversion. An image pickup means for picking up an image captured by a lens of a container, a laser light source for irradiating the workpiece with a laser beam, and an objective fixed to the housing through a gate-shaped support. The converter, the imaging means, and the laser light source are protected. And a Z-axis table that is movable only in the up-and-down direction. The XY-axis table is used to move the workpiece horizontally, and the defects of the workpiece are irradiated with laser light from the laser light source. A laser processing apparatus characterized by removing.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2132204A JPH0832369B2 (en) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | Laser processing equipment |
| EP91107982A EP0458199B1 (en) | 1990-05-21 | 1991-05-16 | Laser processing device and laser processing method |
| US07/700,819 US5171963A (en) | 1990-05-21 | 1991-05-16 | Laser processing device and laser processing method |
| DE69112272T DE69112272T2 (en) | 1990-05-21 | 1991-05-16 | Method and device for laser processing. |
| KR1019910008105A KR930008664B1 (en) | 1990-05-21 | 1991-05-18 | Laser processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2132204A JPH0832369B2 (en) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | Laser processing equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0428489A JPH0428489A (en) | 1992-01-31 |
| JPH0832369B2 true JPH0832369B2 (en) | 1996-03-29 |
Family
ID=15075829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2132204A Expired - Lifetime JPH0832369B2 (en) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | Laser processing equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0832369B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004085108A1 (en) * | 1993-08-05 | 2004-10-07 | Nobuhiko Tada | Lead frame machining method and lead frame machining apparatus |
| JP2006189718A (en) | 2005-01-07 | 2006-07-20 | Laserfront Technologies Inc | Member switching device, lens switching device, laser repair device, and laser inspection device |
| JP6199585B2 (en) * | 2013-03-21 | 2017-09-20 | 住友化学株式会社 | Laser light irradiation apparatus and optical member bonding body manufacturing apparatus |
| CN105345266A (en) * | 2015-11-20 | 2016-02-24 | 苏州光韵达光电科技有限公司 | Laser type carving device of light guide plate |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52119339A (en) * | 1976-03-31 | 1977-10-06 | Toshiba Corp | Laser radiation positioning method |
| JPS61269992A (en) * | 1985-05-24 | 1986-11-29 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for laser beam processing |
| JPS63280209A (en) * | 1987-05-12 | 1988-11-17 | Mitsutoyo Corp | Optical microscope |
-
1990
- 1990-05-21 JP JP2132204A patent/JPH0832369B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0428489A (en) | 1992-01-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5171963A (en) | Laser processing device and laser processing method | |
| CN110549018B (en) | Laser drilling device and method | |
| JP2001082926A (en) | Focus position control mechanism and method, and semiconductor wafer inspection apparatus and method | |
| JP3300479B2 (en) | Semiconductor device inspection system | |
| JP2000180330A (en) | Hardness tester | |
| JP7433175B2 (en) | Workpiece imaging device and workpiece imaging method | |
| JPH0832369B2 (en) | Laser processing equipment | |
| JPH08285785A (en) | Solder quality inspection device | |
| KR20220044741A (en) | Wafer appearance inspection apparatus and method | |
| JPH0682801A (en) | Defect inspecting and correcting device | |
| US20100118121A1 (en) | Device and Method for Visually Recording Two-Dimensional or Three-Dimensional Objects | |
| JP3056823B2 (en) | Defect inspection equipment | |
| JP2648883B2 (en) | Laser processing equipment | |
| JP2000275594A (en) | Substrate inspecting device | |
| JPH01110243A (en) | Appearance inspecting device | |
| JPH0883829A (en) | Bonding wire height inspection method | |
| JPH10216976A (en) | Laser processing device and alignment device | |
| KR19990085013A (en) | Pattern inspector of plasma display panel and inspection method | |
| KR960019631A (en) | Appearance inspection device and inspection method of tape carrier package | |
| JP2007033372A (en) | Visual inspection device | |
| JPS62144008A (en) | Printed circuit board pattern inspection equipment | |
| JP3183811B2 (en) | Inspection support device | |
| KR100312081B1 (en) | Programmable area scan vision inspection system | |
| JP3345936B2 (en) | Scanner for confocal scanning optical microscope | |
| KR20220044742A (en) | Wafer appearance inspection apparatus and method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080329 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090329 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090329 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100329 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100329 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110329 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110329 Year of fee payment: 15 |